JPH01101631A - 電子ビームパターン描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子ビームのビーム偏向によりパターンを描画
する方法に関する。

〔従来の技術〕

一般にこの種の方法に用いる電子ビーム装置は、可変ビ
ーム成形器から発せられた電子ビームを主偏向器、副偏
向器を経てテーブル上の描画対象物、例えば印刷配線板
等に照射し、パターン描画を行うが、広い描画対象物に
対し１度に描画を行うことは誤差が太き（なるため、通
常は誤差を許容範囲内に留め得る電子ビーム偏向幅で決
まる領域に区分して各区分毎にパターンの相応部分を描
画する方法が採られている。

第４図はパターン描画を行うべき描画対象物表面に設定
した領域の区分態様を示す模式図、第５図はその部分拡
大図であり、描画対象物１９の表面に破線で区分された
基盤目状の各部分が夫々領域（電子ビーム偏向幅で決ま
る領域：以下サブフィールドという）ａ、ｂ・・・を示
している。描画すべきパターン（図示せず）もこれに相
応するよう区　・分し、各サブフィールドａ、ｂ・・・
に対応するパターンの各区分を夫々対応するサブフィー
ルドａ。

ｂ・・・に順次的に描画してゆくこととしている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところがこのような描画方法では相隣するサブフィール
ド、例えばａ、ｂの双方にまたがるパターンを描画する
場合、各サブフィールドａ、ｂ夫々の範囲毎に描き分け
ると、相隣するサブフィールドａ、ｂの境界部分では各
種の誤差等のためにパターンの連続性が損なわれる、所
謂切れ目ｌが生じるという問題があった。

本発明はかかる事情に鑑みなされたものであって、その
目的とするところは相隣する領域の境界部分においても
パターンに切れ目を生じることのない電子ビームパター
ン描画方法を提供するにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明方法にあっては、描画対象物の表面を区分して設
定された複数の領域における相隣する領域間に、その境
界を含み、両領域夫々に所定幅にわたる重合領域を設定
し、相隣する各領域に対する描画に際し、当該領域及び
前記重合領域にわたってこれに相応するパターン区分を
描画する。

〔作用〕

本発明にあってはこれによって相隣する領域の境界上を
含む所定範囲にわたってパターンが重ね書きされ連続性
を維持し得ることとなる。

〔実施例〕

以下本発明方法を図面に基づき具体的に説明する。第１
図は本発明方法において描画対象物の表面に設定するサ
ブフィールドの区分態様を示す模式的平面図、第２図は
その部分拡大図であり、描画対象物１９表面に破線で示
す如く設定された基盤目状のサブフィールドａ、ｂ・・
・のうち第１図で縦。

横及び斜めの方向に相隣するサブフィールドの間にはこ
の両サブフィールドの境界を含み、且つ両サブフィール
ドに夫々所要幅にわたる帯状の重合領域ｎ（ハツチング
を施して示す部分）を設定する。

例えば相隣するサブフィールドａ、ｂ間にはその境界を
含み、且つ両すブフィールドａ、ｂ夫々に所要幅にわた
って帯状の重合領域ｎを設定する。

なお、両サブフィールドａ、ｂの境界は重合領域ｎの幅
寸法の中央である。

そしてサブフィールドａに対する描画に際しては第１図
に実線（太線）で囲って示す如くサブフィールドａ及び
これに隣接する各サブフィールドとの間に設定された重
合領域ｎにわたって夫々これらの領域に相応するパター
ン部分を描画し、またサブフィールドｂに対する描画に
際しては同じく第１図に実線（細線）で囲って示す如く
サブフィールドｂ及びこれに隣接する各サブフィールド
との間に設定された重合領域ｎにわたって夫々これらに
相応するパターン部分を描画する。

なお、第２図は図面を簡単にするためサブフィールドａ
、ｂ間に位置する重合領域についてのみ示している。

これによって第２図はハツチングを付した部分は相隣す
るサブフィールドａ、ｂの両方の描画過程で共に描画さ
れて、所謂重ね書きされることとなり、両すブフィール
ドａ、ｂ間の境界においてもパターンに切れ目が生じる
ことはなく連続した描画が行えることとなる。

第３図は本発明方法を実施するための電子ビームパター
ン描画装置のブロック図であり、７は真空チャンバを示
している。真空チャンバ７内には上部に可変ビーム成形
器６が、また下部にはテーブル２０上に印刷配線板等の
描画対象物１９が配置され、更に可変ビーム成形器６か
ら描画対象物１９に至る途中には主偏向器１３、副偏向
器１７が配設されており、可変ビーム成形器７から発せ
られた電子ビームは途中主偏向器１３、副偏向器１７に
て偏向されて描画対象物１９上に照射され描画を行うよ
うになっている。

描画対象物１９表面に描くべき描画パターンは予め描画
データとして他のデータと共に描画データデコーダ９に
人力され、ここから描画データのうちセルデータ名はセ
ルデータバッファ２へ、またサブフィールド番号は主偏
向器コントローラ１１へ、更にオフセットデータは副偏
向器コントローラ１５へ夫々分けて出力される。

セルデータバッファ２には描画パターンの元になるサブ
フィールド内に包含される図形データ、所謂セルデータ
が入力され、記憶されており、前記描画データデコーダ
９から入力されたセルデータ名に基づき所定のパターン
データをパターンデータデコーダ４に、またセルサイズ
を副偏向器コントローラ１５へ出力する。パターンデー
タデコーダ４は入力されたパターンデータに基づき可変
ビーム成形器ドライバ５を制御し、該可変ビーム成形器
ドライバ５から可変ビーム成形器６に制御信号を出力し
、可変ビーム成形器６からパターンデータに応じた所定
の条件を満たす電子ビームを描画対象物１９側に向けて
照射せしめる。

一方主偏向器コントローラ１１は描画データデコーダ９
から入力されたサブフィールド番号に基づき主偏向器ド
ライバ１２を制御して主偏向器１３へ供給する電圧、電
流をコントロールさせるようになっている。

副偏向器コントローラ１５はセルデータバッファ２から
入力されたセルサイズ及び描画データデコーダ９から入
力されたオフセットデータに基づき、副偏向器ドライバ
１６を制御し、副偏向器１７へ供給すべき電圧、電流を
コントロールさせるようになっている。

而して可変ビーム成形器６から描画対象物１９側に向け
て照射された電子ビームを途中主偏向器１３にて偏向し
、描画を行うべき所定のサブフィールド及びこれと隣接
するサブフィールド間に設定されている重合領域ｎに向
わせ、次いで副偏向器１７にて所定のサブフィールド及
びこれと隣接するサブフィールド間に設定されている重
合領域ｎを含む領域内で当該サブフィールド及び重合領
域ｎに描画すべきパターン部分の描画を行うべく制御さ
れることとなる。

なお、上述の実施例では所定サブフィールドへの電子ビ
ームの移動を主偏向器１３の制御で、またサブフィール
ド内のパターン描画を副偏向器１７を用いて行なう場合
を示したが、主偏向器１３で描画を、また副偏向器１７
でサブフィールドへの移動を行ってもよい。更に所定サ
ブフィールドへの電子ビームを移動させる代わりにテー
ブル２０を操作して描画対象物１９を電子ビームに対し
て移動させることとしてもよい゛。

〔発明の効果〕

以上の如く本発明方法にあっては相隣する領域間に連続
するパターンを描画する時は相隣する両領域夫々にわた
る重合領域を設定し、各領域の描画の際に重合領域を夫
々各領域の一部として描画を行うこととしたから、領域
相互の間でのパターンの突き合わせによる途切れがなく
連続したパターンを描くことが出来る優れた効果を奏す
るものである。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明方法による描画対象物表面でのサブフィ
ールドの区分態様を示す模式的平面図、第２図はその部
分拡大平面図、第３図は本発明方法を実施するための装
置のブロック図、第４図は従来における描画対象物表面
でのサブフィールドの区分態様を示す模式的平面図、第
５図はその部分拡大平面図である。 ２・・・セルデータバッファ　６・・・可変ビーム成形
器　９・・・描画データデコーダ　１３・・・主偏向器
１７・・・副偏向器　１９・・・描画対象物　ａ、ｂ・
・・サブフィールド　ｎ・・・重合領域 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人　　大　　　岩　　　増　　　雄、′−全 ｈ　＋ｐ４

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、描画対象物の表面を複数の領域に区分すると共に、
   この描画対象物に描くべきパターンを各領域に合わせて
   区分し、描画対象物の各領域夫々に相応するパターンの
   区分を順次的に描画する電子ビームパターン描画方法に
   おいて、相隣する領域間にその境界を含み、両領域夫々
   に所定幅にわたる重合領域を設定し、相隣する各領域夫
   々に対する描画に際し、当該領域及び前記重合領域にわ
   たってこれに相応するパターン区分を描画することを特
   徴とする電子ビームパターン描画方法。