JPH01110665A - メルカプトフェノールの製造方法 - Google Patents
メルカプトフェノールの製造方法Info
- Publication number
- JPH01110665A JPH01110665A JP62266238A JP26623887A JPH01110665A JP H01110665 A JPH01110665 A JP H01110665A JP 62266238 A JP62266238 A JP 62266238A JP 26623887 A JP26623887 A JP 26623887A JP H01110665 A JPH01110665 A JP H01110665A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- phenol
- sulfur chloride
- reductive decomposition
- organic solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1S VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 59
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims abstract description 37
- PXJJSXABGXMUSU-UHFFFAOYSA-N disulfur dichloride Chemical compound ClSSCl PXJJSXABGXMUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1O BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- -1 4-hydroxyphenylthio Chemical group 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical class [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- BXAVKNRWVKUTLY-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S)C=C1 BXAVKNRWVKUTLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNXXLDHPVGHXEM-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxyphenyl)disulfanyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1SSC1=CC=CC=C1O FNXXLDHPVGHXEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVBDNNSGNHKGS-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxyphenyl)trisulfanyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1SSSC1=CC=CC=C1O VQVBDNNSGNHKGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVOUKWFJRHALDD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-acetyloxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOC(C)=O OVOUKWFJRHALDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZIJXNRGQFAGJR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCO HZIJXNRGQFAGJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXYGJDUJLDXFOD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-acetyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(C)=O DXYGJDUJLDXFOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZVKHOPICATTIK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOCCO OZVKHOPICATTIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGINZGOPMLHQN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-acetyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOC(C)=O MBGINZGOPMLHQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPSWWUUYXYTSCW-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOCCOCCO XPSWWUUYXYTSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000002283 diesel fuel Substances 0.000 description 1
- UBPGILLNMDGSDS-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol diacetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOC(C)=O UBPGILLNMDGSDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- UHHKSVZZTYJVEG-UHFFFAOYSA-N oxepane Chemical compound C1CCCOCC1 UHHKSVZZTYJVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N pentaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCO JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0393—Flexible materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はメルカプトフェノールの製造方法に関し、詳
しくは殊に感熱記録紙用顕色剤として有用な1.7−ジ
(4−ヒドロキシフェニルチオ) −3,5−ジオキサ
へブタンの原料であるトメルカプトフェノールの工業上
有利な製造方法に関するものである。
しくは殊に感熱記録紙用顕色剤として有用な1.7−ジ
(4−ヒドロキシフェニルチオ) −3,5−ジオキサ
へブタンの原料であるトメルカプトフェノールの工業上
有利な製造方法に関するものである。
[従来の技術]
感熱記録紙用顕色剤として有用な1.7−ジ(トヒドロ
キシフェニルチオ)−3,5−ジオキサへブタンは、フ
ェノールと塩化イオウとを反応させて、まずビス(4−
ヒドロキシフェニル)スルフィドを製造し、次いでこの
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィドを還元分解
して4−メルカプトフェノールを製造し、最後に、この
4−メルカプトフエノールとビス(2−ハロエトキシ)
メタンとを反応させて製造される(特開昭50−242
33号公報、特開昭60−190756号公報)。
キシフェニルチオ)−3,5−ジオキサへブタンは、フ
ェノールと塩化イオウとを反応させて、まずビス(4−
ヒドロキシフェニル)スルフィドを製造し、次いでこの
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィドを還元分解
して4−メルカプトフェノールを製造し、最後に、この
4−メルカプトフエノールとビス(2−ハロエトキシ)
メタンとを反応させて製造される(特開昭50−242
33号公報、特開昭60−190756号公報)。
このような工程において、従来、フェノールと塩化イオ
ウとを反応させビス(トヒドロキシフェニル)スルフィ
ドを製造し、ついで還元分解してトメルカプトフェノー
ルを製造する工程は、反応の制御が困難であったり、副
反応生成物が増加したりして、工業的規模における実用
上有効な製造プロセスの構築がなされていないのが現状
であっtこ 。
ウとを反応させビス(トヒドロキシフェニル)スルフィ
ドを製造し、ついで還元分解してトメルカプトフェノー
ルを製造する工程は、反応の制御が困難であったり、副
反応生成物が増加したりして、工業的規模における実用
上有効な製造プロセスの構築がなされていないのが現状
であっtこ 。
[発明が解決しようとする問題点]
この発明は、従来の前記問題点を解消して、効率のよい
、しかも工業的規模においてきわめて有用なメルカプト
フェノールの製造方法を提供することを目的とする。
、しかも工業的規模においてきわめて有用なメルカプト
フェノールの製造方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
発明者は前記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結
果、フェノールと塩化イオウとを反応させてビス(ヒド
ロキシフェニル)スルフィドを製造する工程およびヒス
(ヒドロキシフェニル)スルフィドを還元分解してメル
カプトフェノールを製造する工程において、それぞれ特
定の溶媒を用い、また特定の反応形式を採用することに
よって、メルカプトフェノールの収率を向上させること
ができ、しかも使用する溶媒の回収、再使用が容易であ
り、目的生成物の分離や排出する酸性水の処理等が効率
的に行われるということを見い出し、この知見に基づい
てこの発明をなすに至った。
果、フェノールと塩化イオウとを反応させてビス(ヒド
ロキシフェニル)スルフィドを製造する工程およびヒス
(ヒドロキシフェニル)スルフィドを還元分解してメル
カプトフェノールを製造する工程において、それぞれ特
定の溶媒を用い、また特定の反応形式を採用することに
よって、メルカプトフェノールの収率を向上させること
ができ、しかも使用する溶媒の回収、再使用が容易であ
り、目的生成物の分離や排出する酸性水の処理等が効率
的に行われるということを見い出し、この知見に基づい
てこの発明をなすに至った。
すなわち、この発明はフェノールと塩化イオウとを反応
させてヒス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを得、こ
のビス(ヒドロキンフェニル)スルフィドを還元分解し
てメルカプトフェノールを製造するにあたり、下記A〜
Eかも選ばれた少なくともlの工程を経ることを特徴と
するメルカプトフェノールの製造方法 A フェノールと塩化イオウとの反応を水溶性有機溶媒
中で行う工程。
させてヒス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを得、こ
のビス(ヒドロキンフェニル)スルフィドを還元分解し
てメルカプトフェノールを製造するにあたり、下記A〜
Eかも選ばれた少なくともlの工程を経ることを特徴と
するメルカプトフェノールの製造方法 A フェノールと塩化イオウとの反応を水溶性有機溶媒
中で行う工程。
B フェノールを水溶性有機溶媒に溶解した溶液および
塩化イオウをそれぞれ10’C!以下に冷却して反応に
供する工程。
塩化イオウをそれぞれ10’C!以下に冷却して反応に
供する工程。
Cフェノールと塩化イオウとを断熱反応させる工程。
D ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを一次およ
び二次の二段階で還元分解する工程。
び二次の二段階で還元分解する工程。
E 一次還元分解して得られる生成物から水溶性有機溶
媒を除去した後、親油性溶媒を添加して二次還元分解す
る工程。
媒を除去した後、親油性溶媒を添加して二次還元分解す
る工程。
を提供する。
この発明においては、まずフェノールと塩化イオウとを
反応させてビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを製
造する。この反応工程においてはフェノールを水溶性有
機溶媒に溶解させた溶液を調製し、この溶液と塩化イオ
ウとを接触させて反応させることを特徴とする。
反応させてビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを製
造する。この反応工程においてはフェノールを水溶性有
機溶媒に溶解させた溶液を調製し、この溶液と塩化イオ
ウとを接触させて反応させることを特徴とする。
ここで用いる水溶性有機溶媒は、次の3種に大別するこ
とができる。
とができる。
(1)炭素数が1〜4のアルコール。
例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プ
ロピルアルコール、i−プロピルアルコール、ブチルア
ルコールなどか好適に使用することができる。
ロピルアルコール、i−プロピルアルコール、ブチルア
ルコールなどか好適に使用することができる。
(2)式R−(OC[I、C■、)n−OR’で表わさ
れるエチレンオキシド類(式中、R,R’=水素原子ま
たは炭素数1〜6のアルキル基またはアセトキシ基)。
れるエチレンオキシド類(式中、R,R’=水素原子ま
たは炭素数1〜6のアルキル基またはアセトキシ基)。
この式に該当する具体的な化合物としては、nの数値に
応じ、次のものをそれぞれ使用することができる。
応じ、次のものをそれぞれ使用することができる。
n=1の場合の化合物例
エチレングリコール、エチレングリコールモノアルキル
エーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、エ
チレングリコールモノアセテート、エチレングリコール
ジアセテート、エチレングリコールモノアルキルエーテ
ル七ノアセテート。
エーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、エ
チレングリコールモノアセテート、エチレングリコール
ジアセテート、エチレングリコールモノアルキルエーテ
ル七ノアセテート。
n=2の場合の化合物例
nジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノア
ルキルエーテル ノアルキルエーテル、ジエチレングリコール七ノアセテ
ート、ジエチレングリコールジアセテート、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテルモノアセテート。
ルキルエーテル ノアルキルエーテル、ジエチレングリコール七ノアセテ
ート、ジエチレングリコールジアセテート、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテルモノアセテート。
n=3の場合の化合物例
トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノ
アルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキル
エーテル、トリエチレングリコールモノアセテート、ト
リエチレングリコールジアセテート、トリエチレングリ
コールモノアルキルエーテルモノアセテート。
アルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキル
エーテル、トリエチレングリコールモノアセテート、ト
リエチレングリコールジアセテート、トリエチレングリ
コールモノアルキルエーテルモノアセテート。
n=4の場合の化合物例
テトラエチレングリコール、テトラエチレングリコール
モノアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジア
ルキルエーテル、テトラエチレングリコールモノアセテ
ート、テトラエチレングリコールジアセテート、テトラ
エチレングリコールモノアルキルエーテル七ノアセテー
ト。
モノアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジア
ルキルエーテル、テトラエチレングリコールモノアセテ
ート、テトラエチレングリコールジアセテート、テトラ
エチレングリコールモノアルキルエーテル七ノアセテー
ト。
n=5の場合の化合物例
ペンタエチレングリコール、ペンタエチレングリコール
モノアルキルエーテル、ペンタエチレングリコールジア
ルキルエーテル、ペンタエチレングリコールモノアセテ
ート、ペンタエチレングリコールジアセテート、ペンタ
エチレングリコールモノアルキルエーテル七ノアセテー
ト。
モノアルキルエーテル、ペンタエチレングリコールジア
ルキルエーテル、ペンタエチレングリコールモノアセテ
ート、ペンタエチレングリコールジアセテート、ペンタ
エチレングリコールモノアルキルエーテル七ノアセテー
ト。
前記式中の置換基としての炭素数1〜6のアルキル酸は
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル
、ペンチル、ヘキシル等が好適である。
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、ブチル
、ペンチル、ヘキシル等が好適である。
(3)炭素数3〜6の環状エーテル。
たとえば、下記式に示すテトラヒドロ7ラン、テトラヒ
ドロピラン、オキセパン、ジオキソラン、ジオキサン、
トリオキサン、トリオキサシクロノナンを使用すること
ができる。
ドロピラン、オキセパン、ジオキソラン、ジオキサン、
トリオキサン、トリオキサシクロノナンを使用すること
ができる。
このフェノール溶液のフェノール濃度に特に制限はない
が、通常は1〜60重量%、好ましくは3〜30重量%
である。
が、通常は1〜60重量%、好ましくは3〜30重量%
である。
フェノールと反応させる塩化イオウは一塩化イオウ(5
2C1l、)が好ましく、フェノール1モルに対して通
常は0.2S〜2モル、好ましくは0.4〜1モル使用
する。
2C1l、)が好ましく、フェノール1モルに対して通
常は0.2S〜2モル、好ましくは0.4〜1モル使用
する。
この反応工程において、水溶性有機溶媒を用いることに
よって、後の工程、一次還元分解工程および水溶性有機
溶媒の回収、再使用の工程がきわめて有利に展開される
。
よって、後の工程、一次還元分解工程および水溶性有機
溶媒の回収、再使用の工程がきわめて有利に展開される
。
すなわち、フェノールと塩化イオウとの反応によって塩
化水素が生成するが、この塩化水素は大部分反応液中に
溶存する。したがって一次還元分解工程において、あら
ためて塩酸等の鉱酸を添加しなくてもよいという利点が
ある。また、還元分解にあたって添加される鉱酸は、通
常は水溶液の形態で添加されるが、水溶性有機溶媒は一
般に水と共沸組成を形成し、定量的に回収して再使用す
ることは困難である。しかるに、この発明においては、
一次還元分解工程において水が添加されないため、水溶
性有機溶媒が容易に回収でき、再使用に供されるという
利点がある。
化水素が生成するが、この塩化水素は大部分反応液中に
溶存する。したがって一次還元分解工程において、あら
ためて塩酸等の鉱酸を添加しなくてもよいという利点が
ある。また、還元分解にあたって添加される鉱酸は、通
常は水溶液の形態で添加されるが、水溶性有機溶媒は一
般に水と共沸組成を形成し、定量的に回収して再使用す
ることは困難である。しかるに、この発明においては、
一次還元分解工程において水が添加されないため、水溶
性有機溶媒が容易に回収でき、再使用に供されるという
利点がある。
この発明においては、前記フェノールの水溶性有機溶媒
溶液と塩化イオウを反応槽に供給して反応を行わせる。
溶液と塩化イオウを反応槽に供給して反応を行わせる。
この両者の供給にあたってそれぞれを冷却することを特
徴とする。冷却に際しては10〜−60°C1好ましく
は5〜−30℃とするのが望ましい。10℃を越える温
度で供給すると発熱による反応温度の上昇で副反応が促
進され、また、−60°Cを下まわる温度で供給すると
反応が起こり難くなるので好ましくない。
徴とする。冷却に際しては10〜−60°C1好ましく
は5〜−30℃とするのが望ましい。10℃を越える温
度で供給すると発熱による反応温度の上昇で副反応が促
進され、また、−60°Cを下まわる温度で供給すると
反応が起こり難くなるので好ましくない。
この発明においては、前記のとおり、フェノールの水溶
性有機溶媒溶液と塩化イオウとをそれぞれ冷却して反応
槽に供給して反応を行うが、この反応を断熱反応させる
ことを特徴とする。すなわち、ここにおける反応は発熱
反応であるが、その反応の進行によって発生する反応熱
の除去操作を講じないで、外界と断熱した状態で一通路
形の反応を行う。発熱反応でありかつきわめて反応速度
が大きいため、断熱反応を行うことにより短時間で安定
した反応を行わせることができ、工業上有利である。
性有機溶媒溶液と塩化イオウとをそれぞれ冷却して反応
槽に供給して反応を行うが、この反応を断熱反応させる
ことを特徴とする。すなわち、ここにおける反応は発熱
反応であるが、その反応の進行によって発生する反応熱
の除去操作を講じないで、外界と断熱した状態で一通路
形の反応を行う。発熱反応でありかつきわめて反応速度
が大きいため、断熱反応を行うことにより短時間で安定
した反応を行わせることができ、工業上有利である。
この反応工程では断熱反応を行わせるが、反応温度は供
給するフェノール溶液の濃度、使用した水溶性有機溶媒
の比熱、塩化イオウのモル数および供給原料の温度によ
って一律ではない。通常は−50℃〜100°C1好ま
しくは一30〜70°Cである。
給するフェノール溶液の濃度、使用した水溶性有機溶媒
の比熱、塩化イオウのモル数および供給原料の温度によ
って一律ではない。通常は−50℃〜100°C1好ま
しくは一30〜70°Cである。
反応形態は回分式でも連続式でもよく、撹拌の有無、反
応液の滞留時間に特に制限はない。工業的には、連続的
に両者を接触させ、撹拌しながら0.5〜30分間滞留
させるのが有利である。
応液の滞留時間に特に制限はない。工業的には、連続的
に両者を接触させ、撹拌しながら0.5〜30分間滞留
させるのが有利である。
なお、フェノールと塩化イオウとの反応では、主として
ビス(ヒドロキシフェニル)ジスルフィドが生成するが
、このほかにもビス(ヒドロキシフェニル)トリスルフ
ィドやビス(ヒドロキシフェニル)テトラスルフィド等
のポリスルフィドも生成する。しかしながら、これらポ
リスルフィドは後の工程である還元分解により、いずれ
もメルカトフェノールとなる。
ビス(ヒドロキシフェニル)ジスルフィドが生成するが
、このほかにもビス(ヒドロキシフェニル)トリスルフ
ィドやビス(ヒドロキシフェニル)テトラスルフィド等
のポリスルフィドも生成する。しかしながら、これらポ
リスルフィドは後の工程である還元分解により、いずれ
もメルカトフェノールとなる。
この発明においては、このようにして得たビス(ヒドロ
キンフェニル)スルフィドを還元分解スることによって
メルカプトフェノールを製造するが、この還元分解を一
次および二次の二段階で還元分解することを特徴とする
。
キンフェニル)スルフィドを還元分解スることによって
メルカプトフェノールを製造するが、この還元分解を一
次および二次の二段階で還元分解することを特徴とする
。
フェノールと塩化イオウとの反応によって得られたビス
(ヒドロキシフェニル)スルフィドは、いったん反応溶
液としてタンクに貯蔵されるのが実際的であり、次の一
次還元分解工程に供給される。
(ヒドロキシフェニル)スルフィドは、いったん反応溶
液としてタンクに貯蔵されるのが実際的であり、次の一
次還元分解工程に供給される。
この発明における還元分解は、還元剤としてたとえば亜
鉛および/またはスズと鉱酸を使用することができる。
鉛および/またはスズと鉱酸を使用することができる。
一次還元分解として、フェノールと塩化イオウを反応さ
せて得られた溶液と亜鉛および/またはスズとを接触さ
せ、溶液中に含まれている塩化水素と反応させて部分分
解を行う。前記したとおり、フェノールと塩化イオウの
反応は塩化水素を生成するが、大部分はガスとして系外
に出す、反応溶液中に溶存して残っている。すなわち、
新たに鉱酸を加えなくとも副生成物を利用して途中まで
還元分解することができるため、工業的には有利な方法
である。
せて得られた溶液と亜鉛および/またはスズとを接触さ
せ、溶液中に含まれている塩化水素と反応させて部分分
解を行う。前記したとおり、フェノールと塩化イオウの
反応は塩化水素を生成するが、大部分はガスとして系外
に出す、反応溶液中に溶存して残っている。すなわち、
新たに鉱酸を加えなくとも副生成物を利用して途中まで
還元分解することができるため、工業的には有利な方法
である。
さらに、この一次還元分解時に鉱酸を加えない理由とし
ては前記したとおり使用した水溶性有機溶媒の回収があ
る。鉱酸は通常水溶液の形で添加されるが、水溶性有機
溶媒は一般に水と共沸組成を形成し、定量的に回収して
再利用することはきわめて困難である。すなわちこの発
明においては、一次還元分解に水を加えずに部分分解さ
せるため、水溶性有機溶媒を定量的に回収し、フェノー
ルと塩化イオウとの反応の際の反応溶媒として再利用で
きるという利点を有している。
ては前記したとおり使用した水溶性有機溶媒の回収があ
る。鉱酸は通常水溶液の形で添加されるが、水溶性有機
溶媒は一般に水と共沸組成を形成し、定量的に回収して
再利用することはきわめて困難である。すなわちこの発
明においては、一次還元分解に水を加えずに部分分解さ
せるため、水溶性有機溶媒を定量的に回収し、フェノー
ルと塩化イオウとの反応の際の反応溶媒として再利用で
きるという利点を有している。
亜鉛またはスズは、粉末状、粒状、顆粒状、塊状なとで
供給され、フェノール1モルに対して0.25〜2モル
、好ましくは0.4〜1モル使用することかできる。常
圧において、反応温度は0〜150°C1好ましくは1
0〜100°Cで0.1〜8時間行うことにより、反応
溶液中に溶存していた塩化水素を消費するが、使用した
亜鉛および/またはスズが全量溶解した場合は、さらに
フェノール1モルに対し0.1〜1モルを追加すること
ができる。
供給され、フェノール1モルに対して0.25〜2モル
、好ましくは0.4〜1モル使用することかできる。常
圧において、反応温度は0〜150°C1好ましくは1
0〜100°Cで0.1〜8時間行うことにより、反応
溶液中に溶存していた塩化水素を消費するが、使用した
亜鉛および/またはスズが全量溶解した場合は、さらに
フェノール1モルに対し0.1〜1モルを追加すること
ができる。
こうして鉱酸を添加することなく一次還元分解を完了し
た後、溶媒を留去する。この回収された水溶性有機溶媒
は、フェノールと塩化イオウとの反応に再利用される。
た後、溶媒を留去する。この回収された水溶性有機溶媒
は、フェノールと塩化イオウとの反応に再利用される。
つづいて、この発明においては前記一次還元分解生成物
に親油性有機溶媒を添加して溶液を調製し、これを二次
還元分解することを特徴とする。
に親油性有機溶媒を添加して溶液を調製し、これを二次
還元分解することを特徴とする。
ここに用いる親油性有機溶媒としては、たとえばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、シクロへブタン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ナフサ、ガソリン、軽油、灯油などの炭化水
素油およびこれらの塩素化炭化水素化合物などを使用す
ることができる。
ン、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、シクロへブタン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ナフサ、ガソリン、軽油、灯油などの炭化水
素油およびこれらの塩素化炭化水素化合物などを使用す
ることができる。
ここで、親油性有機溶媒を使用すると、還元分解反応が
完結した後に還元分解により副生じた金属塩および未反
応の鉱酸を水洗することにより容易に除去することがで
きるのできわめて有利である。
完結した後に還元分解により副生じた金属塩および未反
応の鉱酸を水洗することにより容易に除去することがで
きるのできわめて有利である。
この溶液に鉱酸を加えて二次還元分解を行う。
鉱酸はH+イオンとしてフェノール1モルに対し、0.
3〜6当量、好ましくは0.6〜3当量使用する。
3〜6当量、好ましくは0.6〜3当量使用する。
鉱酸として塩酸または硫酸またはこれらの水溶液を使用
することができる。二次還元分解における各種の条件は
一次還元分解条件に従って行うことができる。
することができる。二次還元分解における各種の条件は
一次還元分解条件に従って行うことができる。
この二次還元分解によって、分解反応を完結させる。
還元分解生成物に水を添加し、洗浄して油水分離を行い
、油相から溶媒を留去する。この回収された溶媒は、二
次還元分解に先立ち添加した親油性有機溶媒として再使
用される。
、油相から溶媒を留去する。この回収された溶媒は、二
次還元分解に先立ち添加した親油性有機溶媒として再使
用される。
最後に溶媒を留去して得られる油状物を精密蒸留するこ
とによって、4−メルカプトフェノールを取得する。
とによって、4−メルカプトフェノールを取得する。
[発明の効果]
この発明のメルカプトフェノールの製造方法によれば、
90モル%以上の収率でメルカプトフェノールを得るこ
とができ、しかも使用する溶媒の回収、再使用が容易で
あり、目的生成物の分離等の後処理も効率的に行われ、
工業上きわめて有効なメルカプトフェノールの製造方法
が提供される。
90モル%以上の収率でメルカプトフェノールを得るこ
とができ、しかも使用する溶媒の回収、再使用が容易で
あり、目的生成物の分離等の後処理も効率的に行われ、
工業上きわめて有効なメルカプトフェノールの製造方法
が提供される。
このため、殊に感熱記録紙用顕色剤として有用な、1,
7−ジ(4−ヒドロキシフェニルチオ) −3,5−ジ
オキサへブタンの原料の製造工業に多大の貢献をなすも
のである。
7−ジ(4−ヒドロキシフェニルチオ) −3,5−ジ
オキサへブタンの原料の製造工業に多大の貢献をなすも
のである。
[実施例]
次に、実施例をあげてさらにこの発明の詳細な説明する
。
。
フェノールと塩化イオウの反応は連続式断熱反応で、一
次および二次還元分解および溶媒回収工程は回分式で行
い、最後に精密蒸留してトメルカプトフェノールを得た
。
次および二次還元分解および溶媒回収工程は回分式で行
い、最後に精密蒸留してトメルカプトフェノールを得た
。
(1)ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドの製造
水溶性有機溶媒としてエチレングリコールモノエチルエ
ーテルを使用した。
ーテルを使用した。
フェノールと水溶性有機溶媒を混合溶解させるだめの撹
拌装置付き溶解槽と、原料を冷却させるための撹拌装置
および冷媒用ジャケットを備えた冷却槽2基、および断
熱材を施工した+0011の撹拌装置付き連続反応槽を
使用した。
拌装置付き溶解槽と、原料を冷却させるための撹拌装置
および冷媒用ジャケットを備えた冷却槽2基、および断
熱材を施工した+0011の撹拌装置付き連続反応槽を
使用した。
フェノールと水溶性有機溶媒は、フェノール濃度が10
重量%になるように室温下で撹拌しながら溶解させ調製
した。この溶液を冷却槽の一方に600&9/hrの速
度で移送し、冷却槽にて撹拌しながら一5°Cに冷却し
た。他方、塩化イオウをもう一方の冷却槽に53.8k
g/hrの速度で移送し、冷却槽にて撹拌しながら一5
°Cに冷却した。これらの原料の予備調製操作は、全て
窒素気流下で行い、空気中の水分および酸素の混入を避
けた。
重量%になるように室温下で撹拌しながら溶解させ調製
した。この溶液を冷却槽の一方に600&9/hrの速
度で移送し、冷却槽にて撹拌しながら一5°Cに冷却し
た。他方、塩化イオウをもう一方の冷却槽に53.8k
g/hrの速度で移送し、冷却槽にて撹拌しながら一5
°Cに冷却した。これらの原料の予備調製操作は、全て
窒素気流下で行い、空気中の水分および酸素の混入を避
けた。
これらの冷却した原料を定量ポンプを使ってフェノール
溶液600ky/hr、塩化イオウS3.8kg/hr
の速度で断熱反応槽の底部から別々に圧入し、撹拌しな
がら反応を行った。反応液は、反応槽上部より原料の圧
入力で自然に流出させた。流出量は653.8kg/h
rで平均滞留時間は10分間であった。
溶液600ky/hr、塩化イオウS3.8kg/hr
の速度で断熱反応槽の底部から別々に圧入し、撹拌しな
がら反応を行った。反応液は、反応槽上部より原料の圧
入力で自然に流出させた。流出量は653.8kg/h
rで平均滞留時間は10分間であった。
反応槽内は運転開始後約30分間程度で10〜12°C
に安定化したため、反応液を中間製品タンクに移送して
貯蔵した。
に安定化したため、反応液を中間製品タンクに移送して
貯蔵した。
(2)4−メルカプトフェノールの製造撹拌装置と加熱
用ジャケットを備えたl000fiのグラスライニング
製反応槽に排ガスラインを取付け、亜鉛末33.4kg
と前記(1)の工程で反応させた溶液6s3.8に9を
投入し、液温を60°Cに保ちながら30分間撹拌して
一次還元分解を行った。この際に、排ガスとして硫化水
素と水素が発生した。
用ジャケットを備えたl000fiのグラスライニング
製反応槽に排ガスラインを取付け、亜鉛末33.4kg
と前記(1)の工程で反応させた溶液6s3.8に9を
投入し、液温を60°Cに保ちながら30分間撹拌して
一次還元分解を行った。この際に、排ガスとして硫化水
素と水素が発生した。
引続き系内を20〜25mmHgに減圧し、液温を80
’C!に保ちながら溶媒のエチレングリコールモノエチ
ルエーテルを留去させた。この時留出した溶媒の量は、
仕込み量に対してほぼ定量的に回収された。
’C!に保ちながら溶媒のエチレングリコールモノエチ
ルエーテルを留去させた。この時留出した溶媒の量は、
仕込み量に対してほぼ定量的に回収された。
引続き系内を常圧にもどし、残液に親油性溶媒としてト
ルエン300kgを加えて撹拌しながら溶解させた。残
液には未反応の亜鉛末が残存しているため、液は懸渇状
態になった。
ルエン300kgを加えて撹拌しながら溶解させた。残
液には未反応の亜鉛末が残存しているため、液は懸渇状
態になった。
有機物が十分溶解した後、撹拌しながら35%塩酸水溶
液91.0に9を30分間に亘って添加し、さらに60
°Cで30分間撹拌して二次還元分解を9だ。この際に
、排ガスとして同様に硫化水素と2素が発生した。この
二次還元分解により定量的(反応は完結した。
液91.0に9を30分間に亘って添加し、さらに60
°Cで30分間撹拌して二次還元分解を9だ。この際に
、排ガスとして同様に硫化水素と2素が発生した。この
二次還元分解により定量的(反応は完結した。
反応液に水250kgを添加し、撹拌冷却しなが室温下
で洗浄を行った。洗浄後、水相を槽底部。
で洗浄を行った。洗浄後、水相を槽底部。
り抜きとって油水分離を行い、引続き液温を8(0Cま
で昇温して溶媒のトルエンを20〜25mm1lの減圧
下で留去した。この時留去した溶媒の量(仕込み量に対
しほぼ定量的に回収された。
で昇温して溶媒のトルエンを20〜25mm1lの減圧
下で留去した。この時留去した溶媒の量(仕込み量に対
しほぼ定量的に回収された。
このようにして、淡黄色の油状物8G、5kyを得、引
続き精密蒸留を行って、4−メルカプトフェノール75
.6に9 (ガスクロマトグラフィーによる純度99重
量%)を得た。フェノール基準による収は94モル%で
あった。
続き精密蒸留を行って、4−メルカプトフェノール75
.6に9 (ガスクロマトグラフィーによる純度99重
量%)を得た。フェノール基準による収は94モル%で
あった。
特許出願人 出光石油化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 フェノールと塩化イオウとを反応させてビス(ヒドロキ
シフェニル)スルフィドを得、このビス(ヒドロキシフ
ェニル)スルフィドを還元分解してメルカプトフェノー
ルを製造するにあたり、下記A〜Eから選ばれた少なく
とも1の工程を経ることを特徴とするメルカプトフェノ
ールの製造方法。 A フェノールと塩化イオウとの反応を水溶性有機溶媒
中で行う工程。 B フェノールを水溶性有機溶媒に溶解した溶液および
塩化イオウをそれぞれ10℃以下に冷却して反応に供す
る工程。 C フェノールと塩化イオウを断熱反応させる工程。 D ビス(ヒドロキシフエニル)スルフィドを一次およ
び二次の二段階で還元分解する工程。 E 一次還元分解して得られる生成物から水溶性有機溶
媒を除去した後、親油性溶媒を添加して二次還元分解す
る工程。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62266238A JPH01110665A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | メルカプトフェノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62266238A JPH01110665A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | メルカプトフェノールの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01110665A true JPH01110665A (ja) | 1989-04-27 |
Family
ID=17428189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62266238A Pending JPH01110665A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | メルカプトフェノールの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01110665A (ja) |
-
1987
- 1987-10-23 JP JP62266238A patent/JPH01110665A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0310611B2 (ja) | ||
JP3169165B2 (ja) | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 | |
JP3169171B2 (ja) | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 | |
AU745169B2 (en) | Process for producing toluene derivatives | |
KR100195843B1 (ko) | 디니트로톨루엔의 동일계 연속 제조방법 | |
KR20180016425A (ko) | 디아릴 술폰들을 제조하기 위한 개선된 프로세스 | |
US7468174B2 (en) | Method for producing chlorosulfonyl isocyanate | |
JPH01110665A (ja) | メルカプトフェノールの製造方法 | |
EP0200212B1 (en) | Process for producing polythiobisphenols and process for producing mercaptophenols by the hydrogenolysis of the same | |
EP0136995B1 (en) | Preparation of 2-(methylthiomethyl)-6-(trifluoromethyl) aniline from ortho-aminobenzotrifluoride | |
US6673975B1 (en) | Method for producing 1,1-bis-(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane | |
JP3106476B2 (ja) | フェノール化合物の製造法 | |
JPS632943B2 (ja) | ||
KR102417295B1 (ko) | 2,2,2-트리플루오로에탄티올의 합성 | |
JP2992289B2 (ja) | ピバロイルクロライドおよびアロイルクロライドの連続製造方法 | |
JP2003012646A (ja) | 2−(4−ピリジル)エタンチオールの蒸留方法 | |
JP4022929B2 (ja) | 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ニトロベンゼンの製造法 | |
JPH08253431A (ja) | 1,5−ヘキサジエンの製造方法 | |
US4987266A (en) | Process for the manufacture of nitrophenetole | |
JP3962467B2 (ja) | 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸アリールエステル類の製造方法 | |
JPH0797376A (ja) | 有機メルカプト及び/又はジスルフイド化合物の脱硫法 | |
JPH01500672A (ja) | ジアリールスルホン類の製造方法の改良 | |
JPS59157039A (ja) | キシリレングリコ−ルの製造法 | |
CN112724055A (zh) | 通过一锅法合成芳香族一氟甲硫基类化合物的方法 | |
JPH075493B2 (ja) | ビス(2―ヒドロキシヘキサフルオロ―2―プロピル)ベンゼン誘導体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040415 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040427 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040727 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20040628 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |