JPH01120823A - 可変成形型電子線描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は可変成形型電子線描画方法に関し、更に詳しく
は材料上に正確にビーム描画を行うことができるように
した可変成形型電子線描画方法に関する。

（従来の技術） 電子＄１描画装置は電子銃から発生した電子ビーム（電
子線）を偏向手段によりＸ方向及びＹ方向に２次元的に
偏向させ、描画材料上にビーム描画を行う装置である。

第７図は可変成形型の電子線描画装置の従来の構成例を
示す図である。電子銃１より出射した電子ビームＢ１は
照明レンズ２により第１成形アパーチャ３上に照射され
る。

第１成形アパーチャ３の開口像は、成形レンズ４により
第２成形アパーチャ６上に結像されるが、その結像の位
置は成形偏向器５により変えることができる。第２成形
アパーチャ６により成形された像は、縮小レンズ７、対
物レンズ８を経て材料１０上に照射される。材料１０へ
の照射位置は位置決め偏向器９により変えることができ
る。

この種の電子線描画装置に用いる第１及び第２成形アパ
ーチャ３．６の間口は通常矩形をしており、矩形像の大
きさは第８図に示すように第１成形アパーチャ３の矩形
像１が、第２成形アパーチャ６０開口ｎと重なった領域
（図の斜線領域）Ｐを可変することで調節することがで
きる。つまり、この重なった領域Ｐの電子ビームが材料
１０を照射することになるので、材料１０上に照射され
るビームの幅を拡げたい時には成形偏向器５を操作して
第８図に示す重なり領域Ｐを増やし、ビームの幅を細く
したい時には成形偏向器５を操作して重なり領ｔｉｌＰ
を少なくするのである。このようにして、可変成形され
た電子ビームによる矩形像を材料１０上に照射して、こ
れら矩形像を位置決め偏向器９でつないで、目的とする
パターンを作っている。

この場合において、成形偏向器５の駆動は以下のように
行われる。成形偏向器５は第９図に示すようにＸ方向及
びＹ方向に偏向電極５Ｘ、５Ｘ’　。

５Ｙ、５Ｙ’を配置してこれら電極間に電子ビームの移
動ｍに対応した電圧を印加するようになっている。この
ような電極配置により例えばＸ方向のみ偏向させるため
に、電極５Ｘ、５Ｘ’問に電圧を印加した場合、電子ビ
ームは理想状態ではＸ方向にのみ移動する。ところが電
極５Ｘ、５Ｘ’が第１０図に示すようにある角θだけ傾
いていると電子ビームに加わる力ＦはＸ方向成分Ｆ×と
Ｙ方向成分Ｆｙに分解され、Ｙ方向にも偏向してしまう
。そこで、このような干渉を補償するためＹ方向電極５
Ｙ、５Ｙ’にもＦｙを打消すだけの電圧を印加してやる
必要がある。この間の事情はＹ方向に偏向させる場合に
ついても同様であり、更に像には印加電圧ゼロの状態に
おけるオフセットもある。

このため、成形偏向器５のＸ方向電極及びＹ方向電極に
印加する電圧信号Ｘ’　、Ｙ’　はそれぞれ以下のよう
な式で表わされる。

Ｘ’　−Ａ＋ＢＸ＋ＣＹ　　　　　　　　　・・・（１
）Ｙ’　−［）＋ＥＸ＋ＦＹ　　　　　　　　　・・・
（２）ここで、Ｘ、Ｙは第１成形アパーチャ像が第２成
形アパーチャと重なりあってできる描画の矩形の寸法、
Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ、Ｆは補正係数である。

△、Ｄはオフセット補正係数、Ｂ、Ｆはそれぞれ本来の
ゲイン補正係数、Ｃ，Ｅは干渉による補正係数である。

尚、？ｌ　１係ａ　Ａ　−Ｆ　ハ３１１１（７）　７’
　−’）　（Ｘ　１．　Ｙ＋）、（Ｘ２．Ｙ２）、（Ｘ
３．Ｙｘ）を順次成形偏向器５に入力してやり、その時
の実際のビーム寸法を測定して＜１）、（２）式に代入
して６個の連立方程式を作り、これら連立方程式を解く
ことにより得られる。

（発明が解決しようとする問題点） 前記したような方法でビーム寸法を測定する場合、もし
成形アパーチャ３，６に回転設定誤差が存在していれば
ビーム寸法測定値には成形アパーチャ３．６の回転設定
誤差に起因する誤差が含まれてしまう。従って、その測
定値から求めた補正係数Ａ−Ｆにも誤差が含まれ高精度
のビーム描画が不可能になってしまう。

今、この誤差の生ずる理由を単純化した場合について考
えてみる。即ち、ここでは成形偏向器５にＸ、Ｙの干渉
がないものとする。この状態で、２つの描画データの組
（Ｘｌ、Ｙｔ　）、（Ｘｚ　。

Ｙ２）を入力する。このとき、Ｙｔ−Ｙ２とすると第１
成形アパーチャ像ｍは第１１図に示すように実線で示す
位置から破線で示す位置まで移動する。ｎは第２成形ア
パーチャである。この場合、成形アパーチャ３．６に回
転設定誤差がないものとすれば、第１の位置（実線位置
）におけるＹ方向描画データ測定値Ｙ１と、移動後の第
２の位訝（破線位置）におけるＹ方向描画データ測定値
Ｙ２は等しくなり測定誤差は生じない。

しかしながら、第１２図に示すように成形アパーチャ３
．６に回転設定誤差があるものとすれば、２つの描ｍデ
ー９の組（Ｘｔ　、　Ｙｓ　）　、　　（Ｘｚ　。

Ｙ２）を入力すると第１成形アパーチャ像−は第１の位
置（図の実線で示す位置）において第２成形アパーチャ
ｎと斜めに交わっている。この（１ｍは図の破線で示す
第２の位置まで移動する。第１の位置ではＹ辺の位置の
座標を図示の通りに定めると、Ｙ辺の位置はその中点Ｙ
ｌｃをとるものとすると、次式で与えられる。

Ｙｓ　　　Ｏ＝　　　（Ｙｔ　　　ａ　　　−ト　Ｙｔ
　　　ｂ　　　）／２　　　　　　　　　−　　（３）
次に、第２位置におけるＹ辺の位置の座標を図示のよう
に定めると、Ｙ辺の位ｎＹｚｏは次式で与えられる。

Ｙ２　ｃ　−（Ｙ２　ａ　＋Ｙｚ　ｂ　）／２　　　−
（４）（３）、（４）式より明らかなようにＹｔＣとＹ
２Ｏとは等しくならない。このように、Ｘ、Ｙの干渉は
もともと補正する必要がない筈であるが補正を行ってし
まうという不具合が生じる。

更に、成形アパーチャに回転設定誤差があると、描画さ
れたパターンのエツジがなめらかでなくなってしまう。

例えば第１３図に示すような長方形のパターンを３シヨ
ツトつなげて描画する場合、成形アパーチャに回転設定
誤差がなければ（イ）に示すようにエツジがなめらかな
パターンが得られる。しかしながら、成形アパーチャに
回転設定誤差があると（ロ）に示すようにエツジがギザ
ギザのパターンになってしまう。

従来、この成形アパーチャの回転設定誤差を修正するた
めには、ファラデーカップ等を用いたナイフェツジ検出
法や十字状マークによる反射電子検出法を用い、それか
ら得られる矩形ビームプロファイルの辺の微分波形を観
察し、この波高値が最大値をとるべく回転補正を行って
いる。このことをもう少し詳しく説明する。第１４図（
イ）に示すようにウェハ１１の近傍にマーク１２をつけ
ておく。ここで、マーク１２は（０）に示すように例え
ば３ｉのベース２１上にＡｕのパターン（ここでは十字
形）２２を形成したものである。

成形アパーチャに回転設定誤差がない場合には、電子ビ
ームは第１５図（イ）に示すようにＡｌｌ線パターンと
直角に交わり、反射電子検出器で検出した信号（生信号
を１回微分したビームプロファイル信号を更にもう１回
微分した信号）は第１６図（イ）に示すように急峻なパ
ルス状となる。これに対して成形アパーチャに回転設定
誤差がある場合には、電子ビームは第１６図（ロ）に示
すように電子ビームはＡｕ線パターン２２と斜めに交わ
る。この結果、ビームプロファイル）は第１６図（ロ）
に示すように立上がり、立下りがなまった波形になる。

第１６図（イ）に示すビームプロファイルを微分すると
、その微分波形は（イ）に示すように急峻なものとなり
その波高値は最大となる。これに対し、第１６図（ロ）
に示すビームプロファイルを微分すると、その微分波形
は（ロ）に示すようになまったものとなり波高値も低く
なる。以上の説明より明らかなようにマーク通過時のビ
ームプロファイルの微分波形の波高値が最大となるよう
に成形アパーチャの回転補正を行えばよいことになる。

しかしながらこの方法では、もともとビームプロファイ
ルの辺にボケがあるため、微分波高値の変化が十分に読
み取れなかったり、又、マークの辺が正規の座標軸と平
行でないこと（この場合、矩形ビームの辺はマークの辺
に対して平行になるような合わせ動作となるため、マー
クの辺と正規座標軸との平行度誤差はそ・のままマーク
の辺の合わせ誤差に含まれてしまう）等により、成形ア
パーチャの回転設定精度が不十分であり、最終的には描
画したパターンのショットのつなぎを観察して補正を加
える必要があった。従うて、成形アパーチャの回転設定
には多大の時間と労力を必要とするという不具合があっ
た。

しかも、従来の方法は偏向補正用に静電型の成形偏向器
を用いているが、この種の成形偏向器でビームを第２成
形アパーチャの端から端まで振ろうとすると、大振幅の
出力電圧を特徴とする特許のため電源電圧としても高電
圧を必要とし、駆動アンプ自体も極めて高価なものとな
つ−ていた。

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであって、
その目的は、成形ビームを得るための偏向器の誤差及び
成形アパーチャの回転誤差を補正して高精度の電子線描
画を行うことができる安価な可変成形型電子線描画方法
を実現することにある。

（問題点を解決するための手段） 前記した問題点を解決する本発明は、第１及び第２の成
形アパーチャとこれらアパーチャの間に配置された偏向
器により所望断面形状のビームを得、このビームを材料
上に照射して所定パターン　。

を描画するようにした可変成形型電子線描画方法におい
て、第１成形アパーチャの像が第２成形アパーチャにさ
えぎられず完全に第２成形アパーチャ内に納まった状態
で電磁偏向器をＸ方向及びＹ方向に駆動して材料上の像
のエツジ位置の変化から電磁偏向器に加える駆動信号の
補正量を求め、この補正量により電磁偏向器の駆動信号
を補正して該電磁偏向器によるＸ及びＹ方向の偏向方向
の誤差が生じないように予め電１＆偏向器を設定してお
き、次に第１成形アパーチャの像が第２成形アパーチャ
と重なり合うように投影した状態で電磁偏向器により第
１アパーチャ像を移動させ、材料上の像のエツジ位置の
変化から第１成形アパーチャ及び第２成形アパーチャの
回転設定補正を行った後、ビーム描画を行うようにした
ことを特徴とするものである。

（作用） 成形アパーチャの回転設定調整を行う場合の成形ビーム
を得るための偏向器として電磁偏向器を用いると共に、
Ｗ１Ｖａ偏向器の偏向補正と成形アパーチャの回転補正
を行う。電磁偏向器は偏向精度が静電型偏向器に比べて
若干劣るもののフィールドの端から端まで振るのに電流
を調節すればよく、大振幅の電圧を必要としないので成
形アパーチャの回転設定調整用として用いるには好適で
ある。

もともと光軸調整用に設けられているアライメントコイ
ルは一種の電１ｉＩｉ向器であるので、このアライメン
トコイルを上記調整用としても兼用すればよい。これに
より、正確なビーム描画が行える可変成形型電子線描画
装置を安価な構成で実現することができる。

（実施例） 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。

第１図は本発明方法を用いた装置の一実施例を示す構成
図である。第７図と同一のものは、同一符号を付して示
す。図において、３０は第１成形アパーチャ３と第２成
形アパーチャ６との間に配置されている光軸調整用のア
ライメントコイルである。本発明では、このアライメン
トコイル３０を成形アパーチャ回転設定の調整用電１＆
偏向器としても用いる。３１は描画パターンデータを出
力する他、正確なビーム描画を行うために侵述する各種
演算制御を行うＣＰＵである。３２はＣＰＵ３１から出
力されるパターンデータをアナログ信号に変換するＤ／
Ａ変換器、３３は該Ｄ／Ａ変換器３２の出力を入力とし
て受けて、位置決め偏向器９を駆動する偏向アンプであ
る。３４はＣＰＵ３１からの矩形成形ビームサイズを調
節するための偏向信号を受けてアナログ信号に変換する
Ｄ／Ａ変換−１３５は該Ｄ／Ａ変換器３４の出力を受番
プてアライメントコイル３０を駆動するアンプである。

３６．３７はそれぞれ第１及び第２の成形アパーチャ３
．６の回転補正を行う回転補正機構である。このように
構成された装置の動作を説明すれば、以下の通りである
。

ＣＰＬＩ３１から出力されたパターンデータのうち位置
に関するものはＤ／Ａ変換鼎３２によりアナログ信号に
変換された後、偏向アンプ３３に入る。偏向アンプ３３
は入力走査信号に応じて位置決め偏向７Ｊ９を駆動する
。この結果、材料１０上に所定のパターンが描画される
ことは、第７図について説明した通りである。本発明は
材料１０上にパターンを高精度に描画する機構に関する
ものである。

先ず、アライメントコイル３０による成形偏向補正につ
いて説明する。第２図はアライメントコイル３０による
成形偏向補正のシーケンスを示すフローチャートである
。以下、このフローチャートに沿って説明する。

ステップ■ 第１成形アパーチャ像が第２成形アパーチャにさえぎら
れず完全に第２成形アパーチャ内に納まった状態でアラ
イメントコイル３０をＸ方向に駆動する。

第１成形アパーチャ像が第２成形アパーチャに、第８図
に示すようにさえぎられた状態で重なり合ってしまうと
材料面上のアパーチャ像の位置検出の際、成形アパーチ
ャの回転の影響が顕著に現われる。このような回転の影
響を排除するため、第１成形アパーチャ像がスッポリ第
２成形アパーチャ内に納まるように、即ち、全ての電子
ビームを通過できるようにするのである。この状態でア
ライメントコイル３０に成形データ（Ｘｓ　、Ｙｌ）。

（Ｘ２　、Ｙｔ　）を与える。つまりＸＱ向を行う。

第３図は成形偏向補正を説明するための図である。図に
おいて、−は第１成形アパーチャ像、ｎは第２成形アパ
ーチャである。実線で示す第１成形アパーチャ（ｇｕは
第１位置を、破線で示す第１成形アパーチャ像ｍはＸ偏
向後の第２位置を示す。

何れの場合も、第１成形アパーチャ像−は第２成形アパ
ーチャｎにさえぎられず、第２成形アパーチャ内に完全
に納まるようになっている。

ステップ■ 移動の前後における材料上の像の位置の変化から補正係
数Ｂ、Ｅを求める。

第３図において、移動の前後における１−Ａ辺と２−Ａ
辺のＸ座標を前述した十字状マークによる反射電子検出
法により測定する。第１位置におけるＸ座標測定値を×
１′、第２位置におけるＸ座標測定値をＸ２１　とする
と、これらは次式で与えられる。

Ｘ！’　−Ａ＋ｓｘｌ　　　　　　　　　　・・・（５
）Ｘ２　’　＝Ａ＋ＢＸｚ　　　　　　　　　　・・・
（６）（５）、（６）式により補正係数Ｂは次式で与え
られる。

Ｂ＝　（Ｘｔ　’　　−Ｘ２　’　　）／　（Ｘｓ　　
−Ｘ２　　）・・・　（７） 次に１−８辺と２−８辺のＹ座標をマーク検出法により
測定する。第１位置におけるＹ座標測定値をＹ１′、第
２位置におけるＹ座標測定値をＹ２′とすると、これら
は次式で与えられる。

Ｙ　電　’　　　−Ｄ＋ＥＸｔ　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　・・・　（８）Ｙ２’＝Ｄ
＋ＥＸ２　　　　　　　　　　・・・（９）（８）、（
９）式により補正係数Ｅは次式で与えられる。

Ｅ＝　（Ｙｔ　’　−Ｙ２　’　）／　（Ｘｔ　−Ｘ２
　）・・・（１０） ステップ■ 第１成形アパーチャ像が第２成形アパーチャにさえぎら
れず完全に第２成形アパーチャ内に納まった状態でアラ
イメントコイル３０をＹ方向に駆動する。

ステップ■で説明したと同様の要領でアライメントコイ
ル３０に成形データ（Ｘｌ、Ｙｔ　）。

（ＸＩ、Ｙ２）を与える。つまりＹｌｌａ向を行う。

この場合には第１成形アパーチャ像ｍは第３図に示すよ
うにＸ方向に移動するのではなくＹ方向に移動する。

ステップ■ 移動の前後における材料上の像の位置の変化から補正係
数Ｃ，Ｆを求める。

ステップ■で説明したと同様の要領で補正係数を求める
。補正係数Ｃ，Ｆはそれぞれ次式で与えられる。

Ｃ＝　（Ｘｔ　’　　−Ｘ２　’　　）／　（Ｙｔ　　
−Ｙ２　　＞・・・（１１） Ｆ＝　（Ｙｔ　’　−Ｙ２　’　）／　（Ｙｔ　−Ｙ２
　）・・・（１２） 但し、Ｘｔ　’　、Ｘ２’　Ｌｔｌ−Ａ辺、！：２−Ａ
辺ノＸ座標測定値、Ｙ１−Ｙ２は１−８辺と２−８辺の
Ｙ座標測定値である。

ステップ■ アライメントコイル３０に成形データを与えない状態で
補正係数Ａ、Ｄを求める。

アライメントコイル３０に成形データを与えない状態に
おいてもＸ座標値、Ｙ座標値は０にならずオフセットが
存在する。

ステップ■ これら補正係数に基づいて偏向補正を行う。

このようにして（１）、（２＞式に示す補正係数が全て
求まった後はこの偏向補正ａを、通常の光軸合わせ時の
偏向に重畳してやれば、成形偏向時の誤差は補正される
。この測定、補正には成形アパーチャの回転誤差が含ま
れないので正確な補正を行うことができる。

次に、成形アパーチャの回転設定誤差の補正について説
明する。第４図は成形アパーチャの回転設定誤差の補正
シーケンスを示す）ローチャートである。以下、このフ
ローチャートに沿って本発明を説明する。

ステップ■ 第２図に示したシーケンスを用いて予めアライメントコ
イル３０の補正を行っておく。

前述のアライメントコイル３０の補正はＸ、Ｙの干渉補
正、オフセット補正を成形アパーチャの回転誤差を排除
した状態で行い、アライメントコイル３０の駆動信号を
補正するものであった。詳細説明は前述したので省略す
る。

ステップ■ 第１成形アバーチＩＦ像が第２成形アパーチャと重なり
合うように投影した状態で、電！１偏向により第１成形
アバーチ？像を移動させる。

成形アパーチャの回転による誤差は、第１成形アパーチ
ャ像を第２成形アパーチャと重ね合わせることによって
把握することができる。第５図は回転誤差補正の説明図
で、アライメントコイル３０に２個の成形デー’）（Ｘ
ｔ　、Ｙｌ）、（Ｘｚ　。

Ｙｌ）を与えて、第１成形アパーチャ像ｍを実線で示す
第１位置から破線で示す第２位置に移動させる。

ステップ■ 移動の前後における材料上の像の位置の変化から第１成
形アパーチャ３の回転設定を行う。

ステップ■の移動の前後による第１位置及び第２位置に
おける第１成形アパーチャー−と第２成形アパーチャｎ
との重なり領域Ｐ、Ｐ’に着目する。第１の重なり領域
Ｐの矩形像を図に示すように検出マーク上に結像する。

この状態でａ　−１辺の位置を測定する。次に第２の重
なり領域Ｐ′の矩形像を図に示すように検出マーク上に
結像する。

この状態でｂ−１辺の位置を測定する。そして、ａ−１
とｂ−１の位置が一致するように回転補正機構３６によ
り第１成形アパーチャ３の回転設定を行う。以上により
、第１成形アパーチャ３の回転誤差の補正がなされたこ
とになる。第１成形アパーチャ３の回転設定を行う回転
補正［３６としては、具体的には例えばパルスモータ駆
動により第１成形アパーチャを回転させる機構を用い、
印加パルス数を制御する方法や、成形アパーチャの下に
設けられた回転レンズを用いレンズの励磁を制御する方
法等が用いられる。

ステップ■ 同様にして、第２成形アパーチャ６の回転設定を行う。

第５図において、移動の前後における重なり領域Ｐ１Ｐ
’の下辺ａ−２とｂ−２の位置をマーク検出法により測
定し、それぞれの位置が一致するように回転補正機構３
７を用いて第２成形アバーチセ６の回転設定を行う。以
上により、第２成形アパーチャ６の回転誤差の補正がな
されたことになる。

尚、検出のためのマークが正規の座標軸に対して平行度
が十分でない場合、第６図に示すように重なり領域Ｐ′
の矩形像を図の矢印Ｘ方向に移動し、Ｐ′の矩形像とＰ
の矩形像のＸ座標位置が変化しないように位置決め偏向
器９で矩形像の位置を決めておく。この状態でＹ方向に
走査する。これにより検出マーク上の同じ位置を走査す
ることができ（第６図のマークエツジのＸ方向位置が同
じになる）、マークの平行度誤差が測定誤差に含まれな
いようにすることができる。マーク検出のｍ度は走査用
偏向の１インクリメント程度（通常０．０１〜０．０３
μｍ）が期待でき、検出用マークの非平行度によらない
高精度の回転設定が可能である。

以上の補正が終了した侵、描画パターンデータを位置決
め偏向器９及び成形偏向器に与えてビーム描画を行う。

ステップ■までの工程で偏向補正及び成形アパーチャの
回転設定補正が完了しているので、補正後の可変成形用
信号を成形偏向器に位ｎ信弓を位置決め偏向器９に与え
てビーム描画を行えば極めて正確な描画が行えることに
なる。

前述の実施例では電磁偏向器として、軸合わせ用のアラ
イメントコイルを用いたが、これに限るものではなくそ
の他の電ｔａ偏向器を用いてもよい。

又、第５図のように、Ｘ方向へ偏向して測定と調整を行
なう場合には全ての補正係数（Ａ−Ｆ）を求める必要は
なく、補正係数Ｅのみ求めればよい。更に、偏向の誤差
間さえ分かれば、補正係数を求めなくとも第１成形アパ
ーチャ像と第２成形アパーチャとの重なりによる矩形像
の各移動の位置に該誤差間を勘案して回転誤差を求める
こともできる。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明によれば、Ｘ偏向及
びＹ偏向の前後において、第１成形アパーチャ像が第２
成形アパーチャ内にスッポリ納まる状態で、アライメン
トコイルを用いて偏向信号印加時の補正係数を求めるこ
とにより、成形アパーチャの回転誤差の影響が補正係数
に含まれないようにすることができる。そして、アライ
メントコイルを用いて偏向補正を行った後、第１成形ア
パーチャ像が第２成形アパーチャに重なり合う形で第１
成形アパーチャ像を移動させ、移動の前後における矩形
俄の対応する辺同志の測定位置が一致するように第１成
形アパーチャ及び第２成形アパーチャの回転設定を行う
ことにより、成形アパーチャの回転誤差を確実に補正す
ることができる。

このようにして、本発明によれば常に材料上に正確な電
子ビームによる描画パターンを形成することができる。

本発明によれば、成形アパーチャの回転設定調整用の電
磁偏向器として光軸調整用のアライメントコイルをその
まま用いているので、特別にｒ１磁偏向器を付加する必
要がなく、安価な装置を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図はアラ
イメントコイルによる成形偏向補正のシーケンスを示す
フローチャート、第３図は成形偏向補正を説明するため
の図、第４図は成形アパーチャの回転設定誤差の補正シ
ーケンスを示すフローチャート、第５図は回転誤差補正
の説明図、第６図は検出マークの平行度補正の説明図、
第７図は可変成形型の電子線描１ｉｆｊ装置の従来構成
例を示す図、第８図は第１成形アパーチャ像と第２成形
アパーチャの重なり状態を示す図、第９図は成形偏向器
の配置を示す図、第１０図は成形偏向器におけるＸ、Ｙ
干渉の説明図、第１１図は正常状態における第１成形ア
パーチャ像と第２成形アパーチャの重なり状態を示す図
、第１２図は成形アパーチャに回転誤差がある時の第１
成形アパーチャ像と第２成形アパーチャの重なり状態を
示す図、第１３図はパターン形成の様子を示す図、第１
４図乃至第１６図はマーク検出の説明図である。 １・・・電子銃　　　　　　２・・・照明レンズ３・・
・第１成形アパーチャ ４・・・成形レンズ　　　　５・・・成形偏向器６・・
・第２成形アパーチャ ア・・・縮小レンズ　　　　８・・・対物レンズ９・・
・位置決め偏向器　　１０・・・材料３０・・・アライ
メントコイル ３１・・・ＣＰＵ ３２．３４・・・Ｄ／Ａ変換器 ３３・・・偏向アンプ　　　３５・・・アンプ３６．３
７・・・回転補正機構 ３ｉ・・・電子ビーム 特許出願人　　日　　本　　電　　子　　株　　式　　
会　　礼式　　理　　人　　　弁理士　　井　　島　　
藤　　冶外１名 減２図 第３　図 筒４図 第７　図 １０η料 負可５　図 第６図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）第１及び第２の成形アパーチャとこれらアパーチ
   ャの間に配置された偏向器により所望断面形状のビーム
   を得、このビームを材料上に照射して所定パターンを描
   画するようにした可変成形型電子線描画方法において、
   第１成形アパーチャの像が第２成形アパーチャにさえぎ
   られず完全に第２成形アパーチャ内に納まった状態で電
   磁偏向器をＸ方向及び若しくはＹ方向に駆動して材料上
   の像のエッジ位置の変化から電磁偏向器に加える駆動信
   号の補正量を求め、この補正量により電磁偏向器の駆動
   信号を補正して該電磁偏向器による偏向方向誤差が生じ
   ないように予め電磁偏向器を設定しておき、次に第１成
   形アパーチャの像が第２成形アパーチャと重なり合うよ
   うに投影した状態で電磁偏向器により第１アパーチャ像
   を移動させ、材料上の像のエッジ位置の変化から第１成
   形アパーチャ及び第２成形アパーチャの回転設定補正を
   行った後、ビーム描画を行うようにしたことを特徴とす
   る可変成形型電子線描画方法。
2. （２）前記電磁偏向器として軸合わせ用のアライメント
   コイルを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の可変成形型電子線描画方法。