JPH01107533A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents

電子ビーム描画装置

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JPH01107533A
JPH01107533A JP62263775A JP26377587A JPH01107533A JP H01107533 A JPH01107533 A JP H01107533A JP 62263775 A JP62263775 A JP 62263775A JP 26377587 A JP26377587 A JP 26377587A JP H01107533 A JPH01107533 A JP H01107533A
Authority
JP
Japan
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clock
circuit
rate
pulse
variable
Prior art date
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Pending
Application number
JP62263775A
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English (en)
Inventor
Mitsuo Oyama
大山 光男
Masahide Okumura
正秀 奥村
Masamichi Kawano
雅道 川野
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、極めて広い露光量可変範囲を持ち。
特に、超高速でビームを走査する場合においても、細か
いピッチで露光量を制御できる電子ビーム描画装置に関
する。
〔従来の技術〕
電子ビームを走査して描画を行う電子ビーム描画装置で
は、ビーム走査速度を変えることにより露光量が制御さ
れる。高精度描画装置では、ビーム走査におけるビーム
偏向量は精度の点からビーム偏向アドレスとしてディジ
タル値で設定される。
このときビーム走査速度の制御は、ビーム偏向アドレス
の更新速度、すなわち、ビーム偏向アドレス発生回路に
供給されるクロックパルスの周期を制御することにより
行われる。このような目的で使用される可変クロック発
生器としては、特開昭61−273011号に開示され
ているように、V/Fコンバータを用い、クロック周波
数の制御は、コンピュータから所望の周波数に対応する
ディジタル値をセットできるD/Aコンバータにより、
該V/Fコンバータの入力電圧を制御して実現する方式
、および、特開昭62−38918号に記載のように、
水晶発振器が発生する基本クロックの数をカウンタで数
え、マシンサイクルを構成する基本クロック数を数える
ごとにマシンサイクルクロックを発生し、マシンサイク
ルを構成する基本クロックの数は、外部からダイナミッ
クに制御できるようにする方式が知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
電子ビームの露光量は、ビーム電流密度とビーム走査速
度によって決まる。最近、レジストの感度向上が著しく
、またTiW熱電界放射陰極を持つ高輝度電子銃等の実
用化によりビーム電流密度も大幅に改善され、高速ビー
ム走査が可能となってきている。一方、超微細な図形の
描画では、解像度に特に優れたレジストを用いるが、こ
のようなレジストの感度はまだ一般に低く、遅いビーム
走査が必要である。さらに最適な露光量を得るには、露
光量を10%程度以下のステップで可変できることが必
要である0以上のことから、ビーム偏向アドレス発生回
路に供給されるクロックは。
広い周期(例えばIons〜100μs)にわたり可変
でき、かつその可変ステップは10%程度以下(周期I
onsのときのステップはins以下)が必要である。
前述した特開昭61−273011号に記載のV/Fコ
ンバータによる方式では、ダイナミックレンジと。
応答性に問題がある。また、前述した特開昭62−38
918号に記載の方式では、カウンタのビット数を増す
ことにより、可変範囲な十分広くできるが。
可変ステップは基本クロックパスル単位であるので、ク
ロックの周期が短かい時は、クロックの周期に比べて十
分細かいピッチで周期を制御することは実装上困戴であ
る1例えば、周期1ons時。
10%ステップでこれを可変するには、少なくとも周期
1ns(IGHz)の基本クロックと、IG Hzのク
ロックで動作するカウンタ、およびクロック制御回路が
必要である。
本発明の目的は、比較的少ない量のハードウェアで、可
変範囲が広く、かつ短かい周期においても細かいピッチ
で周期を可変できる可変クロック発生器を具備すること
により、広い露光量可変範囲を持ち、かつ超高速でビー
ムを走査する場合においても、細かいピッチで露光量を
制御できる電子ビーム描画装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明では、クロックパル
スの発生周期を、その発生周期に比べて十分短かいピッ
チで可変できる可変クロック発生回路と、該可変クロッ
ク発生回路の出力を入力とし、あらかじめ設定された数
のクロックパルスが入力されるごとに1個のパルスを出
力するレート回路を設け、レート回路から出力されるパ
ルスをビームアドレス発生回路に与え、レート回路から
出力されるパルスに同期して、ビーム偏向アドレスを更
新するようにした。
〔作用〕
超高速でビーム走査する場合の露光量の細かい制御は、
主として可変クロック発生回路でクロック周期を変化さ
せることにより実現でき、またレート回路を、十分大き
なレートが設定できるように構成することにより、極め
て低速でビームを走査できるので、結局、極めて広い露
光量可変範囲を持ち、特に、超高速でビームを走査する
場合においても、細かいピッチで露光量を制御できる電
子ビーム露光装置が実現できる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図〜第4図を用いて説明
する。第1@は描画方式を示す図であり、描画図形が矩
形の場合の描画の様子を示している。
描画の手順は次のとおりである。ビームオフの状態でス
ポットビームを初期アドレス(xo、 yo)で指定さ
れる描画開始位置に移動したのちビームをオンとし、露
光量によって決まる時間間隔でビーム位置をショットピ
ッチ分だけ次々に移動して走査し、描画図形の内部を塗
りつぶすようにして所望の図形を描画する。描画図形内
部の塗りつぶしが終了すると、ビームをオフとする。塗
りつぶしはビームオンのまま行われるので、露光量に制
御はビーム位置を更新する速度、すなわち、ビームの走
査速度を制御することにより行われる。
第2図は本発明の一実施例の装置構成を示す図である。
第2図において、3は、ビームブランキング制御回路で
あり、ブランキングプレート9を制御して電子銃8が発
生する電子ビームのオン。
オフ制御を行う、4,5はビーム偏向アドレス発生回路
であり、供給されるクロックパルス104に同期してビ
ーム走査のためのビーム偏向アドレスを次々に発生する
。6.7はDA変換器であり、ビーム偏向アドレス11
6,117を電圧に変換してビーム偏向電極10に印加
し、ビームの位置を制御する。1は可変クロック発生回
路であり、クロック発生周期選択信号107によりクロ
ック発生周期に比べて十分細かいピッチでその周期を選
択でき、かつイネーブル信号103に同期してクロック
の発生を制御できる。2はレート回路であり、レート設
定信号108によって制御され、所定の数のクロックが
入力されるごとに出力104にクロックパルス1個を出
力する。
次に第2図に示す描画を例にとり、装置の動作を詳細に
説明する。最初、ビームを3によりオフとし、103に
よりクロックパルスの発生を禁止。
4.5の入力too、totにビームの初期アドレス(
xop y、o)をセットし、107,108で104
に出力されるクロックパルスの周期を指定する6次に1
03により可変クロック発生回路1をイネーブルにする
と、107,108で指定される周期ごとに104にク
ロックパルスが出力される。1個目のクロックパルスで
XQ、 3’Oを5゜6の出力116,117に出力し
、同時に3によりビームをオンにする。以降は4,6に
より、供給されるクロックパルス104に同期して1次
々にビームアドレスを更新し、図形の内部を塗りつぶす
ようにして描画を行う、ビームは、塗りつぶし終了後、
直ちにオフする。
第3図は、第1図における1、2の具体的回路構成の一
例を示す図、第4図はその動作を説明するタイミングチ
ャートを示す図である。第3図において、11は入力1
03,105がともにローレベルの時、出力118がハ
イレベルとなるNORゲート、30〜39電磁遅延線等
で構成され、発生するクロックの可変ピッチを決定する
遅延回路、12はクロック発生周期選択信号107によ
り遅延回路30〜39の出力を選択して105に出力す
るとともに11の入力とすることにより発振ループを形
成するマルチプレクサであり、これらは可変クロック発
生回路1を構成する。106はNOT回路、14はプリ
セット機能、クリア機能。
ゼロ検出機能を備えたカウンタ、15は入力106゜1
14がともにローレベルのとき出力104がハイレベル
となるNORゲートであり、これらはルート回路2を構
成する。
次に第4図を用いて第3図に示す回路の動作を説明する
。最初イネーブル信号はハイレベルとなっており、可変
クロック発生回路の動作は禁止されている。またカウン
タ14は、クリア信号115によりクリアされている。
このとき11の出力118はローレベルであるので可変
クロック発生回路の出力105もまたローレベルであり
、 NORゲート15の入力106はNOTゲート16
によりハイレベルとなるのでレート回路の出力104も
またローレベルである。ここで103をローレベルにし
て可変クロック発生回路を起動すると、時間Tdだけ遅
れて12の出力105はハイレベルとなる。105がハ
イレベルとなると、11の出力118はローレベルとな
るので、時間Tdだけ遅れて105はローレベルとなり
、以降これを繰り返して発振する。時間Tdは、11.
12の動作遅延時間と、107で選択されるマルチプレ
クサの入力に接続される遅延回路での遅延時間の和であ
り、105に出力されるクロックの周期Tiは、Tdの
2倍に等しい。したがって、遅延回路30〜39での遅
延時間の差をTdに比べて十分小さく設定すれば、クロ
ックの発生周期Tjに比べて十分小さいピッチで周期を
可変できる。
次にレート回路の動作を説明する。カウンタ14は11
5により最初クリアされているので。
ゼロが検出されて114はローレベルとなっており、最
初のクロックが104に出力されるとともに、その立ち
上がり(後縁)で108に設定されているレートの値が
カウンタ14にロードされる。
ゼロ以外の値がロードされると114はハイレベルとな
るので、104へのグロックパルスの出力は禁止される
。カウンタ14の内容は、105からのクロックにより
カウントダウンされ、その内容がゼロになると再び11
4がローレベルとなり、次のクロックを104に出力し
、108に設定された値をカウンタにロードし、以降こ
の動作を繰り返す、すなわち、レート回路は、108に
設定された数n+1のパルスが入力されるごとに1個の
パルスを出力する。nを十分大きくとれば、104に出
力されるクロックパルスの周期を十分長くすることがで
きる。
次に、クロックの発生周期を極めて細かいピッチで可変
する必要がある場合、第3図に示す回路では、必要な遅
延回路の数が多くなるという問題がある。そこで第5図
に示すように、可変クロック発生回路に含まれる遅延回
路を2段構成とすることにより遅延回路の数を少なくす
ることができる。第5図において、40は電磁遅延線等
で構成される遅延回路で、遅延回路30〜34と組み合
わせることにより、同一ピッチの場合、より少ない数の
遅延回路で実現できる0例えば、第3図に示す可変クロ
ック発生回路では、最小クロック周期Ions、可変ピ
ッチins、可変範囲Ion8〜19nsの場合、必要
な遅延回路の数は10個であるが、第5図に示す可変ク
ロック発生回路では、遅延回路30〜34の遅延時間の
差を0.5ns、遅延回路40の遅延時間を2.5ns
とすることにより6個の遅延回路で同等の機能が実現で
きる。ただし、可変ピッチがリニアでない場合は第3図
に示す回路によらねばならない。
またレート回路は、第5図に示すように、減算器19.
ラッチ18.マルチプレクサ17.ゼロ検出器20を用
いても第3@に示すカウンタ14と同等の機能が実現で
きる。第5図において、最初クリア信号115によりラ
ッチ18をクリアしておくと、ゼロ検出器20はゼロを
検出してその出力112はローレベルになり、マルチプ
レクサ17でレートの値108を選択してラッチ18の
入力とするにの状態で可変クロック発生回路よリフロッ
クが入力されると、最初のクロックが104に出力され
るとともに、その立ち上がり(後縁)でレートの値がラ
ッチ18にラッチされる。ゼロ以外の値が18にラッチ
されると20の出力112はハイレベルとなり、104
へのクロックパルスの出力は禁止され、マルチプレクサ
17では、減算器19の出力113がラッチへの入力と
して選ばれるので、105からのクロックにより次々に
減算される0次にその内容がゼロとなると再び114は
ローレベルとなり、次のクロックを104に出力すると
ともに、108に設定された値をラッチにセットする。
以降この動作を繰り返すことにより、108に設定され
た数n+1のパルスが入力されるごとに1個のパルスを
出力する。
22は必要とする露光時間に対応する可変クロック発生
回路におけるクロック発生周期選択情報と、レート回路
におけるレートの値を格納したROMである。クロック
パルスの周期が長い場合、必ずしも可変クロック発生回
路での可変ピッチ単位でクロックパルスの周期を可変と
することは必要でない、このような場合、必要な露光時
間をコード化しておき、それぞわのコードに対応する露
光時間を得るためのクロック発生周期選択信号と、レー
トの値をあらかじめROMに格納しておき、外部からは
露光時間のコード102を指定するようにすれば外部と
のインターフェースの信号を減らすことができる。
以上に説明したように、本発明によれば、可変クロック
発生回路1でクロックの発生周期を発生周期に比べて十
分細かいピッチで可変でき、レート回路により十分長い
周期でクロックパルスを発生できるので、このクロック
パルスを用いてビーム走査速度を制御することにより極
めて広い露光量可変範囲を持ち、特に超高速でビームを
走査する場合においても細かいピッチで露光量を制御で
きる電子ビーム描画装置を実現できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、極めて広い露光量可変範囲を持つ電子
ビーム描画装置を実現できるので、広範囲な露光量に対
応でき、また超高速でビームを走査する場合にも、細か
いピッチで露光量を制御できる電子ビーム描画装置を実
現できるので、最適露光量で超高速描画が可能となり、
描画品質が改善されるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の装置1t4i+!成を示す
図、第2図は描画方式の一例を示す図、第3図は第1図
の1,2の具体的回路構成の一例を示す図、第4図は第
3図の回路の動作を説明するためのタイミングチャート
を示す図、第5図は第1図の1゜2の他の具体的回路構
成の例を示す図である。 1・・・可変クロック発生回路、2・・・レート回路、
3・・・ビームブランキング制御回路、4,5・・・ビ
ーム偏向アドレス発生回路、6,7・・・DA変換器、
8・・・電子銃、9・・・ビームブランキングプレート
、10・・・ビーム偏向電極、、11.15・・・NO
Rゲート、12,17,21・・・マルチプレクサ、1
4・・・カウンタ、16・・・NOT回路、18・・・
ラッチ。 19・・・減算器、20・・・ゼロ検出回路、22・・
・ROM。 30〜39.40・・・遅延回路、102・・・露光時
間コード信号、103・・・可変クロック発生回路イネ
ーブル信号、104・・・クロックパルス出力、107
・・・クロック発生周期選択信号、108・・・レート
設定信号、115・・・リセット信号。 ゛・、・、ン・ q≧。 Q−\ 寸 N

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、電子ビームを走査して描画を行い、その露光量は、
    ビーム走査速度を変えることにより制御される電子ビー
    ム描画装置において、可変クロック発生回路と、該可変
    クロック発生回路の出力を入力とし、あらかじめ設定さ
    れた数のクロックパルスが入力されるごとに1個のパル
    スを出力するレート回路と、レート回路から出力される
    パルスに同期して電子ビームを走査するためのビーム偏
    向アドレスを発生する回路とを有し、可変クロック発生
    回路のクロックパルス発生周期を選択し、かつレート回
    路におけるレートを設定することによりビーム走査速度
    を変えて露光量を制御することを特徴とする電子ビーム
    描画装置。
JP62263775A 1987-10-21 1987-10-21 電子ビーム描画装置 Pending JPH01107533A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021158234A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 日本電子株式会社 荷電粒子線描画装置および描画方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS62238623A (ja) * 1986-04-09 1987-10-19 Jeol Ltd 集束イオンビ−ム描画装置
JPS63148630A (ja) * 1986-12-12 1988-06-21 Toshiba Corp 電子ビ−ム露光装置の描画方法

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