JPS6341025A - 電子線描画装置の描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電子線描画装置の描画方法に関し、更に詳しく
はターゲット上に正確にビーム描画を行うことができる
ようにした電子線描画装置の描画方法に関する。

（従来の技術） 電子線描画装置は電子銃から発生した電子ビーム（電子
線）を偏向手段によりＸ方向及びＹ方向に２次元的に偏
向させ、描画材料（以下ターゲットという）上にビーム
描画を行う装置である。第６図は可変成形型の電子線描
画装置の従来の構成例を承り図である。電子銃１より出
射した電子ビームＢｉは照明レンズ２により第１成形ア
パーチャ３上に照射される。

第１成形アパーチャ３の開口像は、成形レンズ４により
第２成形アパーチャ６上に結像されるが、その結像の位
置は成形偏向器５により変えることができる。第２成形
アパーチャ６により成形された像は、縮小レンズ７、対
物レンズ８を経てターゲット１０上に照射される。ター
ゲット１０への照射位置は位置決め（１向３つにより変
えることができる。

この種の電子線描画装置に用いる第１及び第２成形アバ
ーチ１７３．６の開口は通常矩形をしており、矩形像の
大きさは第７図に示すように第１成形アパーチャ３の矩
形像Ｉが、第２成形アパーチャ６の間口ｎと重なった領
域（図の斜線領域）Ｐを可変することで調節することが
できる。つまり、この重なった領域Ｐの電子ビームがタ
ーゲット１０を照射することになるので、ターゲット１
ｏ上に照射されるビームの幅を拡げたい時には成形偏向
器５を操作して第７図に示１重なり領域Ｐを増やし、ビ
ームの幅を細くしたい時には成形偏向器５を操作して手
なり領域Ｐを少なくするのである。

このようにして、可変成形された電子ビームによる矩形
像をターゲット１０上に照射して、これら短形像を位置
決め偏向器９でつないで、目的とするパターンを作って
いる。

この場合において、成形偏向器５の駆動は以下のように
行われる。成形偏向器５は第８図に示すようにＸ方向及
びＹ方向に偏向電極５Ｘ、５Ｘ’　。

５Ｙ、５Ｙ’　を配置してこれら電極間に電子ビームの
移動機に対応した電圧を印加するようになっている。こ
のような電極配置により例えばＸ方向のみ偏向させるた
めに、電極５Ｘ、５Ｘ’間に電圧を印加した場合、電子
ビームは理想状態ではＸ方向にのみ移動する。ところが
電極５Ｘ、５Ｘ’が第９図に示すようにある角θだけ傾
いていると電子ビームに加わる力ＦはＸ方向成分Ｆ×と
Ｙ方向成分Ｆｙに分解され、Ｙ方向にも偏向してしまう
。そこで、このような干渉を補償するためＹ方向電極５
Ｙ、５Ｙ’　にもＦｙを打消すだけの電圧を印加してや
る必要がある。この間の事情はＹ方向に偏向させる場合
についても同様であり、更に像には印加電圧ゼロの状態
におけるオフセットもある。

このため、成形偏向器５のＸ方向電極及びＹ方向電極に
印加する電圧信号Ｘ’　、Ｙ’　はそれぞれ以下のよう
な式で表わされる。

Ｘ’　−Ａ＋ＢＸ＋ＣＹ　　　　　　　　・・・（１）
Ｙ’　　−０＋ＥＸ＋ＦＹ　　　　　　　　　　　　・
・・　〈　２）ここで、Ｘ、Ｙは第１成形アバーチ１７
像が第２成形アパーチャと重なりあってできる描画の矩
形の寸法、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ、Ｆは補正係数である。

Ａ、Ｄはオフセット補正係数、Ｂ、Ｆはそれぞれ本来の
ゲイン補正係数、Ｃ，Ｅは干渉による補正係数である。

尚、補正係数Ａ−Ｆは３組のデータ（Ｘｔ　、　Ｙｌ）
、（Ｘ２．Ｙ２）、（Ｘｓ、Ｙｓ）を順次成形偏向器５
に入力してやり、その時の実際のビーム寸法を測定して
（１）、（２）式に代入して６個の連立方程式を作り、
これら連立方程式を解くことにより得られる。

（発明が解決しようとする問題点） 前記したような方法でビーム寸法を測定する場合、もし
成形アパーチャ３，６に回転設定誤差が存在していれば
ビーム寸法測定値には成形アパーチャ３．６の回転設定
誤差に起因する誤差が含まれてしまう。従って、その測
定値から求めた補正係数Ａ〜Ｆにも誤差が含まれ高精度
のビーム描画が不可能になってしまう。

今、この誤差の生ずる理由をＩＡ純化した場合について
考えてみる。即ち、ここでは成形偏向器５にＸ、Ｙの干
渉がないものとする。この状態で、２つの描画データの
組（Ｘｒ　、Ｙ＋　）、（Ｘ２　。

Ｙｚ）を入力する。このとき、Ｙｌ−Ｙｚとすると第１
成形アパーチャ８Ａｍは第１０図に示すように実線で示
す位置から破線で示す位置まで移動する。ｎは第２成形
アパーチャである。この場合、成形アパーチャ３．６に
回転設定誤差がないものとすれば、第１の位置（実検位
置）におけるＹ方向描画データ測定値Ｙ１と、移動後の
第２の位置（破線位置）におけるＹ方向１ｌｉＩｉ画デ
ータ測定値Ｙ２は等しくなり測定誤差は生じない。

しかしながら、第１１図に示すように成形アパーチャ３
．６に回転設定誤差があるものとすれば、２つの描画デ
ータの組（Ｘ＋　、Ｙｔ　＞、（Ｘ２　。

Ｙ２）を入力すると第１成形アパーチャ象ｍは第１の位
置（図の実線で示す位置）において第２成形アパーチャ
ｎと斜めに交わっている。この像■は図のＴＪｌ線で示
す第２の位置まで移動する（尚、図中の５は成形偏向器
である）。第１の位置ではＹ辺のイ立１ｍの座標を図示
の通りに定めると、Ｙ辺の位置はその中点Ｙ、Ｃをとる
ものとすると、次式で与えられる。

ＹＩＣ＝　（”ｙ’＋　８　＋、Ｙ１ｂ　）／’２　　
−　（３）次に、第２位置におけるＹ辺の位置の座標を
図示のように定めると、Ｙ辺の位ＷＹｚ　ｃは次式で与
えられる。

Ｙ２　ｃ　−（Ｙ２　ａ　＋Ｙ２　ｂ　）／２　　　・
・・（４）（３）、（４）式より明らかなようにＹＩＣ
とＹ２Ｏとは等しくならない。このように、Ｘ、Ｙの干
渉はもともと補正す′る必要がない筈であるが補正を行
ってしまうという不具合が生じる。

更に、成形アパーチャに回転設定誤差があると、描画さ
れたパターンのエツジがなめらかでなくなってしまう。

例えば第１２図に示すような長方形のパターンを３シヨ
ツトつなげて描画する場合、成形アパーチャに回転設定
誤差がなければ〈イ）に示すようにエツジがなめらかな
パターンが得られる。しかしながら、成形アパーチャに
回転設定誤差があると（ロ）に示ずようにエツジがギザ
ギザのパターンになってしまう。

従来、この成形アパーチャの回転設定誤差を修正するた
めには、ファラデーカップ等を用いたナイフェツジ検出
法や十字状マークによる反射電子検出法を用い、それか
ら得られる矩形ビームプロファイルの辺の微分波形を観
察し、この波高値が最大値をとるべく回転補正を行って
いる。このことをもう少し詳しく説明する。第１３図（
イ）に示すようにウェハ１１の近傍にマーク１２をつけ
ておく。ここで、マーク１２は（ロ）に示１ように例え
ばＳｉのベース２１上にＡｌ１のパターン（ここでは十
字形）２２を形成したものである。

成形アパーチャに回転設定誤差がない場合には、電子ビ
ームは第１４図（イ）に示すようにＡｕｊＤパターンと
直角に交わり、反射電子検出器で検出したイ３＠（ビー
ムプロファイル叩ら生信号を１同機分した信号）は第１
５図（イ）に示すように急峻なパルス状となる。これに
対して成形アパーチャに回転設定誤差がある場合には、
電子ビームは第１４図（ロ）に示すように電子ビームは
ＡｕｖＡパターン２２と斜めに交わる。この結果、ビー
ムプロファイル）は第１５図（ロ）に示すよう′に立上
がり、立下りがなまった波形になる。

第１５図（イ）に示すビームプロファイルを微分すると
、その微分波形は〈イ）に示すように急峻なものとなり
その波高値は最大となる。これに対し、第１５図（ロ）
に示すビームプロファイルを微分すると、その微分波形
は（ロ）に示ずようになまったものとなり波高値も低く
なる。以上の説明より明らかなようにマーク通過時のビ
ームプロファイルの微分波形の波高値が最大となるよう
に成形アパーチャの回転補正を行えばよいことになる。

しかしながらこの方法では、もともとビームプロファイ
ルの辺にボケがあるため、微分波高値の変化が十分に読
み取れなかったり、又、マークの辺が正規の座標軸と平
行でないこと（この場合、矩形ビームの辺はマークの辺
に対して平行になるような合わせ動作となるため、マー
クの辺と正規座標軸との平行度誤差はそのままマークの
辺の合わせ誤差に含まれてしまう）等により、成形アパ
ーチャの回転設定開度が不十分であり、最終的には描画
したパターンのショットのつなぎを観察して補正を加え
る必要があった。従って、成形アパーチャの回転設定に
は多大の時間と労力を必要とするという不具合があった
。

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであって、
その目的は、第１に成形偏向器に印加する駆動信号の補
正係数に成形アパーチャの回転誤差に起因する誤差が含
まれないようにして高精度のビーム描画が行える電子線
描画装置の描画方法を実現することにあり、第２に成形
アパーチャの回転誤差を確実に補正して高精度のビーム
描画が行える電子線描画装置の描画方法を実現すること
にある。

（問題点を解決するための手段） 前記した問題点を解決する第１の発明は、第１及び第２
の成形アパーチャとこれらアパーチャの間に配置された
成形偏向器により所望断面形状のビームを得、このビー
ムをターゲット上に照射して所定パターンを描画するよ
うにした電子線描画装置の描画方法であって、第１成形
アパーチャの像が第２成形アパーチャにさえぎられず完
全に第２成形アパーチャ内に納まった状態で成形偏向器
をＸ方向及びＹ方向に駆動してターゲット上の像の位Ｕ
の変化から成形偏向器に加える駆動信号の補正量を求め
、この補正量により成形偏向器の駆動信号を補正してビ
ーム描画を行うようにしたことを特徴とするものであり
、第２の発明は、第１及び第２の成形アパーチャとこれ
らアパーチャの間に配置された成形偏向器により所望断
面形状のビームを得、このビームをターゲット上に照射
して所定パターンを描画するようにした電子線描画装置
の描画方法であって、第１成形アパーチャの像が第２成
形アパーチャにさえぎられず完全に第２成形アパーチャ
内に納まった状態で成形偏向器をＸ方向及びＹ方向に駆
動してターゲット上の像の位置の変化から成形偏向器に
加える駆動信号の補正量を求め、この補正口により成形
偏向器の駆動信号を補正して、成形偏向器による描画誤
差が生じないように予め成形偏向器を設定しておき、次
に第１成形アパーチャの像が第２成形アパーチャと重な
り合うように投影した状態で成形偏向器により第１７パ
ーチヤ像を移動させ、ターゲット上の像の位置の変化か
ら第１成形アパーチャ及び第２成形アパーチャの回＠設
定を行った後、ビーム描画を行うようにしたことを特徴
とするものである。

（作用） 第１の発明においては、第１成形アパーチャ像が第２成
形アパーチャ内に完全に納まった状態で成形偏向器の駆
動信号の補正量を求め、第２の発明は第１の発明方法を
適用した後に矩形像を移動させ、移動の前後におけるＸ
、Ｙ各方向の位置の変化がないように成形アパーチャの
回転誤差補正を行う。

（実施例） 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。

第１図は第１の発明の一実施例を示すフローチャートで
ある。以下このフローチャートに沿って本発明方法を説
明する。

ステップ■ 第１成形アパーチャ像が第２成形アパーチャにさえぎら
れず完全に第２成形アパーチャ内に納まった状態で成形
偏向器をＸ方向に駆動する。

第１成形アパーチャ像が第２成形アパーチャに、第７図
に示すようにさえぎられた状態で重なり合ってしまうと
成形アパーチャの回転の影響が顕著に現われる。このよ
うな回転の影響を排除するため、第１成形アパーチャ像
がスツボリ第２成形アパーチャ内に納まるように、即ち
、全ての電子ビームを通過できるようにするのである。

この状態で成形偏向器に描画データ（Ｘ＋　、Ｙｌ＞、
（Ｘ２、Ｙｌ）を与える。つまりＸ偏向を行う。

第２図は本発明を説明°するための図である。図におい
て、ｍは第１成形アパーチャ像、ｎは第２成形アパーチ
ャである。実線で示す第１成形アパ−チャＢＩｍは第１
位置を、破線で示す第１成形アパーチャ像ＩはＸ偏向後
の第２位置を示す。何れの場合も、第１成形アパーチｗ
＠ｒｎは第２成形アパーチャｎにさえぎられず、第２成
形アパーチャ内に完全に納まるようになっている。

ステップ■ 移動の前後におけるターゲット上の像の位置の変化から
補正係ａＢ、Ｅを求める。

第２図において、移動の前後における１−Ａ辺と２−Ａ
辺のＸ座標を前述したマーク検出法により測定する。第
１位置におけるＸ座標測定値を×１′、第２位置におけ
るＸ座標測定値をｘ２′とすると、これらは次式で与え
られる。

Ｘｔ’−Ａ４−ＢＸ＋　　　　　　　　　　・・・（５
）Ｘ？’−Ａ＋ＢＸｚ　　　　　　　　　・・・（６）
（５）、（６）式により補正係数Ｂは次式で与えられる
。

Ｂ−（Ｘｔ　’　　Ｘｚ　’　　）／　（ＸＩ　　Ｘ２
　）・・・（７） 次に１−Ｂ辺と２−Ｂ辺のＹ座標をマーク検出法により
測定する。第１位置におけるＹ座標測定値をＹ１′、第
２位置におけるＹ座標測定値をＹ２′　とすると、これ
らは次式で与えられる。

Ｙ１’　＝Ｄ＋ＥＸ＋　　　　　　　　　−（８）Ｙｚ
　’　””Ｄ　＋　Ｅ　Ｘｚ　　　　　　　　　・・・
（９）（８）、（９）式により補正係数Ｅは次式で与え
られる。

Ｅ＝　（Ｙｌ　’　−Ｙ２　’　　）／　（Ｘｔ　−Ｘ
２　）・・・〈１０） ステップ■ 第１成形アパーヂヤ像が第２成形アパーチャにさえぎら
れず完全に第２成形アパーチャ内に納まった状態で成形
偏向器をＹ方向に駆動する。

ステップ■で説明したと同様の要領で成形偏向器に描画
データ（Ｘｌ、Ｙｌ　）、（Ｘｔ　、Ｙ２　）を与える
。つまりＹ偏向を行う。この場合には第１成形アパーチ
ャ像ｍは第２図に示すようにＸ方向に移動するのではな
くＹ方向に移動する。

ステップ■ 移動の前後におけるターゲット上の像の位置の変化から
補正係数Ｃ，Ｆを求める。

ステップ■で説明したと同様の要領で補正係数を求める
。補正係数Ｃ，Ｆはそれぞれ次式で与えられる。

Ｃ＝　（Ｘｔ　’　−Ｘ２　’　　）／　（Ｙｔ　−Ｙ
２　）・・・（１１） ｆ−＝　（Ｙｔ　’　−Ｙ２　’　）／　（Ｙｌ　−Ｙ
２　）・・・（１２） 但し、Ｘ、／　、Ｘｚｌ　は１−Ａ辺と２−Ａ辺のＸ座
標測定値、Ｙｌ−Ｙ２は１−Ｂ辺と２−Ｂ辺のＹｆｆｉ
標測定値である。

ステップ■ 成形偏向器に描画データを与えない状態で第１成形アパ
ーチャ像を第２成形アパーチャに重ねてオフセット時の
補正係数Ａ、Ｄを求める。

成形偏向器に描画データを与えない状態においても×座
標値、Ｙ座標値は０にならずオフセットが存在する。こ
の場合、第１成形アパーチャ像を第２成形アパーチャに
重ねた状態で、マーク検出法によりＸ座標及びＹ座標を
測定して補正係数Ａ。

Ｄを求めることになる。従って、補正係数Ａ、Ｄには回
転誤差に起因する誤差が含まれるが、この後成形アパー
チャの回転補正を行った後、再度補正係数Ａ、Ｄのみを
求めればよい。尚、補正係数Ｂ、Ｃ，Ｅ、Ｆを求めた後
に、オフセット補正係数Ａ、Ｄを求めるようにしてもよ
い。

ステップ■ これら補正係数に基づいた駆動信号を成形偏向器に与え
てビーム描画を行う。

このようにして（１）、＜２＞式に示す補正係数が全て
求まった後はこれら式に描画データを与えてやれば成形
偏向器に与える駆動信号はオフセット及びＸ、Ｙの干渉
が補正されたものとなる。

しかも成形アパーチャの回転誤差が含まれないので正確
なビーム描画を行うことができる。

第３図は第２の発明の一実施例を示すフローチャートで
ある。第２の発明は成形アパーチャの回転誤差を補正す
る方法に関するものである。以下、このフローチャート
に沿って本発明方法を説明する。

ステップ■ 第１の発明を用いて予め成形偏向器の補正を行っておく
。

第１の発明はＸ、Ｙの干渉補正、オフセット補正を成形
アバーチせの回転誤差を排除した状態で行い、成形偏向
器の駆動信号を補正するものであった。詳細説明は前述
したので省略する。

ステップ■ 第１成形アパーチャ像が第２成形アパーチャと重なり合
うように投影した状態で、成形偏向により第１成形アパ
ーチャ像を移動させる。

成形アパーチャの回転による誤差は、第１成形アパーチ
ャ像を第２成形アパーチャと重ね合わせることによって
把握することができる。第４図は本発明の説明図で、成
形偏向器に２個のＩＦＪ画データ（Ｘｌ、Ｙｔ　）、（
Ｘ２　、Ｙｔ　）を与えて、第１成形アパーチャ像ｍを
実線で示す第１位置から破線で示す第２位置に移動させ
る。

ステップ■ 移動の前後におけるターゲット上の像の位置の変化から
第１成形アパーチトの回転設定を行う。

ステップ■の移動の前１９による第１位置及び第２位置
における第１成形アパーチャ９Ｂｎと第２成形アパーチ
ャｎとの重なり領域Ｐ、Ｐ’　に呑口する。第１の重な
り領域Ｐの矩形像を図に示すように検出マーク上に結像
する。この状態でａ　−１辺の位置を測定する。次に第
２の重なり領域Ｐ′の矩形像を図に示すように検出マー
ク上に結像する。

この状態でｂ−１辺の位置を測定する。そして、ａ−１
とｂ−１の位置が一致するように第１成形アパーチャの
回転設定を行う。以上により、第１成形アパーチャの回
転誤差の補正がなされｌ、：ことになる。第１成形アパ
ーチャの回転設定は、具体的には例えばパルスモータ駆
動により第１成形アパーチャを回転させる機構を用い、
印加パルス故を制御する方法や、成形アパーチャの下に
３２けられた回転レンズを用いレンズの励磁を制御する
方法が採られる。

ステップ■ 同様にして、第２成形アパーチャの回転設定を行う。

第４図において、移動の前後における重なり領域Ｐ、Ｐ
’の下辺ａ−２とｂ−２の位置をマーク検出法により一
測定し、それぞれの位置が一致するように第２成形アパ
ーチャの回転設定を行う。以上により、第２成形アパー
チャの回転誤差の補正がなされたことになる。

尚、検出のためのマークが正規の座標軸に対して平行度
が十分でない場合、第５図に示すように重なり領域Ｐ′
の矩形像を図の矢印×方向に移動し、Ｐ′の矩形像とＰ
の矩形像のＸ座標位置が変化しないように位置決め偏向
器（第６図の９参照）で矩形像の位置を決めておく。こ
の状態でＹ方向に走査する。これにより検出マーク上の
同じ位置を走査することができく第５図のマークエツジ
のＸ方向位置が同じになる）、マークの平行度誤差が測
定誤差に含まれないようにすることができる。

マーク検出の精度は走査用偏向の１インクリメント程度
（通常０．０１〜０．０３μｍ　）が期待でき、検出用
マークの非平行度によらない高精度の回転設定が可能で
ある。

ステップ■ 駆動信号を成形偏向器に与えてビーム描画を行う。ステ
ップ■までの工程で成形偏向器及び成形アパーチャの補
正が完了しているので、補正後の駆動信号を成形偏向器
に与えてビーム描画を行えば極めて正確な描画が行える
ことになる。

尚、第４図に示すように第１成形アパーチャの幅よりも
大きな成形偏向を行うことは、通常の描画モードではな
い。従って、成形偏向器に印加するＤＡＣ出力も補正モ
ード時はど大きくなることはない。高速のＤＡＣにおい
ては出り電圧を大きくすることは大きな負担であるから
である。しかしながら、上述の回転誤差補正モード時に
は高速性は必要ないので、高速ＤＡＣとは別に簡易形の
高出力ＤＡＣを用意し、この出力で成形偏向器を駆動す
るようにすればよい。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、第１の発明によれば、Ｘ（
ＩＷ向及びＹｉ向の前後において、第１成形アパーチャ
像が第２成形アパーチャ内にスツボリ納まる状態で、成
形偏向器に偏向電圧印加時の補正係数を求めることによ
り、成形アパーチャの回転誤差の影響が補正係数に含ま
れないようにすることができる。又、第２の発明によれ
ば、第１の発明を用いて成形偏向器の補正を行った後、
第１成形アバーチ１−像が第２成形アパーチャに重なり
合う形で第１成形アパーチャ像を移動させ、移動の前後
における矩形像の対応する辺同志の測定位置が一致する
ように第１成形アパーチャ及び第２成形アパーチャの回
転設定を行うことにより、成形アパーチャの回転誤差を
確実に補正することができる。

このようにして、本発明によれば常にターゲット上に正
確な電子ビームによる描画パターンを形成することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１の発明の一実施例を示すフローチャート、
第２図は第１の発明の説明図、第３図は第２の発明の一
実施例を示すフローチャート、第４図は第２の発明の説
明図、第５図は検出マークの平行度補正の説明図、第６
図は電子線描画装置の構成例を示す図、第７図は第１成
形アパーチＶ像と第２成形アパーチャの重なり状態を示
す図、第８図は成形偏向器の配置を示す図、第９図は成
形偏向器におけるｘ、Ｙ干渉の説明図、第１０図は正常
状態における第１成形アパーチャ像と第２成形アパーチ
ャの重なり状態を示す図、第１１図は成形アパーチャに
回転誤差がある時の第１成形アパーチャ像と第２成形ア
パーチャの重なり状態を示す図、第１２図はパターン形
成を示す図、第１３図乃至第１５図はビームプロファイ
ルによるマーク検出法の説明図である。 １・・・電子銃　　　　　　２・・・照明レンズ３・・
・第１成形アパーチャ ４・・・成形レンズ　　　　５・・・成形偏向器６・・
・第２成形アパーチャ ア・・・縮小レンズ　　　　８・・・対物レンズ゛５：
９・・・位置決め偏向器　　１ｏ・・・ターゲット３ｉ
・・・電子ビーム 箒１　図 蛸２　図 ｍ、第１成形アバ−チー僧 ｎ、第２成形アバーチャ 第３図 第６図 第４図 第５　図 角等７３Ｋ ｍ 第８図 ｙ Ｙ ｍｉｌｌ！ｌ安形アノマーチャ像 ｎｉ第２成形アパーチャ ｐ；＊なつ部域 第９図 らＸ′ 第１０図 第１１図 ｎｉ第２輔アバーラ ５、引（内器 ｍ、第１ｆＲ形アパーチャ債 ｎ、第２成形アパーチャ 第１２図 （イ）　　　　　（ロ） ２↑

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）第１及び第２の成形アパーチャとこれらアパーチ
   ャの間に配置された成形偏向器により所望断面形状のビ
   ームを得、このビームをターゲット上に照射して所定パ
   ターンを描画するようにした電子線描画装置の描画方法
   であって、第１成形アパーチャの像が第２成形アパーチ
   ャにさえぎられず完全に第２成形アパーチャ内に納まっ
   た状態で成形偏向器をＸ方向及びＹ方向に駆動してター
   ゲット上の像の位置の変化から成形偏向器に加える駆動
   信号の補正量を求め、この補正量により成形偏向器の駆
   動信号を補正してビーム描画を行うようにしたことを特
   徴とする電子線描画装置の描画方法。
2. （２）第１及び第２の成形アパーチャとこれらアパーチ
   ャの間に配置された成形偏向器により所望断面形状のビ
   ームを得、このビームをターゲット上に照射して所定パ
   ターンを描画するようにした電子線描画装置の描画方法
   であって、第１成形アパーチャの像が第２成形アパーチ
   ャにさえぎられず完全に第２成形アパーチャ内に納まっ
   た状態で成形偏向器をＸ方向及びＹ方向に駆動してター
   ゲット上の像の位置の変化から成形偏向器に加える駆動
   信号の補正量を求め、この補正量により成形偏向器の駆
   動信号を補正して、成形偏向器による描画誤差が生じな
   いように予め成形偏向器を設定しておき、次に第１成形
   アパーチャの像が第２成形アパーチャと重なり合うよう
   に投影した状態で成形偏向器により第１アパーチャ像を
   移動させ、ターゲット上の像の位置の変化から第１成形
   アパーチャ及び第２成形アパーチャの回転設定を行った
   後、ビーム描画を行うようにしたことを特徴とする電子
   線描画装置の描画方法。