JPH01102076A - ベンゾ縮合環化合物及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なベンゾ縮合環化合物、その製法及び除草
剤としての利用Ｋｒ！Ａする。

本願出顯日前公知の目−四ツΔ特許公開第１７０１９１
号には、ある種のペンジオキサジン誘導体が除草活性を
有する旨、記載されている。

この度、本発明者等は、下記式（Ｉ）で表わされる新規
なベンゾ縮合環化合物を見い出した。

式： 式中、ｑは基； を示し、（ことで、Ｒはメチル又はコケのｇｌでテトラ
メチレンを示し。

Ｒ２とＲ３は一緒になって、テトラメチレン又は基； −ＣＭ２ＣＨＩＣＨＣＨ２−を示し、 ＹはＯ又はＳを示し。

Ｉ Ｗは−ＣＨ又は−Ｎ−を示す） ２は０又はＳを示し、 Ｘは水素原子又はハロダン原子を示し。

Ｒは置換基を有してもよい！員のへテロ環式基を示し、
そして ｎはＯ又はｌを示す。

本発明式（１）の化合物は例えば下記の方法によシ合成
できる。

製法ａ）： 式中、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされる化
合物と、 式： 式中、Ｒは前記と同じ、 で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする、 式： 式中、Ｒ’、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わさ
れるベンゾ縮合環化合物の製造方法。

製法ｂ）： 式： 式中、Ｒ’、Ｚ、Ｘ及びｎは前記と同じ。

で表わされる化合物と、 式： ％式％（） 式中、Ｒは前記と同じ、そして Ｍはハロダン原子を示す、 で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする、
前記式（■ａ）のベンゾ縮合環化合物の製造方法。

製法ｅ）： 〇 二緒になって、テトラメチレンを示し、Ｗが式： 式中、Ｙ、Ｗ、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わ
される化合物と触媒量のナトリウムエトキシドとを反応
させることを特徴とする特許 式中、Ｙ、Ｗ、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わ
されるベンゾ縮合環化合物の製造方法。

製法ｄ）： が−緒になって、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−を示し、
Ｗが−Ｎ−を示、す場合、 式： 式中、Ｙ、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされ
る化合物と、触媒量のナトリウムエトキシドとを反応さ
せることを特徴とする、式： 式中、Ｙ、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされ
るベンゾ縮合環化合物の製造方法。

製法・）： 式： 式中、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、゛　で表わされ
る化合物と、塩素化剤とを反応させることを特徴とする
、 式： 式中、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされるベ
ンゾ縮合環化合物の製造方法。

本発明式（Ｉ）のベンゾ縮合環化合物は強力な除草作用
を示す。

本発明によれば、式（１）のベンゾ縮合環化合物は意外
にも、驚くべきことには１例えば前記ヨーロツ／ヤ特許
公開第１７０．／り１号記載の化合物に比較し、実質的
に極めて、卓越した除草作用を現わす。

そして、特には本発明化合物は、畑作栽培に於ける雑草
に対し、発芽前土壌処理によって、的確に、且つ効果的
に雑草を防除することができる。

本発明式（１）の化合物に於いて、好ましくは、ｑは基
； （ここでＲ２とＢＳは一緒になって、テトラメチレン又
は基； −ＣＨ２Ｃ１’１ＩＣＨＣＨ２−を示し、Ｙは０又はＳ
を示し。

Ｗは一〇Ｈ又は−Ｎ−を示す） ２はＯ又はＣを示し。

Ｘは水素原子又はフルオルを示し、 Ｒは置換基を有してもよい少なくとも／ケの窒素原子を
含む！負のへテロ環式基を示し、モしてｎはＯ又はｌを
示す。

更には、式（１）に於いて、特に好ましくは、Ｑは基； （ここでＲ２と８３は一緒になって、テトラメチレン又
は基； −ＣＨ２ＣＨ：　ＣＨＣＨ２−を示し、ＹはＯ又はＳを
示し、 Ｗは−ＣＨ又は−Ｎ−を示す） ２はＯ又はＳを示し、 Ｘは水素原子又はフルオルを示し、 Ｒは置換基を有してもよい少なくとも７ケの窒素原子と
、駿素原子又はイオク原子のいずれかの少なくともｌケ
とを含むｊ員のへテロ環式基を示し、そして ｎは０又は／を示す。

そして、式（１）に於いて、Ｒの特に好ましい具体例と
しては、テトラヒドロフラン、フラン、チオフェン、♂
ラゾール、イミダゾール、　／、２．ＩＩ−トリアゾー
ル、テトラゾール、インオキサゾール、オキサゾール、
／、２．μｍオキサジアゾール、へコ、Ｊ″−オキサジ
アゾール、ｉ、３．４ｔ−オキサジアゾール、イソチア
ゾール、チアゾール、へ２，３−チアジアゾール、／−
，４ｔ−チアジアゾール、ｌ、２゜！−チアジアゾール
、１，３．≠−チアジアゾール等に基づく６基を例示で
き、また、それらは環内にアミノ、メチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、ホルミルアミノ、アセチル
アミノ、フルオル、クロル、ツロモ、メトキシ、エトキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、メチル、エチル、イソグ
ロビル、トリクロロメチル、トリフルオロ及びメトキシ
メチルよシ選ばれる置換基を有してもよい。

そして本発明式（１）の化合物の具体例としては、特に
は下記の化合物を例示するととができる。

６−フルオロ−３−（インオキサゾール−３−イルメチ
ル）−ｊ−（＋’、！、乙、７−チトラヒドロー２Ｈ−
イソインレールーム３−ジオン−２−イル）−一（３Ｈ
）−ベンゾオキサシロン、 ｔ−フルオロ−３−（ｊ−メチル−へ２．４’−オキサ
ジアゾール−３−イルメチル）　−ｊ　−（！、Ｊ”。

乙、７−テトラヒドロ−２Ｈ−イソインドール−／、３
−ジオンーコーイル）−２Ｃ３Ｔ１）−ベンゾオキサシ
ロン、 乙−フルオロ−３−（インオキサゾール−３−イルメチ
ル）　−Ｊ−−（≠、！、乙、７−テト２ヒドロー２Ｈ
−イソインドール−へ３−ジオンーλ−イル）−２（３
Ｈ）−ベンゾチアゾロン、 乙−フルオロ−３−（Ｊ−−メチルイソオキサゾール−
３−イルメチル’）　−ｊ　−（４ＡＪ、ｌ、、７−テ
トラヒドロ−２Ｈ−イソインドール−へ３−ジオンーコ
ーイル）−２Ｃ３Ｈ）−ペン／チアゾロン、ｔ−フルオ
ロ−３−（ｊ−メチル−へ２．≠−オキサジアゾールー
３−イルメチ＃）−１−（≠、ｊ。

Ａ、７−テトラヒドロ−２Ｈ−イソインドール−／、３
−ジオン−λ−イル）−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾロン
。

６−フルオロ−３−（ｊ−メチル−へλ、Ｉ／Ｌ−オキ
サジアゾール−３−イルメチル）−６−（へコーチトラ
メチレンーへ−１弘−トリアシリジン−３、Ｊ−−ジオ
ン−≠−イル）−２Ｃ３Ｈ＞−ベンゾチアゾロン、 Ａ−ｙルオロー３−（インオキサゾール−３−イルメチ
ル）−Ｊ−ＣＩ、２−テトラメチレ／−／、２，４ｔ　
−）リアシリジン−３，！−ジオンー≠−イル）−２（
３Ｈ）−ベンゾチアゾロン、６−フルオロ−３−（！−
メチルー／、、２．≠−オキサジアゾール−３−イルメ
チル）−Ｊ−−（／、、２−テトラメチレン−へコ、≠
−トリアシリジンー３−オン−！−チオンー≠−イル）
−２（ｊ）Ｉ）−ベンゾチアゾロン。

Ａ−ｙルオロー３−（イソオキサゾール−３−イルメチ
ル＞−ｚ二＜ｌ、ｒ−テトラメチレン−／、！、４Ａ−
）リアシリジン−３−オン−オーチオン−μｍイル）−
，２（ｊＨ）−ベンゾチアゾロン、≠−（イソオキサゾ
ール−３−イルメチル）−４−（ｊ、≠−ジメチルーコ
、！−ジヒド■ビロールー−、ｊ−ジオン−ｌ−イル）
−ＪＨ−／、ｌＡ−ベンゾオキサジン−ｊ（４’Ｈ）−
オン、 １、−Ｃ３，ぴ−ジメチル−２，！−ジヒドロピロール
ーコ、！−ジオンーｌ−イル）−弘−（ｊ−メチル−／
、コ＃弘−オキサジアゾールー３−イルメチル）−，２
Ｈ−へ≠−ベンゾオキサジン−Ｊ　（４ＬＨ）−オン、 ≠−（インオキサゾール−３−イルメチル）−６−（≠
、ｊ、ｔ、７−チトラヒドローλＨ−イソインドール−
へ３−ジオンーコーイル）−２Ｈ−へ弘−ベンゾオキサ
ジン−３（ｊＨ）−、＋ｉ’ン、４−　（Ｊ−−メチル
−／、２μｍオキサジアゾール−３−イルメチル）　”
　ｔ　−（４’ｔｊ’ｔＧｍ７−チトラヒドロー２Ｈ−
イソインドール−１，３−ジオン−λ−イル）−２Ｈ−
／、弘−ペンゾオキサジン−３（弘Ｈ）−オン。

前記製法ａ）Ｋ於いて、原料として、例えば、！−アミ
ノー６−フルオロー３−（！−メチルーへ２．４ｔ−オ
キサゾール−３−イルメチル）−２（ｊＨ）−ベンゾチ
アゾロンと、無水３−４ｔ３−４ｔ　−テトラヒドロ７
タル酸とを用いると、下記の反応式で表わされる。

前記製法ｂ）Ｋ於いて、原料として例えば、７−フルオ
ロ−ｊ　−（４！、に、ｔ、７−チトラヒドローλＨ−
イソインドール−／、ｊ−ジオン−２−イル）−２Ｈ−
／、≠−ベンゾオキサジンー３（弘Ｈ）−オンと、３−
（りｃ１四メチル）イソオキサゾールとを用いると、下
記の反応式で表わされる。

前記製法・）Ｋ於いて、原料として、例えばよ−（２−
エトキシカルがニルーテトツヒドロ♂ラジ′　　ノー／
−４ルカルーニルアζ）＞−ｔ−フルオロ−ｊ−（Ｊ”
−メチル−へ２，４ｃｍオキサゾールー３−イルメチル
）−２（ｊＨ）−ベンゾチアゾ四ンと。

ナトリウムエトキシドとを用いると、下記の反応式で表
わされる。

製法ｄ）Ｋ於いて、原料として、例えば、！−（２−エ
トキシカルがニルージヒドロ♂ラシンー／−４ルカルが
エルアミノ）−ｊ−：ｙルオロー３−（イソオキサゾー
ル−３−イルメチル）−一（３Ｍ）−ベンゾチアゾ四ン
とナトリウムエトキシドとを用いると、下記の反応式で
表わされる。

前記製法・）に於いて、原料として１例えば、６−フル
オ四−ｊ　−（Ｊ、３ｍ、４ｔＪ、ｔ、７−へキサヒド
ロ−，２Ｈ−インダゾール−３−オン−２−イル）−３
−（イソキサゾール−３−イルメチル）−２（ｊＨ）−
ベンゾチアゾロンと、オキシ塩化リンとを用いると、下
記の反応式で表わされる。

（以下余白） 上記製法ａ）に於いて、原料である式■の化合物は前記
Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎの定義に基づいたものを意味し、好ま
しくは、前記好ましい定義と同義を示す。

式■の化合物は、新規化合物でアシ、一般には製法ｆ）
： 式： 式中、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされる化
合物を還元するか、又は製法ｇ）： 式： 式中、Ｚ、Ｘ及びｎは前記と同じ。

で表わされる化合物と、前記式Ｍの化合物とを反応させ
ることによシ、得られる。

上記式（ＩＫ）の化合物は、新規化合物であシ、例えば
、 製法ｈ）： 式： 式中、Ｚ、Ｘ及びｎは前記と同じ、 で表わされる化合物と、前記式（７）の化合物とを反応
させることＫよシ、得られ、また 式（ＩＫ）に於いて％Ｘがハロダン原子を示す場合の該
式（■）の化合物は、 製法ｌ）： 式： 式中、Ｚ、Ｒ及びｎは前記と同じ、モしてｘｌはハロダ
ン原子を示す、 で表わされる化合物をエト−化することによシ、容易に
得られる。

上記式個）の化合物は新規化合物であり、例え製法ｊ）
： 式： 式中、Ｚ、Ｘ及びｎは前記と同じ、 で表わされる化合物と、前記式Ｍの化合物とを反応させ
ることによシ、得られる。

また、式（Ｘ［）中、２が０を示し、ｎがｌを示し、Ｘ
ｌがフルオルを示す場合、該式（Ｘｌｌ）の化合物は、
Ｊ　＊　Ｃｈ＠ｎ　＊　Ｓｅｅ　＠　（ジャーナル　オ
ン　ケミカルソサエティ）、ｌり２！年、３０≠６頁並
びに５ｙｎｔｈ＠ｓｉｓ　（Ｖ　７−４！　’／ス）　
、　／　ＰＩ　２年、５ｉ’ＦＡ頁公知の７−二トロー
２Ｈ−／、≠−ベンゾオキサジンー３（≠Ｈ）−オンを
前記式（７）の化合物でアルキル化し、次いで、常法に
よシ、還元して７−アミノ−，２Ｈ−へ弘一ペン！オキ
サジン−３（ダＨ）−オンのμ位置換誘導体を得、そし
てＯｒｇａｎｉａＲ＠ａｅｔｉｒｎｍ　（オーガニック
　リアクション）Ｖ。

ｌり３頁に総説されている５ｅｈｉ・ｍａｎｎ反応に、
該誘導体をかけることＫよシ、得られる。

上記式（ＸＩ）の化合物は、Ｃｈ＠ｎ　−Ａｂ　ｍ　ｔ
　ａ　（ケミカル　アプストラクツ）、３３巻、！、２
≠乙、ヨーロッパ特許公開第１７０／り１号、Ｆａｒｍ
ａｅｏ　Ｅｄ　＠　Ｓｅｉ　ｍ（ファルマコ　エジチオ
ーネ　サイエンテイフイカ）、３２巻、５号、３４’ｒ
頁等に記載される公知のものである。例えば、式（Ｘｎ
Ｉ）中、２がＳを示し、ｎがＯを示す場合、該式（Ｘｌ
ｌｌ）の化合物は、公知ｏａ−ｐロロー６−ハロｒノペ
ンソチアゾールをエタノール中で濃塩酸を用いて、加水
分解することによシー容易に得られる。

上記製法ｈ）Ｋ於ける式（ＸＩ）の化合物は、例えば特
開昭≠２−ｌコ３ｊコタ号、特開昭乙コー／３２１７２
号、ヨーロッパ特許公開第ｉ’ｙｏｉり１号、東独特許
第６１１１３１号等に記載される公知のものである。

上記製法ｇ）に於ける式（Ｘ）の化合物は、一部公知化
合物を包含する。（Ｊ＊Ａｍ＊Ｃｈ＠ｍ−８ｏｅ−（ジ
ャーナル　オン　アメリカン　ケミカル　ソサエティ）
、♂Ｏ巻、／ｌ、６２頁、！Ｆ−ロッｄ特許公開第ｉ’
ｙｏｉり／号ｅ　Ｃｈ＠ｍ　＊　Ａｂ　ｓ　ｔ　＊　（
ケミカル　アッストラクッ）、！１巻、／７り２ｔｔ参
照〕式（Ｘ）に於いて、２がＳを示し、ｎがＯを示す場
合の該式（Ｘ）の化合物は新規化合物であ）、−般には
、 製法ｋ）： 式： 式中、Ｘは前記と同じ、 で表わされる化合物を還元することＫよシ、得られる。

上記式（Ｍつの化合物は前記式０ｆｆ）　Ｋ包含される
公知のものである。

上記製法ｆ）を実施するに際しては、塩化第一スズと塩
酸を用いて、還元することができる。

上記製法ｇ）を実施するに際しては、溶媒として、水、
アルコール類、ケトン類、ニトリル類、テトラヒドロ７
ラン、ジオキサン、ジメチルホルムアンド、ジメチルス
ルホキシド等を例示できる。

また製法ｇ）は塩基の存在下で反応させることができ、
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭駿カリ
ウム尋を例示できる。

製法ｇ）は約０−１６０℃、好ましくは約３０〜約ＩＯ
θ℃の範囲で実施できる。

上記製法ｈ）を実施するに際しては、溶媒として上記製
法ｇ）Ｋ例示したと同様の有機溶媒をあげることができ
、また同様に、塩基の存在下で反応させることもできる
。

製法ｈ）は約２０〜約／ｒＯ℃、好ましくは約３０〜約
１００℃の範囲で実施できる。

上記製法量）を実施するに際しては、常法のニド四化反
応によ）行なうことができる。

上記製法ｊ）を実施するに際しては、上記製法ｈ）と同
様にして１行なうことができ、そして約θ〜約１３０℃
、好ましくは、約３０〜約１００℃の範囲で実施できる
。

製法ａ）に於ける式（Ｉｆｆ）の化合物は公知化合物で
あシ、具体的には、 無水２，３−ジメチルマレイン酸、無水３．弘、！、乙
−テトラヒドロフタル酸を例示することができる。

上記製法ｂ）に於いて、原料である式（ＩＶ）の化合物
は、前記Ｒ、Ｚ、Ｘ及びｎの定義に基づいたものを意味
し、好ましくは前記好ましい定！−ａｒｉｆＪ鵬を示す
。

式（ＩＶ）の化合物は、ヨーロッパ特許公開筒１７０／
り７号並びに特開昭６２−／！；、！；２７乙号に記載
の公知化合物を包含し、一般には。

製法ｔ）： 前記式（Ｘ）の化合物と前記式（Ｉ［［）の化合物とを
反応させることによシ、得られる。

上記製法ｔ）は、Ａｇｒ　ａ　Ｂｌｏｌ　ａ　Ｃｈ＠ｗ
　＊　（アグリカルチエアル　バイオロジカル　ケきス
トリイ）。

≠Ｏ巻、μ号、７弘ｊ頁記載に従って、行なうことがで
きる。

製法ｂ）に於ける原料の式（ロ）の化合物は、前記Ｒ及
びＭの定義に基づいたものを意味し、好ましくは前記好
ましｂ定義と同義を示す。

式（至）の化合物はアルキル化剤として、有機化学の分
野でよく知られた化合物である。

アルキル化に際して、脱離基として作用するり四ル又は
ｆロムハ、ヨード、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼ
ンスルホニルオキシ１ｔｓ及Ｕ　ｐ　−）ルエｙスルホ
ニルオキシ基等に置換できる０例えば ３−（クロロメチル）イソオキサゾールは、３−（プロ
そメチル）インオキサゾール更には３−（Ｍ−トメチル
）インオキサゾール、３−（メタンスルホニルオキシメ
チル）インオキサゾール、３−（ベンゼンスルホニルオ
キシメチル）イソオ＋ｔｙ−ル及びｊ−（ｐ−）ルエン
スルホニルオキシメチル）インオキサゾールと等価であ
る。またハロメチルヘテロ環式化合物の鉱酸との塩１例
えば塩酸塩等も同様に用いることができる。

式Ｍの化合物の具体例としては例えば、３−（クロロメ
チル）インオキサゾール、３−クロ四メチルー！−メチ
ルイノオキサゾール、 ３−クロロメチル−ｌ−メチル−へコ、弘−トリアゾー
ル。

３−クロロメチル−！−メチルーへ、２．弘−オキサジ
アゾール。

よ−りＩ：Ｉｒ：Ｉメチル−３−メチル−／、−、弘−
オキサジアゾール。

≠−（クロロメチル）チアゾール。

≠−クロロメチルーλ−メチルチアゾール。

３−クロロメチル−弘−メチル−／、２．Ｊ−オキサジ
アゾール。

３−プロそメチル−／、コ、！−チアジアゾール等を例
示することができる。

上記製法ｃ）Ｋ於いて、原料である式（Ｖｌ）の化合物
は、前記Ｙ、Ｗ、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎの定義に基づいたも
のを意味し、好ましくは前記好ましい定義と同義を示す
。

式（Ｖｌ）の化合物は、新規化合物であう、一般には、 製法ｍ）： 式： 式中、Ｙ、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされ
る化合物と、エチルビベコリネート又は、ｌ−エトキシ
カルがニルへキサヒドロピリダジンとを反応させるとと
Ｋよ）、得られる。

上記式（Ｗ）の化合物は新規化合物であシ、一般には、 製法ｎ）： 前記式■の化合物と、ホスｒン、トリクロロメチルク四
党ホルメート又はチオホスダンとを反応させることによ
シ、得られる。

上記製法ｎ）を実施するに際しては、Ｏｒｇ　＊５ｙｎ
ｔｈ＠ｓ１ｍ　（オーＦ＝ツク　シンセシス）　、　Ｃ
ａ１ｌ。

（コレクティブ）、２巻、≠ｊ３頁、又はＪ　、　Ａｍ
　。

Ｃｈ＠ｗ　＠　Ｂｏａ　＊　（ジャーナル　オプ　アー
リヵン　ケミカル　ソサエティ）、７２巻、／♂♂？頁
に記載の方法に従って、弐〇〇Ｖ）のインシアナト体を
合成することができ、またＪ　＠　Ｏｒｇ　ｍ　Ｃｈ・
ｍ、（ジャーナル　オシ　オーガニック　ケミストリイ
）。

／り５３年、１０！Ｐ２頁、又はＪ　＠　Ｃｈｅｗ　ｅ
　Ｓｏａ　ｅ　（ジャーナル　オシ　ケミカル　ソサエ
ティ）　、　１５’Ｊ７年、／／Ｉ＆頁に記載の方法に
従って１式（藷）のインチオシアナト体を合成すること
ができる。

製法ｎ）Ｋ於けるエチルビイコリネートは市販の公知の
ものであり、またｌ−エトキシカルがニルへキサヒドロ
ピリダジンはＢｕｌ　ｌ　ｅ　ＳｏＣｍ　Ｃｈｉｎ　＊
Ｆｒａｎｅ・（プレヒン　ンシエテ　キｔカ　フランス
）。

ｌりよ７年、７０≠頁並びに米国特許第ｄ≠ｍ１ｌ−号
記載の方法によシ、合成することができる・上記製法ｄ
）に於いて、原料である式（■）の化合物は前記Ｙ、Ｚ
、Ｘ、Ｒ及び難の定義に基づいたものを意味し、好まし
くは前記好ましい定義と同義を示す。

式（■）の化合物は、新規化合物であシ、一般には、 製法Ｏ）： 前記式（ＸＶ）の化合物と、／−エトキシカルがエル−
へλ、３，６−チトラヒド四ピリダジンとを反応させる
ことＫよシ、得られる。

上記ｌ−エトキシカルがニルｍへ２．ｊ、４−テトラと
ドロピリダジンは前掲のＢｔＩｌｌ　＊　８ｏｅ　＊　
Ｃｈｉｍ　ｅＦｒａｍ＠ｓ　、　／り！７年、７０１７
頁並びに米国特許第Ｊｆ≠１ｚｒｔｔ、号記載の方法に
よシ、合成できる。

前記製法ｍ）並びに上記製法０）を実施するに当りては
、前掲のムｇｒ　＊Ｂ１ｏ１　ｓｃｈ＠ｍｅ　、　１１
．０巻、４！号。

７μ！頁記載の方法に従って行なうことができる。

上記製法・）に於いて、原料である式備）の化合物は、
前記Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎの定義に基づいたものを意味し、
好ましくは、前記好ましい定義と同義を示す。

式（４）の化合物は新規化合物であシ、一般には、製法
１１）： 式： 式中、Ｚ、Ｘ、Ｒ及びｎは前記と同じ、で表わされる化
合物と２−エトキシカル−ニルシクロヘキサノンとを反
応させることＫよシ、得られる。

上記式（ＸＶ）の化合物は、新規化合物でｓｂ、製法ｑ
）： 前記式■の化合物を塩酸中でジアゾ化し、次いで、該生
成物を還元することによシ、得られる。

コーエトキシカルがニルシクロヘキサノンは、市販化合
物である。

上記製法ｐ）の実施に際しては、適当な希釈剤として、
アルコール類例えば、エタノール、インゾロパノール、
メチルセロソルツ等、ジオ中サン。

トルエン、キシレン等をあげることができる。

また製法ｐ）は塩基の存在下で行なうことができ。

斯る塩基の例としては、例えばナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、トリエチルアミン、♂ベリジン
等をあげることができる。

製法ｐ）は約、２０℃〜約／！θ℃、好ましくは約り０
℃〜約ｌＯＯ℃の間で実施できる。　　　　゛上記製法
ｑ）はＭ＠ｔｈｏｄ＠ｎ　ｄ＠ｙ　Ｏｒｇａｎｉｓｅｈ
＠ｎＣｈ＠ａｔｓ　（メソテン　デル　オルガニツシエ
ン　へミイ）２巻、１７７頁に記載の方法に従って、行
なうことができる。

製法・）に於ける塩素化剤としては１例えば、ホスダン
、オキシ塩化リン、塩化チオニル、オキゾリルクロライ
ド、トリクロロメチルクロロホルメート等を例示できる
。

製法ａ）の実施に際しては、適当な希釈剤としてすべて
の不活性な溶媒をあげることができる。

斯る溶媒の例としては、好ましくは有機酸類。

例えば酢酸、ｆｖｓ♂オン酸等をあげることができる。

製法ａ）を実施するに肖っては、前掲のＡｇｒ＊Ｂｌｏ
ｌ　＠　Ｃｈ＠ｗ　＃　＠　４’　０巻、７≠よ頁記載
の方法に従つて、夫々の原料を例えば酢酸中で加熱還流
することによシ、行なうことができる。

製法ｂ）の実施に際しては、適当な希釈剤として。

例えば、水、ニトリル類例えば、アセトニトリル、アル
コール類例えば、エタノール、酸アミド類例えば、ジメ
チルホルムアミド、スルホキシド類例えば、ジメチルス
ルホキシド、ケトン類例えばアセトン、エーテ／ｌ／類
例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリ
コールジメチルエーテル等をあげることができる。

また製法ｂ）は塩基の存在下で行なうことができ。

斯る塩基の例としては、例えば、炭酸ナトリウム、水素
化ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムｔ＠ｒｔ−ブトキシド等をあげることが
できる。

製法ｂ）は実質的に広い温度範囲内において実施するこ
とができる。たとえば約り０℃〜約ｌ！０℃、好ましく
は、約り０℃〜約１００℃の間で実施できる。

また、反応は常圧の下で行なうことが望ましいが、加圧
または減圧下で操作することもできる。

製法ｂ）を実施するに当っては、例えば式（Ｒ’）の化
合物１モルに対し、式（至）の化合物を等モル量乃至約
／、２倍モル程度用い、塩基の存在下、不活性溶媒中で
、反応させることＫよって、目的の式（１）の化合物を
得ることができる。

製法Ｃ）及び同ｄ）の実施に際しては、適当な希釈剤と
して、アルコール類例えば、エタノール。

イソプロー膏ノール、ｔ・ｒｔ−ツタノール、メチルセ
ｐノ／Ｉ／ｆ等、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホシト、スルホラン等をあげるこ
とができる。

製法＠）及び同ｄ）は例えば約り０℃〜約／３０℃、好
ましくは、約り０℃〜約り０℃の間で実施できる。

製法＠）及び同ｄ）を実施するに当っては、前掲のＡｇ
ｒ　＊　Ｃｈ＠ｗ　＋＋　Ｂｉｏｌ　＠　ｇ　ｕ　０巻
、’ｌ−３，７’ｌｊ頁記載の方法に従って、行なうこ
とができ、一般には式（Ｍ）及び弐個）の化合物７当量
に対し、ナトリウムエトキシドの０．０　／〜０．！当
量を、前記例示の溶媒中で、前記反応温度条件下で、Ｏ
Ｊ〜１６時間反応させることによシ、行なうことができ
る。

製法Ｃ）及び同ｄ）に於いて、ナトリウムエトキシドの
代わシに、塩基として、トリエチルアミン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド等を用
いるとともできる。

また目的の式（！ｂ）及び式（Ｉｅ）の化合物を製造す
るに際しては、夫々前段階の製法である製法ｍ）及び製
法０）で得られる式（Ｍ）及び式（Ｍｌ）の化合物を分
離せずに連続して、製法ｍ）と製法Ｃ）を、また製法０
）と製法ｄ）を反応させることができる。

製法・）の実施に際しては、適当な希釈剤として、トル
エン、キシレン、ベンゼン等ｔ−ｓケることができる。

製法・）は例えば、約り０℃〜約１ｊＯ℃、好ましくは
約！θ℃〜約／３０℃の間で実施できる。

製法＠）を実施するに当っては、特開昭４２−３０７６
　／号記載の方法に従って、行なうことができ、製法ｅ
）の前段階の製法である製法ｐ）から連続して１行なう
こともできる。

本発明の活性化合物は、除草剤として使用することがで
きる。

雑草とは広義には、望ましくない場所に生育するすべて
の植物を意味する。

本発明化合物は、使用濃度によって非選択性または選択
性除草剤として作用する。

本発明の活性化合物は、例えば下記の植物との間で使用
できる。

双子葉雑草の属：カラン（Ｓｉｎａｐｌｇ　）　、マメ
グンパイナズナ（Ｌ＠ｐｉｄ１ｍｍ　）　、ヤエムグラ
・キヌタソク（Ｇａｌｉｕｍ　）、ハコベ（Ｓｔ＊１１
ａｒ１ｍ　）　、アカザ・アリタソウ（Ｃｈ＠ｎｏｐｏ
ｄｌｕｍ　）　、イラクサ（Ｕｒｔｉａｍ）。

ハンｆンンウーノがロギク・キオン（８＠ｎ５ｃｌｏ　
）、ヒニ・ハグイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｔ＋ｓ　）　
ｓスベリヒエ−マツパがタン（Ｐｏｒｔｕｌａｅａ　）
　、オナモミ（ｘａｎｔｈｔｕｍ）、アサガオ（Ｉｐｏ
ｍｏ＠ａ　）　、ミチヤナギ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、
ブタフサ（Ａｍｂｒｏｓｌｍ　）　、ノアザミ・７ジア
ザミ（Ｃｌｒｓｌｔｌｍ　）、ノｒシ（５ｏｎａｈｔｓ
ｓ　）、イヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐｍ　）、オドリコソ
ウ（Ｌａｍｉｕｍ　）、クヮガタソウ・イヌノアグリ（
Ｖ＠ｒｏｎｉｅａ　）　、チョウセンアサガオ（Ｄａｔ
ｕｒａ　）　ｓスミレａ　ｉ４ンジー（Ｖｉｏｌｍ）、
チシマオドロ（Ｇａｌ＠ｏｐｓ１ｍ　）、ケシ（Ｐａｐ
ａｖｅｒ　）　、’ヤグルマギク（Ｃ＠ｎｔａｕｒ＠ｓ
　）　、　／％キダメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ　）、
苓カシグサ（Ｒｏｔａｌｍ　）　、アゼナ（Ｌｉｎｄ＠
ｒｎ１ｍ　）等々。

双子葉栽培植物の属：ワタ（Ｇｏｓｙｐｉｕｍ　）　、
ダイオ（Ｇｌｙｅｉｎ・）、フダンソウ・サトウダイコ
ン（Ｂ＠ｔａ　）、ニンジン（Ｄａｕｅｕｓ　）、イン
ダンマメ・アオイマダ（Ｐｈａｍ＊ｏｌｕｓ　）　、エ
ントウ（Ｐｉｓｕｍ）、ナス・ジャガイモ（Ｓｏｌａｎ
ｕｍ　）　、ア−ｖ　（Ｌｌｎｕｍ　）、サラマイ七φ
アサガオ（Ｉｐｏｍｏ・）、ソラマメ・ナンテンハギ（
Ｖｌｃｉａ　）　、タバコ（Ｎ１ｅｏｔｉａｎａ　）、
トマト（Ｌｙｃｏｐ＠ｒｓｉｃｏｎ　）　、テンキンマ
メ（Ａｒａｅｈｔｓ）、アブラナ・ハクサイ・カブラ命
キャベツ（Ｂｒａｍｓｉ＠ａ　）　、アキツノダシ（Ｌ
ａｅｔｕｅａ　）　、キュウリ・メロン（Ｃｕｃｕｍｉ
、ｓ　）、力がチャ（Ｃｕｅｕｒｂｌｔａ）等々。

単子葉雑草の属：ヒエ（Ｅｅｈｌｎｏｃｈｌｏａ　）　
、エノコ日・アワ（８＠ｔａｒｉｍ　）　、キビ（Ｐａ
ｎｉｅｕｍ　）、メヒシバ（Ｄｉｇｌｔａｒｉｍ　）　
、アワガエリ・チモシー（Ｐｈｌ＠ｕｍ　）　、イチコ
９ツナギ・スズメノカタビラ（Ｐｏａ　）、ウシノケグ
サｅトがシガラ（Ｆ＠ａｔｕｅａ）、オヒシバ拳シコク
Ｖ工（ＥＬ＠ｕｓｉｎｅ　）、ドクムギ（Ｌｏｏｕｍ　
）　、キツネガヤ愉イヌム’ｆ　（Ｂｒｏｍｕｓ　）、
カラスムギ・オートムギ（エンパｌ　）　（Ａｖｅｎａ
　）、カヤツリグサφパピルス・シチトウイ・ハマスゲ
（Ｃｙｐ＠ｒｕｍ　）　、モｏ＝ｔシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ
　）、カモゾグサ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ　）　％コナギ
（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉｍ　）　、テンツキ（Ｆｉｍｂｒ
ｉｓｔｙｌＩｍ　）　、オモダカ・クワイ（Ｓａｇｉｔ
ｔａｒｉｍ　）　、　ハリイ・クログワイ（Ｅｌｅｏｃ
ｈａｒｉｓ）、ホタルイΦウキャグラ拳フトイ（５ｃｉ
ｒｐｕｓ　）　、スズメツヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍ　）
、カモノハシ（Ｉｍｃｈａｅｍｍ＋）、ヌカが（Ａｇｒ
ｏｓｔｌｇ　）　、スズメノカタビラ（Ａｌｏｐ＠ａｕ
ｒｕａ　）　、ギョウギシパ（Ｃｙｎｏｄｏｎ　）等々
。

単子葉栽培植物のＩＥ：イネ（０ｒｙｚａ　）、トウモ
ロコシ・ホップコーン（ｚ＠亀）、コムギ（Ｔｒｉｔｌ
ａｕｍ　）　、オオムギ（Ｈｏｒｄ＠ｕｍ　）、カラス
ムギ・オートムギ（エンバク）（Ａマ・ｎａ）、；ｙイ
ムギ（Ｓ＠＠ａｌｓ）、毫ａ＝ｒシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ　
）、キビ（Ｐａｎ１ｃｍｍ　）　、サトウキビ・ワセオ
／譬す（８ａｅｅｈａｒｕｍ　）　、ノ４イナツプル（
ムｎａｎａｓ　）　ｓアスΔ’）　ｉｆ　ｘ　（Ａｓｐ
ａｒａｇｕｓ　）　、ネギ・ニラ（ム１１　ｉ　ｕｎ）
等々。

本発明化合物の使用は、上記の植物に限定されることは
なく、他の植物に対しても同様に適用され得る。また、
使用濃度によって、活性化合物は、雑草を非選択的に防
除でき、例えば、工場等の産業用地、鉄道軌道、道路そ
して植林地並びに非植林地等に於いて使用できる。

更に、活性化合物は、多年性植物栽培において。

雑草防除に使用でき、例えば、植林、観賞用植林。

果樹園、ブドウ園、カンキツ果樹園、ナツツ果樹園、バ
ナナ栽培場、コーヒー栽培場、茶栽培場、がム栽培場、
ギネアアツラヤシ栽培場、ココア栽培場、小果樹園及び
ホップ栽培地に適用でき、また−年生植物栽培に於いて
、選択的雑草防除のために適用できる。

本発明の活性化合物は通常の製剤形態にすることができ
る。そして斯る形態としては、液剤、エマルジョン、懸
濁剤、粉剤、泡沫剤、イースト、粒剤、エアゾール、活
性化合物浸潤−天然及び合成物、マイク四カプセル、モ
してＵＬＶ（コーＡ／Ｐミスト（ｃｏｌｄ　ｍ１ｓｔ　
）　ｓウオームミスト（ｗａｒｍｍｌｓｔ　）　）を挙
げることができる。

これらの製剤は、公知の方法で製造することができる。

斯る方法は、例えば、活性化合物を、展開剤、即ち、液
体希釈剤；液化ガス希釈剤；固体希釈剤又は担体、場合
によっては界面活性剤、即ち、乳化剤及び／又は分散剤
及び／又は泡沫形成剤を用いて、混合するととＫよって
行なわれる。

展開剤として水を用いる場合には、例えば、有機溶媒は
また補助溶媒として使用されることができる。

液体希釈剤又は担体としては、概して、芳香族炭化水素
類（例えば°、キシレン、トルエン、アルキルナフタレ
ン等）、クロル化芳香族又はクロル化脂肪族炭化水素類
（例えば、クロロベンゼン類、塩化エチレン類、塩化メ
チレン等）、脂肪族炭化水素類〔例えば、シクロヘキサ
ン等、パラフィン類（例えば鉱油留分停）〕、アルコー
ル類（例えば、ブタノール、グリコール及びそれらのエ
ーテル、エステル等）、ケトン類（例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン又はシク
ロヘキサノン等）、強極性溶媒（例えば、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等）そして水も挙げる
ことができる。

液化ガス希釈剤又は担体は、常温常圧でガスであシ、そ
の例としては、例えば、ブタン、プロパン、窒素ガス、
二酸化炭素、そしてハロダン化炭化水素類のようなエア
ゾール噴射剤を挙げることができる。

固体希釈剤としては、土壌天然鉱物（例えば、カオリン
、クレー、タルク、チョーク、石英、アタパルガイド、
モンモリロナイト又は珪藻土等）、土壌合成鉱物（例え
ば、高分散ケイ酸、アルミナ、ケイ酸塩等）を挙げるこ
とができる。

粒剤のための固体担体としては、粉砕且つ分別された岩
石（例えば、方解石、大理石、軽石、海泡石、白雲石等
）、無機及び有機物粉の合成粒。

そして有機物質（例えば、おがくず、ココやしの実のか
ら、とうもろこしの穂軸そしてタバコの茎等）の細粒体
を挙げることができる。

乳化剤及び／又は泡沫剤としては、非イオン及び陰イオ
ン乳化剤〔例えば、プリオキシエチレン脂肪酸エステル
、Ｉリオキシエチレン脂肪酸アルＷ　−／Ｌ／　ニー　
？ル（例；１＝ｌｄ、アルキルアリール４リグリコール
エーテル、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、ア
リールスルホン酸塩等）〕、アアルラミン水分解生成物
を挙げることができる。

分散剤としては、例えば、リグニンサルファイド廃液、
そしてメチルセル四−スを包含する。

固着剤も、製剤（粉剤、粒剤、乳剤）に使用することが
でき、斯る固着剤としては、カルがキシメチルセルロー
スそして天然及び合成ポリマー１１ｔば、アラビアシム
、４リビニルアルコールそしてポリビニルアセテート等
）を挙げることができる。

着色剤を使用することもでき、斯る着色剤としては、無
機顔料（例えば酸化鉄、酸化チタンそしてプルシアンブ
ルー）、そしてアリゾリン染料、アゾ染料又は金属フタ
ロシアニン染料のような有機染料そして更に、鉄、マン
ガン、ｇ口ノ、銅。

コバルト、モリブデン、亜鉛のそれらの塩のような微量
要素を挙げることができる。

該製剤は、一般には、前記活性成分をＯ０ｌ〜り！重量
％、好ましくは０．Ｊ′〜り０重量％含有することがで
きる。

本発明の活性化合物はそれ自体で、又はそれらの製剤形
態で、雑草防除のために、使用でき、ｔた公知除草剤と
の混合剤としても、使用でき、斯る混合剤は、最終的製
剤形態又はタンクミックスの双方を可能にしている。

本発明の活性化合物を使用する場合、そのまま直接使用
するか、又は散布用調製液、乳剤、懸濁剤、粉剤、ペー
ストそして粒剤のような製剤形態で使用するか、又は更
に希釈して調製された使用形態で使用することができる
。

活性化合物は、液剤散布（ｖａｔ＠ｒｌｎｇ　）　ｓ噴
霧（ｓｐｒａｙｉｎｇ　ａｔｏｍｉｓｉｎｇ　）　、散
粒等で使用することができる。

本発明活性化合物は、植物の発芽前及び発芽後のいずれ
にも、使用することができる。また、それらは播種前に
、土壌中に取シ込まれることもできる。

活性化合物の濃度は、実質範囲内でかえることができる
。それは、望むべき効果の性質によって、基本的に異な
る。除草剤として使用する場合、使用濃度としては、例
えば、／ヘクタール当シ、活性化合物として、約ｏ、ｏ
ｏｏｚ〜約３ｋｌｌ、好ましくは約ｏ、ｏｏｉ〜約２ｋ
ｌを例示できる。

次に本発明化合物の製造及び用途を下記の実施例によシ
、異体的に示すが１本発明はこれのみに限定されるべき
ものではない。

合成実施例： 実施例１ ｊ−アミノ−乙−フルオロー３−Ｃｊ−メチル−へλ、
４／Ｌ−オキサジアゾール−３−イルメチル）−２（Ｊ
Ｈ）−ベンゾチアゾロン（，２Ｊ、９”）と酢酸Ｃ２０
ｔｓｔ＞の混合物に、無水３．ＩＡ、！、ｔ−テトラヒ
ト四フタル酸（／、乙ｔｉ＞を加え、−０〜３０℃で３
０分攪拌し、更１１Ｃ２時間加熱還流する。減圧下に酢
酸を留去して得られる残渣をシリカダルカラム（Ｗ出ｉ
：テトラヒドロ７ラン／トルエン＝ｌ／３）で精製し、
目的の６−フルオロ−３−（ｊ−メチルーへ２μ−牙キ
サジアゾールー３−イルメチル’）−１−（≠、３μ、
７−テト２ヒト四−２Ｈ−イー２Ｈドール−へ３−ジオ
ンー２−イル）−一（３Ｈ）−ベンゾチアゾロン（，２
，２１１）が得られる。

ｍｐ＊／りｔ−ｉタタ℃ 実施例コ アーフルオロ−６−（≠、よ、乙、７−テトラヒドロ−
２Ｈ−’ｔツインドール−へ３−ジオンー２−イル）−
，２Ｈ−へ≠−ベンゾオキサジン−３（ｊＨ）−オン（
３，１１，１）、アセトニトリル（！Ｏｔｄ＞及び炭酸
カリウム（／、ｊＩ　’）の混合物に、攪拌下２０〜３
０℃で、ｊ−（クロロメチル）インオキサゾール（／、
２１　）を滴下する。加熱還流を３時間続けた後、室温
に冷却し、濾過する。Ｆ液を減圧下に濃縮乾固して得ら
れる残渣をトルエンＣＩＪＯｗｔ）と混和し、不溶物を
Ｆ取し、ｐ液を減圧下に濃縮乾固し、アメ状物質を得る
。この物を最少量のエタノールに溶かし、冷却して生じ
る結晶をＦ取し、乾燥し、目的の７−フルオロ−≠−（
インオキサゾール−３−イルメチル）−乙一（≠、！、
Ａ、７−チトラヒドロー２Ｈ−イソインドール−／、３
−ジオンーコーイル）−，２Ｈ−へ弘一ペンゾオキサジ
ン−３（ｊＨ）−オン（３，３Ｉｆ　）が得られる。

ｍｐ　、２０４＃２１０Ｃ 実施例３ ！−インシアナトー６−フルオローグーＣｊ−メチル−
へ２．≠−オキサジアゾールー３−イルメチル）−Ｊ（
ｊＨ）−ベンゾチアゾロン＜０．７３１＞をテトラヒド
ロ７ラン（／ｊｓｇ）ＫｌｌかＬ、／−エトキシカル−
ニルヘキサヒＰロビリ〆ジン（０，≠ｌ）を室温で滴下
し、その１１−夜放置後、溶媒を留去し、多孔性固体Ｃ
１，０ｒｌｌ’）を得る。

上記固体ＣＨＩ’）をエタノール＜３０ｙｄ＞ＩＩＣ溶
かし、触媒量のナトリウムエトキシドを添加した後、１
、ｊ時間加熱還流する。０〜１０℃に冷却し、生じる結
晶をＦ取し、少量の冷エタノールで洗い、乾燥し、目的
の６−フルオロ−≠−（ｊ−メチル−１，２，弘−オキ
サジアゾール−３−イルメチル）４−Ｃ１，２−テトラ
メチレン−／、２．ｌｌ−−）リアシリジン−３，！−
ジオンー≠−イル）−２（ｊＨ）−ベンゾチアゾロン（
０，７Ｊ−＃　’）が得られる。

ｍｐ−２ｊ／〜２ｊＪＣ 実施例３に於けるインシアナト誘導体の代わシに％ｊ−
インチオシアナト−６−フルオロ−≠−（！−メチルー
／、コ、ｌ−オキサジアゾール−３−イルメチル）−Ｊ
（ＪＨ）−ベンゾチアゾロンを用いて、同様に処理して
、６−フルオロ−！−（へλ−テトラメチレンーへコ、
弘−トリアシリジン−３−オン−３−チオン−≠−イル
）−μｍ（ｊ−メチル−八−１≠−オキサジアゾール−
３−イルメチル）−Ｊ（ｊ）Ｉ）−ベンゾチアゾロンも
好収量で得られる。

実施例≠ 乙−フルオロ−！−ヒドラジノー３−（イソオキサゾー
ル−３−イルメチル）−１（ＪＨ）−ベンゾチアゾロン
Ｃ２４１１）、２−エトキシカルがニルシクロヘキサノ
ン（八ｆ、９）、ナトリウムエトキシド（０，Ｏｊ　Ｉ
　）及びエタノ−＃　（ＩＡ　Ｏｗｔ　）とから成る混
合物を！時間、加熱還流する。エタノールを留去し、残
渣にトルエンＣに−０ｔａｔ’）を加えて、７０分間加
熱還流し、Ｑ〜１ｏｃｒｔｃ冷却し。

固体部を済取し、ｎ−ヘキサンで洗い、ｔ−フルオロ−
ｊ−Ｃ３，３ｍ、≠、Ｊ−、Ａ、７−へキサヒドロ−，
２Ｈ−インドール−３−オンーコーイル）−３−（イソ
オキサゾール−３−イルメチル）−ｊ（ｊＨ）−ベンゾ
チアゾロン（３，１１’）を得る。

との物の全量にトルエンＣＩ０Ｃｌ０Ｏ、）リクロロメ
チルクロロホルメイト（／、ｊ　Ｉ　）及びＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（ｏ、ｏ　ｊｙ　＞を加えて。

３時間加熱還流する。減圧下に、低沸点物質を留去し、
残渣を酢酸エチル＜１ｒｏｎｓ’）と混和し、炭酸水素
ナトリウム水溶液で洗浄する。無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカダルカラム（溶出
液：テトラヒドロ７ラン／トルエｙ＝／／４４）で精製
し、目的の６−フルオロ−！−（ｊ−クロロ−≠Ｊ、ｌ
、、７−テト２ヒドロー２Ｈ−インドールーコーイル）
−Ｊ−（イソオキサゾール−３−イルメチル）−，２（
ｊＨ）−ベンゾチアゾロン（／、ｔ　＃　）が得られる
。

多孔性固体 上記実施例７〜μと同様の方法によシ得られる本発明式
（１）の化合物を、第１表〜第１／表に示す。

尚、実施例／〜≠の化合物も表中に示す。

第１表 第　／　表（続き） 第　　ｌ　　表（続き） 第　　ｌ　　表（続き） 第　　ｌ　　表（続き） 第　　ｌ　　表（続き） 第２表 第　λ　表（続き） 第３表 第　３　表（続き） 第　３　表（続き） 第　３　表（続き） 第　３　表（続き） 第　３　表（続き） 第　３　表（続き） 第≠表 第３表 第　３　表（続き） 第　！　表（続き） 第　Ｊ　表（続き） 第　ｊ　表（続き） 第　ｊ　表（続き） 第６表 第　　ｚ　　表（続き） 第７表 第ｒ表 第　　　タ　　　表 々 第　　７Ｑ　　表 第１／表 実施例！ ｔ−フルオロ−２（ＪＲ）−ベンゾチアゾロン（ｔ、≠
４１）、アセトニトリル（１００ｄｌ’）及び炭酸カリ
ウム（７，４１）とから成る混合物に、攪拌下、４Ａｏ
　Ｎｔｏ℃で、３−りｐロメチルー！−メチル−／、Ｊ
μｍオキサジアゾール（７ＪＩ　）を滴下し、続けて、
３時間加熱還流する。冷却後、−過し、Ｆ液を減圧下に
留去して得られる残渣を酢酸エチル（−００ｗｔ）、水
（１００ｍ＞を混和し、有機層を分取する０分取した有
機層をＪ′チ水酸化カリウム水溶液、水、飽和食塩水の
順に洗い、無水硫酸ナトリクム上で乾燥する。溶媒を留
去して得られる残渣を最少量のエタノールに加熱溶解し
、０〜１℃に冷却して生じる結晶を炉取し、乾燥し、目
的の６−フルオｏ−Ｊ−（ｊ−メチル−１．２．ＩＡ−
オキサジアゾール−３−イルメチル）−，２（ＪＨ）−
ベンゾチアゾロン（／　Ｊ、／　Ｉｉ＞が得られる。

ｍｐ、／≠２〜／４Ａ弘℃ 実施例２ 乙−フルオロ−３−（３−メチル−ｌ、２．≠−オキサ
ジアゾールー３−イルメチル’）　−Ｊ（ｊＨ）−ベン
ゾチアゾロン（／ＩＪＩ’）を！〜ｌＱ℃に冷却した濃
硫酸Ｃ２００１１’）に少量づつ添加し、０〜ｊ℃に７
０分間攪拌後、同条件下にりｔｔｓ硝酸（３Ｉ）を滴下
する。０−ｊ’ｃＫ−時間、攪拌を続けた後、反応混合
物を氷に注ぎ、酢酸エチル（ＩＡ）を加えて、攪拌し１
分取した酢酸エチル層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水のＪＩＱＫ洗浄し、無水硫酸す）　Ｉ
Ｊウム上で乾燥する。溶媒を留去して得られる固体残渣
をエタノールから再結晶し、目的のｔ−フルオロ−３−
（３−メチル−７，コ、≠−オキサジアゾールー３−イ
ルメチル）−ｊ−ニトロ−２（ｊＨ）−ベンゾチアゾロ
ン（／　３．０１　）が得られる。

ｍｐｅ　／り２〜１２３℃ 実施例７ ローフルオロー３−（ｊ−メチル−へλ、グーオ＋１−
２アゾール−３−イルメチル）−！−二トローコ（３Ｈ
）−ベンゾチアゾロン（Ｊ、／　、９’　）とエタノー
ル（≠Ｏｍ）の混合物に、ｉｏ〜／ｊ’ｃで塩化第一ス
ズ（ニトロ体の３．３倍モル当量）を濃塩酸（μＯｄ）
に溶かした溶液を滴下する０反応混合物をｔｏ〜７０℃
で１．ｊ時間攪拌した後、エタノール及び塩酸を減圧下
に留去する。残渣に氷Ｃ，２０１１’）を加え、７０〜
７７℃で、コ！チ水酸化カリウム水溶液を滴下し、アル
カリ性とし、ジクロロタン（１００ｗｌＸ、２’）で抽
出する。ジクロロメタン抽出液は、水洗後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。ジクロロメタンを留去して得ら
れる固体残渣を乾燥して、目的のよ一アミノー６−フル
オロー３−（！−メチルーへ２，４Ａ−オキサジアゾー
ル−３−イルメチル）−２（ＪＨ）−ベンゾチアゾロン
（２，２Ｎ　）が得られる。

ｍｐ、／！ｒ〜／１．Ｉ℃ 上記実施例７で得られる化合物は、別法として下記の方
法によって、得ることもできる。すなわち、 ６−フルオロ−２（ＪＨ）−ベンゾチアゾロン（♂コ、
りＩＩ）を濃硫酸（♂ｏｏｔｔ＞中０−ｊ℃でりざチ硝
酸（理論値の！−過剰）でニトロ化（０〜３℃で１．ｊ
時間攪拌）し、次いで、氷水に注ぎ、Ｐ取し、水洗後、
乾燥し、アセトンから再結晶して得られる乙−フルオ筒
−！−ニトロ−２（ｊＨ）−ベンゾチアゾロン（６７，
７Ｆ　）［ＨＰＬＣ法で２２チの純度］の全量を鉄粉を
用いて還元して、！−アζノー６−フルオロー２（ｊＨ
）−ベンゾチアゾロン（Ｊ−Ｊ、４４　Ｎ　’）　Ｉｃ
変換し、続けて、この物の≠ｌをアセトニトリルＣ１０
０ｄ）中で、炭酸カリウム（３Ｉ）を脱塩酸剤として、
３−クロロメチル−！−メチルー７．コ、弘−オキサジ
アゾール（コ、り１１’）ＩＩＣよるアルキル化（加熱
還流、２時間）ｋよシ、目的の！−アミノー４−フルオ
ロー３−（ｊ−メチル−へ２．弘−オキサジアゾールー
３−イルメチル）−Ｊ（ｊｎ）−ベンゾチアゾロン（Ｊ
ｒＪ＃）が得られる。

呻、　１１４〜１３７℃ 実施例？ ！−アミノー２−フルオロー３−（！−メチルーへコ、
１ＩＬ−オキサジアゾール−３−イルメチル）−，２（
ｊＨ）−ベンゾチアゾ目ンＣＩＪ３１１＞とジオキサン
１Ｊ１１）とからなる混合物に、２０〜３０℃でトリク
ロロメチルクロロホルメイト（ｌＩ）を滴下し、３時間
加熱還流する。減圧下に低沸点物質を留去し、残渣を乾
燥トルエン（ｊＯｗｔ”）に溶かし、減圧下忙再度、濃
縮乾固して、目的の６−フルオロ−！−インシアナトー
３−（！−メチルーへコ、１１ｔ−オキサゾアゾール−
３−イルメチル）−，２（ＪＨ）−べｙゾｆ７ゾａンｃ
／、４ｔＡＩ）が得られる。

ｍｐ、１２６〜７．２７℃ 実施例り ！−アミノー乙−フルオロー３−（よ−メチルー／、、
２．弘−オキサジアゾール−３−イルメチル）−，２（
ｊＨ）−ベンゾチアゾロン（／、３３１　’）、ジクロ
ロメタン＜１ｏｔｔ＞及び氷（／（１７ＪＦ）とからな
る混合物にチオホスゲン（０，７１）を加え、３〜７０
℃で炭酸水素ナトリウムを少しづつ添加し。

反応混合物を微アルカリ性とする１、２０分間攪拌を続
け、混合物が微アルカリ性を呈することを確認し、（酸
性の場合には、炭酸水素ナトリウムを追加する）ジクロ
ロメタン層を分取し、水層は更にジクロロメタン（／θ
−×、２）で抽出する。ソクロロメタン層を合わせて、
水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、ジクロロメタ
ンを留去して、固体残渣を得る。固体残渣をトルエン−
ヘキサンの混合溶媒で再結晶し、目的の乙−フルオロ−
よ一イソチオシアナトー３−Ｃに−メチルー７−９≠−
オキサジアゾール−３−イルメチル）　−，２（ＪＨ）
−ベンゾチアゾロン（／、μりｌ）が得られる。

ｍｐ、　／Ａｔ　〜／７０℃ 実施例ｌ０ ｊ−アミノ−６−フルオロ−３−（ｊ−メチル−／、２
，４’−オキサジアゾール−３−イルメチル）−２（３
Ｈ）−ベンゾチアゾロン（／、　Ａ　ＩＩ）を濃塩酸Ｃ
にｄ）と、水（ｊゴ）に添加し、０〜ｊＣで亜硝酸（０
，≠Ｊ″ｇ）を含む水溶液を滴下し、０〜３℃で３０分
間攪拌を続け、ジアゾ化を行なう。

塩化第一スズの二水和物Ｃ１，２３１１＞及び濃塩酸（
６ｄ）とからなる混合物１ｆＣＯ−７℃で上記のジアゾ
化物の水溶液を滴下し、０−１１：：で３０分間攪拌を
続ける。０〜３℃でＪＪ”４水酸化カリウム水溶液を滴
下しアルカリ性とし、ジクロロメタン（２０ｄＸコ）で
抽出する。ジクロロメタン抽出液を水洗後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。

溶媒を留去し、目的のｔ−フルオロ−よ−ヒドラジノ−
３−（！−メチルーｉ、ｘ、４ｔ−オキサジアゾール−
３−イルメチル）−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾロン（／
、　４’　、９　）が得られる。

ｒｌ’ＩＰ−／　９０〜／　９２℃（分解）実施例１１ Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｅ、　（ジャーナルオツケミカ
ルソサエテイ）、１９２１年３０１Ａｌ、頁又は５ｙｎ
ｔｈｅｓｉｓ（シンセシス）／９♂２年９１１．頁に記
載されている方法に従って、合成される７−ニトロ−２
Ｈ−７，≠−ベンゾオキサジンー３（μＭ）−オン＜３
．ｒｒｔｔ＞、炭酸カリウム（３，７Ｉｉ）及ヒアセト
ニトリル（ｔｏｙ）の混合物に≠θ〜１０℃で、３−１
Ｆａａメチル−ｊ−メチル−／、２．≠−オキサジアゾ
ール（ユタ２１１）を滴下し、加熱還流下、≠時間攪拌
を続ける。放冷後、減圧下に溶媒を留去し、残渣に酢酸
エチル（／３０１１）と水（６０−）とを加え、有機層
を分取する。有機層はｊ鳴水酸化カリウム水溶液、水、
飽和食塩水の順に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する
。減圧下に溶媒を留去して、得る固体残渣をトルエンか
ら再結晶し、目的の≠−（ｊ−メチル−７，２，≠−オ
キサジアゾールー３−イルメチル）−７−ニトロ−２Ｈ
−へ≠−ベンゾオキサシン−３（μＨ）−オン（３，２
２１）が得られる。

ｍｐ、　／　Ｉ　２〜／　Ｉ　ｊ℃ 実施例１２ ≠−（ｊ−メチル−へ２．１１−−オキサジアゾール−
３−イルメチル）−７−二トロー２Ｈ−／、≠−ベンゾ
オキサジンー３（１１ｔＨ）−オン（３，コＩり及びエ
タノール（４ｔＯｍｌ）とから成る混合物に１０〜２０
℃で塩化第１スズの二水和物（１／、３Ｉ）を濃塩酸（
≠ｌＡｍ７）に溶かした溶液を滴下する。６０〜７０℃
で２時間攪拌後、減圧下に乾固し、氷（ｉｒｏｔｔ＞を
加えた後、２よ係水酸化カリウム水溶液をｏ−ｉｏ℃で
滴下し、アルカリ性とし、ジクロロメタン（１０ｔｄｘ
２　）で抽出する。

ジクロロメタン抽出液は水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。減圧下にジクロロメタンを留去して得る固体
（／、　３　Ｎ　）をトルエンから再結晶し、目的の７
−アミノ−≠−（ｊ−メチル−／、２，４Ｌ−オキサジ
アゾール−３−イルメチル）−２Ｈ−／、≠−ベンゾオ
キサジンー３（弘Ｈ）−オン（／、　／　＃）を得る。

ｍｐ、／’ＡＡ〜／’Ａ７．ｊ　℃ 生物試験例： 比較化合物 実施例１３ 水田雑草に対する湛水下水面施用処理試験活性化合物の
調製 担体：アセト７３重量部 乳化剤：ペンジルオキシポリグリコールエーテル１重量
部 活性化合物の調合剤は、１重量部の活性化合物と上述し
た分量の担体及び乳化剤とを混合し、乳剤として得られ
る。その調合剤の所定薬量を、水で希釈して調製する。

試験方法 １７２．０００アールのポット（２ｊＸ２０ＸりｃＩＩ
Ｌ）に水田土壌を充填し、２．ｊ葉期（草丈／ｊａｍ’
）の水稲苗（品種二日本晴）を！ポット当り１株３本植
えとじコケ所移植した。更に、タイヌビエ、タマガヤツ
リ、コナギ、１年生広葉雑草（アーゼナ、キカシグサ、
ミゾハコベ、ヒメミゾハイ、アツノメ等）の種子を接種
し、湿潤状態に保った。λ８後約２〜３億湛水し、水稲
移植！８後１本発明の化合物を上記調製による乳剤形態
にて、所定量をピペットで熟理した。その後は約３ｃＩ
Ｌの湛水状態を保ち、薬剤処理μ透間後に除草効果及び
水稲に対する薬害を次の基単によＦ）０−１の段階に類
別評価した。

効果の評価は無処理区に比較した場合、！：無処理区に
対する殺草率　タ！憾以上（枯死）４！：　　　　　　
　　　　　　　　　　　ｔｏ憾以上９ｊ鳴未満３　：　
　　　　　　　　　　　　　　　　３０４以上１０鳴未
満Ｊ　：　　　　　　　　　　　　　　　　　３０％以
上３０４未満／　　：　　　　　　　　　　　　　　　
　　　１０４以上３０％未満０　：　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１０４未満（効果なし）作物に対す
る薬害の評価は無処理区に比較した場合、 ｊ：無処理区に対する薬害率　タのし止（致命Ｉ傷）μ
：　　　　　　　　　　　　　　　　　ｊθ畳以上ｙｏ
優未満３＝　　　　　　　　　　　　　　　　３０優以
上１０４未満２：　　　　　　　　　　　　　　　　１
０優以上３θ優未満ｌ：　　　　　　　　　　　　　　
θ越１０４未満θ：　　　　　　　　　　　　　　０４
（薬害なし）とした。

代表例をもって、その試験結果を第１コ表に示す。

（以下余白） 第７２表 実施例１４！ 畑地雑草に対する発芽前土壌処理試験 温室内に於いて、畑土壌をつめ九ｊ　００　ｃｍ”ポッ
トに大豆の種子を播き、その上に、イヌビエ、イヌビエ
、アカザの各種子を混入した土壌を／ｅｓの深さに覆土
した。

播種７日後、前記実施例１３と同様に調製した所定薬量
の薬液を各試験４ツトの土壌表層に均一に散布した。

散布参週間後に除草効果及び作物に対する薬害の程度を
、前記実施例１３と同様の基準によ〕調量した０代表例
をもって、その結果を′＠１３表に示す。

１Ｊ７３表 実施例１ｊ 畑地雑草に対する茎葉処理試験 温室内に於いて、畑土壌をつめたｒｏｏｃｎｐｚットに
、トウモロコシを播種し、その上に、メ辻シバ、イヌビ
エ及びアカザの各種子を混入した土壌を１ｃｍの深さに
覆土した。

播種後ｌ≠日間育成し、前記実施例１３と同様に調製し
た所定薬量の薬液を各試験ポットの被験植物に均一に散
布した。

散布弘週間後に、除草効果及び作物に対する薬害の程度
を前記実施例／３と同様の基準によプ調査した０代表例
をもって、その結果を＠／μ表に示す。

第１１Ａ表

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｑは基； ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 又は　 ▲数式、化学式、表等があります▼ を示し、（ここで、Ｒ＾１はメチル又は２ヶのＲ＾１で
   テトラメチレンを示し、 Ｒ＾２とＲ＾３は一緒になつて、テトラメチレン又は基
   ： −ＣＨ＿２ＣＨ＝ＣＨＣＨ＿２−を示し、 ＹはＯはＳを示し、 Ｗは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化
   学式、表等があります▼を示す） ＺはＯ又はＳを示し、 Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、 Ｒは置換基を有してもよい５員のヘテロ環式基を示し、
   そして ｎは０又は１を示す、 で表わされるベンゾ縮合環化合物。
2. （２）Ｑが基： ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
   、表等があります▼を示し、 （ここでＲ＾２とＲ＾３は一緒になつて、テトラメチレ
   ン又は基： −ＣＨ＿２ＣＨ＝ＣＨＣＨ＿２−を示し、 ＹはＯ又はＳを示し、 Ｗは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化
   学式、表等があります▼を示す） ＺがＯ又はＳを示し、 Ｘが水素原子又はフルオルを示し、 Ｒが置換基を有してもよい少なくとも１ヶの窒素原子を
   含む５員のヘテロ環式基を示し、そしてｎが０又は１を
   示す特許請求の範囲第１項記載の化合物。
3. （３）Ｑが基： ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
   、表等があります▼を示し、 （ここでＲ＾２とＲ＾３は一緒になつて、テトラメチレ
   ン又は基： −ＣＨ＿２ＣＨ＝ＣＨＣＨ＿２−を示し、 ＹはＯ又はＳを示し、 Ｗは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化
   学式、表等があります▼を示す） ＺがＯ又はＳを示し、 Ｘが水素原子又はフルオルを示し、 Ｒが置換基を有してもよい少なくとも１ヶの窒素原子と
   、酸素原子又はイオウ原子のいずれかの少なくとも１ヶ
   とを含む５員のヘテロ環式基を示し、そして ｎが０又は１を示す特許請求の範囲第１項記載の化合物
   。
4. （４）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｑは基： ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示し、（ここでＲ＾１はメチル又は２ヶのＲ＾１でテ
   トラメチレンを示し、 Ｒ＾２とＲ＾３は一緒になつて、テトラメチレン又は基
   ； −ＣＨ＿２ＣＨ＝ＣＨＣＨ＿２−を示し、 ＹはＯ又はＳを示し、 Ｗは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化
   学式、表等があります▼を示す） ＺはＯ又はＳを示し、 Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、 Ｒは置換基を有してもよい５員のヘテロ環式基を示し、
   そして ｎは０又は１を示す、 で表わされるベンゾ縮合環化合物を有効成分として含有
   する除草剤。