JPH01110243A - 外観検査装置 - Google Patents
外観検査装置Info
- Publication number
- JPH01110243A JPH01110243A JP26643387A JP26643387A JPH01110243A JP H01110243 A JPH01110243 A JP H01110243A JP 26643387 A JP26643387 A JP 26643387A JP 26643387 A JP26643387 A JP 26643387A JP H01110243 A JPH01110243 A JP H01110243A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- optical system
- observation optical
- inspected
- observation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 83
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 27
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 15
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 3
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、外観検査技術に関し、特に、被検査物を異な
る倍率で同時に観察して検査を行うことが可能な外観検
査技術に関する。
る倍率で同時に観察して検査を行うことが可能な外観検
査技術に関する。
従来、たとえば画像認識などにおいて、対象物を異なる
倍率で観察する技術としては、特開昭６０−１２３９７
４号公報に開示される技術が知られている。
倍率で観察する技術としては、特開昭６０−１２３９７
４号公報に開示される技術が知られている。
その概要は、光学系全体の対象物に対する光軸方向の機
械的な変位と、該光学系の対象物に対する焦点合わせと
を、モータなどの駆動源によって同時に行うことにより
、観察画像の倍率を高くすると狭視野となり、広視野で
は観察画像が低倍率になるという欠点が相互に補われる
ようにしたものである。
械的な変位と、該光学系の対象物に対する焦点合わせと
を、モータなどの駆動源によって同時に行うことにより
、観察画像の倍率を高くすると狭視野となり、広視野で
は観察画像が低倍率になるという欠点が相互に補われる
ようにしたものである。
ところが、上記の従来技術では、光学系の全体移動およ
び光学系におけるレンズの移動による焦点合わせなどが
、モータなどを駆動源とする機械的な変位によって行わ
れる構造であるため、動作時に発生する振動によって画
像がブしたり、また高低の両倍率間における切り換え時
に待ち時間を生じることが避けられず、異なる倍率によ
って対象物を同時に高精度に観察することは困難である
という問題があることを本発明者は見出した。
び光学系におけるレンズの移動による焦点合わせなどが
、モータなどを駆動源とする機械的な変位によって行わ
れる構造であるため、動作時に発生する振動によって画
像がブしたり、また高低の両倍率間における切り換え時
に待ち時間を生じることが避けられず、異なる倍率によ
って対象物を同時に高精度に観察することは困難である
という問題があることを本発明者は見出した。
本発明の目的は、機械的な動作を伴うことなく、被検査
物の局所拡大画像と広視野画像とを同時に高精度に観察
することが可能な検査技術を提供することにある。
物の局所拡大画像と広視野画像とを同時に高精度に観察
することが可能な検査技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、被検査物に対する光学系の光軸の
位置決め動作を迅速かつ精密に行うことが可能な検査技
術を提供することにある。
位置決め動作を迅速かつ精密に行うことが可能な検査技
術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、高倍率の第１の観察光学系と、低倍率の第２
の観察光学系と、被検査物からの光を分岐させて第１お
よび第２の観察光学系に同時に入射させる光分岐手段と
を設け、被検査物の、第１の観察光学系による局所拡大
画像と、第２の観察光学系による広視野画像とが同時ま
たは個別に得られるようにし・たものである。
の観察光学系と、被検査物からの光を分岐させて第１お
よび第２の観察光学系に同時に入射させる光分岐手段と
を設け、被検査物の、第１の観察光学系による局所拡大
画像と、第２の観察光学系による広視野画像とが同時ま
たは個別に得られるようにし・たものである。
一３＝
〔作用二
上記した手段によれば、機械的な動作を伴うことなく、
被検査物の局所拡大画像と広視野画像とを同時に高精度
に観察することができる。
被検査物の局所拡大画像と広視野画像とを同時に高精度
に観察することができる。
また、第２の観察光学系による広視野画像に基づく迅速
で大まかな位置決め動作と、第１の観察光学系による局
所拡大画像に基づく精密な位置決め動作とを組み合わせ
ることにより、被検査物に対する光学系の光軸の位置決
め動作を迅速かつ精密に行うことができる。
で大まかな位置決め動作と、第１の観察光学系による局
所拡大画像に基づく精密な位置決め動作とを組み合わせ
ることにより、被検査物に対する光学系の光軸の位置決
め動作を迅速かつ精密に行うことができる。
Ｃ実施例〕
第１図は、本発明の一実施例である外観検査装置の要部
を示すブロック図であり、第２図は、その動作の一例を
示すフローチャートである。
を示すブロック図であり、第２図は、その動作の一例を
示すフローチャートである。
水平面内において移動自在なｘ−Ｙステージ１の上には
、たとえば、エツチングなどによって所定のパターンに
配線が形成された配線基板やパッケージベースなどの被
検査物２が着脱自在に戴置されている。
、たとえば、エツチングなどによって所定のパターンに
配線が形成された配線基板やパッケージベースなどの被
検査物２が着脱自在に戴置されている。
ｘ−Ｙステージ１の上方には、該Ｘ−Ｙステージ１に戴
置された被検査物２に面する底部に開口部３ａ開設され
た箱体３が設けられ、この箱体３の上面部には、前記開
口部３ａに対応する位置に垂直に配設された鏡筒４およ
び該鏡筒４に隣接して垂直に配設された鏡筒５が接続さ
れている。
置された被検査物２に面する底部に開口部３ａ開設され
た箱体３が設けられ、この箱体３の上面部には、前記開
口部３ａに対応する位置に垂直に配設された鏡筒４およ
び該鏡筒４に隣接して垂直に配設された鏡筒５が接続さ
れている。
この場合、箱体３の底部における開口部３ａを通じて鏡
筒４の方向に入射される、前記被検査物２からの光６の
光路には、ハーフミラ−７（光分岐手段）が介設されて
いる。
筒４の方向に入射される、前記被検査物２からの光６の
光路には、ハーフミラ−７（光分岐手段）が介設されて
いる。
そして、被検査物２からの光６の一部の光６ａはハーフ
ミラ−７を透過して鏡筒４の内部に入射するとともに、
一部の光６ｂは水平方向に反射されて分岐され、箱体３
の内部における鏡筒５の直下の位置に配設された反射鏡
８によってさらに垂直上方に反射されることにより、鏡
筒５の内部に軸方向に入射するように構成されている。
ミラ−７を透過して鏡筒４の内部に入射するとともに、
一部の光６ｂは水平方向に反射されて分岐され、箱体３
の内部における鏡筒５の直下の位置に配設された反射鏡
８によってさらに垂直上方に反射されることにより、鏡
筒５の内部に軸方向に入射するように構成されている。
鏡筒４の内部には、高倍率のレンズ群９からなり、鏡筒
４の上端部に設けられた光電気変換素子などで構成され
る撮像部１０に対して被検査物２０局所拡大画像を結像
させる第１の観察光学系Ａが設けられているとともに、
鏡筒４に隣接する鏡筒５の内部には、低倍率のレンズ群
１１からなり、鏡筒５の上端部に設けられた撮像部１２
に対して被検査物２の広視野画像を結ぶ第２の観察光学
系Ｂが設けられており、各光学系における機械的な変位
などを行うことなく、被検査物２の局所拡大画像と広視
野画像とが撮像部１０および撮像部１２において同時に
検出可能にされている。
４の上端部に設けられた光電気変換素子などで構成され
る撮像部１０に対して被検査物２０局所拡大画像を結像
させる第１の観察光学系Ａが設けられているとともに、
鏡筒４に隣接する鏡筒５の内部には、低倍率のレンズ群
１１からなり、鏡筒５の上端部に設けられた撮像部１２
に対して被検査物２の広視野画像を結ぶ第２の観察光学
系Ｂが設けられており、各光学系における機械的な変位
などを行うことなく、被検査物２の局所拡大画像と広視
野画像とが撮像部１０および撮像部１２において同時に
検出可能にされている。
鏡筒４に設けられた撮像部１０には一１該撮像１０にお
いて検出された被検査物２のアナログの画像信号を、た
とえば所定の色や諧調などに応じてディジタル化するＡ
／Ｄ変換部１３と、このＡ／Ｄ変換部１３においてディ
ジタル化された画像データを記憶する画像メモリ１４と
、マイクロプロセッサなどからなり、この画像メモリ１
４に記憶された画像データに基づいて所定の処理を行う
画像処理部１５とが接続されている。
いて検出された被検査物２のアナログの画像信号を、た
とえば所定の色や諧調などに応じてディジタル化するＡ
／Ｄ変換部１３と、このＡ／Ｄ変換部１３においてディ
ジタル化された画像データを記憶する画像メモリ１４と
、マイクロプロセッサなどからなり、この画像メモリ１
４に記憶された画像データに基づいて所定の処理を行う
画像処理部１５とが接続されている。
同様に、鏡筒５に設けられた撮像部１２には、該撮像部
１２において検出された被検査物２のアナログの画像信
号を、たとえば所定の色や諧調などに応じてディジタル
化するＡ／Ｄ変換部１６と、このＡ／Ｄ変換部１６にお
いてディジタル化された画像データを記憶する画像メモ
リ１７と、この画像メモリ１７に記憶された画像データ
に基づいて所定の処理を行う画像処理部１８とが接続さ
れている。
１２において検出された被検査物２のアナログの画像信
号を、たとえば所定の色や諧調などに応じてディジタル
化するＡ／Ｄ変換部１６と、このＡ／Ｄ変換部１６にお
いてディジタル化された画像データを記憶する画像メモ
リ１７と、この画像メモリ１７に記憶された画像データ
に基づいて所定の処理を行う画像処理部１８とが接続さ
れている。
さらに、画像処理部１５および画像処理部１８は、制御
計算機などからなる主制御部１９に接続されており、該
主制御部１９によって統括して制御されるように構成さ
れている。
計算機などからなる主制御部１９に接続されており、該
主制御部１９によって統括して制御されるように構成さ
れている。
また、前記Ｘ−Ｙステージ１は、数値制御機構などから
なるｘ−Ｙステージ制御部２０を介して主制御部１９に
接続されており、該Ｘ−Ｙステージ１の水平面内におけ
る変位が精密に制御されるように構成されている。
なるｘ−Ｙステージ制御部２０を介して主制御部１９に
接続されており、該Ｘ−Ｙステージ１の水平面内におけ
る変位が精密に制御されるように構成されている。
箱体３および該箱体３に接続される複数の鏡筒４および
５は、図示しない昇降機構などにより、Ｘ−Ｙステージ
１に対して上下動が可能にされており、該Ｘ−Ｙステー
ジ１に戴置された被検査物２に対する、第１の観察光学
系Ａおよび第２の観察光学系Ｂの焦点合わせが同時に行
われる構造とされている。
５は、図示しない昇降機構などにより、Ｘ−Ｙステージ
１に対して上下動が可能にされており、該Ｘ−Ｙステー
ジ１に戴置された被検査物２に対する、第１の観察光学
系Ａおよび第２の観察光学系Ｂの焦点合わせが同時に行
われる構造とされている。
以下、本実施例の作用について説明する。
まず、ｘ−Ｙステージ１に戴置された、たとえば配線基
板などの被検査物２に対して箱体３および複数の鏡筒４
および５を上下動させることにより、該被検査物２に対
して第１の観察光学系Ａおよび第２の観察光学系Ｂの焦
点合わせが同時に行われた後、箱体３および複数の鏡筒
４．鏡筒５が固定される。
板などの被検査物２に対して箱体３および複数の鏡筒４
および５を上下動させることにより、該被検査物２に対
して第１の観察光学系Ａおよび第２の観察光学系Ｂの焦
点合わせが同時に行われた後、箱体３および複数の鏡筒
４．鏡筒５が固定される。
次に、第２図のフローチャートにおいてステップ２１〜
ステツプ２２に示されるように、鏡筒５に設けられた低
倍率の第２の観察光学系Ｂ、撮像部１２．Ａ／Ｄ変換部
１６１画像メモリ１７を介して画像処理部１８に入力さ
れる被検査物２の低倍率の広視野画像に基づいて、ｘ−
ｙステージ１を比較的高速に移動させながら、該被検査
物２における目的の検査部位の探索が行われ、被検査物
２の目的の部位の第１の観察光学系Ａおよび第２の観察
光学系Ｂの光軸に対する大まかな位置決めが行われる。
ステツプ２２に示されるように、鏡筒５に設けられた低
倍率の第２の観察光学系Ｂ、撮像部１２．Ａ／Ｄ変換部
１６１画像メモリ１７を介して画像処理部１８に入力さ
れる被検査物２の低倍率の広視野画像に基づいて、ｘ−
ｙステージ１を比較的高速に移動させながら、該被検査
物２における目的の検査部位の探索が行われ、被検査物
２の目的の部位の第１の観察光学系Ａおよび第２の観察
光学系Ｂの光軸に対する大まかな位置決めが行われる。
（第１の段階）
次に、ステップ２３〜ステツプ２４において、第１の観
察光学系Ａによる被検査物２の局所拡大画像に基づいて
、Ｘ−Ｙステージ１を適宜微動させることにより、被検
査物２０目的の部位の第１の観察光学系Ａおよび第２の
観察光学系Ｂの光軸に対する精密な位置決めが行われる
。（第２の段階） こうして、第１の観察光学系Ａおよび第２の観察光学系
Ｂの光軸に対する被検査物２の目的の部位が迅速かつ精
密に位置決めされた後、低倍率の第２の観察光学系已に
よって観察される被検査物２の所定の検査部位の広視野
画像に基づいて、たとえば被検査物２の表面における傷
や汚れなどの有無の検査や比較的おおまかな領域におけ
るパターン認識などを行うステップ２５と、高倍率の第
２の観察光学系へによって観察される局所拡大画像に基
づいて、被検査物２に形成された微細な配線パターンな
どの寸法測定やパターン認識などを行うステップ２６と
が、倍率の切り換えや焦点合わせなどを目的とする機械
的な動作に起因するブレなどを伴うことなく、同時に高
精度に行われる。
察光学系Ａによる被検査物２の局所拡大画像に基づいて
、Ｘ−Ｙステージ１を適宜微動させることにより、被検
査物２０目的の部位の第１の観察光学系Ａおよび第２の
観察光学系Ｂの光軸に対する精密な位置決めが行われる
。（第２の段階） こうして、第１の観察光学系Ａおよび第２の観察光学系
Ｂの光軸に対する被検査物２の目的の部位が迅速かつ精
密に位置決めされた後、低倍率の第２の観察光学系已に
よって観察される被検査物２の所定の検査部位の広視野
画像に基づいて、たとえば被検査物２の表面における傷
や汚れなどの有無の検査や比較的おおまかな領域におけ
るパターン認識などを行うステップ２５と、高倍率の第
２の観察光学系へによって観察される局所拡大画像に基
づいて、被検査物２に形成された微細な配線パターンな
どの寸法測定やパターン認識などを行うステップ２６と
が、倍率の切り換えや焦点合わせなどを目的とする機械
的な動作に起因するブレなどを伴うことなく、同時に高
精度に行われる。
また、被検査物２に対する高倍率の第１の観察光学系Ａ
と広視野の第２の観察光学系Ｂとの光軸が一致している
ので、第２の観察光学系Ｂの広視野画像における第１の
観察光学系への局所拡大画像の対応位置が常に把握され
、局所拡大画像が被検査物２のどの部分にあたるかを容
易に知ることができる。
と広視野の第２の観察光学系Ｂとの光軸が一致している
ので、第２の観察光学系Ｂの広視野画像における第１の
観察光学系への局所拡大画像の対応位置が常に把握され
、局所拡大画像が被検査物２のどの部分にあたるかを容
易に知ることができる。
このように、本実施例においては以下の効果を得ること
ができる。
ができる。
（１〕、箱体３と、この箱体３に並設された鏡筒４およ
び鏡筒５と、これらの鏡筒４および５の内部にそれぞれ
設けられ、高倍率のレンズ群９からなる第１の観察光学
系Ａおよび低倍率で広視野のレンズ群１１からなる第２
の観察光学系Ｂと、箱体３の内部に設けられ、被検査物
からの光６を光６ａおよび光６ｂに分岐させて第１の観
察光学系Ａおよび第２の観察光学系Ｂに導くハーフミラ
−７および反射鏡８とを備え、鏡筒４および５にそれぞ
れ設けられた撮像部１０および１２に、被検査物２０局
所拡大画像と広視野画像とが個別に同時に結像されて検
出されるように構成されているため、たとえば、低倍率
の第２の観察光学系已によって観察される被検査物２の
所定の検査部位の広視野画像に基づいて、たとえば被検
査物２の表面における傷や汚れなどの有無の検査や比較
的おおまかな領域におけるパターン認識などを行う検査
と、高倍率の第１の観察光学系Ａによって観察される局
所拡大画像に基づいて、被検査物２に形成された微細な
配線パターンなどの寸法測定やパターン認識などを行う
検査とを、倍率の切り換えや焦点合わせなどを目的とす
る機械的な動作に起因するブレなどを伴うことなく、同
時に高精度に遂行することができる。
び鏡筒５と、これらの鏡筒４および５の内部にそれぞれ
設けられ、高倍率のレンズ群９からなる第１の観察光学
系Ａおよび低倍率で広視野のレンズ群１１からなる第２
の観察光学系Ｂと、箱体３の内部に設けられ、被検査物
からの光６を光６ａおよび光６ｂに分岐させて第１の観
察光学系Ａおよび第２の観察光学系Ｂに導くハーフミラ
−７および反射鏡８とを備え、鏡筒４および５にそれぞ
れ設けられた撮像部１０および１２に、被検査物２０局
所拡大画像と広視野画像とが個別に同時に結像されて検
出されるように構成されているため、たとえば、低倍率
の第２の観察光学系已によって観察される被検査物２の
所定の検査部位の広視野画像に基づいて、たとえば被検
査物２の表面における傷や汚れなどの有無の検査や比較
的おおまかな領域におけるパターン認識などを行う検査
と、高倍率の第１の観察光学系Ａによって観察される局
所拡大画像に基づいて、被検査物２に形成された微細な
配線パターンなどの寸法測定やパターン認識などを行う
検査とを、倍率の切り換えや焦点合わせなどを目的とす
る機械的な動作に起因するブレなどを伴うことなく、同
時に高精度に遂行することができる。
また、第２の観察光学系Ｂによる広視野画像に基づく大
まかで迅速な位置決め動作と、第１の観察光学系Ａによ
る局所拡大画像に基づく精密な位置決め動作を組み合わ
せることにより、被検査物２の目的の部位に対する第の
観察光学系Ａおよび第２の観察光学系Ｂの光軸の位置決
めを迅速かつ精密に行うことができる。
まかで迅速な位置決め動作と、第１の観察光学系Ａによ
る局所拡大画像に基づく精密な位置決め動作を組み合わ
せることにより、被検査物２の目的の部位に対する第の
観察光学系Ａおよび第２の観察光学系Ｂの光軸の位置決
めを迅速かつ精密に行うことができる。
（２）、被検査物２に対する高倍率の第１の観察光学系
Ａと広視野の第２の観察光学系Ｂとの光軸が一致してい
るので、第２の観察光学系Ｂの広視野画像における第１
の観察光学系Ａの局所拡大画像の対応位置゛が常に把握
され、局所拡大画像が被検査物２のどの部分にあたるか
を容易に知ることができ、広視野画像と局所拡大画像と
を組み合わせた外観検査を簡便に行うことができる。
Ａと広視野の第２の観察光学系Ｂとの光軸が一致してい
るので、第２の観察光学系Ｂの広視野画像における第１
の観察光学系Ａの局所拡大画像の対応位置゛が常に把握
され、局所拡大画像が被検査物２のどの部分にあたるか
を容易に知ることができ、広視野画像と局所拡大画像と
を組み合わせた外観検査を簡便に行うことができる。
（３）、前記（１）、 （２）の結果、検査工程におけ
る生産性を向上させることができる。
る生産性を向上させることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、光分岐手段としては、ハーフミラ−などに限
らず、プリズムその他いかなるものであってもよい。
らず、プリズムその他いかなるものであってもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である検査技術に適用した
場合について説明したが、これに限定されるものではな
く、一般の画像処理技術などに広く適用できる。
をその背景となった利用分野である検査技術に適用した
場合について説明したが、これに限定されるものではな
く、一般の画像処理技術などに広く適用できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、高倍率の第１の観察光学系と、低倍率の第２
の観察光学系と、被検査物からの光を分岐させて前記第
１および第２の観察光学系に同時に入射させる光分岐手
段とを備え、前記被検査物の、前記第１の観察光学系に
よる局所拡大画像と、前記第２の観察光学系による広視
野画像とが同時または個別に得られるので、機械的な動
作を伴うことなく、被検査物の局所拡大画像と広視野画
像とを同時に高精度に観察することができる。
の観察光学系と、被検査物からの光を分岐させて前記第
１および第２の観察光学系に同時に入射させる光分岐手
段とを備え、前記被検査物の、前記第１の観察光学系に
よる局所拡大画像と、前記第２の観察光学系による広視
野画像とが同時または個別に得られるので、機械的な動
作を伴うことなく、被検査物の局所拡大画像と広視野画
像とを同時に高精度に観察することができる。
また、第２の観察光学系による広視野画像に基づく迅速
で大まかな位置決め動作と、第２の観察光学系による局
所拡大画像に基づく精密な位置決め動作とを組み合わせ
ることにより、被検査物に対する光学系の光軸の位置決
め動作を迅速かつ精密に行うことができる。
で大まかな位置決め動作と、第２の観察光学系による局
所拡大画像に基づく精密な位置決め動作とを組み合わせ
ることにより、被検査物に対する光学系の光軸の位置決
め動作を迅速かつ精密に行うことができる。
第１図は本発明の一実施例である外観検査装置の要Ｅ６
を示すブロック図、 第２図はその動作の一例を示すフローチャートである。 １・・・Ｘ−Ｙステージ、２・・・被検査物、３・・・
箱体、３ａ・・・開口部、４，５・・・鏡筒、６・・・
被検査物からの光、５ａ、５ｂ・・・分岐された被検査
物からの光、７・・・ハーフミラ−（光分岐手段）、８
・・・反射鏡、９・・・高倍率のレンズ群、１０・・・
撮像部、１１・・・広視野のレンズ群、１２・・・撮像
部、１３・・・Ａ／Ｄ変換部、１４・・・画像メモリ、
１５・・・画像処理部、１６・・・Ａ／Ｄ変換部、１７
・・・画像メモリ、１８・・・画像処理部、１９・・・
主制御部、２０・・・Ｘ−Ｙステージ第 制御部、２１〜２６・・・検査装置の動作の一例の各ス
テップ、Ａ・・・第１の観察光学系、Ｂ・・・第２の観
察光学系。 １図
を示すブロック図、 第２図はその動作の一例を示すフローチャートである。 １・・・Ｘ−Ｙステージ、２・・・被検査物、３・・・
箱体、３ａ・・・開口部、４，５・・・鏡筒、６・・・
被検査物からの光、５ａ、５ｂ・・・分岐された被検査
物からの光、７・・・ハーフミラ−（光分岐手段）、８
・・・反射鏡、９・・・高倍率のレンズ群、１０・・・
撮像部、１１・・・広視野のレンズ群、１２・・・撮像
部、１３・・・Ａ／Ｄ変換部、１４・・・画像メモリ、
１５・・・画像処理部、１６・・・Ａ／Ｄ変換部、１７
・・・画像メモリ、１８・・・画像処理部、１９・・・
主制御部、２０・・・Ｘ−Ｙステージ第 制御部、２１〜２６・・・検査装置の動作の一例の各ス
テップ、Ａ・・・第１の観察光学系、Ｂ・・・第２の観
察光学系。 １図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、高倍率の第１の観察光学系と、低倍率の第２の観察
光学系と、被検査物からの光を分岐させて前記第１およ
び第２の観察光学系に同時に入射させる光分岐手段とを
備え、前記被検査物の、前記第１の観察光学系による局
所拡大画像と、前記第２の観察光学系による広視野画像
とが同時または個別に得られるようにしたことを特徴と
する外観検査装置。 ２、前記第１および第２の観察光学系の各々には、前記
被検査物の観察画像を検出する撮像部と、該撮像手段に
よって検出された前記観察画像を記憶する画像メモリと
、該画像メモリに記憶された前記観察画像に基づいて所
定の処理を行う画像処理部とがそれぞれ接続され、前記
第１の観察光学系による広視野で低倍率の観察画像に基
づいて、前記被検査物における検査部位の比較的大まか
な探索を行う第１の段階と、前記第２の観察光学系によ
る狭視野で高倍率の観察画像による前記検査部位の精密
な探索を行う第２の段階とを経て、前記被検査物の検査
部位の特定が行われることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の外観検査装置。 ３、前記第１の観察光学系から得られる広視野で低倍率
の観察画像による前記被検査物の表面における欠陥の検
査と、前記第２の観察光学系から得られる狭視野で高倍
率の観察画像による前記被検査物における微細なパター
ンの寸法検査とが同時に行われることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の外観検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26643387A JPH01110243A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 外観検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26643387A JPH01110243A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 外観検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01110243A true JPH01110243A (ja) | 1989-04-26 |
Family
ID=17430867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26643387A Pending JPH01110243A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 外観検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01110243A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0647828A2 (en) * | 1993-10-12 | 1995-04-12 | Hughes Aircraft Company | Cofocal optical systems for thickness measurements of patterned wafers |
| JPH07151511A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-16 | Aichi Steel Works Ltd | 位置および幅検知装置 |
| JP2000114166A (ja) * | 1998-07-14 | 2000-04-21 | Nova Measuring Instruments Ltd | 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置及びその方法 |
| KR100358817B1 (ko) * | 2000-10-04 | 2002-10-25 | 조정석 | 장식용 양초 제조방법 |
| WO2005098508A3 (de) * | 2004-04-05 | 2006-02-02 | Zeiss Carl Ag | Bildaufnahmesystem, bildwiedergabesystem und bildaufnahme/-wiedergabesystem |
| JP2013110648A (ja) * | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Seiko Epson Corp | 棒状ワーク撮像装置および棒状ワークの先端同心判定装置 |
| JP2013190554A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Shimadzu Corp | 顕微鏡 |
| JP2015100868A (ja) * | 2013-11-22 | 2015-06-04 | セイコーエプソン株式会社 | ロボットシステム |
| CN109765242A (zh) * | 2019-01-15 | 2019-05-17 | 南京信息工程大学 | 一种高检测效率高分辨率的光滑表面质量测量装置及方法 |
| CN110823097A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-02-21 | 中国计量大学 | 一种密集波分复用器自动装配中光学元件尺寸测量的方法 |
-
1987
- 1987-10-23 JP JP26643387A patent/JPH01110243A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0647828A2 (en) * | 1993-10-12 | 1995-04-12 | Hughes Aircraft Company | Cofocal optical systems for thickness measurements of patterned wafers |
| EP0647828A3 (en) * | 1993-10-12 | 1996-11-13 | Hughes Aircraft Co | Confocal optical system for thickness measurements on semiconductor wafers with a pattern. |
| JPH07151511A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-16 | Aichi Steel Works Ltd | 位置および幅検知装置 |
| JP2000114166A (ja) * | 1998-07-14 | 2000-04-21 | Nova Measuring Instruments Ltd | 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置及びその方法 |
| JP4722244B2 (ja) * | 1998-07-14 | 2011-07-13 | ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド | 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置 |
| KR100358817B1 (ko) * | 2000-10-04 | 2002-10-25 | 조정석 | 장식용 양초 제조방법 |
| WO2005098508A3 (de) * | 2004-04-05 | 2006-02-02 | Zeiss Carl Ag | Bildaufnahmesystem, bildwiedergabesystem und bildaufnahme/-wiedergabesystem |
| JP2013110648A (ja) * | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Seiko Epson Corp | 棒状ワーク撮像装置および棒状ワークの先端同心判定装置 |
| JP2013190554A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Shimadzu Corp | 顕微鏡 |
| JP2015100868A (ja) * | 2013-11-22 | 2015-06-04 | セイコーエプソン株式会社 | ロボットシステム |
| CN109765242A (zh) * | 2019-01-15 | 2019-05-17 | 南京信息工程大学 | 一种高检测效率高分辨率的光滑表面质量测量装置及方法 |
| CN110823097A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-02-21 | 中国计量大学 | 一种密集波分复用器自动装配中光学元件尺寸测量的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100634652B1 (ko) | 기판 검사 장치 | |
| JPWO2006118152A1 (ja) | 外観検査装置及び外観検査方法並びに外観検査装置に装着可能な周縁部検査ユニット | |
| KR100300212B1 (ko) | 고정밀패턴검사방법및장치 | |
| US20050030528A1 (en) | Confocal wafer-inspection system | |
| JP2001082926A (ja) | 焦点位置制御機構及び方法、並びに、半導体ウェハの検査装置及び方法 | |
| JP2015230393A (ja) | 撮像装置の制御方法および撮像システム | |
| JPH01110243A (ja) | 外観検査装置 | |
| JP2000035319A (ja) | 外観検査装置 | |
| KR101867081B1 (ko) | 디지털 광학계 방식의 공초점 3d 센싱 시스템 | |
| JP2000081324A (ja) | 欠陥検査方法およびその装置 | |
| JPH0771917A (ja) | 半導体デバイスのリード検査装置 | |
| JP3899623B2 (ja) | 画像検査・測定装置 | |
| JP2000275594A (ja) | 基板検査装置 | |
| JP3929285B2 (ja) | 基板検査装置 | |
| JPH10256326A (ja) | パターン検査方法及び検査装置 | |
| JP2008014646A (ja) | 基板検査方法 | |
| JP2004125708A (ja) | 三次元形状測定装置及び三次元形状測定方法 | |
| JPH06174433A (ja) | 微小円筒形部品寸法測定システム | |
| CN115390233A (zh) | 光学显微镜的自动对焦装置及方法 | |
| JP3750259B2 (ja) | 画像検査・測定装置 | |
| JP2003036118A (ja) | 外観検査装置 | |
| JPH1164159A (ja) | 位相格子の表面の検査方法および検査装置 | |
| JP2019066691A (ja) | 検査装置 | |
| JPH10100415A (ja) | ノズルヘッド検査方法 | |
| JP2695337B2 (ja) | 硬度測定方法 |