JPH01107599A - 磁気シールド塗料 - Google Patents
磁気シールド塗料Info
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- JPH01107599A JPH01107599A JP62264560A JP26456087A JPH01107599A JP H01107599 A JPH01107599 A JP H01107599A JP 62264560 A JP62264560 A JP 62264560A JP 26456087 A JP26456087 A JP 26456087A JP H01107599 A JPH01107599 A JP H01107599A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁束の制御や磁気の干渉を受は易い素子、装置
を磁気から守るためのシールド材料に関する。
を磁気から守るためのシールド材料に関する。
従来、Ta束の制御や磁気の干渉を受は易い素子或は、
装置を磁気から守るためのシールド材料には、パーマロ
イ、センダスト、純鉄など高透磁率材料が用いられてい
た。これらの加工は切削やプレスにより行われておりス
プレーやディッピング処理の可能な塗料タイプの磁気シ
ールド材料はなかった・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら従来技術では、材料の比透[率や飽和磁束
密度に限界があるため、完全に磁束を制御したり完全に
磁気をシールドするにはシールド材の断面積を広くする
と共に積層する必要があるため形状の制約が大きく、且
つ材料コストは高いものとなっていた。また加工は切削
やプレスにより行われているため複雑な形状を必要とす
る場所の磁気シールドは困難であった。
装置を磁気から守るためのシールド材料には、パーマロ
イ、センダスト、純鉄など高透磁率材料が用いられてい
た。これらの加工は切削やプレスにより行われておりス
プレーやディッピング処理の可能な塗料タイプの磁気シ
ールド材料はなかった・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら従来技術では、材料の比透[率や飽和磁束
密度に限界があるため、完全に磁束を制御したり完全に
磁気をシールドするにはシールド材の断面積を広くする
と共に積層する必要があるため形状の制約が大きく、且
つ材料コストは高いものとなっていた。また加工は切削
やプレスにより行われているため複雑な形状を必要とす
る場所の磁気シールドは困難であった。
本発明はこの様な間層を解決するものであり、その目的
は磁束の詞書や磁気シールド性に優れ且つ加工性が高い
(複雑形状な場所でも容易に磁気シールド出来る)磁気
シールド塗料を得んとするものである。
は磁束の詞書や磁気シールド性に優れ且つ加工性が高い
(複雑形状な場所でも容易に磁気シールド出来る)磁気
シールド塗料を得んとするものである。
上記の問題を解決するため本発明の磁気シールド塗料は
主成分が超M1導体の粉末とバインダーより成ることを
特徴とする特 〔実施例〕 我々は様々な実験を繰り返す中で超電導体の粉末をバイ
ンダーで結合したものであっても超電導体粉末の構造、
粒形、粒度分布、充填量、バインダーの種類、分散性の
適正化を行うことによりマイスナー効果により磁気を遮
蔽することを発見した。
主成分が超M1導体の粉末とバインダーより成ることを
特徴とする特 〔実施例〕 我々は様々な実験を繰り返す中で超電導体の粉末をバイ
ンダーで結合したものであっても超電導体粉末の構造、
粒形、粒度分布、充填量、バインダーの種類、分散性の
適正化を行うことによりマイスナー効果により磁気を遮
蔽することを発見した。
以下実施例に従い本発明の詳細な説明する。
まず最初にDy(NOs)s、5H1o、Ba(CH,
Coo)、、Cu (CHs C00)、H2Oを純水
に入れ撹はん分散させる。この時のDy、Ba、Cuの
割合は1:2:3である。(Dyの他にSc−、Y%
Lan than ido等a族元素を用いても同構造
の超rIiS体を得られる。)次にこの液体をドライス
プレー法により乾燥させると同時に燃焼させ微粉末を得
る。次にこの微粉末を900℃、@累雰囲気中に於て8
時間焼成する。焼成後の冷却は20℃/H〜50°C/
H程度の除冷である。この焼成後の微粉末をAとする。
Coo)、、Cu (CHs C00)、H2Oを純水
に入れ撹はん分散させる。この時のDy、Ba、Cuの
割合は1:2:3である。(Dyの他にSc−、Y%
Lan than ido等a族元素を用いても同構造
の超rIiS体を得られる。)次にこの液体をドライス
プレー法により乾燥させると同時に燃焼させ微粉末を得
る。次にこの微粉末を900℃、@累雰囲気中に於て8
時間焼成する。焼成後の冷却は20℃/H〜50°C/
H程度の除冷である。この焼成後の微粉末をAとする。
Aの粒径tto、5〜1μ位である。得られたAをプレ
スした後850℃、空気中に於て焼結させその後Arガ
ス雰囲気中に於て、ボールミルにより1〜3μの粒度分
布になる様に粉砕する。この粉砕後の粉末をBとする。
スした後850℃、空気中に於て焼結させその後Arガ
ス雰囲気中に於て、ボールミルにより1〜3μの粒度分
布になる様に粉砕する。この粉砕後の粉末をBとする。
超電導体粉末は微粉砕化を行い過ぎるとバインダーに分
散後マイナス′効果を示さなくなるため注意が必要であ
る。次にAとBを混合分散した後チタネートカッブリy
剤を用いて表面処理をおこなう。表面処理後の膜厚は数
分干満程度が好ましいため粉末の表面積を見積りカップ
リング剤の添加量を調整する必要がある。
散後マイナス′効果を示さなくなるため注意が必要であ
る。次にAとBを混合分散した後チタネートカッブリy
剤を用いて表面処理をおこなう。表面処理後の膜厚は数
分干満程度が好ましいため粉末の表面積を見積りカップ
リング剤の添加量を調整する必要がある。
これにキシレンにより溶かした非変性シリコン樹脂(打
機側鎖はメチル基)とコバルト脂肪酸塩を加え、架台式
デイシルバーにより混棟分散し磁気シールド塗料を得る
。この時の非変性シリコン、コバルト脂肪酸の、充填量
はそれぞれMfik比で10%、0.07%(キシレン
を除いた時の値)でありまた混練時に於けるインペラー
の周速は1000〜1700m/分である。ここでAと
Bを混合するのは形状の異なる2種類の粉末を加えるこ
とにより分散性を良くするためである。この得られた磁
気シールド塗料を、磁気シールドしたい場所にスプレー
法、フローコート法、ディッピング法、ローラー法、刷
毛塗り法等により塗布した後加熱し溶剤であるキシレノ
除去と非変性シリコン樹脂の脱水縮合を行い硬化せしめ
シールド加工を行うわけである・。
機側鎖はメチル基)とコバルト脂肪酸塩を加え、架台式
デイシルバーにより混棟分散し磁気シールド塗料を得る
。この時の非変性シリコン、コバルト脂肪酸の、充填量
はそれぞれMfik比で10%、0.07%(キシレン
を除いた時の値)でありまた混練時に於けるインペラー
の周速は1000〜1700m/分である。ここでAと
Bを混合するのは形状の異なる2種類の粉末を加えるこ
とにより分散性を良くするためである。この得られた磁
気シールド塗料を、磁気シールドしたい場所にスプレー
法、フローコート法、ディッピング法、ローラー法、刷
毛塗り法等により塗布した後加熱し溶剤であるキシレノ
除去と非変性シリコン樹脂の脱水縮合を行い硬化せしめ
シールド加工を行うわけである・。
本実施例では超電導体粉末に酸化物系セラミックを用い
たが2元系化合物や合金等を用いても良くまたバインダ
ーに非変性シリコン樹脂を用いたがテトラ−n−ブチル
チクネート(宵機チタン酸系)、ポリイミド樹脂、ポリ
アミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂等育機
バインダーやアルカリ金屑珪la@塩等無機バインダー
を用いた磁気シールド塗料であっても何等差し支えない
。
たが2元系化合物や合金等を用いても良くまたバインダ
ーに非変性シリコン樹脂を用いたがテトラ−n−ブチル
チクネート(宵機チタン酸系)、ポリイミド樹脂、ポリ
アミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂等育機
バインダーやアルカリ金屑珪la@塩等無機バインダー
を用いた磁気シールド塗料であっても何等差し支えない
。
以上述べたように本発明によればマイスナー効果を利用
した磁気シールドであるため確実に磁気を遮蔽すること
が可能であり且つシールド材を厚くする必要はない。ま
たスプレー法、ディッピング法、刷毛塗り法によるシー
ルド加工が出来るため複雑な形状で且つ狭い場所でも容
易に行うことが出来る。さら眸酸化物セラミックの様に
、超電導体そのものは靭性がな(脆いものであっても超
電導体の粉末を靭性のあるバインダーで結合しているた
め衝撃に強いものとなる。
した磁気シールドであるため確実に磁気を遮蔽すること
が可能であり且つシールド材を厚くする必要はない。ま
たスプレー法、ディッピング法、刷毛塗り法によるシー
ルド加工が出来るため複雑な形状で且つ狭い場所でも容
易に行うことが出来る。さら眸酸化物セラミックの様に
、超電導体そのものは靭性がな(脆いものであっても超
電導体の粉末を靭性のあるバインダーで結合しているた
め衝撃に強いものとなる。
以 上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 主成分が超電導体の粉末とバインダーより成ることを
特徴とする磁気シールド塗料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62264560A JPH01107599A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 磁気シールド塗料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62264560A JPH01107599A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 磁気シールド塗料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01107599A true JPH01107599A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17404976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62264560A Pending JPH01107599A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 磁気シールド塗料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01107599A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0851435A1 (en) * | 1996-12-25 | 1998-07-01 | Taniyama Co., Ltd. | Electromagnetic wave shield material composition and electromagnetic wave shield product including such material composition |
WO2018206862A1 (fr) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | Buendia Jose | Stabilite thermique-hydrometrie |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4923594A (ja) * | 1972-06-23 | 1974-03-02 | ||
JPS6267793A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-27 | Sony Corp | メモリ装置 |
JPS6292811A (ja) * | 1985-10-19 | 1987-04-28 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | エラストマ−物品の加硫におけるガスの洩れ検出装置 |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP62264560A patent/JPH01107599A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS4923594A (ja) * | 1972-06-23 | 1974-03-02 | ||
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US5989720A (en) * | 1996-12-25 | 1999-11-23 | Taniyama & Co., Ltd. | Electromagnetic wave shield material composition and electromagnetic wave shield product including such material composition |
WO2018206862A1 (fr) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | Buendia Jose | Stabilite thermique-hydrometrie |
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