JPH01112787A - 放電型エキシマレーザ装置 - Google Patents

放電型エキシマレーザ装置

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JPH01112787A
JPH01112787A JP62270568A JP27056887A JPH01112787A JP H01112787 A JPH01112787 A JP H01112787A JP 62270568 A JP62270568 A JP 62270568A JP 27056887 A JP27056887 A JP 27056887A JP H01112787 A JPH01112787 A JP H01112787A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
voltage
circuit
sustaining
spiking
Prior art date
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Pending
Application number
JP62270568A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichiro Kawamura
信一郎 河村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH01112787A publication Critical patent/JPH01112787A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、スパイカー電圧V1とサステイナ−電圧V2
の少なくとも一方を可変、制御するようにした放電型エ
キシマレーザ装置に関する。
(従来の技術) 従来の放電型エキシマレーザ装置としては、例えば第5
図に示すようなものがある。
第5図において、1はレーザガスを封入したレーザチャ
ンバーであり、このレーザチャンバー1内には一対の主
放電電極2a、2bが収納されている。主放電電極2a
、2b間にはレーザミラー11が設けられるとともに、
主放電電極2a、2bの近傍には一対の予備電離電極1
0a、10bが設けられている。また、レーザチャンバ
ー1内には、ガス冷却器12とガス循環ファン13とが
それぞれ設けられている。
3は主放電電極2a、2b間で放電を開始させる放電開
始回路、4は放電開始後、放電を維持する放電維持回路
である。
まず、放電開始回路3より放電開始用パルス電圧Vl(
以下、スパイカー電圧V1という)を加えてレーザガス
の絶縁破壊、すなわち放電をスタートさせ、続いて放電
維持回路4より放電維持用パルス電圧V2(以下、サス
テイナ−電圧V2という)を加えてレーザ発j辰に必要
なグロー放電を持続させる。
この場合、レーザ発振はパルス発撮であり、印加するV
l 、V2も例えば第3図の波形図に示すようにパルス
状で例えば1秒間に1000パルス程加える。
そして、■1は例えば40KV、■2は例えば10KV
で、これらの値はレーザ発振の前段予備実験で最適の値
に設定され、その後、レーザ装置を運転中に変動させる
ことはしない。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、従来の放電型エキシマレーザ装置は、し
ばらく運転を続けると、次第に放電が不安定になったり
、発振効率が低下するという問題点を有していた。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、鋭意研究の結果、これらの問題点の原因
の1つが、レーザガスのインピーダンスが次第に変化す
ることにあることを突き止めた。
放電型エキシマレーザ装置においては、放電によりレー
ザガスが劣化したり、放電による発熱のためにレーザガ
ス圧力が変化したり、レーザガス成分の補給によりレー
ザガス組成が変化したり、同じくレーザガス成分の補給
によりレーザガス圧力が変化し、その結果、レーザガス
のインピーダンスが次第に変化する。
そのため、前段予備実験で設定されたVl、V2の値は
、次第に最適値から外れてくる。
そこで本発明は、経時的にVl、V2の少なくとも一方
を変動させることにより、常に最適値に保つことにした
ものである。
(作用) 本発明を具体化する場合、いくつかの実施態様がある。
(I>第一は、レーザガスのインピーダンスをモニター
し、経時的なインピーダンス変化に応じてVl 、V2
の少なくとも一方を変化させて常に最適値とするもので
ある。
(n)第二は、運転に伴うレーザガスのインピーダンス
の経時的変化を測定し、この変化が再現されることを前
提として、時々刻々側々のインピーダンスに応じたVl
 、V2の最適値を求めてプログラム化しておき、この
プログラムに則って経時的にVl、V2の少なくとも一
方を変化させるものである。
(I[I)第三は、第1の変形例であり、レーザガスの
インピーダンス変化をモニターし、インピーダンスの経
時的変化に応じて最適なVlに変動させ、V2について
は下記方程式■〜■のいずれかから求めた値に設定する
ものである。
(1v)第四は、第二の変形例であり、■1の最適値の
みプログラム化しておき、■2については下記方程式■
〜■のいずれかから求めた値に設定するものである。
但し、いずれの場合においても、本発明では、運転中V
l >V2の関係を外してはならない。
方程式1 :Vl =ILV2 (但し、1く1≦100) 方程式2 : Vl =Vo 十V2 (但し、O<VO≦10■2 方程式3 :Vl =m (V2 )’(但し、1≦m
≦100 1≦n≦3 m=n≠1   ) (実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図〜第2図は本発明の一実施例を示す図である。
なお、従来例と同一構成部分については同一符号を付し
て説明する。
まず、構成を説明すると、1はレーザチャンバーでレー
ザチャンバー1内にはレーザガスが封入されている。2
a、2bは一対の主放電電極でおり、一対の主放電電極
2a、2bはレーザチャンバー1内に収納されている。
3は主放電電極2a、2b間で放電を開始させ°る高電
圧発生パルス回路によりなる放電開始回路(以下、スパ
イカー回路という)、4は放電開始後、放電を維持する
放電維持回路(以下、サステイナ−回路という)である
主放電電極2a、2b間にあるレーザガスのインピーダ
ンスは大きいので、放電を効率よく開始させるために、
図外のスイッチング素子を閉じて高電圧、高インピーダ
ンスのスパイカー回路3からスパイカー電圧V1を印加
して、放電を開始させるようにしている。
一方、スパイカー回路3によって一度放電を開始したレ
ーザガスのインピーダンスは急激に低下するので、放電
を効率よく安定的に持続させるために図外のスイッチン
グ素子を閉じて低インピーダンスのサステナイナー回路
4からサステイナ−電圧v2を供給するようにしている
ここで、5は電圧制御回路であり、この電圧制御回路5
は、スパイカー電圧■1とサステイナ−電圧v2とが最
適値となるように、制御する。
電圧制御回路5は、例えば第2図に示すように、増幅器
A、加算器B、乗算器C1線形結合器しおよび抵抗R1
、R2、R11〜R13、R20−R24、R33で構
成されている。
増幅器Aの出力Vaは、■a=m■2であり、加算器B
の出力vbは、Vb =ko Vo+kV2である。
R22R24 (””o” ”” R23)(R20+R24、” ”
’ ” 暦”R2’O?’R24’また、乗算器Cの出
力Vcは、VC−V2  であるから、線形結合器りの
出力v1は、Vl =aV2 +bV2 +cV2  
+bVoとなる。
ただし、 尚、■1の経時的変化だけがプログラム化されており、
V2は、電圧制御回路5によって、■Vl −11,V
2  (1<11.≦100>■Vl =Vo 十V2
  (0<VO≦10V2>■Vl =mV2 n (
1≦m≦100 ; 1≦n≦3;m=n≠1) のうち少なくとも1つの関数関係を満足するように、制
御される。
なお、この関数関係は、Vlの範囲に応じて又は経時的
に■〜■をそれぞれ使い分けるものであっても、また■
〜■の線形結合関係であっても良い。
次に、作用を説明する。
第4図(1)〜(3)はスパイカー電圧■1とサステイ
ナ−電圧■2の時間的変化を示す。
第4図中(1)ハV1 =ILV2(11,=2.5>
77)場合を、(2>4;tVl =Vo +V2の場
合を、(3)はVl =mVn(m=1、n=1.4)
の場合を、それぞれ示す。
以上のように、本実施例においては、電圧制御回路5で
、スパイカー電圧V1に対してサステイナ−電圧V2を
、スパイカー電圧v1とサステイナ−電圧■2とが所定
の関数関係となるように制御することができる。その結
果、安定した効率の良い放電維持を行うことができる。
(発明の効果) 以上説明してきたように、本発明によれば、スパイカー
電圧v1及びこれに続くサステイナ−電圧V2を初期値
に固定することなく、それらの少なくとも一方を変動さ
せるため、常にレーザ放電を安定させ、かつ発振効率を
低下させないことが可能になる。
ざらに、過剰のエネル、ギーをサステイナ−から供給す
ることがないので、主放電電極、サイラトロンなどのス
イッチ、キャパシタ、コアなどの寿命が長くなるので、
部品交換に費す時間が軽減され、レーザ装置の連続運転
に有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
電圧制御回路の構成図、 第3図は従来例のVl 、V2の波形図、第4図は作用
の説明をするための作用説明図、第5図は従来例を示す
ブロック図である。 図中、 2a、2b・・・主放電電極、 3・・・放電開始回路、 4・・・放電維持回路、 5・・・電圧制御回路。 特許出願人 日本光学工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 主放電電極間でレーザガスの放電を開始させる放電開始
    回路と放電開始後放電を維持する放電維持回路を有する
    放電型エキシマレーザ装置において、放電開始用パルス
    電圧をV1、放電維持用パルス電圧をV2とするとき、
    V1>V2の関係を保ちながら経時的にV1とV2の少
    なくとも一方を変化させることを特徴とする放電型エキ
    シマレーザ装置。
JP62270568A 1987-10-27 1987-10-27 放電型エキシマレーザ装置 Pending JPH01112787A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013529463A (ja) * 2010-06-22 2013-07-22 ロンザ ケルン ゲーエムベーハー 接着細胞を均一に処理するための方法及び装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013529463A (ja) * 2010-06-22 2013-07-22 ロンザ ケルン ゲーエムベーハー 接着細胞を均一に処理するための方法及び装置
US9624486B2 (en) 2010-06-22 2017-04-18 Lonza Cologne Gmbh Method and electrode assembly for treating adherent cells
US9701954B2 (en) 2010-06-22 2017-07-11 Lonza Cologne Gmbh Method and device for uniformly treating adherent cells
US11021698B2 (en) 2010-06-22 2021-06-01 Lonza Cologne Gmbh Method and device for uniformly treating adherent cells

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