JP7645142B2 - 加工装置、及び加工品の製造方法 - Google Patents
加工装置、及び加工品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7645142B2 JP7645142B2 JP2021116850A JP2021116850A JP7645142B2 JP 7645142 B2 JP7645142 B2 JP 7645142B2 JP 2021116850 A JP2021116850 A JP 2021116850A JP 2021116850 A JP2021116850 A JP 2021116850A JP 7645142 B2 JP7645142 B2 JP 7645142B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- transfer
- holding
- holding mechanism
- cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67236—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations the substrates being processed being not semiconductor wafers, e.g. leadframes or chips
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q41/00—Combinations or associations of metal-working machines not directed to a particular result according to classes B21, B23, or B24
- B23Q41/06—Features relating to organisation of working of machines
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q7/00—Arrangements for handling work specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools, e.g. for conveying, loading, positioning, discharging, sorting
- B23Q7/04—Arrangements for handling work specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools, e.g. for conveying, loading, positioning, discharging, sorting by means of grippers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B27/00—Other grinding machines or devices
- B24B27/06—Grinders for cutting-off
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
- B24B49/12—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation involving optical means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67721—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrates to be conveyed not being semiconductor wafers or large planar substrates, e.g. chips, lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Dicing (AREA)
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Feeding Of Workpieces (AREA)
Description
また、加工テーブルが水平面上において第1方向及び第2方向に移動しない構成となるので、加工テーブルの移動スペース及びその周辺の無駄なスペースを削減することができ、加工装置のフットプリントを低減することができる。
さらに、貼付用搬送機構により個片化された加工対象物を移載テーブルから載置テーブルに載置された貼付部材に搬送して、当該貼付部材の粘着面に個片化された加工対象物を貼り付けることができる。その結果、個片化された加工対象物に対して、スパッタリング工程又は実装工程などの後工程を行う場合に、個片化された加工対象物が貼り付けられた貼付部材を移動させればよく、その取り扱いを容易にすることができる。
この構成であれば、トランスファ軸に沿って移動する第1保持機構を加工用移動機構の上方で移動させることができ、第1保持機構が加工用移動機構と物理的に干渉することを防ぐことができる。また、トランスファ軸に沿って移動する第2保持機構を加工用移動機構の上方で移動させることができ、第2保持機構が加工用移動機構と物理的に干渉することを防ぐことができる。
この構成であれば、載置テーブルに貼付部材を載置している状態で、一方のガイドレールに空の貼付部材を予め載置しておくことで、載置テーブルに空の貼付部材を載置する際の時間を短縮することができる。なお、他方のガイドレールには、個片化された加工対象物が貼り付けられた貼付部材が載置される。
この構成であれば、X方向に設けられる一対のX方向ガイドレールが加工テーブルを挟んで設けられるので、一対のX方向ガイドレールのピッチを大きくすることができる。その結果、X方向ガイドレール同士のZ方向の位置ずれが加工に与える影響を小さくすることができる。つまり、回転工具(例えばブレード)と加工テーブルの直交度のズレを小さくすることができ、加工精度を向上させることができる。また、X方向ガイドレールに従来よりも低スペックのものを用いることができる。
以下に、本発明に係る加工装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に示すいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
本実施形態の加工装置100は、加工対象物である封止済基板Wを切断することによって、複数の加工品である製品Pに個片化する切断装置である。
2つの切断用テーブル2A、2Bは、X方向、Y方向及びZ方向に固定して設けられている。なお、切断用テーブル2Aは、切断用テーブル2Aの下に設けられた回転機構9Aによってθ方向に回転可能である。また、切断用テーブル2Bは、切断用テーブル2Bの下に設けられた回転機構9Bによってθ方向に回転可能である。
第1保持機構3は、図1に示すように、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送するために封止済基板Wを保持するものである。この第1保持機構3は、図5及び図6に示すように、封止済基板Wを吸着保持するための複数の吸着部311が設けられた吸着ヘッド31と、当該吸着ヘッド31の吸着部311に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド31が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送する。
加工機構である切断機構4は、図1、図2及び図3に示すように、ブレード41A、41B及び2つのスピンドル部42A、42Bからなる2つの回転工具40を有するものである。2つのスピンドル部42A、42Bは、それらの回転軸がY方向に沿うように設けられており、それらに取り付けられるブレード41A、41Bが互いに対向するように配置される(図3参照)。スピンドル部42Aのブレード41A及びスピンドル部42Bのブレード41Bは、X方向とZ方向とを含む面内において回転することによって各切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wを切断する。なお、本実施形態の切断装置100には、図4に示すように、ブレード41A、41Bによって発生する摩擦熱を抑えるために切削水(加工液)を噴射する噴射ノズル121を有する液体供給機構12が設けられている。この噴射ノズル121は、例えば、後述するZ方向移動部83に支持されている。
本実施形態の移載テーブル5は、図1に示すように、後述する検査部13により検査された複数の製品Pが移されるテーブルである。この移載テーブル5は、いわゆるインデックステーブルといわれるものであり、複数の製品Pを後述する貼付部材20に貼り付ける前に、複数の製品Pが一時的に載置される。また、移載テーブル5は、図1及び図7に示すように、Y方向に沿って移動可能に設けられており、第2保持機構6により複数の製品Pが載置される移載位置X1と、貼付用搬送機構22により複数の製品Pが搬送される取り出し位置X2との間で移動する。なお、移載位置X1は、トランスファ軸71よりも手前側に設定されており、2つの切断用テーブル2A、2Bと水平面上においてX方向に沿って一列に配置される位置であり、取り出し位置X2は、トランスファ軸71よりも奥側に設定されている。
ここで、検査部13は、図1に示すように、切断用テーブル2A、2Bと移載テーブル5との間に設けられ、第2保持機構6に保持された複数の製品Pを検査するものである。本実施形態の検査部13は、製品Pの封止面(パッケージ面)を検査する第1検査部131と、製品Pのリード面を検査する第2検査部132とを有している。第1検査部131は、パッケージ面を検査するための光学系を有する撮像カメラであり、第2検査部132は、リード面を検査するための光学系を有する撮像カメラである。なお、第1検査部131及び第2検査部132を共通としても良い。
第2保持機構6は、図1に示すように、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから反転機構14に搬送するために複数の製品Pを保持するものである。この第2保持機構6は、図9に示すように、複数の製品Pを吸着保持するための複数の吸着部611が設けられた吸着ヘッド61と、当該吸着ヘッド61の吸着部611に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド61が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから保持テーブル141に搬送する。
搬送用移動機構7は、図1に示すように、第1保持機構3を少なくとも基板供給機構11と切断用テーブル2A、2Bとの間で移動させるとともに、第2保持機構6を少なくとも切断用テーブル2A、2Bと保持テーブル141との間で移動させるものである。
切断用移動機構8は、2つのスピンドル部42A、42Bそれぞれを、X方向、Y方向及びZ方向の各方向に直線移動させるものである。
また、本実施形態の切断装置100は、図1に示すように、封止済基板Wの切断により生じた端材などの加工屑Sを収容する加工屑収容部17をさらに備えている。
また、本発明の切断装置100は、図1及び図5に示すように、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面側(リード面)をクリーニングする第1クリーニング機構18をさらに備えている。この第1クリーニング機構18は、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射する噴射ノズル18a(図5参照)によって、製品Pの上面側をクリーニングするものである。
さらに、本発明の切断装置100は、図1に示すように、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面側(パッケージ面)をクリーニングする第2クリーニング機構19をさらに備えている。この第2クリーニング機構19は、切断用テーブル2Bと検査部13との間に設けられており、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射することによって、製品Pの下面側をクリーニングする。つまり、第2保持機構6がトランスファ軸71に沿って移動される途中において、第2クリーニング機構19は製品Pの下面側をクリーニングする。
そして、本実施形態の切断装置100は、複数の製品Pを粘着面20xを有する貼付部材20に貼り付けて収容(「リング収容」とも呼ばれる。)できるように構成されている。
次に、切断装置100の動作の一例を図10、図12及び図13を参照して説明する。なお、図13には、切断装置100の動作における第1保持機構3の移動経路及び第2保持機構6の移動経路を示している。本実施形態においては、切断装置100の動作、例えば封止済基板Wの搬送、封止済基板Wの切断、製品Pの検査、製品Pのリング収容など、すべての動作や制御は制御部CTL(図1参照)により行われる。
本実施形態の切断装置100によれば、切断用テーブル2A、2B及び移載テーブル5の配列方向に沿って延びる共通のトランスファ軸71により第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させる構成とし、切断用移動機構8により切断機構4を水平面においてトランスファ軸71に沿ったX方向及び当該X方向に直交するY方向それぞれに移動させるので、切断用テーブル2A、2BをX方向及びY方向に移動させることなく、封止済基板Wを個片化することができる。このため、切断用テーブル2A、2Bをボールねじ機構等により移動させることなく、ボールねじ機構等を保護するための蛇腹部材及び当該蛇腹部材を保護するためのカバー部材を不要にすることができる。その結果、切断装置100の装置構成を簡素化することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
W・・・封止済基板(加工対象物)
P・・・製品(加工品)
2A、2B・・・切断用テーブル(加工テーブル)
3・・・第1保持機構
4・・・切断機構(加工機構)
5・・・移載テーブル
6・・・第2保持機構
7・・・搬送用移動機構
71・・・トランスファ軸
8・・・加工用移動機構
81・・・X方向移動部
82・・・Y方向移動部
811・・・一対のX方向ガイドレール
812・・・支持体
20・・・貼付部材
20x・・・粘着面
21・・・載置テーブル
22・・・貼付用搬送機構
23・・・第1撮像部
24・・・第2撮像部
25・・・貼付部材収容部
26・・・貼付部材搬送機構
27・・・ガイドレール
27A、27B・・・ガイドレール
Claims (7)
- 加工対象物を保持する加工テーブルと、
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が移される移載テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記移載テーブルに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記移載テーブルの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記個片化された前記加工対象物が貼り付けられる粘着面を有する貼付部材が載置される複数の載置テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記移載テーブルから前記載置テーブルに載置された前記貼付部材に搬送する貼付用搬送機構とを備える、加工装置。 - 加工対象物を保持する加工テーブルと、
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が移される移載テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記移載テーブルに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記移載テーブルの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記個片化された前記加工対象物が貼り付けられる粘着面を有する貼付部材が載置される載置テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記移載テーブルから前記載置テーブルに載置された前記貼付部材に搬送する貼付用搬送機構と、
前記貼付部材を収容する貼付部材収容部と、
前記貼付部材を前記載置テーブルと前記貼付部材収容部との間で搬送する貼付部材搬送機構と、
前記貼付部材を前記収容部に出し入れするためのガイドレールとを備え、
1つの前記載置テーブルに対して前記ガイドレールが上下に2つ設けられている、加工装置。 - 加工対象物を保持する加工テーブルと、
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が移される移載テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記移載テーブルに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記移載テーブルの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記個片化された前記加工対象物が貼り付けられる粘着面を有する貼付部材が載置される載置テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記移載テーブルから前記載置テーブルに載置された前記貼付部材に搬送する貼付用搬送機構と、
前記貼付用搬送機構により保持された前記個片化された前記加工対象物の位置を確認する第1撮像部と、
前記貼付部材の前記粘着面において前記個片化された前記加工対象物が貼付される位置を確認する第2撮像部とを備える、加工装置。 - 加工対象物を保持する加工テーブルと、
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が移される移載テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記移載テーブルに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記移載テーブルの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記個片化された前記加工対象物が貼り付けられる粘着面を有する貼付部材が載置される載置テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記移載テーブルから前記載置テーブルに載置された前記貼付部材に搬送する複数の貼付用搬送機構とを備え、
それぞれの前記貼付用搬送機構が互いに独立して駆動する、加工装置。 - 加工対象物を保持する加工テーブルと、
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が移される移載テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記移載テーブルに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記移載テーブルの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記個片化された前記加工対象物が貼り付けられる粘着面を有する貼付部材が載置される載置テーブルと、
前記個片化された前記加工対象物を前記移載テーブルから前記載置テーブルに載置された前記貼付部材に搬送する貼付用搬送機構とを備え、
前記加工用移動機構は、前記加工機構を前記第1方向であるX方向に直線移動させるX方向移動部と、
前記加工機構を前記第2方向であるY方向に直線移動させるY方向移動部とを備え、
前記X方向移動部は、前記加工テーブルを挟んでX方向に沿って設けられた一対のX方向ガイドレールと、当該一対のX方向ガイドレールに沿って移動するとともに、前記Y方向移動部を介して前記加工機構を支持する支持体とを有している、加工装置。 - 前記トランスファ軸は、前記加工用移動機構の上方において前記加工用移動機構を横切るように配置されている、請求項1乃至5の何れか一項に記載の加工装置。
- 請求項1乃至6の何れか一項に記載の加工装置を用いて加工品を製造する加工品の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021116850A JP7645142B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
| CN202280044311.0A CN117546273A (zh) | 2021-07-15 | 2022-03-08 | 加工装置、及加工品的制造方法 |
| KR1020237042876A KR102865069B1 (ko) | 2021-07-15 | 2022-03-08 | 가공 장치 및 가공품의 제조 방법 |
| PCT/JP2022/009931 WO2023286339A1 (ja) | 2021-07-15 | 2022-03-08 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
| TW111121169A TWI830247B (zh) | 2021-07-15 | 2022-06-08 | 加工裝置、及加工品的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021116850A JP7645142B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023013000A JP2023013000A (ja) | 2023-01-26 |
| JP7645142B2 true JP7645142B2 (ja) | 2025-03-13 |
Family
ID=84919173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021116850A Active JP7645142B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7645142B2 (ja) |
| KR (1) | KR102865069B1 (ja) |
| CN (1) | CN117546273A (ja) |
| TW (1) | TWI830247B (ja) |
| WO (1) | WO2023286339A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2025145881A (ja) | 2024-03-22 | 2025-10-03 | 株式会社オーク製作所 | カメラユニット、露光装置、加工装置、検査装置およびマーク撮像方法 |
| KR102794380B1 (ko) * | 2024-12-30 | 2025-04-09 | (주)성화에스티남동 | 고정밀 금속 가공용 정밀 절단 시스템 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009113236A1 (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-17 | Towa株式会社 | 基板の切断方法及び装置 |
| JP2013116532A (ja) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | Disco Corp | 切削装置 |
| JP2017152582A (ja) | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
| JP2018101649A (ja) | 2016-12-19 | 2018-06-28 | Towa株式会社 | 切断装置 |
| JP2020017559A (ja) | 2018-07-23 | 2020-01-30 | Towa株式会社 | 搬送機構、電子部品製造装置、搬送方法および電子部品の製造方法 |
| JP2021097093A (ja) | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | 統計データ生成方法、切断装置及びシステム |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101305346B1 (ko) * | 2007-02-09 | 2013-09-06 | 한미반도체 주식회사 | 반도체 패키지 절단 및 핸들링 장치 |
| KR101324946B1 (ko) * | 2012-03-07 | 2013-11-04 | 한미반도체 주식회사 | 반도체 자재 절단장치 |
| JP6626027B2 (ja) * | 2017-03-16 | 2019-12-25 | Towa株式会社 | 製造装置および電子部品の製造方法 |
-
2021
- 2021-07-15 JP JP2021116850A patent/JP7645142B2/ja active Active
-
2022
- 2022-03-08 KR KR1020237042876A patent/KR102865069B1/ko active Active
- 2022-03-08 WO PCT/JP2022/009931 patent/WO2023286339A1/ja not_active Ceased
- 2022-03-08 CN CN202280044311.0A patent/CN117546273A/zh active Pending
- 2022-06-08 TW TW111121169A patent/TWI830247B/zh active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009113236A1 (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-17 | Towa株式会社 | 基板の切断方法及び装置 |
| JP2013116532A (ja) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | Disco Corp | 切削装置 |
| JP2017152582A (ja) | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
| JP2018101649A (ja) | 2016-12-19 | 2018-06-28 | Towa株式会社 | 切断装置 |
| JP2020017559A (ja) | 2018-07-23 | 2020-01-30 | Towa株式会社 | 搬送機構、電子部品製造装置、搬送方法および電子部品の製造方法 |
| JP2021097093A (ja) | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | 統計データ生成方法、切断装置及びシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2023286339A1 (ja) | 2023-01-19 |
| JP2023013000A (ja) | 2023-01-26 |
| KR102865069B1 (ko) | 2025-09-26 |
| TW202305902A (zh) | 2023-02-01 |
| KR20240008343A (ko) | 2024-01-18 |
| CN117546273A (zh) | 2024-02-09 |
| TWI830247B (zh) | 2024-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7645142B2 (ja) | 加工装置、及び加工品の製造方法 | |
| TWI818861B (zh) | 加工裝置及加工品的製造方法 | |
| TWI834199B (zh) | 加工裝置、及加工品的製造方法 | |
| TWI806486B (zh) | 加工裝置及加工品的製造方法 | |
| TWI826950B (zh) | 加工裝置及加工品的製造方法 | |
| JP7645141B2 (ja) | 加工装置、及び加工品の製造方法 | |
| TWI823298B (zh) | 加工裝置及加工品的製造方法 | |
| JP7645146B2 (ja) | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230728 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240926 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20241113 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250220 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250303 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7645142 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |