JPH01100A - インダン誘導体の製造法 - Google Patents
インダン誘導体の製造法Info
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- JPH01100A JPH01100A JP63-44879A JP4487988A JPH01100A JP H01100 A JPH01100 A JP H01100A JP 4487988 A JP4487988 A JP 4487988A JP H01100 A JPH01100 A JP H01100A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はアンジオテンシン変換酵素(ACE)阻害作用
に基づく降圧作用を有するインダン誘導体およびその製
造中間体の製造法に関する。
に基づく降圧作用を有するインダン誘導体およびその製
造中間体の製造法に関する。
(従来の技術および発明が解決しようとする課題)AC
E阻害作用に基づく降圧作用を有する化合物として、式 %式% [式中、R3は低級アルキル基(好ましくはメチル基)
、R3はアラルキル基(好ましくはフェネチル基)およ
びR4は低級アルキル基(好ましくはエチル基)を示す
。(11)および(12)の不斉炭素はともに(S)−
配置であることが望ましい。]で表わされるインダン誘
導体およびその塩(好ましくは塩酸塩)が知られている
[特開昭57−77651号公報]特開昭57−179
141号公報:ケミカル・アンド・ファーマシューティ
カル・ブレチン(Chew。
E阻害作用に基づく降圧作用を有する化合物として、式 %式% [式中、R3は低級アルキル基(好ましくはメチル基)
、R3はアラルキル基(好ましくはフェネチル基)およ
びR4は低級アルキル基(好ましくはエチル基)を示す
。(11)および(12)の不斉炭素はともに(S)−
配置であることが望ましい。]で表わされるインダン誘
導体およびその塩(好ましくは塩酸塩)が知られている
[特開昭57−77651号公報]特開昭57−179
141号公報:ケミカル・アンド・ファーマシューティ
カル・ブレチン(Chew。
Pharm、 Bull、)、 34巻、2852頁
(1986年)]。
(1986年)]。
特開昭57−77651号公報および特開昭57−17
9141号公報には化合物(1a)の代表的製造法とし
て以下の方法が記載されている。
9141号公報には化合物(1a)の代表的製造法とし
て以下の方法が記載されている。
(以 下 余 白)
CIl、C0OR(n)
[式中、Rは水素または低級アルキル基を示す]上記方
法においては、化合物(Ia)は通常2種の立体異性体
(112の不斉炭素)の混合物として得られるため、所
望の光学活性体を得るためには光学分割などの手段を用
いる必要がある。
法においては、化合物(Ia)は通常2種の立体異性体
(112の不斉炭素)の混合物として得られるため、所
望の光学活性体を得るためには光学分割などの手段を用
いる必要がある。
ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブレチン
、34巻、2852頁(1986年)には以下の方法が
記載されている。
、34巻、2852頁(1986年)には以下の方法が
記載されている。
(v)C11,C00C(CI+3)3(V[)
上記方法は、化合物(V)と(VI)をジエチルホスホ
ロシアニデート(DEPC)の存在下で縮合させる方法
である。この方法は毒性の高いDEPCを使用すること
、DEPCの加水分解によってシアン化水素が発生する
こと、および収率がそれ程高くない(収率:68%)こ
とから、工業的製造法としては問題がある。
ロシアニデート(DEPC)の存在下で縮合させる方法
である。この方法は毒性の高いDEPCを使用すること
、DEPCの加水分解によってシアン化水素が発生する
こと、および収率がそれ程高くない(収率:68%)こ
とから、工業的製造法としては問題がある。
また、特開昭57−176’)41号公報には以下に示
す方法が記載されている。
す方法が記載されている。
上記反応は、アミド形成条件下に化合物(■)を、式(
■)で表わされる酸のアシル誘導体と反応させて化合物
(IX)を得る方法である。本方法は式(■)の化合物
のアシル誘導体を経由しなければならないこと、および
収率もそれ程高くない(収率:69.7%)ことから、
工業的製造法としては問題がある。
■)で表わされる酸のアシル誘導体と反応させて化合物
(IX)を得る方法である。本方法は式(■)の化合物
のアシル誘導体を経由しなければならないこと、および
収率もそれ程高くない(収率:69.7%)ことから、
工業的製造法としては問題がある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは化合物(Ia)の工業的製造法を鋭意研究
した結果、ペプチド合成の際のカルボキシル基を活性化
するための混合酸無水物の原料として知られているジフ
ェニルホスホロクロリデート11[ケミx”jシzsベ
リヒテ(Chet Ber、) 、94巻、2644
頁(1961年)コが高収率で式[式中、R1は低級ア
ルキル基またはアラルキル基を示す]で表わされる化合
物と式 %式% [式中、R3は低級アルキル基を、R3はアラルキル基
を、R4は低級アルキル基を示す]で表わされる化合物
を直接縮合させ、式 %式% [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる化合物を
生成させることを見い出した。
した結果、ペプチド合成の際のカルボキシル基を活性化
するための混合酸無水物の原料として知られているジフ
ェニルホスホロクロリデート11[ケミx”jシzsベ
リヒテ(Chet Ber、) 、94巻、2644
頁(1961年)コが高収率で式[式中、R1は低級ア
ルキル基またはアラルキル基を示す]で表わされる化合
物と式 %式% [式中、R3は低級アルキル基を、R3はアラルキル基
を、R4は低級アルキル基を示す]で表わされる化合物
を直接縮合させ、式 %式% [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる化合物を
生成させることを見い出した。
さらに驚くべきことに、化合物(XI)とジフェニルホ
スホロクロリデート類を攪拌した後、化合物(XI)を
加えても高収率で化合物(1)が得られることを見い出
した。この事実は、ジフェニルホスホロクロリデート類
を縮合剤として使用する縮合反応はケミュッシェ・ベリ
ヒテ、94巻、2644頁(1961年)に報告されて
いるような式(Vl)の化合物の混合酸無水物を経由し
ていないことを、また、特開昭57−176941号公
報に記載の式(Vl)の化合物のアシル誘導体を経由し
ていないことを示している。すなわち、本発明者らはジ
フェニルホスホロクロリデート類が新しいタイプの縮合
剤であることを見い出し、本発明を完成させるに至った
。
スホロクロリデート類を攪拌した後、化合物(XI)を
加えても高収率で化合物(1)が得られることを見い出
した。この事実は、ジフェニルホスホロクロリデート類
を縮合剤として使用する縮合反応はケミュッシェ・ベリ
ヒテ、94巻、2644頁(1961年)に報告されて
いるような式(Vl)の化合物の混合酸無水物を経由し
ていないことを、また、特開昭57−176941号公
報に記載の式(Vl)の化合物のアシル誘導体を経由し
ていないことを示している。すなわち、本発明者らはジ
フェニルホスホロクロリデート類が新しいタイプの縮合
剤であることを見い出し、本発明を完成させるに至った
。
すなわち、本発明は式(XI)で表わされる化合物に式
[式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲンを示す]で表わされる
ジフェニルホスホロクロリデート類と式(X[)で表わ
される化合物とを反応させることを特徴とする式(1)
で表わされる化合物の製造法、および上記方法で得られ
る式(1)で表わされる化合物を加水分解反応、脱離反
応または接触還元反応に付すことを特徴とする式(I
a)で表わされる化合物またはその塩の製造法を提供す
るものである。
低級アルコキシ基またはハロゲンを示す]で表わされる
ジフェニルホスホロクロリデート類と式(X[)で表わ
される化合物とを反応させることを特徴とする式(1)
で表わされる化合物の製造法、および上記方法で得られ
る式(1)で表わされる化合物を加水分解反応、脱離反
応または接触還元反応に付すことを特徴とする式(I
a)で表わされる化合物またはその塩の製造法を提供す
るものである。
上記式に関し、R’、R”、IN’、XおよびYで示さ
れる低級アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル
、インブチル、5ee−ブチル、tert−ブチルなど
の炭素数1〜4程度のアルキル基があげられる。
れる低級アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル
、インブチル、5ee−ブチル、tert−ブチルなど
の炭素数1〜4程度のアルキル基があげられる。
R2としてはメチル基が好ましく、また、R4としては
エチル基が好ましい。
エチル基が好ましい。
R1で示されるアラルキル基としてはベンジル。
フェネチル、ジフェニルメチルなどのフェニル−低級(
C、−、)アルキル基およびジフェニル−低級(CI−
4)アルキル基があげられる。該フェニルー低級アルキ
ル基およびジフェニル−低級アルキル基゛のフェニル部
はたとえば低級(CI−4)アルキル基(例、メチル、
エチル、プロピル)、低級(CI−、)アルコキシ基(
例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ。
C、−、)アルキル基およびジフェニル−低級(CI−
4)アルキル基があげられる。該フェニルー低級アルキ
ル基およびジフェニル−低級アルキル基゛のフェニル部
はたとえば低級(CI−4)アルキル基(例、メチル、
エチル、プロピル)、低級(CI−、)アルコキシ基(
例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ。
イソプロポキシ)、ハロゲン(例、フッ素、塩素、臭素
)などの置換基を1〜3個程度有していてもよい。
)などの置換基を1〜3個程度有していてもよい。
R3で示されるアラルキル基としてはベンジル。
フェネチル、3−フェニルプロピルなどのフェニル−低
級(c l−4)アルキル基があげられ、なかでもフェ
ネチル基が好ましい。
級(c l−4)アルキル基があげられ、なかでもフェ
ネチル基が好ましい。
XおよびYで示される低級アルコキシ基としてはメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロホキ・シ、ブトキ
シなどの炭素数!〜4程度のアルコキシ基があげられる
。
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロホキ・シ、ブトキ
シなどの炭素数!〜4程度のアルコキシ基があげられる
。
XおよびYで示されるハロゲンとしてはたとえばフッ素
、塩素、臭素があげられる。
、塩素、臭素があげられる。
R1としては1erL−ブチル基またはベンジル基が好
ましく(さらに好ましくはベンジル基)、XおよびYと
しては水素が好ましい。化合物(XI)としてはN−[
(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピ
ル]−L−アラニンが好ましい。
ましく(さらに好ましくはベンジル基)、XおよびYと
しては水素が好ましい。化合物(XI)としてはN−[
(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピ
ル]−L−アラニンが好ましい。
上記化合物(XI)、001)および(X[[I)の反
応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。用いられる
塩基としては反応に関与しない第3級アミン(例、トリ
エチルアミン、N−メチルピペリジン、ジメチルアニリ
ン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン)が好まし
く、トリエチルアミンがさらに好ましい。溶媒としては
反応に関与しないものであればいかなるものであっても
よいが、塩化メチレン。
応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。用いられる
塩基としては反応に関与しない第3級アミン(例、トリ
エチルアミン、N−メチルピペリジン、ジメチルアニリ
ン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン)が好まし
く、トリエチルアミンがさらに好ましい。溶媒としては
反応に関与しないものであればいかなるものであっても
よいが、塩化メチレン。
酢酸エチル、クロロホルム、四塩化エタン、テトラヒド
ロフランなどの比較的低沸点の有機溶媒が好ましい。ま
た上記塩基を溶媒として用いることもできる。反応温度
は通常−206〜+50℃であり、好ましくは一5°〜
+30℃である。化合物(XI)、(X[II)および
塩基の使用量は特に制限されないが、一般に化合物(X
[)に対し、化合物(XI)は1.0〜1.5当量を、
化合物(XI[[)は1.0〜2.0当量を、また塩基
は1〜4当量を用いることが経済上効率的である。反応
時間は特に限定されないが、化合物(XI)および(X
[)を化合物<xm>の存在下に縮合させる場合には0
.5〜5時間であることが好ましい。
ロフランなどの比較的低沸点の有機溶媒が好ましい。ま
た上記塩基を溶媒として用いることもできる。反応温度
は通常−206〜+50℃であり、好ましくは一5°〜
+30℃である。化合物(XI)、(X[II)および
塩基の使用量は特に制限されないが、一般に化合物(X
[)に対し、化合物(XI)は1.0〜1.5当量を、
化合物(XI[[)は1.0〜2.0当量を、また塩基
は1〜4当量を用いることが経済上効率的である。反応
時間は特に限定されないが、化合物(XI)および(X
[)を化合物<xm>の存在下に縮合させる場合には0
.5〜5時間であることが好ましい。
また、化合物(XI)と(X[[[)を塩基の存在下、
溶媒中で攪拌した後、化合物(Xll)を該反応混合物
に添加してもよい。用いられる塩基、溶媒の種類および
量、および反応温度は前記と同様である。化合物(XI
)と(X[[I)の溶媒中での攪拌時間は特に限定され
ないが、一般には1〜20時間であることが好ましい。
溶媒中で攪拌した後、化合物(Xll)を該反応混合物
に添加してもよい。用いられる塩基、溶媒の種類および
量、および反応温度は前記と同様である。化合物(XI
)と(X[[I)の溶媒中での攪拌時間は特に限定され
ないが、一般には1〜20時間であることが好ましい。
反応混合物からの化合物(1)の分離精製は通常の手段
(例、抽出、濃縮、カラムクロマトグラフィー)を用い
て行うことができる。
(例、抽出、濃縮、カラムクロマトグラフィー)を用い
て行うことができる。
化合物(′A)はたとえば、特開昭57−−77651
号公報;特開昭57−179141号公報:ケミカル・
アンド・ファーマシューティカル・プレチン、34巻、
2852頁(1986年)に記載の方法により合成する
ことができる。
号公報;特開昭57−179141号公報:ケミカル・
アンド・ファーマシューティカル・プレチン、34巻、
2852頁(1986年)に記載の方法により合成する
ことができる。
化合物(X[)はたとえば、特開昭58−103364
号公報;特開昭61−178954号公報:ケミカル・
アンドーファーマシューティカル・プレチン、34巻、
2852頁(1986年)に記載の方法により合成する
ことができる。
号公報;特開昭61−178954号公報:ケミカル・
アンドーファーマシューティカル・プレチン、34巻、
2852頁(1986年)に記載の方法により合成する
ことができる。
化合物(XI[[)はたとえば、特開昭47−1412
7号公報:特開昭47−16422号公報:特開昭48
−1001号公報に記載の方法により合成することがで
きる。また、塩基の存在下、オキシ塩化リンと、オキシ
塩化リンの約2倍モ+30℃で0.5〜3時間反応させ
、化合物(XI[[)を分離精製することなく、反応混
合物のまま化合物(X[)と(XI)の縮合反応に使用
することもできる。
7号公報:特開昭47−16422号公報:特開昭48
−1001号公報に記載の方法により合成することがで
きる。また、塩基の存在下、オキシ塩化リンと、オキシ
塩化リンの約2倍モ+30℃で0.5〜3時間反応させ
、化合物(XI[[)を分離精製することなく、反応混
合物のまま化合物(X[)と(XI)の縮合反応に使用
することもできる。
本発明で得られる化合物(1)は、たとえば加水分解反
応、脱離反応または接触還元反応により、容易に化合物
(Ia)に導くことができる。加水分解反応(11が低
級アルキル基またはアラルキル基の場合)あるいは脱離
反応(R’がtert−ブチル基の場合)は水またはた
とえばメタノール、エタノール、酢酸エチル、クロロホ
ルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、酢
酸、アセトン、塩化メチレンなどの有機溶媒あるいはそ
れらの混合溶媒、中で行なわれ、酸(例、塩化水素、臭
化水素、フッ化水素、沃化水素、硫酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸)ある
いは塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム。
応、脱離反応または接触還元反応により、容易に化合物
(Ia)に導くことができる。加水分解反応(11が低
級アルキル基またはアラルキル基の場合)あるいは脱離
反応(R’がtert−ブチル基の場合)は水またはた
とえばメタノール、エタノール、酢酸エチル、クロロホ
ルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、酢
酸、アセトン、塩化メチレンなどの有機溶媒あるいはそ
れらの混合溶媒、中で行なわれ、酸(例、塩化水素、臭
化水素、フッ化水素、沃化水素、硫酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸)ある
いは塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム。
酢酸ナトリウム)を添加して行なうこともできる。
上記反応は通常−20〜+150℃程度の範囲で行なわ
れる。また接触還元反応(R’がベンジル基の場合)は
水またはたとえばメタノール、エタノール、酢酸エチル
、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの有機溶媒ある
いはそれらの混合溶媒中、たとえばパラジウム−炭素な
どの過当な触媒の存在下に行われる。本反応は常圧ない
し150kg/cm”程度までの圧力下、−20°〜+
150℃の温度で行われる。
れる。また接触還元反応(R’がベンジル基の場合)は
水またはたとえばメタノール、エタノール、酢酸エチル
、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの有機溶媒ある
いはそれらの混合溶媒中、たとえばパラジウム−炭素な
どの過当な触媒の存在下に行われる。本反応は常圧ない
し150kg/cm”程度までの圧力下、−20°〜+
150℃の温度で行われる。
前記接触還元反応は、化合物(1)に対してパラジウム
−炭素、1−100(W/W)%(さらに好ましくは2
〜20 (W/W)%)[乾燥物換算]を用い、低級(
C、−、)アルコール(例、メタノール、エタノール、
プロパツール)または水および前記低級アルコールの混
合溶媒中、常圧ないしtQkg/cm”の水素圧中、0
°〜+40℃で行われることが望ましい。反応時間は0
.5〜5時間程度であり、溶媒中に酸(例、塩化水素)
が添加されることが好ましい。
−炭素、1−100(W/W)%(さらに好ましくは2
〜20 (W/W)%)[乾燥物換算]を用い、低級(
C、−、)アルコール(例、メタノール、エタノール、
プロパツール)または水および前記低級アルコールの混
合溶媒中、常圧ないしtQkg/cm”の水素圧中、0
°〜+40℃で行われることが望ましい。反応時間は0
.5〜5時間程度であり、溶媒中に酸(例、塩化水素)
が添加されることが好ましい。
化合物(I a)の塩(好ましくは薬理学的に許容され
うる酸付加塩)は化合物(I a)を製造するための反
応自体で得られることもあるが、化合物(I a)に酸
(例、塩化水素)を加えて製造することらできる。
うる酸付加塩)は化合物(I a)を製造するための反
応自体で得られることもあるが、化合物(I a)に酸
(例、塩化水素)を加えて製造することらできる。
(実施例)
以下に、実施例をあげて本発明を説明するが、もとより
本発明はこれらに限定されるものではない。生成物の純
度は高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用い、
標準品との比較、あるいはピーク面積百分率法により算
出した。また分析には下記条件を使用した。
本発明はこれらに限定されるものではない。生成物の純
度は高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用い、
標準品との比較、あるいはピーク面積百分率法により算
出した。また分析には下記条件を使用した。
カラム:Nucleosil +oC*s (4,0a
nl Dx300 am) 移動相ニアセトニトリル10.03Mリン酸二水素カリ
ウム溶液=65/35 洸速 :l−/Win 検出 :254n量 実施例1 N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニン5.Og(18m1iol)
とtert−ブチル N−(インダン−2−イル)グリ
シナ−) 5 、5 g(22a+5ol)を塩化メチ
レン200成に加えた後水冷し、トリエチルアミン2.
6鑓(19a+mol)を加えた。水冷下反応液をかき
混ぜながらジフェニルホスホロクロリデート(市販品)
7.2g(27asol)を加えた後トリエチルアミン
2 、6 s4(19mmol)の塩化メチレン溶液(
301R1)・を滴下した。反応液を10℃以下で2時
間かき混ぜた浸水4001dlと塩化メチレン200k
lの混液に注ぎ、有機層を分取した。有機層をlO%リ
ン酸水300カ4.1Nカセイソーダ溶液300−およ
び水400dで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧で留去して黄色油状物13.9gを得た。
nl Dx300 am) 移動相ニアセトニトリル10.03Mリン酸二水素カリ
ウム溶液=65/35 洸速 :l−/Win 検出 :254n量 実施例1 N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニン5.Og(18m1iol)
とtert−ブチル N−(インダン−2−イル)グリ
シナ−) 5 、5 g(22a+5ol)を塩化メチ
レン200成に加えた後水冷し、トリエチルアミン2.
6鑓(19a+mol)を加えた。水冷下反応液をかき
混ぜながらジフェニルホスホロクロリデート(市販品)
7.2g(27asol)を加えた後トリエチルアミン
2 、6 s4(19mmol)の塩化メチレン溶液(
301R1)・を滴下した。反応液を10℃以下で2時
間かき混ぜた浸水4001dlと塩化メチレン200k
lの混液に注ぎ、有機層を分取した。有機層をlO%リ
ン酸水300カ4.1Nカセイソーダ溶液300−およ
び水400dで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧で留去して黄色油状物13.9gを得た。
本油状物中の目的物tert−ブチル N−[N−[(
S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル
]−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シナートをHPLCで標準品と比較して定量すると純度
65.6%で収率は98%であった。
S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル
]−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シナートをHPLCで標準品と比較して定量すると純度
65.6%で収率は98%であった。
上記油状物を酢酸エチル100−に溶かし、10%重曹
水100t9を加え室温で30分攪拌した。酢酸エチル
層を分取し、減圧で濃縮すると目的物の純度は94%と
なった。
水100t9を加え室温で30分攪拌した。酢酸エチル
層を分取し、減圧で濃縮すると目的物の純度は94%と
なった。
なお標準品はChes、 Phars、 Bull
、、34@。
、、34@。
2852頁(1986年)記載の方法によって製造した
。
。
実施例2
tert−ブチル N−(インダン−2−イル)グリシ
ナート3.54g(14,3gmol)を塩化メチレン
90−に溶かし、5℃以下に冷却した。攪拌上同温度で
ジフェニルホスホロクロリゾ−)4.81g(17,9
+a■ol)の塩化メチレン溶液(10艷)およびトリ
エチルアミン2 、5 g(25+ueol)を加え、
さらに2時間攪拌した後室温で一夜放置した。反応液に
N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニン3.33g(11,9+es
ol)を加え室温で2時間かき混ぜた。
ナート3.54g(14,3gmol)を塩化メチレン
90−に溶かし、5℃以下に冷却した。攪拌上同温度で
ジフェニルホスホロクロリゾ−)4.81g(17,9
+a■ol)の塩化メチレン溶液(10艷)およびトリ
エチルアミン2 、5 g(25+ueol)を加え、
さらに2時間攪拌した後室温で一夜放置した。反応液に
N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニン3.33g(11,9+es
ol)を加え室温で2時間かき混ぜた。
反応混合物を水100−および10%リン酸溶液601
dlで洗った後溶媒を留去した。残留物を酢酸エチル1
00−に溶かし、10%炭酸ソーダ溶液50−および水
60−で洗った後酢酸エチルを減圧で留去すると7.6
1gの黄色油状物が得られた。
dlで洗った後溶媒を留去した。残留物を酢酸エチル1
00−に溶かし、10%炭酸ソーダ溶液50−および水
60−で洗った後酢酸エチルを減圧で留去すると7.6
1gの黄色油状物が得られた。
本油状物中のtert−ブチル N−[N−[(S)−
1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L
−アラニル)−N−(インダン−2−イル)グリシナー
トを定量すると純度80.0%で収率は100%であっ
た。
1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L
−アラニル)−N−(インダン−2−イル)グリシナー
トを定量すると純度80.0%で収率は100%であっ
た。
実施例3
塩化メチレン250klにN−[(S)−1−エトキシ
カルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラニン1
0.Og(35,8+uol)とエチル N−(インダ
ン−2−イル)グリシナ−)9.42g(43,0+u
ol)を懸濁させて水冷し、トリエチルアミン5.2−
(37asol)を加え溶解させた。ジフェニルホスホ
ロクロリデート8.91111(43■mol)を添加
後トリエチルアミン5.2M1(37asol)の塩化
メチレン溶液(25d)を滴下し、10℃以下で2時間
攪拌した。反応液を水30 (ldl、 l 0%リン
酸溶液300dで2回、水300−で洗浄した後有機層
を減圧濃縮した。残留物を酢酸エチル300−に溶かし
、10%リン酸溶液300−。
カルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラニン1
0.Og(35,8+uol)とエチル N−(インダ
ン−2−イル)グリシナ−)9.42g(43,0+u
ol)を懸濁させて水冷し、トリエチルアミン5.2−
(37asol)を加え溶解させた。ジフェニルホスホ
ロクロリデート8.91111(43■mol)を添加
後トリエチルアミン5.2M1(37asol)の塩化
メチレン溶液(25d)を滴下し、10℃以下で2時間
攪拌した。反応液を水30 (ldl、 l 0%リン
酸溶液300dで2回、水300−で洗浄した後有機層
を減圧濃縮した。残留物を酢酸エチル300−に溶かし
、10%リン酸溶液300−。
10%炭酸ナトリウム溶液300d、希食塩水301)
teで順番に洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
teで順番に洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧下で留去してエチル N−[N−[(S)−
1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L
−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシナー
トを主成分とする油17.12gを得た。HPLCビー
ク面積百分率91.5%、収率91.1%。
1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L
−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシナー
トを主成分とする油17.12gを得た。HPLCビー
ク面積百分率91.5%、収率91.1%。
NMRスペクトル(CD CIs)δ: 1.23.1
.26(各々311、t、C1,X 2)、1.32(
3H,d、c[(、)、4.12,4.15(各々2H
,Q、COx)、6.9−7.3(9H,a、Ph)。
.26(各々311、t、C1,X 2)、1.32(
3H,d、c[(、)、4.12,4.15(各々2H
,Q、COx)、6.9−7.3(9H,a、Ph)。
但し、Sは一重線、dは二重線、tは三重線、qは四重
線、麿は多重線、Phはフェニル基を意味する(以下の
実施例においても同様である)。
線、麿は多重線、Phはフェニル基を意味する(以下の
実施例においても同様である)。
I RXXツクルNeatcm−’: 3300.17
4G、1645゜ax 実施例4 N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニン8.00g(2B、6exI
lol)とベンジル N−(インダン−2−イル)グリ
シナート9.67g(34,4m5ol)を実施例3と
同様に反応・処理してベンジル N −[N−[(S
)−!−エトキシカルボニルー3−フェニルプロピル]
−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシ
ナートを主成分とする油17.04gを得た。
4G、1645゜ax 実施例4 N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニン8.00g(2B、6exI
lol)とベンジル N−(インダン−2−イル)グリ
シナート9.67g(34,4m5ol)を実施例3と
同様に反応・処理してベンジル N −[N−[(S
)−!−エトキシカルボニルー3−フェニルプロピル]
−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシ
ナートを主成分とする油17.04gを得た。
HPLCピーク面積百分率87.5%、収率96.0%
。
。
NMRスペクトル(CD C13)δ: 1.29(3
H,L、C11,)。
H,L、C11,)。
1.33(311,d、Cl1s) 、 4 、16(
21t、q、 C11,) 、 5.07(28,s
。
21t、q、 C11,) 、 5.07(28,s
。
C11t)、7.0−7.4(14111m、Ph)。
I Rス/<クトル”tcm−’: 3300,174
0,1645゜+iax 実施例5 塩化メチレン240−にエチル N−(インダン−2−
イル)グリシナート8.16g(37,2gaol)、
ジフェニルホスホロクロリデート7.21n1(34I
II+101)およびトリエチルアミン4.8d(34
msol)を溶かし、室温で7時間攪拌した後−夜装置
した。反応液にN−[(S)−1−エトキシカルボニル
−3−フェニルプロピル]−L−アラニン8.00g(
28,6mmol)を加え、水冷後トリエチルアミン4
.21111(30vaol)の塩化メチレン溶液(1
2t12)を滴下した後10℃以下で2時間攪拌した後
、実施例3と同様に処理してエチル N−[N−[(S
)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]
−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシ
ナートを主成分とする油13.46gを得た。HPLC
ビーク面積百分率9166%、収率89.6%。
0,1645゜+iax 実施例5 塩化メチレン240−にエチル N−(インダン−2−
イル)グリシナート8.16g(37,2gaol)、
ジフェニルホスホロクロリデート7.21n1(34I
II+101)およびトリエチルアミン4.8d(34
msol)を溶かし、室温で7時間攪拌した後−夜装置
した。反応液にN−[(S)−1−エトキシカルボニル
−3−フェニルプロピル]−L−アラニン8.00g(
28,6mmol)を加え、水冷後トリエチルアミン4
.21111(30vaol)の塩化メチレン溶液(1
2t12)を滴下した後10℃以下で2時間攪拌した後
、実施例3と同様に処理してエチル N−[N−[(S
)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]
−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシ
ナートを主成分とする油13.46gを得た。HPLC
ビーク面積百分率9166%、収率89.6%。
実施例6
塩化メチレン200−にベンジル N−(インダン−2
−イル)グリシナ−11,67g(34,4m5ol)
、ジフェニルホスホロクロリデート7.2#ll!(3
4amol)およびトリエチルアミン4.8!(34m
mol)を溶かし、室温で6時間攪拌した後−夜装置し
た。反応液にN−[(S)−1−エトキシカルボニル−
3−フェニルプロピル]−L−アラニン8.00g(2
8,6+uol)を加え、水冷後トリエチルアミン42
dC30+uol)の塩化メチレン溶液(20d)を滴
下した後10℃以下で2時間攪拌した後、実施例3と同
様に処理してベンジル N−[N −[(s )−l−
エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−ア
ラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシナートを
主成分とする油16.94gを得た。HPLCビーク面
積百分率88.7%、収率96,7%。
−イル)グリシナ−11,67g(34,4m5ol)
、ジフェニルホスホロクロリデート7.2#ll!(3
4amol)およびトリエチルアミン4.8!(34m
mol)を溶かし、室温で6時間攪拌した後−夜装置し
た。反応液にN−[(S)−1−エトキシカルボニル−
3−フェニルプロピル]−L−アラニン8.00g(2
8,6+uol)を加え、水冷後トリエチルアミン42
dC30+uol)の塩化メチレン溶液(20d)を滴
下した後10℃以下で2時間攪拌した後、実施例3と同
様に処理してベンジル N−[N −[(s )−l−
エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−ア
ラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシナートを
主成分とする油16.94gを得た。HPLCビーク面
積百分率88.7%、収率96,7%。
実施例7
塩化メチレンtoo111!にフェノールlO0皇g(
0,107aol)を溶かし、5℃以下に冷却してオキ
シ塩化リン8.23g(54msol)を加え、さらに
同温度でトリエチルアミンI Q、9g(0,I Q
7mol)のジクロルメタン溶液(30d)を滴下した
後10℃以下で1時間攪拌した。
0,107aol)を溶かし、5℃以下に冷却してオキ
シ塩化リン8.23g(54msol)を加え、さらに
同温度でトリエチルアミンI Q、9g(0,I Q
7mol)のジクロルメタン溶液(30d)を滴下した
後10℃以下で1時間攪拌した。
別に塩化メチレン300d、N−[(S)−璽−エトキ
シカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラニン
l O、Og(35、8m5ol)、tert−ブチル
N−(インダン−2−イル)グリシナート10.6g(
42,9*+++ol)およびトリエチルアミン3.7
8g(37,3a+m01)の溶液を調製した。本溶液
に前記ジフェニルポスホロクロリデート溶液を10℃以
下で滴下した後トリエチルアミン3.78g(37,3
111mol)を滴下し、さらに同温度で2時間攪拌し
た。反応液を水400mM、to%リン酸溶液3001
n1で2回、水400−で洗浄した後溶媒を留去した。
シカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラニン
l O、Og(35、8m5ol)、tert−ブチル
N−(インダン−2−イル)グリシナート10.6g(
42,9*+++ol)およびトリエチルアミン3.7
8g(37,3a+m01)の溶液を調製した。本溶液
に前記ジフェニルポスホロクロリデート溶液を10℃以
下で滴下した後トリエチルアミン3.78g(37,3
111mol)を滴下し、さらに同温度で2時間攪拌し
た。反応液を水400mM、to%リン酸溶液3001
n1で2回、水400−で洗浄した後溶媒を留去した。
残留物を酢酸エチル150−に溶かし、10%リン酸溶
液tooy、to%炭酸ソーダ溶液150w11.水1
5011rlで洗った後濃縮して残留物20.56gを
得た。本油状物中のtert−ブチル N−[N−[(
S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル
]−シーアラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シナートの純度は82.7%で収率は93.4%であっ
た。
液tooy、to%炭酸ソーダ溶液150w11.水1
5011rlで洗った後濃縮して残留物20.56gを
得た。本油状物中のtert−ブチル N−[N−[(
S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル
]−シーアラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シナートの純度は82.7%で収率は93.4%であっ
た。
実施例8〜15
実施例7と同一条件で各種フェノール(3当Iり
。
。
とオキシ塩化リン(1,5当量)からビス置換フェニル
ホスホロクロリデートを製造し、tert−ブチル N
−[N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェ
ニルプロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2
−イル)グリシナートを得た。本島をHP L Cで定
量し、収率を算出した。
ホスホロクロリデートを製造し、tert−ブチル N
−[N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェ
ニルプロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2
−イル)グリシナートを得た。本島をHP L Cで定
量し、収率を算出した。
実施例16
塩化メチレン90teにm−クレゾール11.50g(
0,106餉o1)を溶かし、水冷下オキシ塩化リンフ
、41g(48,3+*aol)を加え、さらにトリエ
チルアミンI O,76g(0,106moυの塩化メ
チレン溶液(l Od)を滴下した後1時間攪拌した。
0,106餉o1)を溶かし、水冷下オキシ塩化リンフ
、41g(48,3+*aol)を加え、さらにトリエ
チルアミンI O,76g(0,106moυの塩化メ
チレン溶液(l Od)を滴下した後1時間攪拌した。
後10℃以下でtert−ブチル N−(インダン−2
−イル)グリシナート9.56g(38,7m5ol)
を加えた後トリエチルアミン3.78g(37,3+u
eol)を加え、さらに室温で7時間攪拌して一夜放置
した。別に塩化メチレン290蔵、N−[(S)−1−
エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−ア
ラニン9.Og(32,2m1ol)およびトリエチル
アミン3.40g(33,6mmol)の溶液を調製し
、水冷上前記の反応液を滴下した。後10℃以下で2時
間攪拌後実施例7と同様に処理・定量した。収量21.
9g、純度61.8%、収率82.7%。
−イル)グリシナート9.56g(38,7m5ol)
を加えた後トリエチルアミン3.78g(37,3+u
eol)を加え、さらに室温で7時間攪拌して一夜放置
した。別に塩化メチレン290蔵、N−[(S)−1−
エトキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−ア
ラニン9.Og(32,2m1ol)およびトリエチル
アミン3.40g(33,6mmol)の溶液を調製し
、水冷上前記の反応液を滴下した。後10℃以下で2時
間攪拌後実施例7と同様に処理・定量した。収量21.
9g、純度61.8%、収率82.7%。
実施例I7
実施例4と同様にして得られたベンジル N−[N −
[(S )−1−エトキシカルボニル−3〜フェニルプ
ロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル
)グリシナート30.0g(純度81.1%)をエタノ
ール250−に溶解し、35%塩酸9.3gおよび5%
パラジウム炭素(50%湿性)5.0gを加えた後約3
0℃で水素を通導した(約1時間)。反応終了後触媒を
ろ去し、エタノールで洗った後、ろ液および洗液を減圧
で濃縮した。
[(S )−1−エトキシカルボニル−3〜フェニルプ
ロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2−イル
)グリシナート30.0g(純度81.1%)をエタノ
ール250−に溶解し、35%塩酸9.3gおよび5%
パラジウム炭素(50%湿性)5.0gを加えた後約3
0℃で水素を通導した(約1時間)。反応終了後触媒を
ろ去し、エタノールで洗った後、ろ液および洗液を減圧
で濃縮した。
残留物に酢酸エチル200dを加えて再濃縮した後酢酸
エチル250−を加え、10℃以下に冷却した。析出結
晶をろ取、酢酸エチルで洗った後減圧で乾燥し、21.
9g(純度94.7%)のN−[N−[(S)−1−エ
トキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラ
ニル]−N−(インダン−2−イル)グリシン塩酸塩を
得た。収率94.3%。
エチル250−を加え、10℃以下に冷却した。析出結
晶をろ取、酢酸エチルで洗った後減圧で乾燥し、21.
9g(純度94.7%)のN−[N−[(S)−1−エ
トキシカルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラ
ニル]−N−(インダン−2−イル)グリシン塩酸塩を
得た。収率94.3%。
なお母液には3.0%に相当する目的物が認められた。
実施例18
酢酸エチル70steにtert−ブチル N −[N
−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2−イ
ル)グリシナート19.4g(純度83.6%)を溶か
し、10℃以下に冷却しながら、塩酸ガスを17.5g
吹き込んだ。冷浴をはずし、室温で3時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル70−を加え、10
℃以下に冷却しながら1時間攪拌した。析出結晶をろ取
、酢酸エチルで洗った後減圧で乾燥し、14.7g(純
度96.0%)のN−[N−[(S)−1−エトキシカ
ルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラニル]−
N−(インダン−2−イル)グリシン塩酸塩を得た。収
率91%。
−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フェニル
プロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2−イ
ル)グリシナート19.4g(純度83.6%)を溶か
し、10℃以下に冷却しながら、塩酸ガスを17.5g
吹き込んだ。冷浴をはずし、室温で3時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル70−を加え、10
℃以下に冷却しながら1時間攪拌した。析出結晶をろ取
、酢酸エチルで洗った後減圧で乾燥し、14.7g(純
度96.0%)のN−[N−[(S)−1−エトキシカ
ルボニル−3−フェニルプロピル]−L−アラニル]−
N−(インダン−2−イル)グリシン塩酸塩を得た。収
率91%。
(発明の作用および効果)
本発明により、ACE阻害作用に基づく降圧作用を有す
るインダン誘導体の製造中間体が安全に、しかも収率よ
く得られ、また、得られた製造中間体は容易に降圧作用
を有するインダン誘導体に導くことができ、本発明はイ
ンダン誘導体の工業的製造法として有用である。
るインダン誘導体の製造中間体が安全に、しかも収率よ
く得られ、また、得られた製造中間体は容易に降圧作用
を有するインダン誘導体に導くことができ、本発明はイ
ンダン誘導体の工業的製造法として有用である。
Claims (6)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) [式中、R^1は低級アルキル基またはアラルキル基を
示す]で表わされる化合物に式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲンを示す]で表わされる
ジフェニルホスホロクロリデート類と式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) [式中、R^2は低級アルキル基を、R^3はアラルキ
ル基を、R^4は低級アルキル基を示す]で表わされる
化合物とを反応させることを特徴とする式▲数式、化学
式、表等があります▼( I ) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされるインダン
誘導体の製造法。 - (2)R^1がtert−ブチル基である請求項1記載
の製造法。 - (3)R^1がベンジル基である請求項1記載の製造法
。 - (4)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) [式中、R^1は低級アルキル基またはアラルキル基を
示す]で表わされる化合物に式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲンを示す]で表わされる
ジフェニルホスホロクロリデート類と式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) [式中、R^2は低級アルキル基を、R^3はアラルキ
ル基を、R^4は低級アルキル基を示す]で表わされる
化合物とを反応させ、得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる化合物を
加水分解反応に付すことを特徴とする式▲数式、化学式
、表等があります▼( I a) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされるインダン
誘導体またはその塩の製造法。 - (5)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) [式中、R^1はtert−ブチル基を示す]で表わさ
れる化合物に式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲンを示す]で表わされる
ジフェニルホスホロクロリデート類と式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) [式中、R^2は低級アルキル基を、R^3はアラルキ
ル基を、R^4は低級アルキル基を示す]で表わされる
化合物とを反応させ、得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる化合物を
脱離反応に付すことを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされるインダン
誘導体またはその塩の製造法。 - (6)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中、R^1は置換されていてもよいベンジル基を示
す]で表わされる化合物に式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲンを示す]で表わされる
ジフェニルホスホロクロリデート類と式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) [式中、R^2は低級アルキル基を、R^3はアラルキ
ル基を、R^4は低級アルキル基を示す]で表わされる
化合物とを反応させ、得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる化合物を
接触還元反応に付すことを特徴とする式▲数式、化学式
、表等があります▼( I a) [式中、各記号は前記と同意義]で表わされるインダン
誘導体またはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63044879A JPS64100A (en) | 1987-03-04 | 1988-02-26 | Production of indane derivative |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5087687 | 1987-03-04 | ||
JP62-50876 | 1987-03-04 | ||
JP63044879A JPS64100A (en) | 1987-03-04 | 1988-02-26 | Production of indane derivative |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01100A true JPH01100A (ja) | 1989-01-05 |
JPS64100A JPS64100A (en) | 1989-01-05 |
JPH0541639B2 JPH0541639B2 (ja) | 1993-06-24 |
Family
ID=12870920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63044879A Granted JPS64100A (en) | 1987-03-04 | 1988-02-26 | Production of indane derivative |
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---|---|
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EP (1) | EP0281393B1 (ja) |
JP (1) | JPS64100A (ja) |
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AT (1) | ATE92500T1 (ja) |
CA (1) | CA1312995C (ja) |
DE (1) | DE3882744T2 (ja) |
DK (1) | DK100788A (ja) |
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HU (1) | HU200476B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030046079A (ko) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | 주식회사 코오롱 | 고순도 염산 델라프릴의 신규한 정제방법 |
CN103151082B (zh) * | 2013-03-06 | 2016-01-20 | 中广核检测技术有限公司 | 核电站稳压器电加热元件套管涡流检查装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU543804B2 (en) * | 1980-10-31 | 1985-05-02 | Takeda Chemical Industries Ltd. | Amides having bicyclic substituents on nitrogen |
US4532342A (en) * | 1981-02-20 | 1985-07-30 | Warner-Lambert Company | N-substituted amino acids as intermediates in the preparation of acyl derivatives of 1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline-3-carboxylic acids |
US4820729A (en) * | 1981-03-30 | 1989-04-11 | Rorer Pharmaceutical Corporation | N-substituted-amido-amino acids |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP63044879A patent/JPS64100A/ja active Granted
- 1988-02-26 DK DK100788A patent/DK100788A/da not_active Application Discontinuation
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