JP7828803B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、複数の基板を処理槽で処理する基板処理装置に関する。

半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられる。

このような基板処理装置として、複数の基板を処理槽に貯留された処理液に浸漬し、エッチング等の処理を行うバッチ式の基板処理装置がある。例えば、特許文献１に記載されたバッチ式の基板処理装置は、フープ保持部、基板処理部および搬入搬出機構を含む。フープ保持部は、フープ（ＦＯＵＰ：Front Opening Unified Pod）を保持可能に構成される。フープは、複数の基板が上下方向に所定ピッチで並ぶように、複数の基板を水平姿勢で保持しつつ収容可能に構成された収容器である。

その基板処理装置においては、未処理の複数の基板が収容されたフープがフープ保持部に供給され、保持される。この状態で、搬入搬出機構が備えるハンドによりフープから複数の基板が取り出される。そのハンドは、複数枚の基板を一括して保持可能に構成されている。ハンドにより取り出された複数の基板は、複数の搬送機構および支持機構を介して基板処理部に渡される。

基板処理部は、複数の処理槽および主搬送機構を有する。複数の処理槽の各々には、基板に所定の処理を行うための処理液が貯留されている。基板処理部に渡された未処理の複数の基板の各々は、主搬送機構により複数の処理槽のいずれかの上方の位置まで搬送される。主搬送機構も、上記のハンドと同様に、複数の基板を一括して保持可能に構成されている。

複数の処理槽のいずれかの上方の位置まで搬送された複数の基板は、当該複数の基板の下方にある処理槽内の処理液に、一定時間浸漬され、引き上げられる。それにより、複数の基板に所定の処理が行われる。処理後の複数の基板は、基板処理部から取り出され、複数の搬送機構および支持機構を介してフープ保持部に保持された空のフープに挿入される。処理後の複数の基板が収容されたフープは、基板処理装置から搬出される。

特開２０１１－２３８９４５号公報

上記のように、特許文献１に記載された基板処理装置においては、複数の基板が、複数の搬送機構の間で一体的に受け渡される。これらの複数の搬送機構は、複数の基板を一括して保持するために比較的複雑な構成を有する。このような複雑な構成は、複数の搬送機構に対する洗浄等のメンテナンス作業を煩雑化させる。

また、上記の基板処理装置においては、複数の基板は、フープから取り出された後、基板処理部に渡される直前から空のフープに挿入されるまでの間、鉛直姿勢が維持されつつ複数の搬送機構により搬送される。この場合、複数の搬送機構の各々は、鉛直姿勢にある複数の基板の下端部またはその近傍部分を支持することになる。そのため、上記の各基板の下端部またはその近傍部分における被支持部には、当該基板の自重が集中して作用しやすい。この状態で、長距離に渡って基板が搬送されると、基板の被支持部が破損する可能性がある。

本発明の目的は、搬送機構の構成の複雑化を抑制するとともに基板の搬送時に基板が破損することを低減することが可能な基板処理装置を提供することである。

（１）本発明の一局面に従う基板処理装置は、複数の基板を収容可能に構成されたキャリアと、キャリアを、予め定められた搬送経路上で予め定められた一の搬送方向に搬送する搬送機構と、搬送経路のうち予め定められた処理部分上に設けられ、複数の基板がキャリアに収容された状態で、当該キャリアに収容された複数の基板に予め定められた処理を行う処理ユニットと、キャリアの姿勢を、複数の基板を鉛直姿勢で収容可能な第１の姿勢と複数の基板を水平姿勢で収容可能な第２の姿勢との間で変更させる姿勢変更部とを備え、姿勢変更部は、搬送経路のうち処理部分でキャリアの姿勢が第１の姿勢で維持されるように、かつ複数の基板がキャリアに収容された状態で、搬送経路のうち処理部分を除く非処理部分の少なくとも一部においてキャリアの姿勢が第２の姿勢で維持されるように、搬送経路上に設けられる。

その基板処理装置においては、キャリアが、搬送機構により搬送経路上で一の搬送方向に搬送される。キャリアは、複数の基板を収容可能に構成されている。この場合、搬送機構は、複数の基板が収容されたキャリアを搬送することにより、複数の基板を一体的に取り扱うことができる。そのため、搬送機構は、複数の基板を一体的かつ直接的に保持するための煩雑な構成を要しない。

また、上記の基板処理装置においては、搬送経路上に設けられた姿勢変更部により、キャリアの姿勢が第１の姿勢と第２の姿勢との間で変更される。それにより、搬送経路の処理部分では、キャリアの姿勢が第１の姿勢に維持される。この場合、処理部分において、キャリアに収容された複数の基板が鉛直姿勢で収容されるので、複数の基板を処理液に浸漬させる処理等の複数の基板に対する一括した処理が可能になる。

一方、搬送経路の非処理部分の少なくとも一部では、キャリアの姿勢が第２の姿勢に維持される。キャリアの姿勢が第２の姿勢にあるときに、当該キャリアに収容される複数の基板は水平姿勢で維持される。複数の基板の各々について、水平姿勢にある基板を平面視したときの当該基板の大きさは、鉛直姿勢にある基板を平面視したときの当該基板の大きさよりも大きい。そのため、水平姿勢にある基板は、鉛直姿勢にある基板に対して、基板のより多くの部分を支持することが可能である。したがって、基板の搬送時に、基板の一部に当該基板の自重が集中することにより基板が破損することが低減される。

これらの結果、搬送機構の構成の複雑化を抑制するとともに基板の搬送時に基板が破損することを低減することが可能になる。

（２）処理ユニットは、予め定められた処理に対応する処理液を貯留する処理槽と、搬送機構により搬送されるキャリアを処理槽の処理液に浸漬することおよび処理液に浸漬されたキャリアを処理液から引き上げることが可能に構成されたリフタとを含み、キャリアは、複数の基板が当該キャリアに収容されかつ第１の姿勢にある状態で処理液に浸漬されることにより、当該キャリアに収容された複数の基板を処理液に浸漬させることが可能に構成されてもよい。

この場合、処理ユニットにおいては、キャリアが第１の姿勢で維持されるので、キャリアを処理槽内の処理液に浸漬させることにより、キャリアに収容される複数の基板に適切な処理を行うことができる。

（３）基板処理装置は、未処理の複数の基板を搬入するとともに搬入された複数の基板を一のキャリアに挿入することが可能であり、かつ処理後の複数の基板が収容された他のキャリアから複数の基板を取り出すとともに取り出された複数の基板を搬出することが可能に構成された基板搬入搬出部をさらに備え、搬送経路の始点および終点は、基板搬入搬出部に隣り合うように設定され、搬送経路の処理部分は、搬送経路のうち終点を含む連続した範囲内に定められ、姿勢変更部は、搬送経路において、非処理部分の少なくとも一部よりも下流でかつ処理部分の上流に位置してもよい。

この場合、非処理部分の少なくとも一部において第２の姿勢で搬送されたキャリアの姿勢が姿勢変更部により第１の姿勢に変更され、処理部分において第１の姿勢で搬送される。そのため、処理部分においてキャリアとともに処理液に浸漬された基板は、非処理部分で搬送されない。したがって、処理後の複数の基板が水平姿勢で搬送されないので、上方から下方に落下する塵埃が各基板に付着することが低減される。また、処理槽を用いた処理後の基板が水平姿勢で搬送されないので、搬送中の複数の基板の各々の上面に処理液が残留すること等が防止される。

（４）搬送経路の非処理部分の少なくとも一部は、一の水平面内に位置し、搬送機構は、搬送経路の非処理部分の少なくとも一部に設けられる水平搬送装置を含み、水平搬送装置は、搬送経路に沿って水平に延びるガイド部材と、キャリアを載置可能かつガイド部材上で搬送経路に沿って移動可能に設けられた可動ステージとを含んでもよい。

この場合、搬送経路の非処理部分の少なくとも一部では、可動ステージにキャリアが載置された状態で、可動ステージがガイド部材上を移動する。それにより、キャリアが第２の姿勢で搬送される。このように、上記の水平搬送装置によれば、搬送経路の非処理部分の少なくとも一部においては、キャリアを鉛直方向に移動させることなく搬送することができる。したがって、搬送経路の非処理部分の少なくとも一部においては、搬送に要する空間の鉛直方向の大きさを小さくすることが可能である。

（５）キャリアは、第２の姿勢にあるときの当該キャリアの鉛直方向の寸法が、第１の姿勢にあるときの当該キャリアの鉛直方向の寸法に対して小さくなるように形成されてもよい。

この場合、搬送経路のうちキャリアの姿勢が第２の姿勢で維持される部分では、搬送経路のうちキャリアの姿勢が第１の姿勢で維持される部分に比べて、搬送に要する空間の鉛直方向の大きさを小さくすることが可能である。

（６）キャリアは、キャリアが第１の姿勢にあるときに複数の基板の各々の第１の被支持部を支持する第１の支持部と、キャリアが第２の姿勢にあるときに複数の基板の各々の第２の被支持部を支持する第２の支持部とを有し、水平姿勢にある複数の基板の各々を平面視したときの当該基板における第２の被支持部の大きさは、鉛直姿勢にある複数の基板の各々を平面視したときの当該基板における第１の被支持部の大きさよりも大きくてもよい。

この場合、第２の姿勢にあるキャリアに複数の基板が保持された状態で、複数の基板の各々が、第１の被支持部により支持される。また、第１の姿勢にあるキャリアに複数の基板が保持された状態で、複数の基板の各々が、第２の被支持部により支持される。この場合、各基板を平面視したときの第２の被支持部は、各基板を平面視したときの第１の被支持部よりも大きいので、キャリアが第２の姿勢にある状態で、当該キャリアに収容される各基板の第２の被支持部に加わる負荷が低減される。

本発明によれば、搬送機構の構成の複雑化を抑制するとともに基板の搬送時に基板が破損することを低減することが可能となる。

本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の基本構成を示す模式的平面図である。 図１のＡ－Ａ線における基板処理装置の模式的断面図である。 図１の基板処理装置において用いられるキャリアの平面図である。 図３のキャリアの一方側面図である。 図４のＢ－Ｂ線におけるキャリアの断面図である。 キャリアの姿勢に応じて変化する基板の被支持部を示す平面図である。 図１の基板処理装置における複数の基板およびキャリアの搬送経路を説明するための図である。 図１の基板処理装置における複数の基板およびキャリアの搬送経路を説明するための図である。 図１の基板処理装置における複数の基板およびキャリアの搬送経路を説明するための図である。

以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。また、以下に説明する基板は、平面視で矩形状を有する。

＜１＞基板処理装置の構成
（１）全体構成および方向の定義
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の基本構成を示す模式的平面図である。図２は、図１のＡ－Ａ線における基板処理装置１の模式的断面図である。図１および図２に示すように、基板処理装置１は、主として基板搬入搬出ブロック１００、中継ブロック２００、処理ブロック３００および洗浄ブロック４００を備える。

ここで、図１および図２以降の所定の図には、基板処理装置１の各構成要素の位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向を示す矢印を付している。Ｘ方向およびＹ方向は水平面内で互いに直交し、Ｚ方向は鉛直方向に相当する。また、各方向において矢印が向かう方向を＋方向とし、その＋方向とは反対の方向を－方向とする。以下の説明においては、単にＸ方向と呼ぶ場合、そのＸ方向は、＋Ｘ方向および－Ｘ方向を含むものとする。また、単にＹ方向と呼ぶ場合、そのＹ方向は、＋Ｙ方向および－Ｙ方向を含むものとする。また、単にＺ方向と呼ぶ場合、そのＺ方向は、＋Ｚ方向および－Ｚ方向を含むものとする。

（２）基板搬入搬出ブロック１００
基板搬入搬出ブロック１００は、複数のフープ棚１１０、フープ搬送装置１１１，１１２、オープナ１２０，１３０、基板受渡ロボット１４０，１５０、２個のフープ載置部１９０および制御部１６０（図２）を含む。また、基板搬入搬出ブロック１００は、基板処理装置１の外壁の一部を構成する端面部１０１、一方側面部１０２および他方側面部１０３を有する。端面部１０１は、－Ｘ方向を向く基板処理装置１の一端部に位置し、Ｘ方向に直交する。一方側面部１０２および他方側面部１０３は、Ｙ方向において互いに対向するように、平面視で端面部１０１の両端部から＋Ｘ方向に平行に延びている。

２個のフープ載置部１９０は、端面部１０１から－Ｘ方向に突出するように設けられている。各フープ載置部１９０は、複数の基板を多段に収容するフープ（ＦＯＵＰ：Front Opening Unified Pod）８を載置可能に構成されている。端面部１０１においては、各フープ載置部１９０に対応する部分に、フープ８をＸ方向に通過させるための図示しない通路開口部が形成されている。

フープ８には、そのフープ８の内部空間から基板を取り出すため、およびそのフープ８の内部空間に基板を挿入するための開口部が形成されている。また、フープ８は、その開口部を開閉するための蓋を含む。フープ８の開口部は、フープ８の搬送時および待機時に閉塞され、フープ８に対する基板の取り出し時および挿入時に開放される。図１および図２では、フープ８と後述するキャリア９とが明確に区別できるように、フープ８にハッチングが付され、キャリア９にドットパターンが付されている。図１の例では、Ｙ方向に並ぶ２個のフープ載置部１９０のうち一方のフープ載置部１９０にフープ８が載置され、他方のフープ載置部１９０にフープ８が載置されていない。

複数のフープ棚１１０は、端面部１０１から＋Ｘ方向に所定距離離間した位置で、互いに離間するように設けられている。本例では、１６個のフープ棚１１０が、Ｚ方向およびＹ方向に平行な面内で４行４列で並ぶように、図示しない固定部材により固定されている。各フープ棚１１０は、フープ８を載置可能に構成されている。図１の例では、最上段に位置する４個のフープ棚１１０のうち３個のフープ棚１１０の各々にフープ８が載置され、残りの１個のフープ棚１１０にフープ８が載置されていない。フープ８の数やフープ棚１１０の配列は、装置設計仕様に応じて適宜変更してもよい。

２つのオープナ１２０，１３０は、複数のフープ棚１１０から＋Ｘ方向に所定距離離間した位置で、互いに離間するように設けられている。本例では、２つのオープナ１２０，１３０が、Ｙ方向に並ぶように、図示しない固定部材により固定されている。一方のオープナ１２０は一方側面部１０２の近傍に位置し、他方のオープナ１３０は他方側面部１０３の近傍に位置する。各オープナ１２０，１３０は、フープ８を載置可能かつ載置されたフープ８の蓋を開閉可能に構成されている。図１の例では、一方のオープナ１２０にフープ８が載置され、他方のオープナ１３０にフープ８が載置されていない。

基板受渡ロボット１４０は、＋Ｘ方向においてオープナ１２０に隣り合うように設けられている。基板受渡ロボット１４０は、Ｚ方向の軸の周りで回転可能かつＺ方向に移動可能（昇降可能）に構成されている。基板受渡ロボット１４０には、１または複数の基板を受け渡すためのハンドが設けられている。ハンドは、多関節型アームにより支持され、水平方向に進退可能となっている。基板受渡ロボット１４０は、未処理の基板が収容されたフープ８がオープナ１２０に載置された状態で、そのフープ８から基板を取り出し、取り出した基板を中継ブロック２００内に配置された後述するキャリア９内に挿入するために用いられる。

基板受渡ロボット１５０は、＋Ｘ方向においてオープナ１３０に隣り合うように設けられている。基板受渡ロボット１５０は、基板受渡ロボット１４０と同じ構成を有する。基板受渡ロボット１５０は、空のフープ８がオープナ１３０に載置された状態で、中継ブロック２００内に配置された後述するキャリア９から基板を取り出し、取り出した基板をオープナ１３０上のフープ８内に挿入するために用いられる。

フープ搬送装置１１１は、Ｘ方向における端面部１０１と複数のフープ棚１１０との間に位置する。フープ搬送装置１１１は、フープ８を把持可能に構成された図示しない把持部を有し、その把持部をＹ方向に移動させることおよびＺ方向に移動させることが可能に構成されている。これにより、フープ搬送装置１１１は、２つのフープ載置部１９０のいずれかと、複数のフープ棚１１０のいずれかとの間でフープ８を搬送する。

フープ搬送装置１１２は、Ｘ方向における複数のフープ棚１１０と２つのオープナ１２０，１３０との間に位置する。フープ搬送装置１１２は、フープ搬送装置１１１と同じ構成を有する。フープ搬送装置１１２は、複数のフープ棚１１０のいずれかと、２つのオープナ１２０，１３０のいずれかとの間でフープ８を搬送する。

制御部１６０（図２）は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（リードオンリメモリ）およびＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）を含むコンピュータ等からなり、基板処理装置１内の各構成要素の動作を制御する。

（３）中継ブロック２００
中継ブロック２００は、主として２個のキャリア支持部２１０，２２０、第１待機部２３０、第２待機部２４０および待機搬送装置２５０を備える。キャリア支持部２１０は、＋Ｘ方向において基板搬入搬出ブロック１００の基板受渡ロボット１４０に隣り合うように設けられている。また、キャリア支持部２１０は、複数の基板を多段に収容するキャリア９を支持可能に構成されている。キャリア９の詳細は後述する。さらに、キャリア支持部２１０は、キャリア９を支持するとともに、支持されたキャリア９の姿勢を変更可能に構成されている。キャリア９の姿勢を変更するためのキャリア支持部２１０の構成の詳細については後述する。なお、図１の例では、キャリア支持部２１０上にキャリア９が支持されている。

キャリア支持部２２０は、＋Ｘ方向において基板搬入搬出ブロック１００の基板受渡ロボット１５０に隣り合うように設けられている。また、キャリア支持部２２０は、キャリア支持部２１０と同じ構成を有する。なお、図１の例では、キャリア支持部２２０上にキャリア９は支持されていない。

第１待機部２３０は、＋Ｘ方向においてキャリア支持部２１０に隣り合うように設けられている。また、第１待機部２３０は、キャリア９を支持可能に構成されている。さらに、第１待機部２３０は、当該第１待機部２３０に支持されるキャリア９をキャリア支持部２１０に渡すこと、およびキャリア支持部２１０に支持されるキャリア９をキャリア支持部２１０から受け取ることが可能に構成されている。

第２待機部２４０は、＋Ｘ方向においてキャリア支持部２２０に隣り合うように設けられている。また、第２待機部２４０は、キャリア９を支持可能に構成されている。さらに、第２待機部２４０は、当該第２待機部２４０に支持されるキャリア９をキャリア支持部２２０に渡すこと、およびキャリア支持部２２０に支持されるキャリア９をキャリア支持部２２０から受け取ることが可能に構成されている。

待機搬送装置２５０は、第１待機部２３０と第２待機部２４０との間に設けられている。待機搬送装置２５０は、キャリア９を保持可能かつ第１待機部２３０と第２待機部２４０との間でＹ方向に移動可能に構成されている。待機搬送装置２５０は、例えば第２待機部２４０に支持されたキャリア９を第１待機部２３０に搬送する。

（４）処理ブロック３００
処理ブロック３００は、第１搬送部３１０、第２搬送部３２０および処理部３３０を含む。第１搬送部３１０および処理部３３０は、この順で＋Ｙ方向に並び、中継ブロック２００から＋Ｘ方向に並列に延びるように設けられている。第２搬送部３２０は、Ｙ方向に延びるように形成され、第１搬送部３１０の＋Ｘ方向を向く端部と、処理部３３０の＋Ｘ方向を向く端部とをつないでいる。

以下の説明では、Ｘ方向に延びる第１搬送部３１０の両端部のうち－Ｘ方向を向く一方の端部を適宜第１の端部ＴＡ１と呼び、＋Ｘ方向を向く他方の端部を適宜第２の端部ＴＡ２と呼ぶ。また、Ｘ方向に延びる処理部３３０の両端部のうち－Ｘ方向を向く一方の端部を適宜第３の端部ＴＡ３と呼び、＋Ｘ方向を向く他方の端部を適宜第４の端部ＴＡ４と呼ぶ。

第１搬送部３１０は、主搬送装置３１１および２つの副搬送装置３１２Ａ，３１２Ｂを含む。主搬送装置３１１は、可動ステージ３１１ａおよびガイドレール３１１ｂを含む。ガイドレール３１１ｂは、第１搬送部３１０の第１の端部ＴＡ１から第２の端部ＴＡ２に延びように設けられている。可動ステージ３１１ａは、ガイドレール３１１ｂ上でＸ方向に移動可能かつキャリア９を載置可能に構成されている。主搬送装置３１１は、ガイドレール３１１ｂ上で可動ステージ３１１ａをＸ方向に移動させる図示しない駆動機構をさらに備える。それにより、主搬送装置３１１は、中継ブロック２００に近接する第１の端部ＴＡ１で可動ステージ３１１ａにキャリア９が載置された場合に、載置されたキャリア９を第２搬送部３２０に近接する第２の端部ＴＡ２まで＋Ｘ方向に搬送する。

副搬送装置３１２Ａおよび副搬送装置３１２Ｂは、Ｘ方向における第１搬送部３１０の第１の端部ＴＡ１および第２の端部ＴＡ２にそれぞれ設けられる。副搬送装置３１２Ａは、キャリア支持部２１０に未処理の基板を収容するキャリア９が支持された場合に、当該キャリア９を第１の端部ＴＡ１に配置された主搬送装置３１１の可動ステージ３１１ａ上に載置する。また、副搬送装置３１２Ａは、第１待機部２３０からキャリア支持部２１０へと空のキャリア９を搬送する。一方、副搬送装置３１２Ｂは、キャリア９が載置された可動ステージ３１１ａが第２の端部ＴＡ２まで移動した場合に、当該キャリア９を第２搬送部３２０の後述する搬送装置３２１に渡す。

ここで、図２に示すように、第１搬送部３１０は、基板処理装置１の設置面から＋Ｚ方向（上方）に離間した位置に設けられる。それにより、第１搬送部３１０の－Ｚ方向（下方）に位置する空間は、後述する処理部３３０をメンテナンスするためのメンテナンス空間ＭＳ１として利用可能となる。そのため、本実施の形態に係る基板処理装置１においては、図１に示すように、平面視で第１搬送部３１０が処理部３３０のメンテナンス空間ＭＳ１に重なる。後述する図９では、メンテナンス空間ＭＳ１において、第１搬送部３１０の下方で処理部３３０に対するメンテナンス作業を行う作業者ＷＰが示される。

第２搬送部３２０は、搬送装置３２１を含む。搬送装置３２１は、キャリア９を支持するとともに、支持されたキャリア９の姿勢を変更可能に構成されている。キャリア９の姿勢を変更するための搬送装置３２１の構成の詳細については後述する。さらに、搬送装置３２１は、Ｙ方向に移動可能に構成されている。これにより、第２搬送部３２０は、第１搬送部３１０の第２の端部ＴＡ２近傍で副搬送装置３１２Ｂからキャリア９を受け取ることができる。また、第２搬送部３２０は、副搬送装置３１２Ｂから受け取ったキャリア９の姿勢を変更し、当該キャリア９を処理部３３０の第４の端部ＴＡ４近傍の位置まで移動させることができる。

処理部３３０は、複数（本例では５個）の液処理ユニット３３１、乾燥ユニット３３２および（本例では３個）複数の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃを含む。複数の液処理ユニット３３１および乾燥ユニット３３２は、乾燥ユニット３３２が第３の端部ＴＡ３に位置するようにＸ方向に並んでいる。

複数の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃは、この順で第３の端部ＴＡ３から第４の端部ＴＡ４に向かって＋Ｘ方向に延びる一の直線上に並ぶように設けられている。各主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃは、キャリア９を保持可能に構成されるとともに、保持されたキャリア９を複数の液処理ユニット３３１および乾燥ユニット３３２間で搬送することが可能に構成されている。中継ブロック２００から最も遠い位置にある主搬送装置３３３Ｃは、第２搬送部３２０において処理部３３０の近傍にキャリア９が搬送される場合に、当該キャリア９を受け取る。また、主搬送装置３３３Ｃは、受け取ったキャリア９を複数の液処理ユニット３３１のいずれかに搬送する。

複数の液処理ユニット３３１の各々は、１または複数の処理槽３３１ａおよびリフタ３３１ｂを備える。本例の各液処理ユニット３３１は、２つの処理槽３３１ａを備える。各処理槽３３１ａは、当該処理槽３３１ａの上方の位置からキャリア９を挿入および取り出し可能に構成されている。また、処理槽３３１ａには、キャリア９に収容される複数の基板を洗浄するための処理液（薬液またはリンス液）が貯留されている。

各液処理ユニット３３１のリフタ３３１ｂは、キャリア９を保持可能に構成されている。また、リフタ３３１ｂは、複数の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃのいずれかからキャリア９を受け取ること、および複数の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃのいずれかにキャリア９を渡すことが可能に構成されている。さらに、リフタ３３１ｂは、当該液処理ユニット３３１の２つの処理槽３３１ａの各々について、処理液へのキャリア９の浸漬、および処理液からのキャリア９の引き上げが可能に構成されている。これにより、未処理の基板が収容されたキャリア９が処理部３３０に渡されることにより、当該キャリア９に収容された複数の基板が１または複数の処理液に所定時間浸漬され、複数の基板に共通の処理が行われる。

乾燥ユニット３３２は、中継ブロック２００から最も近い位置にある主搬送装置３３３Ａにより搬送されるキャリア９に乾燥処理を行う。この乾燥処理により、キャリア９内に収容された複数の基板が乾燥する。乾燥処理後のキャリア９は、中継ブロック２００から最も近い位置にある主搬送装置３３３Ａにより中継ブロック２００の第２待機部２４０に渡される。

ここで、複数の液処理ユニット３３１の複数の処理槽３３１ａには、基板に行われるべき複数の処理にそれぞれ対応する複数の処理液が、基板に行われるべき処理の順で－Ｘ方向に並ぶように貯留される。図２の制御部１６０は、主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃの各々に対して、キャリア９を保持する状態で－Ｘ方向に移動することを許容し、キャリア９を保持する状態で＋Ｘ方向に移動することを制限する。この場合、複数のキャリア９が複数の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃにより搬送される際に、一のキャリア９と他のキャリア９とが互いに逆方向に移動することによる干渉の発生が抑制される。また、キャリア９が処理部３３０内でＸ方向に往復移動しないので、処理部３３０におけるキャリア９の搬送経路の長さが、処理部３３０のＸ方向の長さを超えない。

図１に点線で示すように、処理ブロック３００およびその近傍の領域においては、上記のメンテナンス空間ＭＳ１に加えて、処理部３３０の＋Ｙ方向側にさらなるメンテナンス空間ＭＳ２が形成されている。このように、Ｙ方向において処理部３３０を挟み込むように２つのメンテナンス空間ＭＳ１，ＭＳ２が形成されることにより、処理部３３０に対する十分な大きさのメンテナンス空間が確保されている。

（５）洗浄ブロック４００
洗浄ブロック４００は、洗浄搬送装置４１０およびキャリア洗浄ユニット４２０を含む。キャリア洗浄ユニット４２０は、基板搬入搬出ブロック１００および中継ブロック２００の側方（＋Ｙ方向）の位置でＸ方向に延びるように設けられている。また、キャリア洗浄ユニット４２０は、Ｘ方向に並ぶように設けられた複数のキャリア洗浄槽４２１、キャリア乾燥部４２２および複数のキャリア待機部４２３を含む。

複数のキャリア洗浄槽４２１、キャリア乾燥部４２２および複数のキャリア待機部４２３の各々は、当該、槽、乾燥部または待機部の上方の位置からキャリア９を挿入および取り出し可能に構成されている。また、複数のキャリア洗浄槽４２１の各々には、キャリア９を洗浄するための処理液（薬液またはリンス液）が貯留されている。キャリア乾燥部４２２は、挿入されたキャリア９に乾燥処理を行う。

洗浄搬送装置４１０は、空のキャリア９を、中継ブロック２００の第２待機部２４０、複数のキャリア洗浄槽４２１、キャリア乾燥部４２２および複数のキャリア待機部４２３の間で搬送可能に構成されている。洗浄ブロック４００においては、空のキャリア９が複数のキャリア洗浄槽４２１間で搬送され、いずれかのキャリア洗浄槽４２１に貯留された処理液に浸漬される。それにより、処理ブロック３００において複数の基板の処理に用いられた後の空のキャリア９が洗浄される。

洗浄後のキャリア９は、キャリア乾燥部４２２に搬送され、乾燥処理が行われる。乾燥後のキャリア９は、キャリア待機部４２３に搬送され、保持される。その後、中継ブロック２００における複数の基板の受け入れのタイミングに応じて洗浄搬送装置４１０によりキャリア待機部４２３から取り出され、中継ブロック２００の第２待機部２４０に搬送される。

＜２＞キャリア９の構成およびキャリア９の姿勢
図３は図１の基板処理装置１において用いられるキャリア９の平面図であり、図４は図３のキャリア９の一方側面図であり、図５は図４のＢ－Ｂ線におけるキャリア９の断面図である。図３～図５に示すように、キャリア９は、４つのフレーム部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄを含む。

フレーム部材１０ａ，１０ｂの各々は、略正方形の板状部材で形成され、処理対象となる基板よりも大きい外形を有する。フレーム部材１０ａ，１０ｂの各々の中央部分には、４つの開口部１３が形成されている。フレーム部材１０ｃ，１０ｄの各々は、略長方形の板状部材で形成されている。フレーム部材１０ｃ，１０ｄの長辺の長さは、フレーム部材１０ａ，１０ｂの一辺の長さにほぼ等しい。

フレーム部材１０ａ，１０ｂは、互いに対向した状態で離間するように配置されている。フレーム部材１０ａの一側辺とフレーム部材１０ｂの一側辺とをつなぐようにフレーム部材１０ｃが設けられている。フレーム部材１０ａの他側辺とフレーム部材１０ｂの他側辺とをつなぐようにフレーム部材１０ｄが設けられている。この状態で、フレーム部材１０ｃ，１０ｄも互いに対向配置されている。これにより、キャリア９は角筒形状を有する。

角筒形状を有するキャリア９の一方の端部に形成される矩形の開口部は、キャリア９内に基板を挿入するため、およびキャリア９から基板を取り出すための基板出入口１２として機能する。キャリア９の他方の端部には、フレーム部材１０ａとフレーム部材１０ｂとの間をつなぐようにかつフレーム部材１０ｃとフレーム部材１０ｄとの間で分散配置されるように、複数（本例では６個）の支持片１１が設けられている。

各支持片１１は、長尺状の板部材で構成され、フレーム部材１０ｃ，１０ｄと平行に設けられている。また、各支持片１１には、キャリア９に収容される複数の基板の外縁の一部を挿入可能な図示しない複数の溝が予め定められた基準ピッチで形成されている。各支持片１１に形成される溝の数は、キャリア９に収容されるべき基板の数に等しい。

フレーム部材１０ｃ，１０ｄの互いに対向する２つの面の各々には、複数の突出部ｐｒが形成されている。複数の突出部ｐｒは、フレーム部材１０ｃ，１０ｄの長辺の方向に連続的に延びるとともに、短辺の方向に上記の基準ピッチで並ぶように形成されている。これにより、互いに隣り合う各２つの突出部ｐｒの間には、基板の外縁を挿入可能な溝が形成されている。

上記のように、図１の基板処理装置１においては、適宜キャリア９の姿勢が変更される。ここで、上記の構成を有するキャリア９について、複数の支持片１１が下端部に位置しかつフレーム部材１０ａ，１０ｂが鉛直方向に平行に維持される姿勢を鉛直姿勢と呼ぶ。一方、フレーム部材１０ａ，１０ｂが鉛直方向に直交するように維持される姿勢を水平姿勢と呼ぶ。

図６は、キャリア９の姿勢に応じて変化する基板の被支持部を示す平面図である。空のキャリア９に複数の基板Ｗを挿入する場合には、水平姿勢にあるキャリア９の基板出入口１２からキャリア９の内部に複数の基板Ｗが挿入される。このとき、各基板Ｗの外縁のうち両側部（互いに対向する二辺の部分）がフレーム部材１０ｃの複数の突出部ｐｒのうちのいずれか２つの間およびフレーム部材１０ｄの複数の突出部ｐｒのうちのいずれか２つの間に挿入される。これにより、複数の基板Ｗが収容されたキャリア９が水平姿勢にある場合、各基板Ｗは、当該基板の両側部が複数の突出部ｐｒにより支持された状態で保持される。すなわち、水平姿勢にあるキャリア９に収容される複数の基板Ｗの各々においては、図６に一点鎖線で示されるように、当該基板Ｗの両側部全体が被支持部ＳＰ２となる。

一方、複数の基板Ｗが収容されたキャリア９が鉛直姿勢にある場合、各基板Ｗは、当該基板Ｗの下端部の複数の微小部分（本例では、６個の微小部分）が複数の支持片１１の複数の溝に嵌め込まれた状態で保持される。すなわち、鉛直姿勢にあるキャリア９に収容される複数の基板Ｗの各々においては、図６に点線で示されるように、当該基板Ｗの一辺において互いに離散した複数の微小部分が被支持部ＳＰ１となる。

上記のように、キャリア９が水平姿勢にある場合、収容される複数の基板Ｗの各々は、両側部全体が被支持部ＳＰ２として複数の突出部ｐｒにより支持される。一方、キャリア９が鉛直姿勢にある場合、収容される複数の基板Ｗの各々は、当該基板Ｗの下端部の一辺における複数の微小部分が被支持部ＳＰ１として複数の支持片１１により支持される。図６に示すように、キャリア９が水平姿勢にあるときの各基板Ｗの被支持部ＳＰ２の面積の合計は、キャリア９が鉛直姿勢にあるときの各基板Ｗの被支持部ＳＰ１の面積の合計に比べて大きい。そのため、キャリア９が水平姿勢にある場合には、キャリア９が鉛直姿勢にある状態で各基板Ｗの被支持部ＳＰ１に加わる負荷（各基板Ｗの自重による負荷）に比べて、各基板Ｗの被支持部ＳＰ２に加わる負荷が低減される。

本実施の形態に係るキャリア９は、水平姿勢にある時の当該キャリア９の鉛直方向の寸法（高さ）が鉛直姿勢にある時の当該キャリア９の鉛直方向の寸法（高さ）よりも小さくなるように、形成されている。

＜３＞基板処理装置における複数の基板Ｗおよびキャリア９の搬送経路
図７～図９は、図１の基板処理装置１における複数の基板Ｗおよびキャリア９の搬送経路を説明するための図である。図７には、図１と同様に、基板処理装置１の模式的平面図が示される。図８には、図１の基板処理装置１を一の方向に見た模式的外観斜視図が示される。図９には、図１の基板処理装置１を他の方向に見た模式的外観斜視図が示される。なお、図８および図９では、図１の洗浄ブロック４００の図示を省略している。さらに、図７～図９では、図９のメンテナンス空間ＭＳ１を除いて、図１のメンテナンス空間ＭＳ１，ＭＳ２の図示も省略している。

一のフープ８に収容された未処理の複数の基板Ｗに一連の処理を行う場合を想定する。この場合、一のフープ８は、基板搬入搬出ブロック１００に搬入されることにより、図７に示すように、オープナ１２０に載置され、蓋が開かれる。また、中継ブロック２００のキャリア支持部２１０上に空のキャリア９が水平姿勢で支持される。このとき、キャリア９の基板出入口１２（図５）は、フープ８に対向するように－Ｘ方向を向く。この状態で、基板受渡ロボット１４０により、一のフープ８から未処理の複数の基板Ｗが取り出され、キャリア９に挿入される。この場合の複数の基板Ｗの搬送経路が、図７～図９に太い点線の矢印ａ１で示される。

その後、空になった一のフープ８は、蓋が閉じられ、フープ搬送装置１１２により保持されて、複数のフープ棚１１０のいずれかに載置される。一方、複数の基板Ｗが収容されたキャリア９は、キャリア支持部２１０により受け取られ、第１搬送部３１０の副搬送装置３１２Ａにより主搬送装置３１１の可動ステージ３１１ａ上に載置される。この場合のキャリア９の搬送経路が、図７～図９に太い実線の矢印ａ２で示される。

次に、可動ステージ３１１ａ上に載置されたキャリア９は、中継ブロック２００の近傍位置（第１の端部ＴＡ１）から第２搬送部３２０の近傍位置（第２の端部ＴＡ２）まで＋Ｘ方向に水平姿勢で搬送される。図９の吹き出しＢＡ３内に、第１搬送部３１０の主搬送装置３１１により搬送されるキャリア９の状態が示される。

その後、第２搬送部３２０の近傍位置に到達したキャリア９は、第１搬送部３１０の副搬送装置３１２Ｂにより第２搬送部３２０の搬送装置３２１に渡される。そこで、搬送装置３２１に渡されたキャリア９は、搬送装置３２１により姿勢が水平姿勢から鉛直姿勢に変更される。図８の吹き出しＢＡ２内に、搬送装置３２１におけるキャリア９の姿勢変更の状態が模式的に示される。

図８の吹き出しＢＡ２に示すように、搬送装置３２１は、可動台座３２２およびキャリア保持具３２３を含む。可動台座３２２は、第２搬送部３２０内でＹ方向に移動可能に設けられている。キャリア保持具３２３は、第１保持部３２３ａおよび第２保持部３２３ｂから構成される。第１保持部３２３ａは、水平姿勢にあるときのキャリア９の下端部を保持可能な矩形の平板形状を有する。また、第２保持部３２３ｂは、鉛直姿勢にあるときのキャリア９の下端部を保持可能な矩形の平板形状を有する。

第１保持部３２３ａおよび第２保持部３２３ｂは、第１保持部３２３ａの一辺と第２保持部３２３ｂの一辺とが互いに接するようにかつ２つの保持部が互いに直交するように接続されている。可動台座３２２は、第１保持部３２３ａおよび第２保持部３２３ｂがともにＹ方向に平行となるように、かつキャリア保持具３２３がＹ方向に延びる軸の周りで回転可能となるように、キャリア保持具３２３の一部を保持する。

搬送装置３２１は、さらに可動台座３２２上でキャリア保持具３２３の回転角度を調整可能な図示しない駆動部を有する。これにより、第１搬送部３１０から水平姿勢のキャリア９を受け取る場合に、キャリア保持具３２３は、第１保持部３２３ａが水平となりかつ第２保持部３２３ｂが鉛直となるように回転角度が調整される。その後、キャリア保持具３２３上に水平姿勢のキャリア９が受け取られると、キャリア保持具３２３は、第１保持部３２３ａが鉛直となりかつ第２保持部３２３ｂが水平となるように回転角度が調整される。これにより、キャリア９の姿勢が水平姿勢から鉛直姿勢に変更される。

搬送装置３２１は、さらに第２搬送部３２０において可動台座３２２をＹ方向に移動させる図示しない駆動部を有する。これにより、鉛直姿勢で維持されたキャリア９は、第１搬送部３１０の近傍位置から処理部３３０の近傍位置まで＋Ｙ方向に鉛直姿勢で搬送される。

その後、処理部３３０の近傍位置に到達したキャリア９は、搬送装置３２１から処理部３３０の主搬送装置３３３Ｃにより受け取られる。主搬送装置３３３Ｃにより受け取られたキャリア９は、当該主搬送装置３３３Ｃおよび他の主搬送装置３３３Ｂ，３３３Ａにより１または複数の液処理ユニット３３１のいずれかに搬送され、鉛直姿勢が維持された状態で各種処理液に所定期間浸漬される。これにより、キャリア９内に収容される複数の基板Ｗに、浸漬された処理液に応じた処理が行われる。図９の吹き出しＢＡ４内に、処理部３３０の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃにより搬送されるキャリア９の状態が示される。

図９の吹き出しＢＡ４に示すように、各主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃは、可動支持柱３３３ａおよび一対のチャック部材３３３ｂを含む。可動支持柱３３３ａは、Ｘ方向に移動可能にかつＺ方向に移動可能（昇降可能）に複数の液処理ユニット３３１の側方（＋Ｙ方向側）に設けられている。可動支持柱３３３ａの上端部から液処理ユニット３３１の上方に延びるように一対のチャック部材３３３ｂが設けられている。一対のチャック部材３３３ｂは、鉛直姿勢のキャリア９を挟んで保持することが可能に構成されている。さらに、各主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃは、一対のチャック部材３３３ｂによりキャリア９を保持すること、および一対のチャック部材３３３ｂからキャリア９を解放することを切替可能な図示しない駆動部を有する。これにより、複数の主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃと複数の液処理ユニット３３１との間でキャリア９の受け渡しが行われる。

その後、処理液による処理後の複数の基板Ｗを収容するキャリア９は、さらに中継ブロック２００に近接する乾燥ユニット３３２に搬送される。それにより、キャリア９およびキャリア９内の複数の基板Ｗが乾燥ユニット３３２により乾燥される。上記のように、処理ブロック３００におけるキャリア９の一連の搬送経路が、図７～図９に太い実線の矢印ａ３で示される。

処理済みの複数の基板Ｗが収容されたキャリア９は、主搬送装置３３３Ａにより乾燥ユニット３３２から中継ブロック２００のキャリア支持部２２０に搬送され、キャリア支持部２２０により支持される。この場合のキャリア９の搬送経路が、図７～図９に太い点線の矢印ａ４で示される。

そこで、キャリア支持部２２０に渡されたキャリア９は、キャリア支持部２２０により姿勢が鉛直姿勢から水平姿勢に変更される。図８の吹き出しＢＡ１内に、キャリア支持部２２０におけるキャリア９の姿勢変更の状態が模式的に示される。

図８の吹き出しＢＡ１に示すように、キャリア支持部２２０は、中継ブロック２００内に固定された固定台座２１１およびキャリア保持具２１２を含む。キャリア保持具２１２は、第１保持部２１２ａおよび第２保持部２１２ｂから構成される。第１保持部２１２ａは、水平姿勢にあるときのキャリア９の下端部を保持可能な矩形の平板形状を有する。また、第２保持部２１２ｂは、鉛直姿勢にあるときのキャリア９の下端部を保持可能な矩形の平板形状を有する。

第１保持部２１２ａおよび第２保持部２１２ｂは、第１保持部２１２ａの一辺と第２保持部２１２ｂの一辺とが互いに接するようにかつ２つの保持部が互いに直交するように接続されている。固定台座２１１は、第１保持部２１２ａおよび第２保持部２１２ｂがともにＹ方向に平行となるように、かつキャリア保持具２１２がＹ方向に延びる軸の周りで回転可能となるように、キャリア保持具２１２の一部を保持する。

キャリア支持部２２０は、さらに固定台座２１１上でキャリア保持具２１２の回転角度を調整可能な図示しない駆動部を有する。これにより、乾燥ユニット３３２から鉛直姿勢のキャリア９を受け取る場合に、キャリア保持具２１２は、第２保持部２１２ｂが水平となりかつ第１保持部２１２ａが鉛直となるように回転角度が調整される。その後、キャリア保持具２１２上に鉛直姿勢のキャリア９が受け取られると、キャリア保持具２１２は、第２保持部２１２ｂが鉛直となりかつ第１保持部２１２ａが水平となるように回転角度が調整される。これにより、キャリア９の姿勢が鉛直姿勢から水平姿勢に変更される。このとき、キャリア９の基板出入口１２（図５）は－Ｘ方向を向く。

複数の基板Ｗが収容されたキャリア９が水平姿勢でキャリア支持部２２０に支持される際には、基板搬入搬出ブロック１００のオープナ１３０に、空のフープ８が載置される。また、当該フープ８の蓋が開かれる。この状態で、基板受渡ロボット１５０により、キャリア９から処理後の複数の基板Ｗが取り出され、オープナ１３０上のフープ８に挿入される。この場合の複数の基板Ｗの搬送経路が、図７～図９に太い点線の矢印ａ５で示される。

その後、処理後の複数の基板Ｗが収容されたフープ８は、蓋が閉じられ、フープ搬送装置１１２により保持されて、複数のフープ棚１１０のいずれかに載置される。また、そのフープ８は、フープ搬送装置１１１によりフープ載置部１９０に搬送され、基板処理装置１から搬出される。一方、キャリア支持部２２０において空になったキャリア９は、そのキャリア９の姿勢がキャリア支持部２２０により水平姿勢から再度鉛直姿勢に変更される。キャリア支持部２２０において鉛直姿勢に戻された空のキャリア９は、主搬送装置３３３Ａで搬送され、第２待機部２４０に受け取られる。

本実施の形態においては、第２待機部２４０によりキャリア支持部２２０から受け取られた空のキャリア９は、鉛直姿勢が維持されつつ洗浄ブロック４００の洗浄搬送装置４１０によりキャリア洗浄ユニット４２０に搬送される。この場合のキャリア９の搬送経路が、図７に太い一点鎖線の矢印ｃ１で示される。

キャリア洗浄ユニット４２０においては、さらに複数のキャリア洗浄槽４２１、キャリア乾燥部４２２および複数のキャリア待機部４２３の間で洗浄搬送装置４１０によりキャリア９が搬送される。それにより、使用後のキャリア９に洗浄処理および乾燥処理が行われる。また、洗浄処理後かつ乾燥処理後のキャリア９が、複数のキャリア待機部４２３のいずれかに収容される。複数のキャリア洗浄槽４２１、キャリア乾燥部４２２および複数のキャリア待機部４２３においては、キャリア９の鉛直姿勢が維持される。

新たな他のフープ８に収容された未処理の複数の基板Ｗに一連の処理を行う場合を想定する。この場合、洗浄ブロック４００のキャリア待機部４２３に収容された清浄なキャリア９は、新たなキャリア９として洗浄搬送装置４１０によりキャリア洗浄ユニット４２０から第２待機部２４０に搬送される。この場合の新たなキャリア９の搬送経路が、図７に太い一点鎖線の矢印ｃ２で示される。

第２待機部２４０に渡された新たなキャリア９は、鉛直姿勢が維持されつつ待機搬送装置２５０により第１待機部２３０に搬送され、第１待機部２３０により支持される。この場合の新たなキャリア９の搬送経路が、図７に太い二点鎖線の矢印ｂ１で示される。第１待機部２３０は、当該第１待機部２３０に支持される新たなキャリア９をキャリア支持部２１０に渡す。そこで、キャリア支持部２１０に渡された新たなキャリア９は、キャリア支持部２１０により姿勢が鉛直姿勢から水平姿勢に変更される。上記のように、中継ブロック２００内の２つのキャリア支持部２１０，２２０は同じ構成を有する。それにより、キャリア支持部２１０においては、図８の吹き出しＢＡ１内に示されるように、新たなキャリア９の姿勢が変更される。その後、新たな他のフープ８に収容された未処理の複数の基板Ｗが、水平姿勢にある新たなキャリア９内に挿入される。

未処理の複数の基板Ｗが収容された新たなキャリア９は、図７～図９の一連の矢印ａ２，ａ３，ａ４で示される搬送経路に沿って搬送される。それにより、新たなキャリア９に収容された複数の基板Ｗに一連の処理が行われる。

＜４＞効果
（１）上記の基板処理装置１においては、キャリア９が、複数の搬送装置（３１１，３２１，３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃ）により、図７の矢印ａ３の搬送経路上で第１の端部ＴＡ１から第３の端部ＴＡ３に向かって搬送される。キャリア９は、複数の基板Ｗを収容可能に構成されている。この場合、複数の搬送装置（３１１，３２１，３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃ）の各々は、複数の基板Ｗが収容されたキャリア９を搬送することにより、複数の基板Ｗを一体的に取り扱うことができる。そのため、複数の搬送装置（３１１，３２１，３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃ）の各々は、複数の基板Ｗを一体的かつ直接的に保持するための煩雑な構成を要しない。

また、上記の基板処理装置１においては、図７の矢印ａ３の搬送経路上に設けられた搬送装置３２１により、キャリア９の姿勢が水平姿勢から鉛直姿勢に変更される。それにより、処理部３３０では、キャリア９の姿勢が鉛直姿勢に維持される。この場合、処理部３３０において、キャリア９に収容された複数の基板Ｗが鉛直姿勢で収容されるので、複数の基板Ｗを処理液に浸漬させる処理等の複数の基板Ｗに対する一括した処理を適切に行うことができる。

一方、上記の基板処理装置１においては、図７の矢印ａ３の搬送経路のうち処理部３３０の上流に位置する第１搬送部３１０で、キャリア９の姿勢が水平姿勢に維持される。キャリア９の姿勢が水平姿勢にあるときに、当該キャリア９に収容される複数の基板Ｗは水平姿勢で維持される。

複数の基板Ｗの各々について、水平姿勢にある基板Ｗを平面視したときの当該基板Ｗの大きさは、鉛直姿勢にある基板Ｗを平面視したときの当該基板Ｗの大きさよりも大きい。そのため、水平姿勢にある基板Ｗは、鉛直姿勢にある基板Ｗに対して、当該基板Ｗのより多くの部分を支持することが可能である。したがって、上記のように、キャリア９が水平姿勢にあるときの各基板Ｗの被支持部ＳＰ２の面積の合計を、キャリア９が鉛直姿勢にあるときの各基板Ｗの被支持部ＳＰ１の面積の合計に比べて大きくすることができる。これにより、複数の基板Ｗの搬送時に、各基板Ｗの一部に当該基板Ｗの自重が集中することにより基板Ｗが破損することが低減される。

複数の基板Ｗを収容したキャリア９を鉛直姿勢に維持する搬送と、複数の基板Ｗを収容したキャリア９を水平姿勢に維持する搬送とを組み合わせた結果、複数の基板Ｗを搬送するための複数の搬送装置（３１１，３２１，３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃ）の構成の複雑化を抑制するとともに複数の基板Ｗの搬送時に各基板Ｗが破損することを低減することが可能になる。

（２）上記の基板処理装置１においては、第１搬送部３１０は、図７の矢印ａ３の搬送経路上で、当該搬送経路の始点を含む連続した範囲内に設けられている。一方、処理部３３０は、図７の矢印ａ３の搬送経路上で、当該搬送経路の終点を含む連続した範囲内に設けられている。他方、キャリア９の姿勢が変更される第２搬送部３２０は、図７の矢印ａ３の搬送経路において、第１搬送部３１０の下流かつ処理部３３０の上流に位置する。

このような構成により、図７の矢印ａ３の搬送経路においては、処理部３３０においてキャリア９とともに処理液に浸漬された複数の基板Ｗが水平姿勢に変更されない。すなわち、処理液に浸漬された後の複数の基板Ｗは、水平姿勢で搬送されない。したがって、基板処理装置１内で上方から下方に落下する塵埃がキャリア９に収容される複数の基板Ｗに付着することが低減される。また、処理槽を用いた処理後の複数の基板Ｗが水平姿勢で搬送されないので、搬送中の複数の基板Ｗの各々の上面に処理液が残留すること等が防止される。

（３）第１搬送部３１０においては、キャリア９が主搬送装置３１１により第１の端部ＴＡ１から第２の端部ＴＡ２に搬送される。より具体的には、可動ステージ３１１ａにキャリア９が載置された状態で、可動ステージ３１１ａがガイドレール３１１ｂ上を移動する。それにより、キャリア９が水平姿勢で搬送される。このように、上記の第１搬送部３１０においては、第１の端部ＴＡ１から第２の端部ＴＡ２にかけて、キャリア９を鉛直方向に移動させることなく搬送することができる。したがって、第１搬送部３１０は、キャリア９の搬送に要する空間の鉛直方向の大きさを小さくすることが可能である。

（４）また、上記のように、キャリア９は、水平姿勢にある時の当該キャリア９の鉛直方向の寸法（高さ）が鉛直姿勢にある時の当該キャリア９の鉛直方向の寸法（高さ）よりも小さくなるように、形成されている。図７の矢印ａ３の搬送経路のうち第１搬送部３１０は、キャリア９が水平姿勢で搬送される。一方、図７の矢印ａ３の搬送経路のうち処理部３３０は、キャリア９が鉛直姿勢で搬送される。これにより、第１搬送部３１０においては、処理部３３０に比べて、キャリア９の搬送に要する空間の鉛直方向の大きさを小さくすることが可能である。

＜５＞他の実施の形態
（１）上記実施の形態に係るキャリア９は、水平姿勢で矩形の基板Ｗが収容された場合に、複数の突出部ｐｒにより矩形の基板Ｗの両側部を全体的に支持するが、本発明はこれに限定されない。キャリア９は、水平姿勢で、複数の基板Ｗの各々の外縁を全体的に支持するように構成されてもよい。すなわち、キャリア９は、水平姿勢で、複数の基板Ｗの各々の４辺およびその近傍部分を全体的に支持するように構成されてもよい。または、キャリア９は、水平姿勢で、基板Ｗの両側部の各々における一部分を支持するように構成されてもよい。具体的には、図３～図５のキャリア９においては、複数の突出部ｐｒの各々は、フレーム部材１０ｃ，１０ｄの長辺の方向に断続的に延びるように形成されてもよい。あるいは、キャリア９は、水平姿勢で、基板Ｗの中央部または略中央部を支持するように構成されてもよい。これらの場合においても、キャリア９が水平姿勢にあるときの各基板Ｗの被支持部ＳＰ２の面積の合計を、キャリア９が鉛直姿勢にあるときの各基板Ｗの被支持部ＳＰ１の面積の合計に比べて大きくすることにより、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。

（２）上記の基板処理装置１においては、基板受渡ロボット１４０，１５０の各々は、複数の基板Ｗを１枚ずつ順次受渡可能に構成されてもよいし、複数の基板Ｗを同時に受渡可能に構成されてもよい。

（３）上記の処理ブロック３００においては、中継ブロック２００から渡されたキャリア９が第１搬送部３１０の第１の端部ＴＡ１から第２の端部ＴＡ２まで搬送される。その後、処理部３３０の第４の端部ＴＡ４から第３の端部ＴＡ３に戻る間に、複数の基板Ｗに各種処理が行われる。しかしながら、本発明は上記の例に限定されない。

処理ブロック３００は、第１搬送部３１０の位置と処理部３３０の位置とが入れ替わった構成を有してもよい。この場合、処理部３３０は、例えばＸ方向に直交する面に対称な構成を有する。このような構成を有する処理ブロック３００においては、中継ブロック２００から渡されたキャリア９が、鉛直姿勢で維持されつつ処理部３３０内で複数の処理液に浸漬され、乾燥処理される。その後、第２搬送部３２０において、キャリア９の姿勢が、鉛直姿勢から水平姿勢に変更される。その後、処理後の複数の基板Ｗを収容するキャリア９が、水平姿勢で維持されつつ第１搬送部３１０の主搬送装置３１１により中継ブロック２００に戻される。

（４）上記実施の形態に係る基板処理装置１においては、鉛直姿勢にあるキャリア９のフレーム部材１０ａ，１０ｂは鉛直方向に平行に維持されるとしているが、鉛直姿勢にあるキャリア９のフレーム部材１０ａ，１０ｂは鉛直方向に対して略平行に維持されてもよい。すなわち、鉛直姿勢にあるキャリア９は、収容される複数の基板Ｗを鉛直方向に平行となるようにまたは略平行となるように保持できればよい。

また、上記実施の形態に係る基板処理装置１においては、水平姿勢にあるキャリア９のフレーム部材１０ａ，１０ｂは鉛直方向に直交するように維持されるとしているが、水平姿勢にあるキャリア９のフレーム部材１０ａ，１０ｂは鉛直方向に対して略直交するように維持されてもよい。すなわち、水平姿勢にあるキャリア９は、収容される複数の基板Ｗを水平方向に平行または略平行となるように保持できればよい。

（５）上記実施の形態に係る基板処理装置１は、複数の基板Ｗの処理に使用された使用後のキャリア９を洗浄する洗浄ブロック４００を備えるが、本発明はこれに限定されない。基板処理装置１には、洗浄ブロック４００が設けられなくてもよい。この場合、中継ブロック２００のキャリア支持部２２０において複数の基板Ｗが取り出された使用後のキャリア９は、洗浄されることなくキャリア支持部２１０に搬送されてもよい。あるいは、使用後のキャリア９は、洗浄されることなく基板処理装置１の外部に取り出され、廃棄されてもよい。

（６）上記実施の形態に係る基板処理装置１においては、中継ブロック２００でキャリア支持部２１０と第１待機部２３０とが個別に設けられているが、本発明はこれに限定されない。第１待機部２３０にキャリア９の姿勢変更の機能を付加することが可能である場合、キャリア支持部２１０は設けられなくてもよい。

また、上記実施の形態に係る基板処理装置１においては、中継ブロック２００でキャリア支持部２２０と第２待機部２４０とが個別に設けられているが、本発明はこれに限定されない。第２待機部２４０にキャリア９の姿勢変更の機能を付加することが可能である場合、キャリア支持部２２０は設けられなくてもよい。

（７）上記実施の形態に係る処理ブロック３００の第２搬送部３２０においては、搬送装置３２１はキャリア９の姿勢変更の機能を有するとともにキャリア９の搬送の機能を有するが、本発明はこれに限定されない。第２搬送部３２０においては、上記の搬送装置３２１に代えて、キャリア９の姿勢変更の機能を有する構成要素と、キャリア９の搬送の機能を有する構成要素とが個別に設けられてもよい。

（８）上記実施の形態に係る基板処理装置１においては、処理対象となる基板Ｗが平面視で矩形状を有するが、処理対象となる基板は、平面視で円形状を有してもよいし、平面視で三角形または五角形等の四角形以外の多角形状を有してもよい。

（９）上記実施の形態に係る基板処理装置１においては、処理部３３０の複数の処理槽３３１ａには、基板Ｗを洗浄するための処理液が貯留されるとしているが、本発明はこれに限定されない。処理部３３０の複数の処理槽３３１ａの少なくとも一部には、基板Ｗにめっき処理を行うためのめっき液、または基板Ｗの表面状態を改質させるための液体等が、処理液として貯留されてもよい。このように、上記実施の形態は、本発明を複数の基板Ｗの洗浄処理に適用した例であるが、これに限らず、複数の基板Ｗのめっき処理または表面改質処理等の他の処理に本発明を適用してもよい。

（１０）上記実施の形態に係るキャリア９においては、フレーム部材１０ａ，１０ｂの各々の中央部分に４個の開口部１３が形成されているが、本発明はこれに限定されない。フレーム部材１０ａ，１０ｂの各々の中央部分には、４個に限らず、１個、２個、３個または５個等の他の個数の開口部１３が形成されてもよい。あるいは、フレーム部材１０ａ，１０ｂの各々の中央部分には、開口部１３が形成されなくてもよい。さらに、フレーム部材１０ａ，１０ｂの形状は適宜設計変更してもよい。

（１１）上記実施の形態に係る主搬送装置３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃの各々においては、一対のチャック部材３３３ｂはＸ方向においてキャリア９を挟み込むことにより当該キャリア９を保持するが、本発明はこれに限定されない。一対のチャック部材３３３ｂはＹ方向においてキャリア９を挟み込むことにより当該キャリア９を保持してもよいし、水平面内でＸ方向およびＹ方向に交差する方向においてキャリア９を挟み込むことにより当該キャリア９を保持してもよい。

＜６＞請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。

上記実施の形態においては、キャリア９がキャリアの例であり、図７の矢印ａ３で示されるキャリア９の搬送経路が予め定められた搬送経路の例であり、図７の矢印ａ３が向かう方向が一の搬送方向の例であり、処理ブロック３００の主搬送装置３１１，３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃおよび搬送装置３２１を含む構成要素群が搬送機構の例である。

また、図７の矢印ａ３で示されるキャリア９の搬送経路のうち処理部３３０に重なる部分が予め定められた処理部分の例であり、処理部３３０の複数の液処理ユニット３３１が処理ユニットの例であり、キャリア９の鉛直姿勢が第１の姿勢の例であり、キャリア９の水平姿勢が第２の姿勢の例であり、搬送装置３２１が姿勢変更部の例である。

また、基板処理装置１が基板処理装置の例であり、処理槽３３１ａが処理槽の例であり、リフタ３３１ｂがリフタの例であり、基板搬入搬出ブロック１００および中継ブロック２００が基板搬入搬出部の例であり、第１搬送部３１０の第１の端部ＴＡ１が搬送経路の始点の例であり、処理部３３０の第３の端部ＴＡ３が搬送経路の終点の例である。

また、主搬送装置３１１が水平搬送装置の例であり、ガイドレール３１１ｂがガイド部材の例であり、可動ステージ３１１ａが可動ステージの例であり、キャリア９の複数の支持片１１が第１の支持部の例であり、キャリア９の複数の突出部ｐｒが第２の支持部の例である。

１…基板処理装置，８…フープ，９…キャリア，１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ…フレーム部材，１１…支持片，１２…基板出入口，１３…開口部，１００…基板搬入搬出ブロック，１０１…端面部，１０２…一方側面部，１０３…他方側面部，１１０…フープ棚，１１１，１１２…フープ搬送装置，１２０，１３０…オープナ，１４０，１５０…基板受渡ロボット，１６０…制御部，１９０…フープ載置部，２００…中継ブロック，２１０，２２０…キャリア支持部，２１１…固定台座，２１２，３２３…キャリア保持具，２１２ａ，３２３ａ…第１保持部，２１２ｂ，３２３ｂ…第２保持部，２３０…第１待機部，２４０…第２待機部，２５０…待機搬送装置，３００…処理ブロック，３１０…第１搬送部，３１１，３３３Ａ，３３３Ｂ，３３３Ｃ…主搬送装置，３１１ａ…可動ステージ，３１１ｂ…ガイドレール，３１２Ａ，３１２Ｂ…副搬送装置，３２０…第２搬送部，３２１…搬送装置，３２２…可動台座，３３０…処理部，３３１…液処理ユニット，３３１ａ…処理槽，３３１ｂ…リフタ，３３２…乾燥ユニット，３３３ａ…可動支持柱，３３３ｂ…チャック部材，４００…洗浄ブロック，４１０…洗浄搬送装置，４２０…キャリア洗浄ユニット，４２１…キャリア洗浄槽，４２２…キャリア乾燥部，４２３…キャリア待機部，ＢＡ１，ＢＡ２，ＢＡ３，ＢＡ４…吹き出し，ＭＳ１，ＭＳ２…メンテナンス空間，ＳＰ１，ＳＰ２…被支持部，ＴＡ１…第１の端部，ＴＡ２…第２の端部，ＴＡ３…第３の端部，ＴＡ４…第４の端部，Ｗ…基板，ＷＰ…作業者，ｐｒ…突出部

Claims (6)

1. 複数の基板を収容可能に構成されたキャリアと、
   前記キャリアを、予め定められた搬送経路上で予め定められた一の搬送方向に搬送する搬送機構と、
   前記搬送経路のうち予め定められた処理部分上に設けられ、複数の基板が前記キャリアに収容された状態で、当該キャリアに収容された複数の基板に予め定められた処理を行う処理ユニットと、
   前記キャリアの姿勢を、複数の基板を鉛直姿勢で収容可能な第１の姿勢と複数の基板を水平姿勢で収容可能な第２の姿勢との間で変更させる姿勢変更部とを備え、
   前記姿勢変更部は、前記搬送経路のうち前記処理部分で前記キャリアの姿勢が前記第１の姿勢で維持されるように、かつ複数の基板が前記キャリアに収容された状態で、前記搬送経路のうち前記処理部分を除く非処理部分の少なくとも一部において前記キャリアの姿勢が前記第２の姿勢で維持されるように、前記搬送経路上に設けられる、基板処理装置。
2. 前記処理ユニットは、
   前記予め定められた処理に対応する処理液を貯留する処理槽と、
   前記搬送機構により搬送される前記キャリアを前記処理槽の処理液に浸漬することおよび前記処理液に浸漬された前記キャリアを前記処理液から引き上げることが可能に構成されたリフタとを含み、
   前記キャリアは、複数の基板が当該キャリアに収容されかつ前記第１の姿勢にある状態で前記処理液に浸漬されることにより、当該キャリアに収容された複数の基板を前記処理液に浸漬させることが可能に構成された、請求項１記載の基板処理装置。
3. 未処理の複数の基板を搬入するとともに搬入された複数の基板を一のキャリアに挿入することが可能であり、かつ処理後の複数の基板が収容された他のキャリアから複数の基板を取り出すとともに取り出された複数の基板を搬出することが可能に構成された基板搬入搬出部をさらに備え、
   前記搬送経路の始点および終点は、前記基板搬入搬出部に隣り合うように設定され、
   前記搬送経路の前記処理部分は、前記搬送経路のうち前記終点を含む連続した範囲内に定められ、
   前記姿勢変更部は、前記搬送経路において、前記非処理部分の少なくとも一部よりも下流でかつ前記処理部分の上流に位置する、請求項２記載の基板処理装置。
4. 前記搬送経路の前記非処理部分の少なくとも一部は、一の水平面内に位置し、
   前記搬送機構は、前記搬送経路の前記非処理部分の少なくとも一部に設けられる水平搬送装置を含み、
   前記水平搬送装置は、
   前記搬送経路に沿って水平に延びるガイド部材と、
   前記キャリアを載置可能かつ前記ガイド部材上で前記搬送経路に沿って移動可能に設けられた可動ステージとを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
5. 前記キャリアは、前記第２の姿勢にあるときの当該キャリアの鉛直方向の寸法が、前記第１の姿勢にあるときの当該キャリアの鉛直方向の寸法に対して小さくなるように形成された、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記キャリアは、
   前記キャリアが前記第１の姿勢にあるときに前記複数の基板の各々の第１の被支持部を支持する第１の支持部と、
   前記キャリアが前記第２の姿勢にあるときに前記複数の基板の各々の第２の被支持部を支持する第２の支持部とを有し、
   水平姿勢にある前記複数の基板の各々を平面視したときの当該基板における前記第２の被支持部の大きさは、鉛直姿勢にある前記複数の基板の各々を平面視したときの当該基板における前記第１の被支持部の大きさよりも大きい、請求項１～５のいずれか一項に記載の基板処理装置。