JPH01112042U - - Google Patents

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JPH01112042U
JPH01112042U JP595788U JP595788U JPH01112042U JP H01112042 U JPH01112042 U JP H01112042U JP 595788 U JP595788 U JP 595788U JP 595788 U JP595788 U JP 595788U JP H01112042 U JPH01112042 U JP H01112042U
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JP
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predetermined position
wafer
light
resist
light irradiation
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JP595788U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案における不要レジスト除去装
置の一実施例の主要部の概略構成を示す斜視図、
第2図a,bは第1図における導光フアイバの出
射部の詳細を示した図、第3図は半導体ウエハに
塗布されたレジストにUV光を照射する場合の斜
視図、第4図a,bは第3図の方法で露光するた
めの照射を行う状態を示す図、第5図は従来の導
光フアイバを用いて不要レジストを露光する状態
を示した部分的な断面図である。 図中、1:ウエハ、5:搬送ベルト、6:処理
ステージ、7:オリフラ部検出搬送アーム、8:
導光フアイバ、8a:出射部、10:ローダ、1
0′:アンローダ、H:スポツト光照射装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. レジストが塗布された半導体のウエハを所定位
    置に搬送する搬送機構と、この所定位置に搬送さ
    れ位置決めされたウエハの周辺部の全面をそれぞ
    れ照射するように、水銀ランプからの光を導光す
    る導光フアイバの出射側が配置されるように構成
    した光照射機構と、前記所定位置上のウエハまた
    は光照射機構との組を相対的に回動する回動機構
    とを有することを特徴とする不要レジスト除去装
    置。
JP595788U 1988-01-22 1988-01-22 Pending JPH01112042U (ja)

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JP595788U JPH01112042U (ja) 1988-01-22 1988-01-22

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JPH01112042U true JPH01112042U (ja) 1989-07-27

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ID=31209784

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