JP7704856B2 - 拡大されたスペクトル領域を有するマルチスペクトルイメージャ - Google Patents

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Description

本発明は、スペクトルが各点で分解された2次元画像を瞬時に得ることができるマルチスペクトルイメージャに関する。
天文学、鉱物学、化学、及び農業における多くの用途は、対象又はシーンのスペクトル画像、すなわち、可視、赤外線、又は紫外線における電磁スペクトルの特定の帯域にスペクトル的に限定された画像の取得を必要とする。
マルチスペクトル又はハイパースペクトルイメージャは、スペクトルが各点で抽出される2次元画像からなるそのような画像を得ることを可能にする。ハイパースペクトル撮像という用語は、抽出されたスペクトルが非常に分解されている場合、すなわち、多数の(典型的には100を超える)比較的狭いスペクトル帯域(典型的には5~15nm)で形成されている場合に従来使用されており、スペクトルが比較的広くなる(典型的には15~40nm)、より少ないスペクトル帯域(典型的には4~20)で形成されている場合には、マルチスペクトル撮像となる。
マルチスペクトル画像を得るための第1の方法は、「プッシュブルームスキャナ(push broom scanner)」と呼ばれる、分析されるべきシーンを走査する1次元センサを備えるスキャナを使用することである。
第2の方法は、センサアレイの単一積分期間において画像を捕捉するための方法である、瞬時マルチスペクトル撮像、すなわち「スナップショット撮像」を行うために、基本感光センサの2次元アレイ、いわゆる焦点面アレイ(Focal Plane Array)の「FPA」を採用することである。
本発明は、この第2の方法に従ってマルチスペクトル画像を取得する状況にあり、米国特許出願公開第2019/0145823号明細書は、感光画素のアレイと、感光画素のうちの1つに各々関連付けられた基本フィルタのセットとで形成された2次元アレイを備えるイメージセンサに基づくマルチスペクトルイメージャを開示している。
感光画素は、所与のスペクトル帯域にそれぞれ専用化されており、すなわち、この帯域に含まれる波長の放射を受光して測定することを意図しており、単一のスペクトル帯域に専用の感光画素のセットは、サブ画像を形成し、サブ画像の各点は、画素のグループ及び関連するフィルタでそれぞれ形成される複数のマクロ画素のうちの1つに属している。
構造的には、各基本フィルタは、それが関連付けられる感光画素の基本フィルタ上に重ね合わされ、入射電磁放射をフィルタリングすることによってそのスペクトル帯域を画定する。
ここで、基本フィルタは、ファブリペロー干渉フィルタ(Fabry-Perot interference filter)でそれぞれ構成されている。
米国特許出願公開第2019/0145823号明細書のデバイスのようなデバイスは、1つのスペクトル帯域が別のスペクトル帯域を汚染しないようにするために、約300nm幅の比較的小さい範囲のスペクトル領域のみを分析するように設計されている。
実際には、例えば、400~1000nmのスペクトル領域(可視及び近赤外領域)を研究するために、例えば、400~700nm及び700~1000nmのスペクトル領域にそれぞれ専用となる2つの異なるマルチスペクトルイメージャが存在する。
単一のデバイスが、拡大されたスペクトル領域に対するマルチスペクトル撮像を実施することができることが望ましい。
特許出願公開第2017/0163901(A1)号公報は、分析されるシーンの画像の複製をそれぞれ形成する複数の小サイズの画像を形成することを可能にする光学系であって、各サムネイル画像は、カラー画像キャプチャ要素の別々の部分によって検出される光学系、並びに画像キャプチャ要素に組み込まれた狭帯域フィルタ及びカラーフィルタの間の組み合わせに載置するマルチスペクトル撮像システムに関する。
米国特許出願公開第2015/0138560(A1)号公報及び独国特許出願公開第112013-002-560(T5)号公報は、レーザ空洞を形成する2つの対向ミラーを備える分光センサに関する。
本発明の目的は、単一のマルチスペクトルイメージャによって分析可能なスペクトル領域の範囲を増大させることである。
本発明は、より詳細には、第1のスペクトル帯域と、第1のスペクトル帯域とは異なる第2のスペクトル帯域とを含む関心スペクトル領域を分析するように設計されたマルチスペクトルイメージャであって、第1のスペクトル帯域と、第1のスペクトル帯域とは異なる第2のスペクトル帯域とに対して、それぞれ専用となる第1の感光画素及び第2の感光画素をそれぞれ含むマクロ画素のアレイ(110)で形成されたイメージセンサと、第1の感光画素及び第2の感光画素上にそれぞれ重ね合わされ、第1のスペクトル帯域に属する第1の電磁放射と、第2のスペクトル帯域に属する第2の電磁放射とをそれぞれ透過させるように配置された第1の干渉フィルタ及び第2の干渉フィルタを含むフィルタリング構造とを備え、第2の電磁放射の波長の半分の波長が関心スペクトル領域に位置することとと、第2の感光画素上に重ね合わされ、第2の電磁放射の波長の半分の波長を有する第3の電磁放射の通過を遮断するように構成されたフィルタリング層を更に備えることとを特徴とする、マルチスペクトルイメージャに関する。
本発明によるマルチスペクトルイメージャの本質的な利点は、干渉フィルタの二次共振による汚染を受けることなく、拡大されたスペクトル領域を分析する能力である。
更に、そのようなマルチスペクトルイメージャは、特定のイメージセンサを必要とせず、したがって、標準的な市販のイメージセンサに基づくことができ、開発を容易にし、このイメージャのコストを大幅に低減させる。
マクロ画素及び画素構造のフィルタリング層の使用に基づく動作を伴う、そのような構造を有するマルチスペクトルイメージャは、他の有利な特徴を有する。
それは、センサの感光面全体を使用するために、優れた空間分解能をもたらすことを可能にする。更に、そのような構造は、イメージセンサと、干渉フィルタリング構造と、フィルタリング層との間で近接しているため、捕捉されるシーンの各画素のそれぞれの視野角に関連する問題がほとんどないことを保証する。
本発明によるマルチスペクトルイメージャは、以下の特徴を有し得る。
-第2の電磁放射の波長の半分の波長は、第1のスペクトル帯域内に位置し得ること、
-フィルタリング層は、第1の電磁放射を遮断し、第2の電磁放射を透過させるように構成されたハイパスフィルタを形成し得ること、
-フィルタリング層は、第1の感光画素に重ならないように構造化され得ること、
-フィルタリング層は、赤色有機材料(red organic material)の層で構成され得ること、
-フィルタリング層は、基本フィルタのモザイクで形成され得て、第1の感光画素上に更に重ね合わせられ、第1の電磁放射を第1の感光画素に透過させるように構成され得ること、
-フィルタリング層は、可視スペクトル領域のスペクトル帯域をそれぞれ透過させるように構成された有機フィルタ(organic filters)のアレイを含み得ること、
-有機フィルタは、青色、緑色、及び赤色の放射帯域をそれぞれ透過させるように構成され得ること、および
-有機フィルタのアレイは、ベイヤアレイ(Bayer array)であり得ること。
本発明は、非限定的な例として添付の図面によって示される実施形態の詳細な説明を読むことによって、より良く理解され、他の利点が明らかになるであろう。
本発明の第1の実施形態によるマルチスペクトルイメージャを示す断面図である。 図1Aにおけるスペクトルイメージャのマクロ画素のアレイを示す平面図である。 図1Bにおけるマクロ画素を示す図である。 本発明の一般原理における第1の変形例を示す図である。 図1Aにおけるマルチスペクトルイメージャの特徴を示す図である。 本発明の第2の実施形態によるマルチスペクトルイメージャの特徴を示す図である。 図3におけるマルチスペクトルイメージャの構造を示す図である。 本発明によるスペクトルイメージャの構造の変形例を示す図である。
図2(A、C及びD)並びに図3(A、B及びC)は、光学フィルタのスペクトル応答を示しており、Y軸上に透過率を、X軸上に波長を、ナノメートルで表している。
[本発明による第1の特定の実施形態の説明]
図1Aは、本発明による16個のチャネルを有するマルチスペクトルイメージャの構造の断面図を示しており、センサ基板105、並びにこの基板上及び/又は基板内に形成され、波長λないしλ16をそれぞれ中心とする16個の関心スペクトル帯域のうちの1つにそれぞれ専用となる感光画素115のアレイを含むイメージセンサ100と、基板、フィルタ155、この基板上に形成された干渉フィルタ160のアレイ、並びに干渉フィルタ160上に形成されたフィルタリング層170を含むフィルタリング構造150とを備える。
入射放射線に対する感光画素の感度を特殊化するため、各画素を所与のスペクトル帯域に専用化するのは、干渉フィルタのアレイとフィルタリング層との組合せである。
図1Bによって示されるマクロ画素のアレイを形成する複数のマクロ画素110は、関心のあるスペクトル帯域のうちの1つにそれぞれ専用である画素のグループと、関連するフィルタとでそれぞれ形成されている。
図1Cは、これらのマクロ画素110のうちの1つの平面図において、各々が感光画素115の4×4アレイから形成されていることを示しており、感光画素は、それぞれ専用である16個のスペクトル帯域の中心波長λないしλ16、すなわち430、468、506、544、582、620、658、696、734、772、810、848、886、924、962及び1000nmによって指定されている。
フィルタリング層170は、連続的な形態をとることも、又は基本フィルタのモザイクのような離散的な要素で構成されることもあり、その範囲全体にわたって均質な組成及び特性を有することも、有さないこともあり得る。ここでは、マクロ画素110の規模でフィルタリング層170を表す図2のB)に示されるように、高波長λないしλ16を中心とするスペクトル帯域専用の感光画素上に重ね合わされ、低波長λないしλを中心とするスペクトル帯域専用の画素には存在しないように構造化された赤色有機樹脂から均質に形成されている。
ここで、フィルタリング層170は、図2のC)に示されるように、約590nmに位置するカットオフ波長を有するハイパス有機フィルタを形成するが、適切なスペクトル応答(ここではハイパス)を有し、それらが感光画素の規模で構造化することができることを条件に、例えば、吸収、反射、干渉又はプラズモンフィルタ(plasmonic filters)などの任意のタイプのフィルタを使用することができる。
フィルタが感光画素上に重ね合わされると言われるとき、ここでは、このフィルタは、画素からその形成面に垂直な方向にシフトされ、その画素上の入射放射線を遮断又は透過するために入射放射線を遮るように配置されることをここで理解されるべきである。
本明細書では、「遮断(block)」及び「透過(transmit)」という用語は、全遮断及び全透過という意味で理解されるべきではなく、例えば、電磁放射の少なくとも80%を遮断し、少なくとも30%を透過することによるような、光学フィルタの分野の使用に従って理解されなければならず、これは本明細書において考慮される例に対応する。
したがって、感光画素上に重ね合わされたフィルタリング層が、その感光画素に放射線を透過させるように構成されていると言われる場合、そのようなフィルタリング層は、その放射線に対して透明であり(その放射線の少なくとも30%を透過させ)、その放射線がフィルタリング層を通過してその感光画素を照射することを可能にすることが理解されるであろう。
これは、フィルタリング層の第1の部分を形成する第1の要素が、所与の波長の第1の放射を透過することができることを妨げず、フィルタリング層の第2の部分を形成する第2の要素が、その所与の波長の第2の放射を遮断することができることを妨げない。
イメージャは、各画素においてレンズのうちの1つ、および一つのみに対応するように感光画素の配置を再現し、感光画素の感光面上に入射放射線を集中させるために、イメージャの感度を高めるように構成されたマイクロレンズアレイ120を更に含み得る。
クロストークの現象(所与の画素によって受け取られることが意図された放射線が、隣接する画素によって受け取られることが意図された放射線によって汚染される場合)を制限しながら、かなり大きな入射角(例えば、30°より大きい)であっても、入射放射線の経路が、感光画素と、その上に重ね合わされた干渉フィルタとをそれぞれ通過するように、このイメージャの要素は、イメージセンサと、干渉フィルタリング構造と、フィルタリング層との間の近接性を必要とする。
そのような近接性は、センサ基板105上に形成された要素(160、170)と、フィルタ基板155上に形成された要素(115、120)との間の直接接触によって、又は任意選択で薄い保護層を介して、次いでこれらの基板(105、155)の周囲に配置された接着剤のストリップ157によって基板(105、155)を互いに取り付けることによって取得され得る。
要素160、170、115及び120は、これらの基板の1つ又は2つの厚さによって分離されず、必要な近接性を維持するために、2つの基板105及び155の間に介在される。
実際には、図1Aに示されるイメージャは、感光画素115と、干渉フィルタ160と、それらの基板155とからある距離に位置する1つ又は幾つかのレンズを含む、光学集束システム(図示せず)に関連付けられる。
干渉フィルタは、例えば、2つのミラーの間に構成される共振空洞で形成されるファブリペローフィルタ(Fabry-Perot filters)であり得る。
そのようなフィルタは、電磁放射が空洞内で共振状態に入る場合、すなわち、その波長が以下の式[1]:
Figure 0007704856000001
によって定義される所与の波長を中心とするスペクトル帯域に属するという条件を満たす場合、電磁放射を透過させる。ここで、式中、kは、考慮される共振次数を定義する1以上の整数であり、
Figure 0007704856000002
は波長λに対する空洞の屈折率であり、eは空洞の物理的厚さである。
そのようなフィルタによって透過されるスペクトル帯域の幅は、共振ピークの中間高さにおける高さによって特徴付けられ、それは、数ナノメートルから数十ナノメートルまで及んで、フィルタに使用される構造及び材料に依存し得る。
k=1の場合、それは一次共振であり、フィルタの公称透過帯域はλを中心とする帯域である。しかしながら、式[1]の透過条件を満たす他の共振次数は、kが2に等しい2次、kが3に等しい3次など、1より大きい整数kに関連付けられる。
対応する波長の放射の透過を可能にすることによって、二次共振次数は、実際には、所与のマルチスペクトルイメージャが分析することができることになるスペクトル範囲を制限する。
実際、一次共振によって第1の放射を有用な信号として透過させるように設計された干渉フィルタは、二次共振によって第1の放射の波長の約半分(散乱屈折率(scattering index of refraction)内)の波長の第2の放射も透過させ、有用な信号の測定を使用不能にする点まで、有用な信号の測定を汚染することになる。
したがって、マルチスペクトルイメージャによって分析されるスペクトル領域において、同じ領域の他の波長よりも約半分短い波長の存在によって信号が汚染されないようにするために、感光画素のすべてを覆う全体的なハイパスフィルタ(high-pass filter)の使用、又はCMOS検出技術の場合にはシリコンなどの、放射線を検出するために使用される材料の特性によって、分析可能なスペクトル領域の範囲を制限して、同じ領域の他の波長よりも約半分短い波長を除外する。
このようにして、分析されるスペクトル領域の(波長に関して)高スペクトル帯域に位置する電磁放射の波長の2分の1の波長が、同じスペクトル領域の(波長に関して)低スペクトル帯域に位置することが防止される。
実際、高スペクトル帯域専用のフィルタの二次共振によって透過される放射を、マルチスペクトルイメージャ全体の規模で全体として遮断することは、その同じマルチスペクトルイメージャで分析することができる低スペクトル帯域を遮断することに相当する。
図2は、400~1100nmに及ぶスペクトル領域において、16個の感光画素に関連付けられた16個の干渉フィルタのスペクトル応答を示すグラフを示しており、透過ピークは、20~50nmの間で構成される中間高さにおける幅の、一次及び二次共振による透過ピークを有する。
この例では、フィルタリング層170が存在しない場合、約550nm未満の波長の放射は、低波長(すなわち、比較的短い波長)の一次共振ピークと、高波長に対応する公称透過(nominal transmissions)を有する干渉フィルタの二次共振ピークとが重ね合わされる、ボックス(Box)の共振ピークによって示されるように、関連する干渉フィルタの二次共振により、高波長(すなわち、比較的長い波長)専用の感光画素に透過されることになる。
本発明では、フィルタリング層170は、(波長に関して)低スペクトル帯域の放射がこれらの低スペクトル帯域専用の感光画素を通過することを可能にする一方で、全ての感光画素に対して全体ではなく、特にこれらの高スペクトル帯域専用の感光画素において、より短い波長の放射を遮断することによって、(波長に関して)高スペクトル帯域の有用な信号を汚染する問題を解決する。
具体的には、フィルタリング層170は、この実施形態では、高スペクトル帯域専用の画素にのみ重ね合わされ、低スペクトル帯域専用の画素のレベルでは存在しないように、感光画素において個別に構造化されている。
実際、フィルタリング層170はアレイ構造を有し、その各要素は、その幾何学的形状及び寸法において、マクロ画素110の構造を再現し、この例において形成された構造は、4×4感光画素115のアレイである。
そのため、フィルタリング層170は、ここでは、それぞれ波長λからλ16専用の感光画素115上にそれぞれ重ね合わされた要素で形成されており、各要素は感光画素に対応し、その逆もまた同様である。
この特定の実施形態では、これらの要素は、図2のB)に示されるように、同じマクロ画素の第2の部分を通過する入射放射線を遮らないように、1つのマクロ画素110のみの第1の部分に重ね合わされた、マクロ画素110の規模で連続フィルタリング層170を形成する。
そのため、本発明によるマルチスペクトルイメージャは、上述された汚染現象を被ることなく、従来のマルチスペクトルイメージャのものよりも広い範囲で、例えば400~1000nmに及ぶ拡大されたスペクトル領域を分析することができる。
図2は、干渉フィルタ160と、波長がフィルタリング層のカットオフ波長よりも短い、11個の干渉フィルタλからλ16の二次共振に対応する放射を遮断するように設計された、B)に示されるハイパスフィルタからなるフィルタリング層170との間の本発明による組み合わせのスペクトル応答をD)に示している。
フィルタリング層は、図1Dに示される原理に従って、広いスペクトル領域をカバーし、これらの二次共振ピークによって引き起こされる如何なる又は多くの汚染も受けない16個の帯域を有するスペクトル画像を得るように、二次共振ピークによる放射の透過を排除又は非常に大幅に低減することを可能にすることが分かる。
実線の矢印は、波長λからλ16専用の11個の感光画素、すなわちフィルタリング層170が重ね合わされている画素の透過ピークを示している。
図1Dは、本発明の一般原理を要約したものである。すなわち、第1の感光画素PP1上に重ね合わされた第1の干渉フィルタIF1は、波長λを中心とする第1のスペクトル帯域に属する波長を有する放射Iλを透過させ、第2の感光画素PP2上に重ね合わされた第2の干渉フィルタIF2は、波長λIIを中心とする第2のスペクトル帯域に属する第2の波長の放射IλIIと、第2の干渉フィルタIF2の二次共振によるλIIの約半分の第3の波長を有する汚染放射IλII-Pとを透過させ、フィルタリング層FLは、IλをPP1に、IλIIをPP2に透過し、汚染放射IλII-PをPP2で遮断するように構成されている。
実際には、フィルタリング層FLは、PP2においてλIIの波長の半分の波長を有する放射も遮断すると考えることができる。
放射の第3の汚染波長IλII-Pは、λに非常に近いか等しい可能性があり、特に、IF1の一次共振ピークに対応するλを中心とする関心のあるスペクトル帯域内にあるため、第1の干渉フィルタIF1によって透過する可能性がある。
関心のある2つのスペクトル帯域は別個の、すなわち異なる波長を中心としており、好ましくは重なり合わない。
図1Dに示されるこの原理の第1の変形例は、フィルタリング層FLを第2の感光画素PP2上にのみ重ね合わせるようにフィルタリング層FLを構造化することからなる。
本明細書において、「約(approximately)」という表現は、考慮される大きさの値の間に10%の差が許容されることを意味し、特に、共振ピークを位置決めするときに屈折率分散(index despersion)を考慮に入れるために使用される。
この原理を本発明における第1の特定の実施形態に適用すると、λ及びλIIはそれぞれ、例えば、λ及びλ12に対応し、PP1及びPP2はこれらの波長を中心とするスペクトル帯域専用の感光画素115に対応し、IF1及びIF2はPP1及びPP2にそれぞれ重ね合わされた干渉フィルタ160に対応し、Iλ及びIλIIは一次共振によってIF1及びIF2によって透過された放射に対応し、IλII-Pは二次共振によってIF2によって透過される放射に対応し、フィルタリング層FLはフィルタリング層170に対応する。
本発明の一般原理をこの第1の実施形態に適用し、干渉フィルタのアレイと構造化されたハイパスフィルタとを感光画素の規模で組み合わせる多スペクトルイメージャは、第1のスペクトル帯域と、第1のスペクトル帯域の波長の約2分の1の波長の第2のスペクトル帯域とを含むのに十分に拡大されたスペクトル領域を、二次共振による汚染を受けることなく分析することを可能にする。
本発明の用途は、ここで例として挙げたファブリペローフィルタに限定されるものではなく、むしろ幾つかの次数の干渉を生成する任意のタイプのフィルタに及ぶ。
この第1の実施形態は、関連する干渉フィルタの二次共振及び高次共振によって透過される放射を遮断するために、高スペクトル帯域専用の感光画素上にのみ重ね合わされるように局所的に構造化されたハイパスフィルタを形成するフィルタリング層170の使用に依存するが、本発明はこの構成に限定されず、以下の実施形態が示すように、マクロ画素を画定する感光画素のセット上に重ね合わされるか否かに関わらず、バンドパスフィルタ(band-pass filters)などの他のタイプのフィルタを使用することができる。
[本発明による第2の特定の実施形態の説明]
本発明の第2の実施形態は、干渉フィルタ及びフィルタリング層を除いて第1の実施形態のものと同一の構造を有し、波長λ1ないしλ5、450、550、650、865、及び945nmをそれぞれ中心とする5つのスペクトル帯域専用の感光画素を備える5チャネルスペクトルイメージャからなり、マクロ画素110内に配置された画素は、図4のC)に示されるように、16個の感光画素でそれぞれ構成されている。
最初の3つの波長は、可視領域の青色、緑色及び赤色放射をそれぞれ透過する3つの干渉フィルタB、G及びRにそれぞれ対応し、最後の2つの波長は、近赤外領域の2つの干渉フィルタNIR1及びNIR2にそれぞれ対応する。
図3は、A)において、5つのフィルタの各々の一次共振の波長λからλにそれぞれ対応する5つの透過ピークと、フィルタNIR1及びNIR2の二次共振にそれぞれ対応する444nm及び483nmにおける2つの透過ピークとを有する、5つの干渉フィルタのスペクトル応答を示している。
これらの最後の2つの透過ピークは、第1の実施形態で説明されるように汚染源であり、基本フィルタのモザイク、ここでは、図3のB)に示されるように、可視領域の青色、緑色、及び赤色の放射帯域をそれぞれ透過する有機フィルタGrg、B、Grg.G、及びOrg.Rで構成される従来のベイヤアレイで形成されているフィルタリング層170を使用することによって除去又は大幅に低減されている。
図4は、A)において、マクロ画素110の幾何学的形状に従って、干渉フィルタの配置を示しており、各フィルタは、これらのフィルタの一次及び二次共振ピークを有する、所与のマクロ画素の感光画素のうちの一つ、ただ1つに重ね合わされる。
有機フィルタは、図4のB)に示されるように、マクロ画素110の幾何学的形状に従って配置されており、各フィルタは、感光画素のうちの一つ、1つのみに重ね合わされ、これにより、フィルタNIR1及びNN2が、二次共振に対応する444nm及び483nmにおけるピークのピークをそれぞれ遮断するように、Org.G及びOrg.Rフィルタにそれぞれ重ね合わされる。
より具体的には、マクロ画素110は、アレイ2×2要素と、Org.R赤色フィルタと、Org.B青色フィルタと、ベイヤアレイの対角線に沿って配置されている2つのOrg.G緑色フィルタとからそれぞれ形成される、4つの従来のベイヤアレイの2×2アレイから形成されている。
フィルタNIR1及びNN2は、マクロ画素110の対角線に沿って配置された2つのベイヤアレイの各々におけるOrg.Gフィルタ及びOrg.Rフィルタに重ね合わされる。
上記で詳述され、図4のA)及びB)に示されるフィルタの配置は、一方では、各々が到達する可能性がある波長の検出にそれぞれ専用である全ての感光画素115を使用することを可能にし、他方では、ベイヤアレイを既に含み、大量生産されるために、手頃な価格である市販の感光センサの使用を可能にして組み合わされた高い空間分解能及び高い感度を可能にするという意味で有利である。
図3のC)は、干渉フィルタと有機フィルタとの組み合わせの結果を示しており、444nm及び483nmにおける2つのピークは非常に減少しているが、一次共振の5つのピークは透過したままである。
本発明におけるこの第2の特定の実施形態に適用される、本発明の一般原理に関する第2の変形形態が、図4のD)に要約されている。すなわち、λ及びλIIは、例えば、λ及びλにそれぞれ対応し、PP1及びPP2は、これらの波長を中心とする関心のあるスペクトル帯域にそれぞれ専用の感光画素115に対応し、IF1及びIF2は、PP1及びPP2にそれぞれ重ね合わされた干渉フィルタG及びNIR1に対応し、Iλ及びIλIIは、一次共振によってIF1及びIF2によって透過される放射に対応し、IλII-Pは、444nmでの二次共振によってIF2によって透過される放射に対応し、フィルタリング層FL’の2つの部分は、PP1及びPP2にそれぞれ重ね合わされたフィルタリング層170の2つのOrg.G基本フィルタに対応する。
関心のある2つのスペクトル帯域は、別個の、すなわち異なる波長を中心としており、好ましくは重ならない。
この変形例では、フィルタリング層は、2つの感光画素上に重ね合わされるが、画素によって異なるそのスペクトル応答のために、PP1においてIλを透過する一方で、PP2においてIλII-Pを遮断する。
実際には、フィルタリング層FL’は、PP2においてλIIの波長の半分の波長を有する放射も遮断すると考えることができる。
ここで、有機フィルタは、可視スペクトル領域の青色、緑色及び赤色で透過するベイヤアレイ(いわゆるRGBフィルタの特定のタイプ)を形成するが、他のタイプのフィルタリングアレイ、並びに一般にフィルタおよび他の透過帯域のアレイの形態をとる任意のタイプのフィルタが、例えば、RGBE、RYYB、CYYM、又はRGBWタイプのフィルタなどの、本発明によるスペクトルイメージャを設計するために想定することができる。
マルチスペクトルイメージャにおいてベイヤアレイを装備するイメージセンサを使用することは、そのようなセンサが妥当なコストで広く入手可能である限り、極めて有利である。
更に、上記の2つの実施形態において例として取り上げられた図1Aのスペクトルイメージャ構造は、ハイブリッド技術によって得られる構造、すなわち、2つの異なる基板上にイメージセンサ及びフィルタリング構造を並行して製造し、次いでレンズのアレイを含むそれらの関連付けに依存するものに相当する。しかしながら、図1Aのものと同一であるが図5のA)に示されるようにレンズを有しないハイブリッド構造、又はフィルタリング層170がセンサ基板上に形成され、図5のB)及びC)にそれぞれ示されるように平坦化層175の上にレンズのアレイを有しないで、又は有して、平坦化層に任意選択で覆われているハイブリッド構造などの、他の構造も適している。
モノリシック技術(monolithic technology)によって得られる構造、すなわち、図5のD)及びE)に示されるように、感光画素115、干渉フィルタ160、及びフィルタ層170をこの順序にそれぞれ重ね合わせ、感光画素115、フィルタリング層170、任意選択で平坦化層176、及び干渉フィルタ160をこの順序にそれぞれ重ね合わせて、単一の基板上にイメージャの全ての要素を連続して形成することによって得られる構造を使用することも可能である。
本発明は、上記に開示された実施形態に限定されず、本発明の範囲から逸脱することなく変更を受け、組み合わせることが可能であることは言うまでもない。

Claims (8)

  1. 第1のスペクトル帯域と、前記第1のスペクトル帯域とは異なる第2のスペクトル帯域とを含む関心スペクトル領域を分析するように設計されたマルチスペクトルイメージャであって、
    前記第1のスペクトル帯域と、前記第1のスペクトル帯域とは異なる前記第2のスペクトル帯域とに対して、それぞれ専用となる第1の感光画素(115、PP1)及び第2の感光画素(115、PP2)を各々含むマクロ画素(110)のアレイから形成されたイメージセンサ(100)と、
    前記第1の感光画素(115、PP1)及び前記第2の感光画素(115、PP2)上にそれぞれ重ね合わされ、前記第1のスペクトル帯域に属する第1の電磁放射(IλI)と、前記第2のスペクトル帯域に属する第2の電磁放射(IλII)とをそれぞれ透過させるように配置された第1の干渉フィルタ(160、IF1)及び第2の干渉フィルタ(160、IF2)を含むフィルタリング構造(150)と
    を備え、
    前記第2の電磁放射の波長の半分の波長が、前記関心スペクトル領域に位置することと、
    前記第2の感光画素(160,PP2)上に重ね合わされ、前記第2の電磁放射の波長の半分の波長を有する第3の電磁放射の通過を遮断するように構成されたフィルタリング層(170、FL;FL’)を更に備え
    前記フィルタリング層(FL)は、前記第1のスペクトル帯域および前記第2のスペクトル帯域を含むスペクトル領域において、カットオフ波長を有するハイパス有機フィルタを形成するか、または前記フィルタリング層(FL’)は、前記第1のスペクトル帯域および前記第2のスペクトル帯域を含む可視スペクトル領域内のスペクトル帯域をそれぞれ透過させるように構成される、有機フィルタ(Org.R,Org.G,Org.B)のアレイを含む、
    ことを特徴とする、マルチスペクトルイメージャ。
  2. 前記第2の電磁放射の波長の半分の前記波長は前記第1のスペクトル帯域内にあることを特徴とする、請求項1に記載のマルチスペクトルイメージャ。
  3. 前記フィルタリング層(170、FL)は、前記第1の電磁放射を遮断し、前記第2の電磁放射を透過させるように構成されたハイパスフィルタを形成することを特徴とする、請求項1又は2に記載のマルチスペクトルイメージャ。
  4. 前記フィルタリング層(170、FL)は、前記第1の感光画素(160、PP1)と重ならないように構造化されることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか一項に記載のマルチスペクトルイメージャ。
  5. 前記フィルタリング層(FL)は、赤色有機材料の層で構成されていることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のマルチスペクトルイメージャ。
  6. 前記フィルタリング層(FL’)は、基本フィルタのモザイクで形成され、前記第1の感光画素(PP1)上に更に重ね合わされ、前記第1の電磁放射(IλI)を前記第1の感光画素(PP1)に透過させるように構成されることを特徴とする、請求項1又は2に記載のマルチスペクトルイメージャ。
  7. 前記有機フィルタは、青色、緑色、及び赤色の放射帯域をそれぞれ透過させるように構成されていることを特徴とする、請求項1または6に記載のマルチスペクトルイメージャ。
  8. 前記有機フィルタのアレイはベイヤアレイであることを特徴とする、請求項に記載のマルチスペクトルイメージャ。
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