JPH01112787A - 放電型エキシマレーザ装置 - Google Patents
放電型エキシマレーザ装置Info
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- JPH01112787A JPH01112787A JP62270568A JP27056887A JPH01112787A JP H01112787 A JPH01112787 A JP H01112787A JP 62270568 A JP62270568 A JP 62270568A JP 27056887 A JP27056887 A JP 27056887A JP H01112787 A JPH01112787 A JP H01112787A
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- Japan
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- discharge
- voltage
- circuit
- sustaining
- spiking
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- 238000012421 spiking Methods 0.000 abstract 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 101150045896 ilv-2 gene Proteins 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
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- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
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- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、スパイカー電圧V1とサステイナ−電圧V2
の少なくとも一方を可変、制御するようにした放電型エ
キシマレーザ装置に関する。
の少なくとも一方を可変、制御するようにした放電型エ
キシマレーザ装置に関する。
(従来の技術)
従来の放電型エキシマレーザ装置としては、例えば第5
図に示すようなものがある。
図に示すようなものがある。
第5図において、1はレーザガスを封入したレーザチャ
ンバーであり、このレーザチャンバー1内には一対の主
放電電極2a、2bが収納されている。主放電電極2a
、2b間にはレーザミラー11が設けられるとともに、
主放電電極2a、2bの近傍には一対の予備電離電極1
0a、10bが設けられている。また、レーザチャンバ
ー1内には、ガス冷却器12とガス循環ファン13とが
それぞれ設けられている。
ンバーであり、このレーザチャンバー1内には一対の主
放電電極2a、2bが収納されている。主放電電極2a
、2b間にはレーザミラー11が設けられるとともに、
主放電電極2a、2bの近傍には一対の予備電離電極1
0a、10bが設けられている。また、レーザチャンバ
ー1内には、ガス冷却器12とガス循環ファン13とが
それぞれ設けられている。
3は主放電電極2a、2b間で放電を開始させる放電開
始回路、4は放電開始後、放電を維持する放電維持回路
である。
始回路、4は放電開始後、放電を維持する放電維持回路
である。
まず、放電開始回路3より放電開始用パルス電圧Vl(
以下、スパイカー電圧V1という)を加えてレーザガス
の絶縁破壊、すなわち放電をスタートさせ、続いて放電
維持回路4より放電維持用パルス電圧V2(以下、サス
テイナ−電圧V2という)を加えてレーザ発j辰に必要
なグロー放電を持続させる。
以下、スパイカー電圧V1という)を加えてレーザガス
の絶縁破壊、すなわち放電をスタートさせ、続いて放電
維持回路4より放電維持用パルス電圧V2(以下、サス
テイナ−電圧V2という)を加えてレーザ発j辰に必要
なグロー放電を持続させる。
この場合、レーザ発振はパルス発撮であり、印加するV
l 、V2も例えば第3図の波形図に示すようにパルス
状で例えば1秒間に1000パルス程加える。
l 、V2も例えば第3図の波形図に示すようにパルス
状で例えば1秒間に1000パルス程加える。
そして、■1は例えば40KV、■2は例えば10KV
で、これらの値はレーザ発振の前段予備実験で最適の値
に設定され、その後、レーザ装置を運転中に変動させる
ことはしない。
で、これらの値はレーザ発振の前段予備実験で最適の値
に設定され、その後、レーザ装置を運転中に変動させる
ことはしない。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、従来の放電型エキシマレーザ装置は、し
ばらく運転を続けると、次第に放電が不安定になったり
、発振効率が低下するという問題点を有していた。
ばらく運転を続けると、次第に放電が不安定になったり
、発振効率が低下するという問題点を有していた。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、鋭意研究の結果、これらの問題点の原因
の1つが、レーザガスのインピーダンスが次第に変化す
ることにあることを突き止めた。
の1つが、レーザガスのインピーダンスが次第に変化す
ることにあることを突き止めた。
放電型エキシマレーザ装置においては、放電によりレー
ザガスが劣化したり、放電による発熱のためにレーザガ
ス圧力が変化したり、レーザガス成分の補給によりレー
ザガス組成が変化したり、同じくレーザガス成分の補給
によりレーザガス圧力が変化し、その結果、レーザガス
のインピーダンスが次第に変化する。
ザガスが劣化したり、放電による発熱のためにレーザガ
ス圧力が変化したり、レーザガス成分の補給によりレー
ザガス組成が変化したり、同じくレーザガス成分の補給
によりレーザガス圧力が変化し、その結果、レーザガス
のインピーダンスが次第に変化する。
そのため、前段予備実験で設定されたVl、V2の値は
、次第に最適値から外れてくる。
、次第に最適値から外れてくる。
そこで本発明は、経時的にVl、V2の少なくとも一方
を変動させることにより、常に最適値に保つことにした
ものである。
を変動させることにより、常に最適値に保つことにした
ものである。
(作用)
本発明を具体化する場合、いくつかの実施態様がある。
(I>第一は、レーザガスのインピーダンスをモニター
し、経時的なインピーダンス変化に応じてVl 、V2
の少なくとも一方を変化させて常に最適値とするもので
ある。
し、経時的なインピーダンス変化に応じてVl 、V2
の少なくとも一方を変化させて常に最適値とするもので
ある。
(n)第二は、運転に伴うレーザガスのインピーダンス
の経時的変化を測定し、この変化が再現されることを前
提として、時々刻々側々のインピーダンスに応じたVl
、V2の最適値を求めてプログラム化しておき、この
プログラムに則って経時的にVl、V2の少なくとも一
方を変化させるものである。
の経時的変化を測定し、この変化が再現されることを前
提として、時々刻々側々のインピーダンスに応じたVl
、V2の最適値を求めてプログラム化しておき、この
プログラムに則って経時的にVl、V2の少なくとも一
方を変化させるものである。
(I[I)第三は、第1の変形例であり、レーザガスの
インピーダンス変化をモニターし、インピーダンスの経
時的変化に応じて最適なVlに変動させ、V2について
は下記方程式■〜■のいずれかから求めた値に設定する
ものである。
インピーダンス変化をモニターし、インピーダンスの経
時的変化に応じて最適なVlに変動させ、V2について
は下記方程式■〜■のいずれかから求めた値に設定する
ものである。
(1v)第四は、第二の変形例であり、■1の最適値の
みプログラム化しておき、■2については下記方程式■
〜■のいずれかから求めた値に設定するものである。
みプログラム化しておき、■2については下記方程式■
〜■のいずれかから求めた値に設定するものである。
但し、いずれの場合においても、本発明では、運転中V
l >V2の関係を外してはならない。
l >V2の関係を外してはならない。
方程式1 :Vl =ILV2
(但し、1く1≦100)
方程式2 : Vl =Vo 十V2
(但し、O<VO≦10■2
方程式3 :Vl =m (V2 )’(但し、1≦m
≦100 1≦n≦3 m=n≠1 ) (実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
≦100 1≦n≦3 m=n≠1 ) (実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図〜第2図は本発明の一実施例を示す図である。
なお、従来例と同一構成部分については同一符号を付し
て説明する。
て説明する。
まず、構成を説明すると、1はレーザチャンバーでレー
ザチャンバー1内にはレーザガスが封入されている。2
a、2bは一対の主放電電極でおり、一対の主放電電極
2a、2bはレーザチャンバー1内に収納されている。
ザチャンバー1内にはレーザガスが封入されている。2
a、2bは一対の主放電電極でおり、一対の主放電電極
2a、2bはレーザチャンバー1内に収納されている。
3は主放電電極2a、2b間で放電を開始させ°る高電
圧発生パルス回路によりなる放電開始回路(以下、スパ
イカー回路という)、4は放電開始後、放電を維持する
放電維持回路(以下、サステイナ−回路という)である
。
圧発生パルス回路によりなる放電開始回路(以下、スパ
イカー回路という)、4は放電開始後、放電を維持する
放電維持回路(以下、サステイナ−回路という)である
。
主放電電極2a、2b間にあるレーザガスのインピーダ
ンスは大きいので、放電を効率よく開始させるために、
図外のスイッチング素子を閉じて高電圧、高インピーダ
ンスのスパイカー回路3からスパイカー電圧V1を印加
して、放電を開始させるようにしている。
ンスは大きいので、放電を効率よく開始させるために、
図外のスイッチング素子を閉じて高電圧、高インピーダ
ンスのスパイカー回路3からスパイカー電圧V1を印加
して、放電を開始させるようにしている。
一方、スパイカー回路3によって一度放電を開始したレ
ーザガスのインピーダンスは急激に低下するので、放電
を効率よく安定的に持続させるために図外のスイッチン
グ素子を閉じて低インピーダンスのサステナイナー回路
4からサステイナ−電圧v2を供給するようにしている
。
ーザガスのインピーダンスは急激に低下するので、放電
を効率よく安定的に持続させるために図外のスイッチン
グ素子を閉じて低インピーダンスのサステナイナー回路
4からサステイナ−電圧v2を供給するようにしている
。
ここで、5は電圧制御回路であり、この電圧制御回路5
は、スパイカー電圧■1とサステイナ−電圧v2とが最
適値となるように、制御する。
は、スパイカー電圧■1とサステイナ−電圧v2とが最
適値となるように、制御する。
電圧制御回路5は、例えば第2図に示すように、増幅器
A、加算器B、乗算器C1線形結合器しおよび抵抗R1
、R2、R11〜R13、R20−R24、R33で構
成されている。
A、加算器B、乗算器C1線形結合器しおよび抵抗R1
、R2、R11〜R13、R20−R24、R33で構
成されている。
増幅器Aの出力Vaは、■a=m■2であり、加算器B
の出力vbは、Vb =ko Vo+kV2である。
の出力vbは、Vb =ko Vo+kV2である。
R22R24
(””o” ”” R23)(R20+R24、” ”
’ ” 暦”R2’O?’R24’また、乗算器Cの出
力Vcは、VC−V2 であるから、線形結合器りの
出力v1は、Vl =aV2 +bV2 +cV2
+bVoとなる。
’ ” 暦”R2’O?’R24’また、乗算器Cの出
力Vcは、VC−V2 であるから、線形結合器りの
出力v1は、Vl =aV2 +bV2 +cV2
+bVoとなる。
ただし、
尚、■1の経時的変化だけがプログラム化されており、
V2は、電圧制御回路5によって、■Vl −11,V
2 (1<11.≦100>■Vl =Vo 十V2
(0<VO≦10V2>■Vl =mV2 n (
1≦m≦100 ; 1≦n≦3;m=n≠1) のうち少なくとも1つの関数関係を満足するように、制
御される。
V2は、電圧制御回路5によって、■Vl −11,V
2 (1<11.≦100>■Vl =Vo 十V2
(0<VO≦10V2>■Vl =mV2 n (
1≦m≦100 ; 1≦n≦3;m=n≠1) のうち少なくとも1つの関数関係を満足するように、制
御される。
なお、この関数関係は、Vlの範囲に応じて又は経時的
に■〜■をそれぞれ使い分けるものであっても、また■
〜■の線形結合関係であっても良い。
に■〜■をそれぞれ使い分けるものであっても、また■
〜■の線形結合関係であっても良い。
次に、作用を説明する。
第4図(1)〜(3)はスパイカー電圧■1とサステイ
ナ−電圧■2の時間的変化を示す。
ナ−電圧■2の時間的変化を示す。
第4図中(1)ハV1 =ILV2(11,=2.5>
77)場合を、(2>4;tVl =Vo +V2の場
合を、(3)はVl =mVn(m=1、n=1.4)
の場合を、それぞれ示す。
77)場合を、(2>4;tVl =Vo +V2の場
合を、(3)はVl =mVn(m=1、n=1.4)
の場合を、それぞれ示す。
以上のように、本実施例においては、電圧制御回路5で
、スパイカー電圧V1に対してサステイナ−電圧V2を
、スパイカー電圧v1とサステイナ−電圧■2とが所定
の関数関係となるように制御することができる。その結
果、安定した効率の良い放電維持を行うことができる。
、スパイカー電圧V1に対してサステイナ−電圧V2を
、スパイカー電圧v1とサステイナ−電圧■2とが所定
の関数関係となるように制御することができる。その結
果、安定した効率の良い放電維持を行うことができる。
(発明の効果)
以上説明してきたように、本発明によれば、スパイカー
電圧v1及びこれに続くサステイナ−電圧V2を初期値
に固定することなく、それらの少なくとも一方を変動さ
せるため、常にレーザ放電を安定させ、かつ発振効率を
低下させないことが可能になる。
電圧v1及びこれに続くサステイナ−電圧V2を初期値
に固定することなく、それらの少なくとも一方を変動さ
せるため、常にレーザ放電を安定させ、かつ発振効率を
低下させないことが可能になる。
ざらに、過剰のエネル、ギーをサステイナ−から供給す
ることがないので、主放電電極、サイラトロンなどのス
イッチ、キャパシタ、コアなどの寿命が長くなるので、
部品交換に費す時間が軽減され、レーザ装置の連続運転
に有利である。
ることがないので、主放電電極、サイラトロンなどのス
イッチ、キャパシタ、コアなどの寿命が長くなるので、
部品交換に費す時間が軽減され、レーザ装置の連続運転
に有利である。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
電圧制御回路の構成図、 第3図は従来例のVl 、V2の波形図、第4図は作用
の説明をするための作用説明図、第5図は従来例を示す
ブロック図である。 図中、 2a、2b・・・主放電電極、 3・・・放電開始回路、 4・・・放電維持回路、 5・・・電圧制御回路。 特許出願人 日本光学工業株式会社
電圧制御回路の構成図、 第3図は従来例のVl 、V2の波形図、第4図は作用
の説明をするための作用説明図、第5図は従来例を示す
ブロック図である。 図中、 2a、2b・・・主放電電極、 3・・・放電開始回路、 4・・・放電維持回路、 5・・・電圧制御回路。 特許出願人 日本光学工業株式会社
Claims (1)
- 主放電電極間でレーザガスの放電を開始させる放電開始
回路と放電開始後放電を維持する放電維持回路を有する
放電型エキシマレーザ装置において、放電開始用パルス
電圧をV1、放電維持用パルス電圧をV2とするとき、
V1>V2の関係を保ちながら経時的にV1とV2の少
なくとも一方を変化させることを特徴とする放電型エキ
シマレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62270568A JPH01112787A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 放電型エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62270568A JPH01112787A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 放電型エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01112787A true JPH01112787A (ja) | 1989-05-01 |
Family
ID=17487968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62270568A Pending JPH01112787A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 放電型エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01112787A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013529463A (ja) * | 2010-06-22 | 2013-07-22 | ロンザ ケルン ゲーエムベーハー | 接着細胞を均一に処理するための方法及び装置 |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP62270568A patent/JPH01112787A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013529463A (ja) * | 2010-06-22 | 2013-07-22 | ロンザ ケルン ゲーエムベーハー | 接着細胞を均一に処理するための方法及び装置 |
US9624486B2 (en) | 2010-06-22 | 2017-04-18 | Lonza Cologne Gmbh | Method and electrode assembly for treating adherent cells |
US9701954B2 (en) | 2010-06-22 | 2017-07-11 | Lonza Cologne Gmbh | Method and device for uniformly treating adherent cells |
US11021698B2 (en) | 2010-06-22 | 2021-06-01 | Lonza Cologne Gmbh | Method and device for uniformly treating adherent cells |
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