JP7541019B2 - Adhesive sheet - Google Patents

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Description

本発明は、粘着シート及び粘着シートの製造方法に関する。 The present invention relates to an adhesive sheet and a method for manufacturing an adhesive sheet.

近年、電子機器の小型化、軽量化、及び高機能化が進んでいる。電子機器に搭載される半導体装置にも、小型化、薄型化、及び高密度化が求められている。半導体チップは、そのサイズに近いパッケージに実装されることがある。このようなパッケージは、チップスケールパッケージ(Chip Scale Package;CSP)と称されることもある。CSPの一つとして、ウエハレベルパッケージ(Wafer Level Package;WLP)が挙げられる。WLPにおいては、ダイシングにより個片化する前に、ウエハに外部電極等を形成し、最終的にはウエハをダイシングして、個片化する。WLPとしては、ファンイン(Fan-In)型とファンアウト(Fan-Out)型が挙げられる。ファンアウト型のWLP(以下、「FO-WLP」と略記する場合がある。)においては、半導体チップを、チップサイズよりも大きな領域となるように封止部材で覆って半導体チップ封止体を形成し、再配線層や外部電極を、半導体チップの回路面だけでなく封止部材の表面領域においても形成する。In recent years, electronic devices have become smaller, lighter, and more functional. Semiconductor devices mounted on electronic devices are also required to be smaller, thinner, and more dense. Semiconductor chips are sometimes mounted in packages close to their size. Such packages are sometimes called chip scale packages (CSPs). One type of CSP is wafer level packages (WLPs). In WLPs, external electrodes and the like are formed on a wafer before it is diced into individual pieces, and the wafer is finally diced into individual pieces. WLPs include fan-in and fan-out types. In fan-out type WLP (hereinafter sometimes abbreviated as "FO-WLP"), a semiconductor chip is covered with a sealing material so that the area is larger than the chip size to form a semiconductor chip sealing body, and redistribution layers and external electrodes are formed not only on the circuit surface of the semiconductor chip but also on the surface area of the sealing material.

例えば、特許文献1には、半導体ウエハから個片化された複数の半導体チップについて、その回路形成面を残し、モールド部材を用いて周りを囲んで拡張ウエハを形成し、半導体チップ外の領域に再配線パターンを延在させて形成する半導体パッケージの製造方法が記載されている。特許文献1に記載の製造方法において、個片化された複数の半導体チップをモールド部材で囲う前に、エキスパンド用のウエハマウントテープに貼り替え、ウエハマウントテープを展延して複数の半導体チップの間の距離を拡大させている。For example, Patent Document 1 describes a method for manufacturing a semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips separated from a semiconductor wafer are surrounded by a molding material to form an expanded wafer while leaving the circuit formation surface, and a rewiring pattern is extended to an area outside the semiconductor chip. In the manufacturing method described in Patent Document 1, before surrounding the plurality of separated semiconductor chips with the molding material, an expandable wafer mount tape is attached, and the wafer mount tape is expanded to increase the distance between the plurality of semiconductor chips.

国際公開第2010/058646号International Publication No. 2010/058646

エキスパンド工程においては、複数の半導体チップが貼着されているテープ又はシートを展延させて、半導体チップ同士の間隔を拡大させる。シートを引っ張って展延させる際に、シート面内で伸び量が異なると、半導体チップ同士の間隔も均等に拡大させ難い。
また、粘着シートの粘着剤層に含有される粘着剤がシート幅方向の端部から染み出すという不具合が生じる場合もある。
In the expanding step, the tape or sheet to which multiple semiconductor chips are attached is expanded to expand the spaces between the semiconductor chips. When the sheet is stretched and expanded, if the amount of expansion varies within the sheet plane, it is difficult to uniformly expand the spaces between the semiconductor chips.
Furthermore, there may be a problem in that the adhesive contained in the adhesive layer of the adhesive sheet seeps out from the ends in the width direction of the sheet.

本発明の目的は、エキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差を小さくでき、拡張性に優れる粘着シートを提供することである。
本発明の別の目的は、粘着剤の染み出しを抑制し、かつエキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差を小さくでき、拡張性に優れる粘着シート並びに当該粘着シートの製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide an adhesive sheet that has excellent extensibility and can reduce the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet when the adhesive sheet is expanded in an expanding process to expand the distance between semiconductor chips.
Another object of the present invention is to provide an adhesive sheet having excellent extensibility, which can suppress the seepage of adhesive and reduce the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet when the adhesive sheet is expanded in an expanding process to expand the distance between semiconductor chips, as well as a method for manufacturing said adhesive sheet.

本発明の一態様に係る粘着シートは、基材と、粘着剤層と、を有し、
前記粘着シートから幅25mmの第一の試験片を作製して、前記第一の試験片の長手方向のそれぞれの両端における前記基材及び前記粘着剤層を掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の引張強度FA1と、
縦寸法が45mmであり、横寸法が35mmであり、厚さ寸法が0.625mmである第一の半導体チップ及び第二の半導体チップを前記第一の半導体チップ及び第二の半導体チップの縦寸法が45mmである辺を、前記第一の試験片の長手方向に沿わせ、前記第一の半導体チップと前記第二の半導体チップとの間隔を35μmとして、前記第一の試験片の長手方向の一端側の粘着剤層に前記第一の半導体チップを貼着し、前記第一の試験片の長手方向の他端側の粘着剤層に前記第二の半導体チップを貼着して第二の試験片を作製して、前記第二の試験片の長手方向のそれぞれの両端における前記基材、前記粘着剤層及び前記半導体チップを掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の引張強度FB1と、が、下記数式(数1A)の関係を満たす。
B1/FA1≦30 …(数1A)
The pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention has a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer,
A first test piece having a width of 25 mm was prepared from the pressure-sensitive adhesive sheet, and the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer at both ends of the first test piece in the longitudinal direction were gripped with grippers, and the tensile strength F A1 when pulled 0.5 mm by a tensile tester was measured.
A first semiconductor chip and a second semiconductor chip having a vertical dimension of 45 mm, a horizontal dimension of 35 mm, and a thickness dimension of 0.625 mm are aligned with the sides of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip whose vertical dimension is 45 mm along the longitudinal direction of the first test piece, and the distance between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip is 35 μm. The first semiconductor chip is attached to the adhesive layer at one end side in the longitudinal direction of the first test piece, and the second semiconductor chip is attached to the adhesive layer at the other end side in the longitudinal direction of the first test piece to prepare a second test piece. The substrate, the adhesive layer, and the semiconductor chip at each end in the longitudinal direction of the second test piece are held with a gripper, and the tensile strength F B1 when pulled 0.5 mm by a tensile tester satisfies the relationship of the following mathematical formula (Math 1A).
F B1 /F A1 ≦30...(Math 1A)

本発明の一態様に係る粘着シートは、基材と、粘着剤層と、を有し、
前記粘着剤層は、エネルギー線硬化性樹脂を含有し、
前記粘着剤層は、前記粘着剤層の幅方向両端部における前記エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部と、前記エネルギー線硬化性樹脂が硬化されていない未硬化部と、を有し、
前記未硬化部に対応する領域の前記粘着シートから幅25mmの第一の試験片を作製して、前記第一の試験片の長手方向のそれぞれの両端における前記基材及び前記粘着剤層の前記未硬化部を掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の引張強度FA1と、
縦寸法が45mmであり、横寸法が35mmであり、厚さ寸法が0.625mmである第一の半導体チップ及び第二の半導体チップを前記第一の半導体チップ及び第二の半導体チップの縦寸法が45mmである辺を、前記第一の試験片の長手方向に沿わせ、前記第一の半導体チップと前記第二の半導体チップとの間隔を35μmとして、前記第一の試験片の長手方向の一端側の前記未硬化部の粘着剤層に前記第一の半導体チップを貼着し、前記第一の試験片の長手方向の他端側の前記未硬化部の粘着剤層に前記第二の半導体チップを貼着して第二の試験片を作製して、前記第二の試験片の長手方向のそれぞれの両端における前記基材、前記未硬化部の粘着剤層及び前記半導体チップを掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の引張強度FB1と、が、下記数式(数1A)の関係を満たす。
B1/FA1≦30 …(数1A)
The pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention has a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive layer contains an energy ray-curable resin,
the pressure-sensitive adhesive layer has a cured portion at both ends in a width direction of the pressure-sensitive adhesive layer, where the energy ray curable resin is cured, and an uncured portion at which the energy ray curable resin is not cured,
A first test piece having a width of 25 mm was prepared from the pressure-sensitive adhesive sheet in a region corresponding to the uncured portion, and the uncured portions of the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer at both ends of the first test piece in the longitudinal direction were gripped with grippers to measure the tensile strength F A1 when pulled 0.5 mm by a tensile tester;
A first semiconductor chip and a second semiconductor chip having a vertical dimension of 45 mm, a horizontal dimension of 35 mm, and a thickness dimension of 0.625 mm were aligned with the sides of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip whose vertical dimension is 45 mm along the longitudinal direction of the first test piece, and the distance between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip was set to 35 μm. The first semiconductor chip was attached to the adhesive layer of the uncured portion at one end side of the longitudinal direction of the first test piece, and the second semiconductor chip was attached to the adhesive layer of the uncured portion at the other end side of the longitudinal direction of the first test piece to prepare a second test piece, and the substrate, the adhesive layer of the uncured portion, and the semiconductor chip at each end in the longitudinal direction of the second test piece were held with a gripper, and the tensile strength F B1 when pulled 0.5 mm by a tensile tester satisfied the relationship of the following mathematical formula (Math 1A).
F B1 /F A1 ≦30...(Math 1A)

本発明の一態様に係る粘着シートにおいて、前記エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部を含むように、前記粘着シートの長尺方向に沿って長さ150mm、幅25mmのサイズに切り出した第三の試験片を作製し、当該第三の試験片をチャック間距離を100mmとして一対のチャックで把持し、速度5mm/secで、チャック間距離が200mmになるまで伸長させた際、前記硬化部と前記基材との界面に浮きが発生しないことが好ましい。In an adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, a third test piece is prepared by cutting the adhesive sheet along the longitudinal direction to a size of 150 mm in length and 25 mm in width so as to include a cured portion in which the energy ray curable resin has been cured. The third test piece is held by a pair of chucks with a chuck distance of 100 mm and extended at a speed of 5 mm/sec until the chuck distance becomes 200 mm. It is preferable that no lift occurs at the interface between the cured portion and the substrate.

本発明の一態様に係る粘着シートにおいて、
前記粘着シートを、第一方向、前記第一方向とは反対方向である第二方向、前記第一方向に対して垂直方向である第三方向、及び前記第三方向とは反対方向である第四方向に伸長させて、伸長前の前記粘着シートの面積S1と、伸長後の前記粘着シートの面積S2との面積比(S2/S1)×100が381%であるときに、前記粘着剤層の前記硬化部が前記基材との界面で剥がれないことが好ましい。
In one aspect of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention,
It is preferable that when the adhesive sheet is stretched in a first direction, a second direction opposite to the first direction, a third direction perpendicular to the first direction, and a fourth direction opposite to the third direction, and an area ratio (S2/S1)×100 of an area S1 of the adhesive sheet before stretching to an area S2 of the adhesive sheet after stretching is 381%, the cured portion of the adhesive layer does not peel off at the interface with the substrate.

本発明の一態様に係る粘着シートにおいて、前記引張強度FA1と、前記引張強度FB1と、が、下記数式(数1B)の関係を満たすことが好ましい。
1≦FB1/FA1≦30 …(数1B)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to one aspect of the present invention, it is preferable that the tensile strength F A1 and the tensile strength F B1 satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical formula 1B).
1≦F B1 /F A1 ≦30…(Math 1B)

本発明の一態様に係る粘着シートにおいて、前記第一の試験片のヤング率YA1と、前記第二の試験片のヤング率YB1と、が、下記数式(数2A)の関係を満たすことが好ましい。
B1/YA1≦19 …(数2A)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to one aspect of the present invention, it is preferable that the Young's modulus Y A1 of the first test piece and the Young's modulus Y B1 of the second test piece satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical Formula 2A).
Y B1 /Y A1 ≦19...(Math. 2A)

本発明の一態様に係る粘着シートにおいて、前記粘着剤層は、アクリル系粘着剤を含有することが好ましい。In the adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, it is preferable that the adhesive layer contains an acrylic adhesive.

本発明の一態様に係る粘着シートにおいて、前記基材は、ウレタン系エラストマーを含有することが好ましい。In one embodiment of the adhesive sheet of the present invention, it is preferable that the substrate contains a urethane-based elastomer.

本発明の一態様に係る粘着シートは、半導体装置の製造工程中、複数の半導体チップ同士の間隔を拡張するためのエキスパンド工程に使用されることが好ましい。 The adhesive sheet of one embodiment of the present invention is preferably used in an expanding process for expanding the spacing between multiple semiconductor chips during the manufacturing process of a semiconductor device.

本発明の一態様に係る粘着シートは、長尺状であり、ロール状に巻き取られている、
粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention is long and wound into a roll.
Adhesive sheet.

本発明の一態様に係る粘着シートの製造方法は、
基材の上に、エネルギー線硬化性樹脂を含有する粘着剤組成物を塗布して、粘着剤層を形成する工程と、
前記粘着剤層の幅方向の両端部にエネルギー線を照射して、前記エネルギー線硬化性樹脂を硬化させて硬化部を形成する工程と、
前記エネルギー線硬化性樹脂を硬化させていない未硬化部の幅方向両端部よりも外側に前記硬化部の全部を残すか、又は前記硬化部の一部を残して、前記硬化部よりも外側を裁断する工程と、を有する。
A method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention includes the steps of:
A step of applying a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray curable resin onto a substrate to form a pressure-sensitive adhesive layer;
a step of irradiating both ends in the width direction of the pressure-sensitive adhesive layer with energy rays to cure the energy ray curable resin and form a cured portion;
and a step of cutting the portion outside the cured portion while leaving either the entire cured portion outside both widthwise ends of the uncured portion where the energy ray curable resin has not been cured, or while leaving only a portion of the cured portion.

本発明の一態様に係る粘着シートの製造方法において、
前記未硬化部の幅方向両端部よりも外側に残す前記硬化部の幅は、それぞれ独立に、0.5mm以上であることが好ましい。
In one aspect of the present invention, there is provided a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, comprising the steps of:
It is preferable that the widths of the cured portions remaining outside both widthwise ends of the uncured portion are each independently 0.5 mm or more.

本発明の一態様に係る粘着シートの製造方法において、
前記硬化部よりも外側を裁断する工程の後に、裁断後の粘着シートをロール状に巻き取る工程をさらに有することが好ましい。
In one aspect of the present invention, there is provided a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, comprising the steps of:
It is preferable to further include a step of winding up the cut pressure-sensitive adhesive sheet into a roll after the step of cutting off the portion outside the cured portion.

本発明の一態様によれば、エキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差を小さくでき、拡張性に優れる粘着シートを提供できる。
本発明の別の一態様によれば、粘着剤の染み出しを抑制し、かつエキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差を小さくでき、拡張性に優れる粘着シート並びに当該粘着シートの製造方法を提供できる。
According to one aspect of the present invention, when the adhesive sheet is expanded in an expanding process to expand the distance between semiconductor chips, the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet can be reduced, thereby providing an adhesive sheet with excellent expandability.
According to another aspect of the present invention, it is possible to provide an adhesive sheet having excellent extensibility, which can suppress the seepage of adhesive and reduce the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet when the adhesive sheet is expanded in an expanding process to expand the distance between semiconductor chips, as well as a method for manufacturing the adhesive sheet.

一実施形態に係る粘着シートの断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view of a pressure-sensitive adhesive sheet according to an embodiment. 第一の試験片を引張試験機の掴み具で把持した状態を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which a first test piece is gripped by grippers of a tensile tester. 第二の試験片を引張試験機の掴み具で把持した状態を示す概略図である。FIG. 13 is a schematic diagram showing a state in which a second test piece is gripped by grippers of a tensile testing machine. 別の実施形態に係る粘着シートの断面概略図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a pressure-sensitive adhesive sheet according to another embodiment. 別の実施形態に係る粘着シートがロール状に巻き取られた状態を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a pressure-sensitive adhesive sheet according to another embodiment is wound into a roll. 別の実施形態に係る粘着シートの製造方法を示す断面概略図である。5A to 5C are schematic cross-sectional views illustrating a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to another embodiment. 別の実施形態に係る粘着シートの製造方法を示す断面概略図である。5A to 5C are schematic cross-sectional views illustrating a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to another embodiment. 別の実施形態に係る粘着シートの製造方法を示す断面概略図である。5A to 5C are schematic cross-sectional views illustrating a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to another embodiment. 実施例で使用した2軸延伸エキスパンド装置を説明する平面図である。FIG. 2 is a plan view illustrating a biaxial stretching and expanding device used in the examples.

以下、本発明の一実施形態について説明する。 The following describes one embodiment of the present invention.

〔第1実施形態〕
[粘着シート]
本実施形態に係る粘着シートは、基材と、粘着剤層と、を有する。粘着シートの形状は、例えば、テープ状(長尺の形態)、及びラベル状(枚葉の形態)等、あらゆる形状をとり得る。
図1は、本実施形態に係る粘着シートの一例の断面概略図である。図1には、基材10及び粘着剤層20を有する粘着シート1が記載されている。
First Embodiment
[Adhesive sheet]
The pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment includes a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive sheet may have any shape, such as a tape shape (long shape) or a label shape (sheet shape).
1 is a schematic cross-sectional view of an example of a pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment. In FIG. 1, a pressure-sensitive adhesive sheet 1 having a substrate 10 and a pressure-sensitive adhesive layer 20 is shown.

本実施形態に係る粘着シートは、当該粘着シートから作製した第一の試験片及び第二の試験片を、引張試験機で測定した引張強度の比が所定の範囲を満たす。The adhesive sheet of this embodiment has a first test piece and a second test piece prepared from the adhesive sheet, and the ratio of the tensile strengths measured using a tensile tester satisfies a specified range.

(第一の試験片)
第一の試験片は、本実施形態に係る粘着シートから作製される。第一の試験片の幅は、25mmである。
(First test piece)
The first test piece was made from the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment. The width of the first test piece was 25 mm.

図2は、第一の試験片の一端側における基材10及び粘着剤層20を引張試験機の第一の掴み具110で把持し、第一の試験片の他端側における基材10及び粘着剤層20を引張試験機の第二の掴み具120で把持した状態を示す概略図である。 Figure 2 is a schematic diagram showing the substrate 10 and adhesive layer 20 at one end of the first test piece being gripped by a first gripper 110 of a tensile testing machine, and the substrate 10 and adhesive layer 20 at the other end of the first test piece being gripped by a second gripper 120 of the tensile testing machine.

(第二の試験片)
第二の試験片は、本実施形態に係る粘着シートから作製された第一の試験片に2つの半導体チップを貼着することにより作製される。本実施形態においては、この2つの半導体チップは、第一の半導体チップ及び第二の半導体チップである。第一の半導体チップ及び第二の半導体チップは、いずれも、縦寸法が45mmであり、横寸法が35mmであり、厚さ寸法が0.625mmである。
第一の半導体チップ及び第二の半導体チップの縦寸法が45mmである辺を、第一の試験片の長手方向に沿わせて貼着する。
第一の半導体チップは、第一の試験片の長手方向の一端側に貼着される。第二の半導体チップは、第一の試験片の長手方向の他端側に貼着される。第一の試験片に貼着された第一の半導体チップと第二の半導体チップとの間隔を35μmとする。
(Second test piece)
The second test piece is produced by attaching two semiconductor chips to the first test piece produced from the adhesive sheet according to this embodiment. In this embodiment, the two semiconductor chips are a first semiconductor chip and a second semiconductor chip. Both the first semiconductor chip and the second semiconductor chip have a vertical dimension of 45 mm, a horizontal dimension of 35 mm, and a thickness dimension of 0.625 mm.
The first and second semiconductor chips are attached such that their sides measuring 45 mm in length are aligned along the longitudinal direction of the first test piece.
The first semiconductor chip is attached to one end of the first test piece in the longitudinal direction, and the second semiconductor chip is attached to the other end of the first test piece in the longitudinal direction, with the distance between the first and second semiconductor chips attached to the first test piece being 35 μm.

図3は、第二の試験片の一端側における基材10、粘着剤層20及び第一の半導体チップCP1を引張試験機の第一の掴み具110で把持し、第二の試験片の他端側における基材10、粘着剤層20及び第二の半導体チップCP2を引張試験機の第二の掴み具120で把持した状態を示す概略図である。 Figure 3 is a schematic diagram showing the substrate 10, adhesive layer 20 and first semiconductor chip CP1 at one end side of the second test piece being held by a first gripper 110 of a tensile testing machine, and the substrate 10, adhesive layer 20 and second semiconductor chip CP2 at the other end side of the second test piece being held by a second gripper 120 of the tensile testing machine.

(引張強度)
本実施形態に係る粘着シートは、引張試験機を用いて測定した第一の試験片及び第二の試験片の引張強度が、下記数式(数1A)の関係を満たす。
B1/FA1≦30 …(数1A)
(Tensile strength)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment, the tensile strengths of the first test piece and the second test piece measured using a tensile tester satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical Formula 1A).
F B1 /F A1 ≦30...(Math 1A)

前記数式(数1A)において、引張強度FA1は、第一の試験片の長手方向のそれぞれの両端における基材及び粘着剤層を掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の強度である。 In the above formula (Mathematical Formula 1A), the tensile strength F A1 is the strength when the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer at both ends in the longitudinal direction of the first test piece are gripped with grippers and pulled 0.5 mm using a tensile tester.

前記数式(数1A)において、引張強度FB1は、第二の試験片の長手方向のそれぞれの両端における基材、粘着剤層及び半導体チップを掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の強度である。 In the above formula (Mathematical Formula 1A), the tensile strength F B1 is the strength when the substrate, the adhesive layer and the semiconductor chip at each end in the longitudinal direction of the second test piece are gripped with grippers and pulled 0.5 mm using a tensile tester.

本発明者らは、粘着シートの半導体チップが貼着されていない部位と、半導体チップが貼着されている部位とで、エキスパンド(展延)した際に、粘着シートの延び方の挙動が異なることを見出した。また、本発明者らは、従来の粘着シートにおいては、粘着シートの半導体チップが貼着されていない部位の引張強度と、半導体チップが貼着されている部位の引張強度とが、大きく異なり、エキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡大させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差が大きいことも見出した。
本実施形態に係る粘着シートによれば、FB1/FA1が30以下であり、粘着シートの半導体チップが貼着されていない部位の引張強度と、半導体チップが貼着されている部位の引張強度との比FB1/FA1が小さい。そのため、本実施形態に係る粘着シートによれば、エキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差が小さくなり、拡張性に優れ、半導体チップ間の距離のばらつきを小さくできる。
なお、引張強度FA1及びFB1を測定する際の0.5mmという引張量は、エキスパンド工程における引張量の一つの目安である。そのため、本実施形態に係る粘着シートは、0.5mmよりも小さい引張量のエキスパンド工程で使用してもよいし、0.5mmよりも大きい引張量のエキスパンド工程で使用してもよい。
本実施形態に係る粘着シートによれば、0.5mm引張り時のFB1/FA1が30以下であるので、0.5mmよりも大きく延伸させるエキスパンド工程に本実施形態に係る粘着シートを用いた際に、粘着シートの半導体チップが貼着されていない部位と、半導体チップが貼着されている部位の引張強度との伸び量の差が過度に大きくなることも抑制できる。
The present inventors have found that the behavior of the adhesive sheet in the way it stretches differs between the area of the adhesive sheet to which the semiconductor chip is not attached and the area to which the semiconductor chip is attached when the adhesive sheet is expanded (spread).The present inventors have also found that in a conventional adhesive sheet, the tensile strength of the area to which the semiconductor chip is not attached is significantly different from the tensile strength of the area to which the semiconductor chip is attached, and that when the adhesive sheet is spread in the expanding step to increase the distance between the semiconductor chips, the difference in the amount of stretch in the in-plane direction of the adhesive sheet is large.
According to the adhesive sheet of this embodiment, F B1 /F A1 is 30 or less, and the ratio F B1 /F A1 of the tensile strength of the portion of the adhesive sheet to which the semiconductor chip is not attached to the tensile strength of the portion to which the semiconductor chip is attached is small. Therefore, according to the adhesive sheet of this embodiment, when the adhesive sheet is spread in the expanding step to expand the distance between the semiconductor chips, the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet is small, resulting in excellent expandability and reducing the variation in the distance between the semiconductor chips.
The tensile amount of 0.5 mm used when measuring the tensile strengths F A1 and F B1 is a guideline for the tensile amount in the expanding step. Therefore, the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment may be used in an expanding step with a tensile amount smaller than 0.5 mm, or may be used in an expanding step with a tensile amount larger than 0.5 mm.
According to the adhesive sheet of this embodiment, F B1 /F A1 when stretched by 0.5 mm is 30 or less, so when the adhesive sheet of this embodiment is used in an expansion process in which the sheet is stretched by more than 0.5 mm, it is possible to prevent the difference in the amount of elongation between the tensile strength of the portion of the adhesive sheet to which the semiconductor chip is not attached and the portion to which the semiconductor chip is attached from becoming excessively large.

本実施形態に係る粘着シートは、引張試験機を用いて測定した第一の試験片の引張強度FA1及び第二の試験片の引張強度FB1が、下記数式(数1B)の関係を満たすことが好ましい。
1≦FB1/FA1≦30 …(数1B)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment, it is preferable that the tensile strength F A1 of the first test piece and the tensile strength F B1 of the second test piece measured using a tensile tester satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical Formula 1B).
1≦F B1 /F A1 ≦30…(Math 1B)

本実施形態に係る粘着シートは、引張試験機を用いて測定した第一の試験片の引張強度FA1及び第二の試験片の引張強度FB1が、下記数式(数1C)の関係を満たすことも好ましい。
B1/FA1≦20 …(数1C)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment, it is also preferable that the tensile strength F A1 of the first test piece and the tensile strength F B1 of the second test piece measured using a tensile tester satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical Formula 1C).
F B1 /F A1 ≦20...(Math. 1C)

B1/FA1の値を前記数式(数1A)、数式(数1B)又は数式(数1C)の範囲内に調整する方法としては、以下のような方法が挙げられる。例えば、粘着剤層20に用いる粘着剤組成物の組成を変更すること、粘着剤層の厚さを変更すること、基材の材質を変更すること、並びに基材の厚さを変更すること等の1つ又は2つ以上を組み合わせることによって、FB1/FA1の値を前記数式(数1A)、数式(数1B)又は数式(数1C)の範囲内に調整できる。 Methods for adjusting the value of F B1 /F A1 within the range of the above-mentioned formula (1A), formula (1B), or formula (1C) include the following methods. For example, the value of F B1 /F A1 can be adjusted within the range of the above-mentioned formula (1A), formula (1B), or formula (1C) by combining one or more of the following: changing the composition of the pressure-sensitive adhesive composition used in the pressure-sensitive adhesive layer 20, changing the thickness of the pressure - sensitive adhesive layer , changing the material of the substrate, and changing the thickness of the substrate.

(ヤング率)
本実施形態に係る粘着シートにおいて、第一の試験片のヤング率YA1と、第二の試験片のヤング率YB1と、が、下記数式(数2A)の関係を満たすことが好ましい。
B1/YA1≦19 …(数2A)
上記数式(数2A)の関係を満たすことにより、粘着シートの半導体チップが貼着されていない部位のヤング率と、半導体チップが貼着されている部位のヤング率との比YB1/YA1が小さい。そのため、エキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差を小さくし易い。また、上記数式(数2A)の関係を満たすことにより、引張量が0.5mmより大きいエキスパンド工程で粘着シートを使用しても、YB1/YA1の値が過度に大きくなることを抑制できる。
粘着シートのヤング率は、後述する実施例に記載の測定方法に従って測定できる。
(Young's Modulus)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment, it is preferable that the Young's modulus Y A1 of the first test piece and the Young's modulus Y B1 of the second test piece satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical Formula 2A).
Y B1 /Y A1 ≦19...(Math. 2A)
By satisfying the relationship of the above formula (Math. 2A), the ratio YB1 /YA1 between the Young's modulus of the portion of the adhesive sheet where the semiconductor chip is not attached and the Young's modulus of the portion where the semiconductor chip is attached is small. Therefore, when the adhesive sheet is expanded in the expanding process to expand the distance between the semiconductor chips, it is easy to reduce the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet. In addition, by satisfying the relationship of the above formula (Math. 2A), even if the adhesive sheet is used in the expanding process where the tensile amount is greater than 0.5 mm, the value of YB1 / YA1 can be prevented from becoming excessively large.
The Young's modulus of the pressure-sensitive adhesive sheet can be measured according to the measurement method described in the Examples section below.

(基材)
前記基材は、第一の基材面と、第一の基材面とは反対側の第二の基材面とを有することが好ましい。例えば、図1に示すように、粘着シート1の基材10は、第一の基材面11と、第一の基材面11とは反対側の第二の基材面12とを有する。
本実施形態の粘着シートにおいて、本実施形態に係る粘着剤層が、第一の基材面及び第二の基材面の一方の面に設けられていることが好ましい。
(Substrate)
The substrate preferably has a first substrate surface and a second substrate surface opposite to the first substrate surface. For example, as shown in FIG. 1, a substrate 10 of a pressure-sensitive adhesive sheet 1 has a first substrate surface 11 and a second substrate surface 12 opposite to the first substrate surface 11.
In the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer according to the present embodiment is preferably provided on one of the first substrate surface and the second substrate surface.

基材の材料は、大きく延伸させ易いという観点から、熱可塑性エラストマー、またはゴム系材料であることが好ましく、熱可塑性エラストマーであることがより好ましい。From the viewpoint of ease of large stretching, the material of the substrate is preferably a thermoplastic elastomer or a rubber-based material, and more preferably a thermoplastic elastomer.

熱可塑性エラストマーとしては、ウレタン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、及びアミド系エラストマー等が挙げられる。熱可塑性エラストマーは、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。熱可塑性エラストマーとしては、大きく延伸させ易いという観点から、ウレタン系エラストマーを使用することが好ましい。すなわち、本実施形態に係る粘着シートにおいて、基材は、ウレタン系エラストマーを含有することが好ましい。Examples of the thermoplastic elastomer include urethane-based elastomers, olefin-based elastomers, vinyl chloride-based elastomers, polyester-based elastomers, styrene-based elastomers, acrylic-based elastomers, and amide-based elastomers. The thermoplastic elastomers may be used alone or in combination of two or more. As the thermoplastic elastomer, it is preferable to use a urethane-based elastomer from the viewpoint of ease of large stretching. That is, in the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment, the substrate preferably contains a urethane-based elastomer.

基材は、上記のような材料(例えば、熱可塑性エラストマー、またはゴム系材料)からなるフィルムが、複数、積層された積層フィルムでもよい。また、基材は、上記のような材料(例えば、熱可塑性エラストマー、またはゴム系材料)からなるフィルムと、その他のフィルムとが積層された積層フィルムでもよい。The substrate may be a laminated film in which a plurality of films made of the above-mentioned materials (e.g., thermoplastic elastomers or rubber-based materials) are laminated. The substrate may also be a laminated film in which a film made of the above-mentioned materials (e.g., thermoplastic elastomers or rubber-based materials) is laminated with another film.

基材は、上記の樹脂系材料を主材料とするフィルム内に、添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、例えば、顔料、染料、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、及びフィラー等が挙げられる。顔料としては、例えば、二酸化チタン、及びカーボンブラック等が挙げられる。また、フィラーとしては、メラミン樹脂のような有機系材料、ヒュームドシリカのような無機系材料、及びニッケル粒子のような金属系材料が例示される。こうした添加剤の含有量は特に限定されないが、基材が所望の機能を発揮し得る範囲に留めることが好ましい。
The substrate may contain additives in a film mainly made of the above-mentioned resin-based material.
Examples of additives include pigments, dyes, flame retardants, plasticizers, antistatic agents, lubricants, and fillers. Examples of pigments include titanium dioxide and carbon black. Examples of fillers include organic materials such as melamine resins, inorganic materials such as fumed silica, and metal materials such as nickel particles. The content of such additives is not particularly limited, but is preferably within a range in which the substrate can exhibit the desired function.

基材は、第一の基材面及び第二の基材面の少なくともいずれかに積層される粘着剤層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、表面処理、またはプライマー処理が施されていてもよい。表面処理としては、酸化法、及び凹凸化法等が挙げられる。プライマー処理としては、基材表面にプライマー層を形成する方法が挙げられる。酸化法としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸化処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、及び紫外線照射処理等が挙げられる。凹凸化法としては、例えば、サンドブラスト法、及び溶射処理法等が挙げられる。The substrate may be subjected to a surface treatment or primer treatment on one or both sides as desired in order to improve adhesion with the adhesive layer laminated on at least one of the first substrate surface and the second substrate surface. Examples of the surface treatment include an oxidation method and a roughening method. Examples of the primer treatment include a method of forming a primer layer on the substrate surface. Examples of the oxidation method include a corona discharge treatment, a plasma discharge treatment, a chromium oxidation treatment (wet), a flame treatment, a hot air treatment, an ozone treatment, and an ultraviolet irradiation treatment. Examples of the roughening method include a sandblasting method and a thermal spraying method.

粘着剤層がエネルギー線硬化性粘着剤を含有する場合、基材は、エネルギー線に対する透過性を有することが好ましい。エネルギー線として紫外線を用いる場合には、基材は、紫外線に対して透過性を有することが好ましい。エネルギー線として電子線を用いる場合には、基材は、電子線の透過性を有することが好ましい。When the adhesive layer contains an energy ray-curable adhesive, it is preferable that the substrate is transparent to energy rays. When ultraviolet rays are used as the energy rays, it is preferable that the substrate is transparent to ultraviolet rays. When electron beams are used as the energy rays, it is preferable that the substrate is transparent to electron beams.

基材の厚さは、粘着シートが所望の工程において適切に機能できる限り、限定されない。基材の厚さは、20μm以上であることが好ましく、40μm以上であることがより好ましい。また、基材の厚さは、250μm以下であることが好ましく、200μm以下であることがより好ましい。The thickness of the substrate is not limited as long as the adhesive sheet can function properly in the desired process. The thickness of the substrate is preferably 20 μm or more, and more preferably 40 μm or more. The thickness of the substrate is preferably 250 μm or less, and more preferably 200 μm or less.

また、基材の第一の基材面または第二の基材面の面内方向において2cm間隔で複数箇所の厚さを測定した際の、基材の厚さの標準偏差は、2μm以下であることが好ましく、1.5μm以下であることがより好ましく、1μm以下であることがさらに好ましい。当該標準偏差が2μm以下であることで、粘着シートは、精度の高い厚さを有しており、粘着シートを均一に延伸することが可能となる。In addition, when the thickness is measured at multiple locations at 2 cm intervals in the in-plane direction of the first substrate surface or the second substrate surface of the substrate, the standard deviation of the thickness of the substrate is preferably 2 μm or less, more preferably 1.5 μm or less, and even more preferably 1 μm or less. With the standard deviation being 2 μm or less, the adhesive sheet has a highly accurate thickness, and it becomes possible to stretch the adhesive sheet uniformly.

23℃において基材のMD方向及びCD方向の引張弾性率が、それぞれ10MPa以上、350MPa以下であり、23℃において基材のMD方向及びCD方向の100%応力が、それぞれ3MPa以上、20MPa以下であることが好ましい。
引張弾性率及び100%応力が上記範囲であることで、粘着シートを大きく延伸することが可能となる。
基材の100%応力は、次のようにして得られる値である。100mm(長さ方向)×15mm(幅方向)の大きさの試験片を基材から切り出す。切り出した試験片の長さ方向の両端を、掴み具間の長さが50mmとなるように掴み具でつかむ。掴み具で試験片をつかんだ後、速度200mm/minで長さ方向に引張り、掴み具間の長さが100mmとなったときの引張力の測定値を読み取る。基材の100%応力は、読み取った引張力の測定値を、基材の断面積で除算することで得られる値である。基材の断面積は、幅方向長さ15mm×基材(試験片)の厚みで算出される。当該切り出しは、基材の製造時における流れ方向(MD方向)またはMD方向に直交する方向(CD方向)と、試験片の長さ方向とが一致するように行う。なお、この引張試験において、試験片の厚さは特別に制限されず、試験の対象とする基材の厚さと同じであってよい。
It is preferred that the tensile modulus of elasticity in the MD and CD directions of the substrate at 23° C. is 10 MPa or more and 350 MPa or less, respectively, and that the 100% stress in the MD and CD directions of the substrate at 23° C. is 3 MPa or more and 20 MPa or less, respectively.
When the tensile modulus and 100% stress are within the above ranges, the pressure-sensitive adhesive sheet can be stretched significantly.
The 100% stress of the substrate is a value obtained as follows. A test piece having a size of 100 mm (length direction) x 15 mm (width direction) is cut out from the substrate. Both ends of the cut-out test piece in the length direction are gripped by grippers so that the length between the grippers is 50 mm. After gripping the test piece with the grippers, it is pulled in the length direction at a speed of 200 mm/min, and the measured value of the tensile force is read when the length between the grippers becomes 100 mm. The 100% stress of the substrate is a value obtained by dividing the measured value of the tensile force read by the cross-sectional area of the substrate. The cross-sectional area of the substrate is calculated by the width direction length of 15 mm x the thickness of the substrate (test piece). The cutting is performed so that the flow direction (MD direction) or the direction perpendicular to the MD direction (CD direction) during the production of the substrate coincides with the length direction of the test piece. In addition, in this tensile test, the thickness of the test piece is not particularly limited, and may be the same as the thickness of the substrate to be tested.

23℃において基材のMD方向及びCD方向の破断伸度が、それぞれ100%以上であることが好ましい。
基材のMD方向及びCD方向の破断伸度が、それぞれ100%以上であることで、破断が生じることなく、粘着シートを大きく延伸することが可能となる。
It is preferable that the breaking elongation of the substrate in both the MD and CD directions at 23° C. is 100% or more.
When the substrate has a breaking elongation of 100% or more in both the MD and CD directions, the pressure-sensitive adhesive sheet can be largely stretched without breaking.

基材の引張弾性率(MPa)及び基材の破断伸度(%)は、次のようにして測定できる。基材を15mm×140mmに裁断して試験片を得る。当該試験片について、JIS K7161:2014及びJIS K7127:1999に準拠して、23℃における破断伸度及び引張弾性率を測定する。具体的には、上記試験片を、引張試験機(株式会社島津製作所製,製品名「オートグラフAG-IS 500N」)にて、チャック間距離100mmに設定した後、200mm/minの速度で引張試験を行い、破断伸度(%)及び引張弾性率(MPa)を測定する。なお、測定は、基材の製造時の流れ方向(MD)及びこれに直角の方向(CD)の双方で行う。The tensile modulus (MPa) and breaking elongation (%) of the substrate can be measured as follows. The substrate is cut into 15 mm x 140 mm to obtain a test piece. The breaking elongation and tensile modulus of the test piece are measured at 23°C in accordance with JIS K7161:2014 and JIS K7127:1999. Specifically, the test piece is subjected to a tensile test at a speed of 200 mm/min using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, product name "Autograph AG-IS 500N") with the chuck distance set to 100 mm, and the breaking elongation (%) and tensile modulus (MPa) are measured. The measurements are performed in both the machine direction (MD) during the manufacture of the substrate and the direction perpendicular to the machine direction (CD).

(粘着剤層)
本実施形態に係る粘着シートにおいて、粘着剤層は、前述した数式(数1A)の関係を満たす限り、特に限定されない。前述した数式(数1A)の関係の範囲を満たすように、粘着剤層を構成する材料を、例えば、以下に説明する材料の中から適宜選択して配合することができる。
例えば、粘着剤層に用いる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤及びウレタン系粘着剤が挙げられる。
(Adhesive Layer)
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the relationship of the above-mentioned mathematical formula (Mathematical formula 1A). The material constituting the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately selected and blended from, for example, the materials described below so as to satisfy the range of the relationship of the above-mentioned mathematical formula (Mathematical formula 1A).
For example, the adhesive used in the adhesive layer may be a rubber-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a silicone-based adhesive, a polyester-based adhesive, or a urethane-based adhesive.

本実施形態に係る粘着シートにおいて、粘着剤層は、アクリル系粘着剤を含有することが好ましい。In the adhesive sheet of this embodiment, it is preferable that the adhesive layer contains an acrylic adhesive.

・エネルギー線硬化性樹脂(a1)
粘着剤層は、エネルギー線硬化性樹脂(a1)を含有することが好ましい。エネルギー線硬化性樹脂(a1)は、分子内に、エネルギー線硬化性の二重結合を有する。
エネルギー線硬化性樹脂を含有する粘着剤層は、エネルギー線照射により硬化して粘着力が低下する。被着体と粘着シートとを分離したい場合、エネルギー線を粘着剤層に照射することにより、容易に分離できる。
Energy ray curable resin (a1)
The pressure-sensitive adhesive layer preferably contains an energy ray-curable resin (a1). The energy ray-curable resin (a1) has an energy ray-curable double bond in the molecule.
The pressure-sensitive adhesive layer containing the energy ray-curable resin is cured by irradiation with energy rays, and the adhesive strength is reduced. When it is desired to separate the adhesive sheet from the adherend, separation can be easily achieved by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with energy rays.

エネルギー線硬化性樹脂(a1)は、(メタ)アクリル系樹脂であることが好ましい。 The energy ray curable resin (a1) is preferably a (meth)acrylic resin.

エネルギー線硬化性樹脂(a1)は、紫外線硬化性樹脂であることが好ましく、紫外線硬化性の(メタ)アクリル系樹脂であることがより好ましい。The energy ray-curable resin (a1) is preferably an ultraviolet-curable resin, and more preferably an ultraviolet-curable (meth)acrylic resin.

エネルギー線硬化性樹脂(a1)は、エネルギー線の照射を受けると重合硬化する樹脂である。エネルギー線としては、例えば、紫外線、及び電子線等が挙げられる。
エネルギー線硬化性樹脂(a1)の例としては、エネルギー線重合性基を有する低分子量化合物(単官能のモノマー、多官能のモノマー、単官能のオリゴマー、及び多官能のオリゴマー)が挙げられる。エネルギー線硬化性樹脂(a1)は、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4-ブチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート等のアクリレート、ジシクロペンタジエンジメトキシジアクリレート、イソボルニルアクリレート等の環状脂肪族骨格含有アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、オリゴエステルアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシ変性アクリレート、ポリエーテルアクリレート、イタコン酸オリゴマー等のアクリレート系化合物が用いられる。
The energy ray curable resin (a1) is a resin that undergoes polymerization and curing when irradiated with energy rays, such as ultraviolet rays and electron beams.
Examples of the energy ray curable resin (a1) include low molecular weight compounds having an energy ray polymerizable group (monofunctional monomers, polyfunctional monomers, monofunctional oligomers, and polyfunctional oligomers). Specific examples of the energy ray curable resin (a1) include acrylates such as trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate, cyclic aliphatic skeleton-containing acrylates such as dicyclopentadiene dimethoxy diacrylate and isobornyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate, oligoester acrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy modified acrylate, polyether acrylate, and itaconic acid oligomer.

エネルギー線硬化性樹脂(a1)の分子量は、通常、100以上30000以下であり、300以上10000以下程度であることが好ましい。The molecular weight of the energy ray curable resin (a1) is typically 100 or more and 30,000 or less, and preferably approximately 300 or more and 10,000 or less.

・(メタ)アクリル系共重合体(b1)
本実施形態に係る粘着剤層は、(メタ)アクリル系共重合体(b1)をさらに含んでいることが好ましい。(メタ)アクリル系共重合体は、前述したエネルギー線硬化性樹脂(a1)とは異なる。
(Meth)acrylic copolymer (b1)
The pressure-sensitive adhesive layer according to this embodiment preferably further contains a (meth)acrylic copolymer (b1). The (meth)acrylic copolymer is different from the energy ray-curable resin (a1) described above.

(メタ)アクリル系共重合体(b1)は、エネルギー線硬化性の炭素-炭素二重結合を有することが好ましい。すなわち、本実施形態において、粘着剤層は、エネルギー線硬化性樹脂(a1)と、エネルギー線硬化性の(メタ)アクリル系共重合体(b1)とを含有することが好ましい。The (meth)acrylic copolymer (b1) preferably has an energy ray-curable carbon-carbon double bond. That is, in this embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains an energy ray-curable resin (a1) and an energy ray-curable (meth)acrylic copolymer (b1).

本実施形態に係る粘着剤層は、(メタ)アクリル系共重合体(b1)100質量部に対し、エネルギー線硬化性樹脂(a1)を10質量部以上の割合で含有することが好ましく、20質量部以上の割合で含有することがより好ましく、25質量%以上の割合で含有することがさらに好ましい。
本実施形態に係る粘着剤層は、(メタ)アクリル系共重合体(b1)100質量部に対し、エネルギー線硬化性樹脂(a1)を80質量部以下の割合で含有することが好ましく、70質量部以下の割合で含有することがより好ましく、60質量部以下の割合で含有することがさらに好ましい。
The pressure-sensitive adhesive layer according to this embodiment preferably contains 10 parts by mass or more of the energy ray-curable resin (a1) relative to 100 parts by mass of the (meth)acrylic copolymer (b1), more preferably contains 20 parts by mass or more, and even more preferably contains 25% by mass or more.
The pressure-sensitive adhesive layer according to this embodiment preferably contains the energy ray-curable resin (a1) in an amount of 80 parts by mass or less, more preferably 70 parts by mass or less, and even more preferably 60 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the (meth)acrylic copolymer (b1).

(メタ)アクリル系共重合体(b1)の重量平均分子量(Mw)は、1万以上であることが好ましく、15万以上であることがより好ましく、20万以上であることがさらに好ましい。
また、(メタ)アクリル系共重合体(b1)の重量平均分子量(Mw)は、150万以下であることが好ましく、100万以下であることがより好ましい。
なお、本明細書における重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic copolymer (b1) is preferably 10,000 or more, more preferably 150,000 or more, and even more preferably 200,000 or more.
The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic copolymer (b1) is preferably 1.5 million or less, and more preferably 1 million or less.
In this specification, the weight average molecular weight (Mw) is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of standard polystyrene.

(メタ)アクリル系共重合体(b1)は、側鎖にエネルギー線硬化性を有する官能基(エネルギー線硬化性基)が導入された(メタ)アクリル酸エステル重合体(b2)(以下「エネルギー線硬化性重合体(b2)」という場合がある。)であることが好ましい。It is preferable that the (meth)acrylic copolymer (b1) is a (meth)acrylic acid ester polymer (b2) (hereinafter sometimes referred to as "energy ray-curable polymer (b2)") having a functional group having energy ray curability (energy ray-curable group) introduced into the side chain.

エネルギー線硬化性重合体(b2)は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(b21)と、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物(b22)とを反応させて得られる共重合体であることが好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリル酸エステルとは、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの両方を意味する。他の類似用語も同様である。The energy radiation curable polymer (b2) is preferably a copolymer obtained by reacting an acrylic copolymer (b21) having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (b22) having a functional group bonded to the functional group. In this specification, (meth)acrylic acid ester means both acrylic acid ester and methacrylic acid ester. The same applies to other similar terms.

アクリル系共重合体(b21)は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、(メタ)アクリル酸エステルモノマー、または(メタ)アクリル酸エステルモノマーの誘導体から導かれる構成単位とを含むことが好ましい。It is preferable that the acrylic copolymer (b21) contains a structural unit derived from a functional group-containing monomer and a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative of a (meth)acrylic acid ester monomer.

アクリル系共重合体(b21)の構成単位としての官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、官能基と、を分子内に有するモノマーであることが好ましい。官能基は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、置換アミノ基、及びエポキシ基等からなる群から選択される少なくともいずれかの官能基であることが好ましい。The functional group-containing monomer as a constituent unit of the acrylic copolymer (b21) is preferably a monomer having a polymerizable double bond and a functional group in the molecule. The functional group is preferably at least one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, a substituted amino group, an epoxy group, and the like.

ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、及び4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。ヒドロキシ基含有モノマーは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。Examples of hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. The hydroxyl group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、及びシトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が挙げられる。カルボキシ基含有モノマーは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid. The carboxyl group-containing monomer may be used alone or in combination of two or more.

アミノ基含有モノマーまたは置換アミノ基含有モノマーとしては、例えば、アミノエチル(メタ)アクリレート、及びn-ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。アミノ基含有モノマーまたは置換アミノ基含有モノマーは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。 Examples of amino group-containing monomers or substituted amino group-containing monomers include aminoethyl (meth)acrylate and n-butylaminoethyl (meth)acrylate. The amino group-containing monomers or substituted amino group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系共重合体(b21)を構成する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1以上20以下であるアルキル(メタ)アクリレートの他、例えば、分子内に脂環式構造を有するモノマー(脂環式構造含有モノマー)が好ましく用いられる。As the (meth)acrylic acid ester monomer constituting the acrylic copolymer (b21), in addition to alkyl (meth)acrylates in which the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms, for example, monomers having an alicyclic structure in the molecule (alicyclic structure-containing monomers) are preferably used.

アルキル(メタ)アクリレートとしては、アルキル基の炭素数が1以上18以下であるアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。アルキル(メタ)アクリレートは、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、及び2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等がより好ましい。アルキル(メタ)アクリレートは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。As the alkyl (meth)acrylate, an alkyl (meth)acrylate in which the number of carbon atoms in the alkyl group is 1 or more and 18 or less is preferred. Examples of the alkyl (meth)acrylate include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. The alkyl (meth)acrylate may be used alone or in combination of two or more kinds.

脂環式構造含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、及び(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル等が好ましく用いられる。脂環式構造含有モノマーは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。Preferred examples of alicyclic structure-containing monomers include cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, and dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate. The alicyclic structure-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系共重合体(b21)は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を、1質量%以上の割合で含有することが好ましく、5質量%以上の割合で含有することがより好ましく、10質量%以上の割合で含有することがさらに好ましい。
また、アクリル系共重合体(b21)は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を、35質量%以下の割合で含有することが好ましく、30質量%以下の割合で含有することがより好ましく、25質量%以下の割合で含有することがさらに好ましい。
The acrylic copolymer (b21) preferably contains the structural unit derived from the functional group-containing monomer in a proportion of 1 mass % or more, more preferably 5 mass % or more, and even more preferably 10 mass % or more.
In addition, the acrylic copolymer (b21) preferably contains the structural units derived from the functional group-containing monomer in a proportion of 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and even more preferably 25% by mass or less.

さらに、アクリル系共重合体(b21)は、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を、50質量%以上の割合で含有することが好ましく、60質量%以上の割合で含有することがより好ましく、70質量%以上の割合で含有することがさらに好ましい。
また、アクリル系共重合体(b21)は、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を、99質量%以下の割合で含有することが好ましく、95質量%以下の割合で含有することがより好ましく、90質量%以下の割合で含有することがさらに好ましい。
Furthermore, the acrylic copolymer (b21) preferably contains a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof in a proportion of 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 70% by mass or more.
In addition, the acrylic copolymer (b21) preferably contains a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof in a proportion of 99% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and even more preferably 90% by mass or less.

アクリル系共重合体(b21)は、上記のような官能基含有モノマーと、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られる。
アクリル系共重合体(b21)は、上述のモノマーの他にも、ジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、及びスチレン等からなる群から選択される少なくともいずれかの構成単位を含有していてもよい。
The acrylic copolymer (b21) can be obtained by copolymerizing the above-mentioned functional group-containing monomer with a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof in a conventional manner.
The acrylic copolymer (b21) may contain, in addition to the above-mentioned monomers, at least one structural unit selected from the group consisting of dimethylacrylamide, vinyl formate, vinyl acetate, styrene, and the like.

上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(b21)を、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物(b22)と反応させることにより、エネルギー線硬化性重合体(b2)が得られる。The energy ray curable polymer (b2) is obtained by reacting the acrylic copolymer (b21) having the above-mentioned functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (b22) having a functional group bonded to the functional group.

不飽和基含有化合物(b22)が有する官能基は、アクリル系共重合体(b21)が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、アクリル系共重合体(b21)が有する官能基がヒドロキシ基、アミノ基または置換アミノ基の場合、不飽和基含有化合物(b22)が有する官能基としてはイソシアネート基またはエポキシ基が好ましく、アクリル系共重合体(b21)が有する官能基がエポキシ基の場合、不飽和基含有化合物(b22)が有する官能基としてはアミノ基、カルボキシ基またはアジリジニル基が好ましい。The functional group of the unsaturated group-containing compound (b22) can be appropriately selected depending on the type of functional group of the functional group-containing monomer unit of the acrylic copolymer (b21). For example, when the functional group of the acrylic copolymer (b21) is a hydroxy group, an amino group, or a substituted amino group, the functional group of the unsaturated group-containing compound (b22) is preferably an isocyanate group or an epoxy group, and when the functional group of the acrylic copolymer (b21) is an epoxy group, the functional group of the unsaturated group-containing compound (b22) is preferably an amino group, a carboxy group, or an aziridinyl group.

不飽和基含有化合物(b22)は、エネルギー線重合性の炭素-炭素二重結合を、1分子中に少なくとも1個含み、1個以上6個以下含むことが好ましく、1個以上4個以下含むことがより好ましい。The unsaturated group-containing compound (b22) contains at least one energy ray-polymerizable carbon-carbon double bond in one molecule, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 4.

不飽和基含有化合物(b22)としては、例えば、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(2-イソシアナートエチルメタクリレート)、メタ-イソプロペニル-α,α-ジメチルベンジルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸、2-(1-アジリジニル)エチル(メタ)アクリレート、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン等が挙げられる。Examples of unsaturated group-containing compounds (b22) include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (2-isocyanatoethyl methacrylate), meth-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, allyl isocyanate, 1,1-(bisacryloyloxymethyl)ethyl isocyanate; acryloyl monoisocyanate compounds obtained by reacting a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound with hydroxyethyl (meth)acrylate; acryloyl monoisocyanate compounds obtained by reacting a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound with a polyol compound and hydroxyethyl (meth)acrylate; glycidyl (meth)acrylate; (meth)acrylic acid, 2-(1-aziridinyl)ethyl (meth)acrylate, 2-vinyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, and the like.

不飽和基含有化合物(b22)は、アクリル系共重合体(b21)の官能基含有モノマーのモル数に対して、50モル%以上の割合(付加率)で用いられることが好ましく、60モル%以上の割合で用いられることがより好ましく、70モル%以上の割合で用いられることが更に好ましい。
また、不飽和基含有化合物(b22)は、アクリル系共重合体(b21)の官能基含有モノマーモル数に対して、95モル%以下の割合で用いられることが好ましく、93モル%以下の割合で用いられることがより好ましく、90モル%以下の割合で用いられることがさらに好ましい。
The unsaturated group-containing compound (b22) is preferably used in a proportion (addition rate) of 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more, and even more preferably 70 mol % or more, based on the number of moles of the functional group-containing monomer in the acrylic copolymer (b21).
In addition, the unsaturated group-containing compound (b22) is preferably used in a proportion of 95 mol % or less, more preferably 93 mol % or less, and even more preferably 90 mol % or less, based on the number of moles of the functional group-containing monomer in the acrylic copolymer (b21).

アクリル系共重合体(b21)と不飽和基含有化合物(b22)との反応においては、アクリル系共重合体(b21)が有する官能基と不飽和基含有化合物(b22)が有する官能基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、及び触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体(b21)が有する官能基と、不飽和基含有化合物(b22)が有する官能基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体(b21)の側鎖に導入され、エネルギー線硬化性重合体(b2)が得られる。In the reaction between the acrylic copolymer (b21) and the unsaturated group-containing compound (b22), the reaction temperature, pressure, solvent, time, presence or absence of a catalyst, and type of catalyst can be appropriately selected according to the combination of the functional group of the acrylic copolymer (b21) and the functional group of the unsaturated group-containing compound (b22). As a result, the functional group of the acrylic copolymer (b21) reacts with the functional group of the unsaturated group-containing compound (b22), and the unsaturated group is introduced into the side chain of the acrylic copolymer (b21), thereby obtaining an energy radiation curable polymer (b2).

エネルギー線硬化性重合体(b2)の重量平均分子量(Mw)は、1万以上であることが好ましく、15万以上であることがより好ましく、20万以上であることがさらに好ましい。
また、エネルギー線硬化性重合体(b2)の重量平均分子量(Mw)は、150万以下であることが好ましく、100万以下であることがより好ましい。
The weight average molecular weight (Mw) of the energy ray curable polymer (b2) is preferably 10,000 or more, more preferably 150,000 or more, and even more preferably 200,000 or more.
The weight average molecular weight (Mw) of the energy ray curable polymer (b2) is preferably 1.5 million or less, and more preferably 1 million or less.

・光重合開始剤(C)
粘着剤層が紫外線硬化性の化合物(例えば、紫外線硬化性樹脂)を含有する場合、粘着剤層は、光重合開始剤(C)を含有することが好ましい。
粘着剤層が光重合開始剤(C)を含有することにより、重合硬化時間及び光線照射量を少なくすることができる。
Photopolymerization initiator (C)
When the pressure-sensitive adhesive layer contains an ultraviolet-curable compound (for example, an ultraviolet-curable resin), the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a photopolymerization initiator (C).
By including the photopolymerization initiator (C) in the pressure-sensitive adhesive layer, the polymerization curing time and the light irradiation dose can be reduced.

光重合開始剤(C)としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4-ジエチルチオキサンソン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β-クロールアンスラキノン、(2,4,6-トリメチルベンジルジフェニル)フォスフィンオキサイド、2-ベンゾチアゾール-N,N-ジエチルジチオカルバメート、オリゴ{2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-プロペニル)フェニル]プロパノン}、及び2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Specific examples of the photopolymerization initiator (C) include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethylthioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyl diphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β-chloroanthraquinone, (2,4,6-trimethylbenzyldiphenyl)phosphine oxide, 2-benzothiazole-N,N-diethyldithiocarbamate, oligo{2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-propenyl)phenyl]propanone}, and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one. These may be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤(C)は、粘着剤層にエネルギー線硬化性樹脂(a1)、及び(メタ)アクリル系共重合体(b1)を配合する場合には、エネルギー線硬化性樹脂(a1)、及び(メタ)アクリル系共重合体(b1)の合計量100質量部に対して0.1質量部以上の量で用いられることが好ましく、0.5質量部以上の量で用いられることがより好ましい。
また、光重合開始剤(C)は、粘着剤層にエネルギー線硬化性樹脂(a1)、及び(メタ)アクリル系共重合体(b1)を配合する場合には、エネルギー線硬化性樹脂(a1)、及び(メタ)アクリル系共重合体(b1)の合計量100質量部に対して10質量部以下の量で用いられることが好ましく、6質量部以下の量で用いられることがより好ましい。
When the energy ray curable resin (a1) and the (meth)acrylic copolymer (b1) are blended in the pressure-sensitive adhesive layer, the photopolymerization initiator (C) is preferably used in an amount of 0.1 parts by mass or more, and more preferably 0.5 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the total amount of the energy ray curable resin (a1) and the (meth)acrylic copolymer (b1).
In addition, when the energy ray curable resin (a1) and the (meth)acrylic copolymer (b1) are blended in the pressure-sensitive adhesive layer, the photopolymerization initiator (C) is preferably used in an amount of 10 parts by mass or less, and more preferably 6 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the total amount of the energy ray curable resin (a1) and the (meth)acrylic copolymer (b1).

粘着剤層は、上記成分以外にも、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、架橋剤(E)等が挙げられる。In addition to the above components, the adhesive layer may contain other components as appropriate. Examples of other components include a crosslinking agent (E).

・架橋剤(E)
架橋剤(E)としては、(メタ)アクリル系共重合体(b1)等が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、及び反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。
Crosslinking agent (E)
As the crosslinking agent (E), a polyfunctional compound having reactivity with the functional group of the (meth)acrylic copolymer (b1) etc. can be used. Examples of such polyfunctional compounds include isocyanate compounds, epoxy compounds, amine compounds, melamine compounds, aziridine compounds, hydrazine compounds, aldehyde compounds, oxazoline compounds, metal alkoxide compounds, metal chelate compounds, metal salts, ammonium salts, and reactive phenolic resins.

架橋剤(E)の配合量は、(メタ)アクリル系共重合体(b1)100質量部に対して、0.01質量部以上であることが好ましく、0.03質量部以上であることがより好ましく、0.04質量部以上であることがさらに好ましい。
また、架橋剤(E)の配合量は、(メタ)アクリル系共重合体(b1)100質量部に対して、8質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましく、3.5質量部以下であることがさらに好ましい。
The amount of the crosslinking agent (E) is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.03 parts by mass or more, and even more preferably 0.04 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the (meth)acrylic copolymer (b1).
The amount of the crosslinking agent (E) is preferably 8 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, and even more preferably 3.5 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the (meth)acrylic copolymer (b1).

粘着剤層の厚さは、特に限定されない。粘着剤層の厚さは、例えば、10μm以上であることが好ましく、20μm以上であることがより好ましい。また、粘着剤層の厚さは、150μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましい。The thickness of the adhesive layer is not particularly limited. For example, the thickness of the adhesive layer is preferably 10 μm or more, and more preferably 20 μm or more. The thickness of the adhesive layer is preferably 150 μm or less, and more preferably 100 μm or less.

(剥離シート)
本実施形態に係る粘着シートは、その粘着面を被着体(例えば、半導体チップ等)に貼付するまでの間、粘着面を保護する目的で、粘着面に剥離シートが積層されていてもよい。剥離シートの構成は任意である。剥離シートの例としては、剥離剤等により剥離処理したプラスチックフィルムが例示される。
プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエステルフィルム、及びポリオレフィンフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、又はポリエチレンナフタレート等のフィルムが挙げられる。ポリオレフィンフィルムとしては、例えば、ポリプロピレン、又はポリエチレン等のフィルムが挙げられる。
剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、及び長鎖アルキル系等を用いることができる。これら剥離剤の中で、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。
剥離シートの厚さについては、特に限定されない。剥離シートの厚さは、通常、20μm以上、250μm以下である。
(Release sheet)
The adhesive sheet according to the present embodiment may have a release sheet laminated on the adhesive surface for the purpose of protecting the adhesive surface until the adhesive surface is attached to an adherend (e.g., a semiconductor chip, etc.). The configuration of the release sheet is arbitrary. An example of the release sheet is a plastic film that has been subjected to a release treatment using a release agent or the like.
Specific examples of the plastic film include polyester films and polyolefin films. Examples of the polyester film include films of polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Examples of the polyolefin film include films of polypropylene and polyethylene.
The release agent may be a silicone-based, fluorine-based, or long-chain alkyl-based agent, etc. Among these release agents, the silicone-based agent is preferred because it is inexpensive and provides stable performance.
The thickness of the release sheet is not particularly limited, but is usually 20 μm or more and 250 μm or less.

[粘着シートの製造方法]
本実施形態に係る粘着シートは、従来の粘着シートと同様に製造できる。
粘着シートの製造方法は、前述の粘着剤層を基材の一の面に積層できれば、特に詳細には限定されない。
粘着シートの製造方法の一例としては、次のような方法が挙げられる。まず、粘着剤層を構成する粘着性組成物、及び所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工液を調製する。次に、塗工液を、基材の一の面上に、塗布手段により塗布して塗膜を形成する。塗布手段としては、例えば、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、及びナイフコーター等が挙げられる。次に、当該塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層を形成できる。塗工液は、塗布を行うことが可能であれば、その性状は特に限定されない。塗工液は、粘着剤層を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、粘着剤層を形成するための成分を分散質として含有する場合もある。
[Method of manufacturing pressure-sensitive adhesive sheet]
The pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment can be produced in the same manner as a conventional pressure-sensitive adhesive sheet.
The method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet is not particularly limited as long as it is possible to laminate the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer on one surface of the substrate.
An example of a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet is as follows. First, a coating liquid containing a pressure-sensitive adhesive composition constituting a pressure-sensitive adhesive layer and, if desired, a solvent or a dispersion medium is prepared. Next, the coating liquid is applied to one surface of a substrate by a coating means to form a coating film. Examples of the coating means include a die coater, a curtain coater, a spray coater, a slit coater, and a knife coater. Next, the coating film is dried to form a pressure-sensitive adhesive layer. The properties of the coating liquid are not particularly limited as long as it can be applied. The coating liquid may contain a component for forming the pressure-sensitive adhesive layer as a solute, or may contain a component for forming the pressure-sensitive adhesive layer as a dispersoid.

また、粘着シートの製造方法の別の一例としては、次のような方法が挙げられる。まず、前述の剥離シートの剥離面上に塗工液を塗布して塗膜を形成する。次に、塗膜を乾燥させて粘着剤層と剥離シートとからなる積層体を形成する。次に、この積層体の粘着剤層における剥離シート側の面と反対側の面に、基材を貼付して、粘着シートと剥離シートとの積層体を得てもよい。この積層体における剥離シートは、工程材料として剥離してもよいし、粘着剤層に被着体(例えば、半導体チップ、及び半導体ウエハ等)が貼付されるまで、粘着剤層を保護していてもよい。Another example of a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet is as follows. First, a coating liquid is applied onto the release surface of the release sheet to form a coating film. Next, the coating film is dried to form a laminate consisting of a pressure-sensitive adhesive layer and a release sheet. Next, a substrate may be attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of this laminate opposite to the release sheet side to obtain a laminate of the pressure-sensitive adhesive sheet and the release sheet. The release sheet in this laminate may be peeled off as a processing material, or may protect the pressure-sensitive adhesive layer until an adherend (e.g., a semiconductor chip, a semiconductor wafer, etc.) is attached to the pressure-sensitive adhesive layer.

塗工液が架橋剤を含有する場合には、塗膜の乾燥の条件(例えば、温度、及び時間等)を変えることにより、または加熱処理を、別途、行うことにより、塗膜内の(メタ)アクリル系共重合体(b1)と架橋剤との架橋反応を進行させ、粘着剤層内に所望の存在密度で架橋構造を形成させればよい。この架橋反応を十分に進行させるために、上述の方法等によって基材に粘着剤層を積層させた後、得られた粘着シートを、例えば、23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行ってもよい。When the coating liquid contains a crosslinking agent, the crosslinking reaction between the (meth)acrylic copolymer (b1) in the coating film and the crosslinking agent can be advanced by changing the drying conditions (e.g., temperature, time, etc.) of the coating film or by separately carrying out a heat treatment, and a crosslinked structure can be formed at the desired density in the adhesive layer. In order to advance this crosslinking reaction sufficiently, after laminating the adhesive layer on the substrate by the above-mentioned method, the obtained adhesive sheet can be cured by, for example, leaving it in an environment of 23°C and a relative humidity of 50% for several days.

本実施形態に係る粘着シートの厚さは、30μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがより好ましい。また、粘着シートの厚さは、400μm以下であることが好ましく、300μm以下であることがより好ましい。The thickness of the adhesive sheet according to this embodiment is preferably 30 μm or more, and more preferably 50 μm or more. The thickness of the adhesive sheet is preferably 400 μm or less, and more preferably 300 μm or less.

[粘着シートの使用方法]
本実施形態に係る粘着シートは、様々な被着体に貼着できるため、本実施形態に係る粘着シートを適用できる被着体は、特に限定されない。例えば、被着体としては、半導体チップ、及び半導体ウエハであることが好ましい。
[How to use the adhesive sheet]
Since the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment can be attached to various adherends, the adherend to which the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment can be applied is not particularly limited. For example, the adherend is preferably a semiconductor chip or a semiconductor wafer.

本実施形態に係る粘着シートは、例えば、半導体加工用に用いることができる。
半導体装置の製造工程中、複数の半導体チップ同士の間隔を拡張するためのエキスパンド工程に使用されることが好ましい。
複数の半導体チップは、粘着シートの中央部に貼着されていることが好ましい。
また、複数の半導体チップは、半導体ウエハをダイシングして得た半導体チップであることが好ましい。例えば、ダイシングシートに貼着された半導体ウエハをダイシングして、複数の半導体チップに分割し、分割して得た複数の半導体チップを本実施形態に係る粘着シートに、直接、転写してもよいし、他の粘着シートに転写してから、当該他の粘着シートから本実施形態に係る粘着シートに転写してもよい。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment can be used, for example, for semiconductor processing.
It is preferably used in an expanding step for expanding the spaces between multiple semiconductor chips during the manufacturing process of a semiconductor device.
The semiconductor chips are preferably attached to the center of the adhesive sheet.
In addition, the plurality of semiconductor chips are preferably semiconductor chips obtained by dicing a semiconductor wafer. For example, a semiconductor wafer attached to a dicing sheet is diced to divide the semiconductor wafer into a plurality of semiconductor chips, and the plurality of semiconductor chips obtained by dividing the semiconductor chips may be directly transferred to the adhesive sheet according to the present embodiment, or may be transferred to another adhesive sheet, and then transferred from the other adhesive sheet to the adhesive sheet according to the present embodiment.

複数の半導体チップの拡張間隔は、半導体チップのサイズに依存するため、特に制限されない。本実施形態に係る粘着シートは、粘着シートの片面に貼着された複数の半導体チップにおける、隣り合う半導体チップの相互の間隔を、200μm以上拡げるために使用することが好ましい。なお、当該半導体チップの相互の間隔の上限は、特に制限されない。当該半導体チップの相互の間隔の上限は、例えば、6000μmであってもよい。The expansion interval between multiple semiconductor chips is not particularly limited, since it depends on the size of the semiconductor chip. The adhesive sheet of this embodiment is preferably used to expand the mutual interval between adjacent semiconductor chips in multiple semiconductor chips attached to one side of the adhesive sheet by 200 μm or more. The upper limit of the mutual interval between the semiconductor chips is not particularly limited. The upper limit of the mutual interval between the semiconductor chips may be, for example, 6000 μm.

また、本実施形態に係る粘着シートは、少なくとも2軸延伸によって、粘着シートの片面に積層された複数の半導体チップの間隔を拡げる場合にも使用することができる。この場合、粘着シートは、例えば、互いに直交するX軸及びY軸における、+X軸方向、-X軸方向、+Y軸方向、及び-Y軸方向の4方向に張力を付与して引き延ばされ、より具体的には、基材におけるMD方向及びCD方向にそれぞれ引き延ばされる。The adhesive sheet according to the present embodiment can also be used to expand the spacing between multiple semiconductor chips stacked on one side of the adhesive sheet by at least biaxial stretching. In this case, the adhesive sheet is stretched by applying tension in four directions, for example, the +X-axis direction, the -X-axis direction, the +Y-axis direction, and the -Y-axis direction of the mutually perpendicular X-axis and Y-axis, and more specifically, the adhesive sheet is stretched in each of the MD direction and CD direction of the substrate.

上記のような2軸延伸は、例えば、X軸方向、及びY軸方向に張力を付与する離間装置を使用して行うことができる。ここで、X軸及びY軸は直交するものとし、X軸に平行な方向のうちの1つを+X軸方向、当該+X軸方向に反対の方向を-X軸方向、Y軸に平行な方向のうちの1つを+Y軸方向、当該+Y軸方向に反対の方向を-Y軸方向とする。The biaxial stretching described above can be carried out, for example, by using a spacing device that applies tension in the X-axis direction and the Y-axis direction. Here, the X-axis and the Y-axis are assumed to be perpendicular to each other, with one of the directions parallel to the X-axis being the +X-axis direction, the direction opposite to the +X-axis direction being the -X-axis direction, one of the directions parallel to the Y-axis being the +Y-axis direction, and the direction opposite to the +Y-axis direction being the -Y-axis direction.

上記離間装置は、粘着シートに対して、+X軸方向、-X軸方向、+Y軸方向、及び-Y軸方向の4方向に張力を付与し、この4方向のそれぞれについて、複数の保持手段と、それらに対応する複数の張力付与手段とを備えることが好ましい。各方向における、保持手段及び張力付与手段の数は、粘着シートの大きさにもよるが、例えば、3個以上、10個以下程度であってもよい。The spacing device preferably applies tension to the adhesive sheet in four directions, the +X-axis direction, the -X-axis direction, the +Y-axis direction, and the -Y-axis direction, and is provided with a plurality of holding means and a corresponding plurality of tension applying means for each of the four directions. The number of holding means and tension applying means in each direction depends on the size of the adhesive sheet, but may be, for example, 3 or more and 10 or less.

ここで、例えば+X軸方向に張力を付与するために備えられた、複数の保持手段と複数の張力付与手段とを含む群において、それぞれの保持手段は、粘着シートを保持する保持部材を備え、それぞれの張力付与手段は、当該張力付与手段に対応した保持部材を+X軸方向に移動させて粘着シートに張力を付与することが好ましい。そして、複数の張力付与手段は、それぞれ独立に、保持手段を+X軸方向に移動させるように設けられていることが好ましい。また、-X軸方向、+Y軸方向及び-Y軸方向にそれぞれ張力を付与するために備えられた、複数の保持手段と複数の張力付与手段とを含む3つの群においても、同様の構成を有することが好ましい。これにより、上記離間装置は、各方向に直交する方向の領域ごとに、粘着シートに対して異なる大きさの張力を付与することができる。Here, for example, in a group including a plurality of holding means and a plurality of tension applying means provided for applying tension in the +X-axis direction, each holding means preferably includes a holding member for holding the adhesive sheet, and each tension applying means preferably applies tension to the adhesive sheet by moving the holding member corresponding to the tension applying means in the +X-axis direction. The plurality of tension applying means are preferably each independently provided to move the holding means in the +X-axis direction. Also, it is preferable that the three groups including a plurality of holding means and a plurality of tension applying means provided for applying tension in the -X-axis direction, +Y-axis direction, and -Y-axis direction, respectively, have the same configuration. This allows the spacing device to apply tension of different magnitudes to the adhesive sheet for each region in a direction perpendicular to each direction.

一般に、4つの保持部材を用いて粘着シートを、+X軸方向、-X軸方向、+Y軸方向及び-Y軸方向の4方向からそれぞれ保持し、当該4方向に延伸する場合、粘着シートにはこれら4方向に加え、これらの合成方向(例えば、+X軸方向と+Y軸方向との合成方向、+Y軸方向と-X軸方向との合成方向、-X軸方向と-Y軸方向との合成方向及び-Y軸方向と+X軸方向との合成方向)にも張力が付与される。その結果、粘着シートの内側領域における半導体チップの間隔と外側領域における半導体チップとの間隔に違いが生じることがある。 In general, when an adhesive sheet is held in four directions, +X-axis direction, -X-axis direction, +Y-axis direction, and -Y-axis direction, using four holding members, and stretched in these four directions, tension is applied to the adhesive sheet not only in these four directions, but also in their combined direction (for example, the combined direction of +X-axis direction and +Y-axis direction, the combined direction of +Y-axis direction and -X-axis direction, the combined direction of -X-axis direction and -Y-axis direction, and the combined direction of -Y-axis direction and +X-axis direction). As a result, a difference may occur between the spacing between the semiconductor chips in the inner region of the adhesive sheet and the spacing between the semiconductor chips in the outer region.

しかしながら、上述した離間装置では、+X軸方向、-X軸方向、+Y軸方向及び-Y軸方向のそれぞれの方向において、複数の張力付与手段がそれぞれ独立に粘着シートに張力を付与することができるため、上述したような粘着シートの内側と外側との間隔の違いが解消されるように、粘着シートを延伸することができる。
その結果、半導体チップの間隔を正確に調整することができる。
However, in the spacing device described above, multiple tension applying means can independently apply tension to the adhesive sheet in each of the +X axis direction, -X axis direction, +Y axis direction, and -Y axis direction, so that the adhesive sheet can be stretched so as to eliminate the difference in spacing between the inside and outside of the adhesive sheet as described above.
As a result, the spacing between the semiconductor chips can be adjusted accurately.

上記離間装置は、半導体チップの相互間隔を測定する測定手段をさらに備えることが好ましい。ここにおいて、上記張力付与手段は、測定手段の測定結果を基に、複数の保持部材を個別に移動可能に設けられていることが好ましい。上記離間装置が測定手段を備えることにより、上記測定手段による半導体チップの間隔の測定結果に基づいて、当該間隔をさらに調整することが可能となる結果、半導体チップの間隔をより正確に調整することが可能となる。It is preferable that the spacing device further comprises a measuring means for measuring the mutual spacing between the semiconductor chips. Here, it is preferable that the tension applying means is provided so that the multiple holding members can be moved individually based on the measurement results of the measuring means. By providing the spacing device with a measuring means, it becomes possible to further adjust the spacing based on the measurement results of the spacing between the semiconductor chips by the measuring means, and as a result, it becomes possible to adjust the spacing between the semiconductor chips more accurately.

なお、上記離間装置において、保持手段としては、チャック手段、及び減圧手段が挙げられる。チャック手段としては、例えば、メカチャック、及びチャックシリンダ等が挙げられる。減圧手段としては、例えば、減圧ポンプ、及び真空エジェクタ等が挙げられる。また、上記離間装置において、保持手段としては、接着剤、もしくは磁力等で粘着シートを支持する構成であってもよい。また、チャック手段における保持部材としては、例えば、粘着シートを下から支持する下支持部材と、下支持部材に支持された駆動機器と、駆動機器の出力軸に支持され、駆動機器が駆動することで粘着シートを上から押さえつけることが可能な上支持部材とを備えた構成を有する保持部材を使用することができる。当該駆動機器としては、例えば、電動機器、及びアクチュエータ等が挙げられる。電動機器としては、例えば、回動モータ、直動モータ、リニアモータ、単軸ロボット、及び多関節ロボット等が挙げられる。アクチュエータとしては、例えば、エアシリンダ、油圧シリンダ、ロッドレスシリンダ、及びロータリシリンダ等が挙げられる。In the above-mentioned separation device, examples of the holding means include chuck means and decompression means. Examples of the chuck means include a mechanical chuck and a chuck cylinder. Examples of the decompression means include a decompression pump and a vacuum ejector. In the above-mentioned separation device, the holding means may be configured to support the adhesive sheet with adhesive or magnetic force. In addition, as the holding member in the chuck means, for example, a holding member having a configuration including a lower support member that supports the adhesive sheet from below, a driving device supported by the lower support member, and an upper support member that is supported by the output shaft of the driving device and can press the adhesive sheet from above by driving the driving device can be used. Examples of the driving device include electric devices and actuators. Examples of the electric devices include rotary motors, linear motors, linear motors, single-axis robots, and multi-joint robots. Examples of the actuators include air cylinders, hydraulic cylinders, rodless cylinders, and rotary cylinders.

また、上記離間装置において、張力付与手段は、駆動機器を備え、当該駆動機器により保持部材を移動させてもよい。張力付与手段が備える駆動機器としては、上述した保持部材が備える駆動機器と同様の駆動機器を使用することができる。例えば、張力付与手段は、駆動機器としての直動モータと、直動モータと保持部材との間に介在する出力軸とを備え、駆動した直動モータが出力軸を介して保持部材を移動させる構成であってよい。In the above-mentioned separation device, the tension applying means may include a driving device, and the holding member may be moved by the driving device. The driving device included in the tension applying means may be the same as the driving device included in the holding member described above. For example, the tension applying means may include a linear motor as the driving device, and an output shaft interposed between the linear motor and the holding member, and the driven linear motor may move the holding member via the output shaft.

本実施形態に係る粘着シートを用いて半導体チップの間隔を拡げる場合、半導体チップ同士が接触した状態、または半導体チップの間隔が殆ど拡げられていない状態からその間隔を拡げてもよく、あるいは、半導体チップ同士の間隔が既に所定の間隔まで拡げられた状態から、さらにその間隔を拡げてもよい。When the adhesive sheet of this embodiment is used to increase the spacing between semiconductor chips, the spacing may be increased from a state in which the semiconductor chips are in contact with each other or from a state in which the spacing between the semiconductor chips has barely been increased, or the spacing between the semiconductor chips may be increased further from a state in which the spacing between the semiconductor chips has already been increased to a predetermined spacing.

半導体チップ同士が接触した状態、または半導体チップの間隔が殆ど拡げられていない状態からその間隔を拡げる場合としては、例えば、ダイシングシート上において半導体ウエハを分割することで複数の半導体チップを得た後、当該ダイシングシートから本実施形態に係る粘着シートに複数の半導体チップを転写し、続いて、当該半導体チップの間隔を拡げることができる。あるいは、本実施形態に係る粘着シート上において半導体ウエハを分割して複数の半導体チップを得た後、当該半導体チップの間隔を拡げることもできる。 When expanding the spacing between semiconductor chips from a state in which the semiconductor chips are in contact with each other or from a state in which the spacing between the semiconductor chips has barely expanded, for example, a semiconductor wafer is divided on a dicing sheet to obtain multiple semiconductor chips, and then the multiple semiconductor chips are transferred from the dicing sheet to the adhesive sheet according to this embodiment, and the spacing between the semiconductor chips can be expanded. Alternatively, a semiconductor wafer is divided on the adhesive sheet according to this embodiment to obtain multiple semiconductor chips, and then the spacing between the semiconductor chips can be expanded.

半導体チップ同士の間隔が既に所定の間隔まで拡げられた状態から、さらにその間隔を拡げる場合としては、その他の粘着シート、好ましくは本実施形態に係る粘着シート(第一延伸用粘着シート)を用いて半導体チップ同士の間隔を所定の間隔まで拡げた後、当該シート(第一延伸用粘着シート)から本実施形態に係る粘着シート(第二延伸用粘着シート)に半導体チップを転写し、続いて、本実施形態に係る粘着シート(第二延伸用粘着シート)を延伸することで、半導体チップの間隔をさらに拡げることができる。なお、このような半導体チップの転写と粘着シートの延伸は、半導体チップの間隔が所望の距離となるまで複数回繰り返してもよい。In the case where the distance between the semiconductor chips is to be further increased from a state in which the distance between the semiconductor chips has already been increased to a predetermined distance, the distance between the semiconductor chips can be increased to a predetermined distance using another adhesive sheet, preferably the adhesive sheet according to this embodiment (first stretching adhesive sheet), and then the semiconductor chips can be transferred from the sheet (first stretching adhesive sheet) to the adhesive sheet according to this embodiment (second stretching adhesive sheet), and then the adhesive sheet according to this embodiment (second stretching adhesive sheet) is stretched, thereby further increasing the distance between the semiconductor chips. Note that such transfer of the semiconductor chips and stretching of the adhesive sheet may be repeated multiple times until the distance between the semiconductor chips reaches the desired distance.

〔第2実施形態〕
[粘着シート]
本実施形態に係る粘着シートは、第1実施形態に係る粘着シートと同様、基材及び粘着剤層を有する。
本実施形態に係る粘着剤層は、エネルギー線硬化性樹脂を含有する点、並びに粘着剤層の幅方向両端部におけるエネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部と、エネルギー線硬化性樹脂が硬化されていない未硬化部と、を有する点で、第1実施形態に係る粘着シートと相違する。
本実施形態に係る粘着シートは、当該粘着シートの未硬化部から作製した第一の試験片及び第二の試験片を、引張試験機で測定した引張強度の比が所定の範囲を満たす。
以下の説明では、第1実施形態との相違に係る部分を主に説明し、重複する説明については省略又は簡略化する。第1実施形態と同様の構成には同一の符号を付して説明を省略又は簡略化する。
Second Embodiment
[Adhesive sheet]
The pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment has a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer, similar to the pressure-sensitive adhesive sheet according to the first embodiment.
The pressure-sensitive adhesive layer according to this embodiment differs from the pressure-sensitive adhesive sheet according to the first embodiment in that it contains an energy ray-curable resin and has cured portions at both widthwise ends of the pressure-sensitive adhesive layer where the energy ray-curable resin is cured and uncured portions where the energy ray-curable resin is not cured.
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to this embodiment, a first test piece and a second test piece are prepared from an uncured portion of the pressure-sensitive adhesive sheet, and the ratio of tensile strengths measured with a tensile tester satisfies a predetermined range.
In the following description, differences from the first embodiment will be mainly described, and overlapping descriptions will be omitted or simplified. The same components as those in the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted or simplified.

本実施形態に係る粘着シートも、基材と、粘着剤層と、を有する。粘着シートの形状は、例えば、テープ状(長尺の形態)、及びラベル状(枚葉の形態)等、あらゆる形状をとり得る。The adhesive sheet according to this embodiment also has a substrate and an adhesive layer. The adhesive sheet may have any shape, such as a tape shape (long shape) or a label shape (sheet shape).

図4には、本実施形態に係る粘着シート1Aの断面概略図が示されている。
粘着シート1Aは、基材10と、粘着剤層20と、を有する。粘着剤層20は、エネルギー線硬化性樹脂を含有する。粘着剤層20は、エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部22と、エネルギー線硬化性樹脂が硬化されていない未硬化部21と、を有する。硬化部22は、図4に示すように、粘着シート1Aの粘着剤層20の幅方向両端部に形成されている。幅方向の一端側の硬化部22と、他端側の硬化部22との間に、未硬化部21がある。
FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of a pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to this embodiment.
The adhesive sheet 1A has a substrate 10 and an adhesive layer 20. The adhesive layer 20 contains an energy ray curable resin. The adhesive layer 20 has a cured portion 22 where the energy ray curable resin is cured, and an uncured portion 21 where the energy ray curable resin is not cured. As shown in Fig. 4, the cured portion 22 is formed at both widthwise end portions of the adhesive layer 20 of the adhesive sheet 1A. The uncured portion 21 is located between the cured portion 22 at one end side in the width direction and the cured portion 22 at the other end side.

粘着シート1Aの幅方向で向かい合う2辺がエネルギー線で硬化され、粘着シート1Aの幅方向両端部に硬化部22が形成されていることで、当該硬化部22は、未硬化部21の粘着剤が粘着シート1Aの幅方向の端部からシート外部に染み出すことを抑制する。Two opposing sides of the adhesive sheet 1A in the width direction are cured by energy rays, and cured portions 22 are formed at both ends of the adhesive sheet 1A in the width direction. The cured portions 22 prevent the adhesive in the uncured portions 21 from seeping out from the ends of the adhesive sheet 1A in the width direction to the outside of the sheet.

硬化部22の断面形状は、図4において矩形であるが、矩形に限定されず、粘着剤の染み出しを抑制できる形状であれば、特に限定されない。The cross-sectional shape of the cured portion 22 is rectangular in Figure 4, but is not limited to a rectangle and is not particularly limited as long as the shape can suppress the adhesive from seeping out.

硬化部22は、粘着シート1Aの幅方向両端部に沿って連続して形成されていることが好ましい。硬化部22が粘着シート1Aの長手方向に亘って連続して形成されていることによって、未硬化部21から粘着剤がシート幅方向端部からシート外部に染み出すことをさらに抑制し易い。硬化部22が不連続に形成されている場合には、硬化部22が形成されていない箇所から粘着剤が染み出すおそれがある。It is preferable that the cured portions 22 are formed continuously along both widthwise ends of the adhesive sheet 1A. By forming the cured portions 22 continuously along the longitudinal direction of the adhesive sheet 1A, it is easier to further prevent the adhesive from seeping out of the uncured portions 21 from the widthwise ends of the sheet to the outside of the sheet. If the cured portions 22 are formed discontinuously, there is a risk that the adhesive will seep out from places where the cured portions 22 are not formed.

粘着シート1Aが長尺状のシートである場合、硬化部22は、粘着シート1Aの長手方向に亘って連続して形成されていることが好ましい。硬化部22が粘着シート1Aの長手方向に亘って連続して形成されていることによって、未硬化部21から粘着剤がシート幅方向端部からシート外部に染み出すことをさらに抑制し易い。When the adhesive sheet 1A is a long sheet, it is preferable that the cured portion 22 is formed continuously along the longitudinal direction of the adhesive sheet 1A. By forming the cured portion 22 continuously along the longitudinal direction of the adhesive sheet 1A, it is easier to further prevent the adhesive from seeping out of the uncured portion 21 from the sheet width direction end to the outside of the sheet.

図5には、ロール状に巻き取られた長尺状の粘着シート1Aを示す概略斜視図が示されている。なお、図5においては、ロールから粘着シート1Aを一部繰り出した状態が示されている。
図5に示すように、粘着シート1Aの幅方向両端部には、硬化部22が形成され、幅方向の一端側の硬化部22と、他端側の硬化部22との間に、未硬化部21がある。硬化部22は、それぞれ、粘着シート1Aの長手方向に亘って連続して形成されている。なお、図5に示すような長尺状の粘着シート1Aが巻き取られたロールは、ロールの幅方向が載置面に対して垂直になるように保管される場合が多い。そのため、粘着シート1Aの幅方向両端部に硬化部22が連続して形成されていることで、ロール保管時における未硬化部21からの粘着剤の染み出しを抑制し易い。
Fig. 5 is a schematic perspective view showing a long adhesive sheet 1A wound into a roll, with a portion of the adhesive sheet 1A being unwound from the roll.
As shown in Fig. 5, cured portions 22 are formed at both widthwise ends of the adhesive sheet 1A, and an uncured portion 21 is present between the cured portion 22 at one end in the widthwise direction and the cured portion 22 at the other end in the widthwise direction. The cured portions 22 are each formed continuously along the longitudinal direction of the adhesive sheet 1A. Note that a roll of a long adhesive sheet 1A as shown in Fig. 5 is often stored such that the width direction of the roll is perpendicular to the placement surface. Therefore, by forming the cured portions 22 continuously at both widthwise ends of the adhesive sheet 1A, it is easy to suppress the adhesive from seeping out from the uncured portions 21 during roll storage.

硬化部22の幅は、それぞれ独立に、0.5mm以上であることが好ましい。硬化部22の幅が0.5mm以上であれば、未硬化部21から粘着剤がシート幅方向端部からシート外部に染み出すことをさらに抑制し易い。硬化部22が幅方向端部に沿って連続的に形成されている場合においては、硬化部22の幅は、長手方向に亘って一定でなくてもよく、長手方向に亘って0.5mm以上の幅で形成されていることが好ましい。
硬化部22の幅は、それぞれ独立に、10mm以下であることが好ましい。硬化部22が幅方向端部に沿って連続的に形成されている場合においては、硬化部22の幅は、長手方向に亘って10mm以下の幅で形成されていることが好ましい。
なお、硬化部22の幅が大きければ粘着剤の染み出しを抑制し易くなる一方で、未硬化部21の面積が狭くなるため、粘着剤の染み出しを抑制する効果と、粘着シートとしての粘着力を有する未硬化部21の面積の確保との観点から、硬化部22の幅の上限を設定することが好ましい。
The width of each of the cured portions 22 is preferably 0.5 mm or more, independently. If the width of the cured portions 22 is 0.5 mm or more, it is easier to prevent the adhesive from the uncured portions 21 from seeping out from the width direction end of the sheet to the outside of the sheet. When the cured portions 22 are continuously formed along the width direction end, the width of the cured portions 22 does not have to be constant along the longitudinal direction, and is preferably formed to a width of 0.5 mm or more along the longitudinal direction.
The width of each of the hardened portions 22 is preferably 10 mm or less. When the hardened portions 22 are formed continuously along the width direction edge portions, the width of the hardened portions 22 is preferably 10 mm or less along the longitudinal direction.
In addition, while a larger width of the cured portion 22 makes it easier to prevent the adhesive from seeping out, the area of the uncured portion 21 becomes smaller. Therefore, from the standpoint of preventing the adhesive from seeping out and ensuring the area of the uncured portion 21 that has the adhesive strength as an adhesive sheet, it is preferable to set an upper limit on the width of the cured portion 22.

(第一の試験片)
第一の試験片は、本実施形態に係る粘着シート1Aの未硬化部21の領域から作製される。第一の試験片の幅は、25mmである。
本実施形態における第一の試験片を把持した状態は、第1実施形態で示した図2と同様である。第一の試験片の一端側における基材10及び粘着剤層20の未硬化部21を引張試験機の第一の掴み具110で把持し、第一の試験片の他端側における基材10及び粘着剤層20の未硬化部21を引張試験機の第二の掴み具120で把持する。
(First test piece)
The first test piece was prepared from the region of the uncured portion 21 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to this embodiment. The width of the first test piece was 25 mm.
The state in which the first test piece in this embodiment is held is the same as that shown in Fig. 2 in the first embodiment. The substrate 10 and the uncured portion 21 of the pressure-sensitive adhesive layer 20 at one end of the first test piece are held by a first grip 110 of a tensile tester, and the substrate 10 and the uncured portion 21 of the pressure-sensitive adhesive layer 20 at the other end of the first test piece are held by a second grip 120 of the tensile tester.

(第二の試験片)
第二の試験片は、本実施形態に係る粘着シート1Aから作製された第一の試験片に2つの半導体チップを貼着することにより作製される。本実施形態においては、この2つの半導体チップは、第一の半導体チップ及び第二の半導体チップである。第一の半導体チップ及び第二の半導体チップは、いずれも、縦寸法が45mmであり、横寸法が35mmであり、厚さ寸法が0.625mmである。
第一の半導体チップ及び第二の半導体チップの縦寸法が45mmである辺を、第一の試験片の長手方向に沿わせて貼着する。
第一の半導体チップは、第一の試験片の長手方向の一端側に貼着される。第二の半導体チップは、第一の試験片の長手方向の他端側に貼着される。第一の試験片に貼着された第一の半導体チップと第二の半導体チップとの間隔を35μmとする。
(Second test piece)
The second test piece is produced by attaching two semiconductor chips to the first test piece produced from the adhesive sheet 1A according to this embodiment. In this embodiment, the two semiconductor chips are a first semiconductor chip and a second semiconductor chip. The first semiconductor chip and the second semiconductor chip each have a vertical dimension of 45 mm, a horizontal dimension of 35 mm, and a thickness dimension of 0.625 mm.
The first and second semiconductor chips are attached such that their sides measuring 45 mm in length are aligned along the longitudinal direction of the first test piece.
The first semiconductor chip is attached to one end of the first test piece in the longitudinal direction, and the second semiconductor chip is attached to the other end of the first test piece in the longitudinal direction, with the distance between the first and second semiconductor chips attached to the first test piece being 35 μm.

本実施形態における第二の試験片を把持した状態は、第1実施形態で示した図3と同様である。第二の試験片の一端側における基材10、粘着剤層20の未硬化部21及び第一の半導体チップCP1を引張試験機の第一の掴み具110で把持し、第二の試験片の他端側における基材10、粘着剤層20の未硬化部21及び第二の半導体チップCP2を引張試験機の第二の掴み具120で把持する。The state in which the second test piece in this embodiment is held is the same as that shown in Fig. 3 in the first embodiment. The substrate 10, the uncured portion 21 of the adhesive layer 20, and the first semiconductor chip CP1 at one end of the second test piece are held by a first gripper 110 of the tensile tester, and the substrate 10, the uncured portion 21 of the adhesive layer 20, and the second semiconductor chip CP2 at the other end of the second test piece are held by a second gripper 120 of the tensile tester.

(引張強度)
本実施形態に係る粘着シート1Aも、引張試験機を用いて測定した第一の試験片及び第二の試験片の引張強度が、下記数式(数1A)の関係を満たす。
B1/FA1≦30 …(数1A)
(Tensile strength)
The pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to this embodiment also has a tensile strength of the first test piece and the second test piece measured using a tensile tester, which satisfies the relationship of the following mathematical formula (Mathematical formula 1A).
F B1 /F A1 ≦30...(Math 1A)

前記数式(数1A)において、引張強度FA1は、第一の試験片の長手方向のそれぞれの両端における基材及び粘着剤層を掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の強度である。 In the above formula (Mathematical Formula 1A), the tensile strength F A1 is the strength when the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer at both ends in the longitudinal direction of the first test piece are gripped with grippers and pulled 0.5 mm using a tensile tester.

前記数式(数1A)において、引張強度FB1は、第二の試験片の長手方向のそれぞれの両端における基材、粘着剤層及び半導体チップを掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の強度である。 In the above formula (Mathematical Formula 1A), the tensile strength F B1 is the strength when the substrate, the adhesive layer and the semiconductor chip at each end in the longitudinal direction of the second test piece are gripped with grippers and pulled 0.5 mm using a tensile tester.

エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部22を含むように、粘着シート1Aの長尺方向に沿って長さ150mm、幅25mmのサイズに切り出して第三の試験片を作製し、当該第三の試験片を一対のチャックでチャック間距離100mmとして把持し、速度5mm/secで、チャック間距離が200mmになるまで伸長させた際、硬化部22と基材10との界面に浮きが発生しないことが好ましい。
粘着シートの硬化部を伸長させた際(例えば、粘着シートをエキスパンドした際)に硬化部と基材との界面に浮きが発生すると、浮き上がった硬化部が粘着剤層から破断し、破断した硬化部が飛散して、粘着シートに貼着した被着体及びエキスパンド装置に付着して汚染するおそれがある。しかしながら、本実施形態に係る粘着シート1Aは、第三の試験片を用いた引張試験において、硬化部22と基材10との界面で浮きが発生しないので、上述のような破断した硬化部による被着体及びエキスパンド装置の汚染を抑制し易い。硬化部22と基材10との界面で浮きが発生しないようにするには、例えば、エネルギー線硬化性樹脂の硬化度を制御する方法が挙げられる。
A third test piece is prepared by cutting a size of 150 mm in length and 25 mm in width along the longitudinal direction of the adhesive sheet 1A so as to include a cured portion 22 formed by curing the energy ray curable resin, and the third test piece is held with a pair of chucks with a chuck distance of 100 mm and extended at a speed of 5 mm/sec until the chuck distance becomes 200 mm. It is preferable that no lift occurs at the interface between the cured portion 22 and the substrate 10.
When the cured portion of the adhesive sheet is stretched (for example, when the adhesive sheet is expanded), if lifting occurs at the interface between the cured portion and the substrate, the lifted cured portion breaks off from the adhesive layer, and the broken cured portion scatters and adheres to the adherend and the expanding device attached to the adhesive sheet, which may cause contamination. However, in the adhesive sheet 1A according to the present embodiment, in the tensile test using the third test piece, lifting does not occur at the interface between the cured portion 22 and the substrate 10, so it is easy to suppress contamination of the adherend and the expanding device due to the broken cured portion as described above. In order to prevent lifting from occurring at the interface between the cured portion 22 and the substrate 10, for example, a method of controlling the curing degree of the energy ray curable resin can be mentioned.

本実施形態に係る粘着シート1Aを、第一方向、前記第一方向とは反対方向である第二方向、前記第一方向に対して垂直方向である第三方向、及び前記第三方向とは反対方向である第四方向に伸長させて、伸長前の粘着シート1Aの面積S1と、伸長後の粘着シート1Aの面積S2との面積比(S2/S1)×100が381%であるときに、粘着剤層20の硬化部22が基材10との界面で剥がれないことが好ましい。
第一方向、第二方向、第三方向及び第四方向は、それぞれ、例えば、後述する2軸延伸の+X軸方向、-X軸方向、+Y軸方向、及び-Y軸方向の4方向と対応していることが好ましい。4方向に伸長させるための装置としては、例えば、後述するエキスパンド装置が挙げられる。
本実施形態に係る粘着シート1Aは、4方向に伸長させて、伸長前後の面積比(S2/S1)×100が381%であるときに粘着剤層20の硬化部22が基材10との界面で剥がれないので、粘着シート1Aを高伸長率のエキスパンド工程で使用しても、破断した硬化部による被着体及びエキスパンド装置の汚染を抑制し易い。
When the adhesive sheet 1A of this embodiment is stretched in a first direction, a second direction opposite to the first direction, a third direction perpendicular to the first direction, and a fourth direction opposite to the third direction, it is preferable that when the area ratio (S2/S1)×100 of the area S1 of the adhesive sheet 1A before stretching to the area S2 of the adhesive sheet 1A after stretching is 381%, the cured portion 22 of the adhesive layer 20 does not peel off at the interface with the substrate 10.
The first, second, third and fourth directions preferably correspond to, for example, the four directions of +X-axis direction, -X-axis direction, +Y-axis direction and -Y-axis direction of biaxial stretching described later. An example of a device for stretching in the four directions is an expanding device described later.
The adhesive sheet 1A of this embodiment is stretched in four directions, and when the area ratio before and after stretching (S2/S1) x 100 is 381%, the cured portion 22 of the adhesive layer 20 does not peel off at the interface with the substrate 10. Therefore, even when the adhesive sheet 1A is used in an expansion process with a high elongation rate, contamination of the adherend and the expansion device due to broken cured portions is easily suppressed.

[粘着シートの製造方法]
本実施形態に係る粘着シート1Aの製造方法は、以下の工程(P1)~(P3)を有する。
(P1)基材10の上に、エネルギー線硬化性樹脂を含有する粘着剤組成物を塗布して、粘着剤層20を形成する工程。
(P2)粘着剤層20の幅方向の両端部にエネルギー線UVを照射して、エネルギー線硬化性樹脂を硬化させて硬化部22を形成する工程。
(P3)エネルギー線硬化性樹脂を硬化させていない未硬化部21の幅方向両端部よりも外側に硬化部22の全部を残すか、又は硬化部22の一部を残して、硬化部22よりも外側を裁断する工程。
[Method of manufacturing pressure-sensitive adhesive sheet]
The method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to this embodiment includes the following steps (P1) to (P3).
(P1) A step of applying a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable resin onto a substrate 10 to form a pressure-sensitive adhesive layer 20.
(P2) A step of irradiating both widthwise ends of the pressure-sensitive adhesive layer 20 with energy rays UV to cure the energy ray curable resin and form cured portions 22.
(P3) A process of cutting out the area outside the cured portion 22, leaving either the entire cured portion 22 outside both widthwise ends of the uncured portion 21 where the energy ray curable resin has not been cured, or leaving only a portion of the cured portion 22.

本実施形態に係る粘着シート1Aは、例えば、次のようにして製造できる。
まず、工程(P1)として、基材10の上に粘着剤層20を形成する。本実施形態において、粘着剤層20は、例えば、第1実施形態と同様に形成することができる。
The pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to this embodiment can be produced, for example, as follows.
First, in step (P1), a pressure-sensitive adhesive layer 20 is formed on a substrate 10. In this embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer 20 can be formed, for example, in the same manner as in the first embodiment.

図6Aは、粘着シート1Aの幅方向両端部に硬化部22を形成する工程(P2)を説明する断面概略図である。
粘着剤層20は、エネルギー線硬化性樹脂を含有するので、幅方向両端部にエネルギー線UVを照射して硬化部22を形成する。エネルギー線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合は、エネルギー線として紫外線を照射する。
硬化部22は、粘着シート1Aとして使用する際に必要な硬化部22の幅よりも大きな幅で形成することが好ましい。
FIG. 6A is a schematic cross-sectional view illustrating the step (P2) of forming cured portions 22 at both widthwise end portions of adhesive sheet 1A.
Since the pressure-sensitive adhesive layer 20 contains an energy ray curable resin, both ends in the width direction are irradiated with energy rays UV to form the cured portions 22. When the energy ray curable resin is an ultraviolet ray curable resin, ultraviolet rays are irradiated as the energy rays.
It is preferable that cured portion 22 be formed with a width larger than the width of cured portion 22 required when used as pressure-sensitive adhesive sheet 1A.

図6Bは、エネルギー線を照射して硬化部22を形成した後に、粘着シート1Aの幅方向両端部を、硬化部22が残るように裁断する工程(P3)を説明する断面概略図である。
図6Bにおいては、粘着シート1Aとして使用する際に必要な幅よりも大きな幅で形成された硬化部22の位置C1及び位置C2に切込みを入れて裁断する。硬化部22に切込みを入れて裁断することにより、裁断刃に粘着剤が付着するのを防止できる。切込みは、硬化部22のシート長手方向に沿って入れる。
未硬化部21の幅方向両端部よりも外側に残す硬化部22の幅(断面視で、未硬化部21と硬化部22との境界から位置C1又は位置C2までの距離)は、それぞれ独立に、0.5mm以上であることが好ましい。
FIG. 6B is a schematic cross-sectional view illustrating a step (P3) of cutting both widthwise ends of adhesive sheet 1A so that cured portion 22 remains after cured portion 22 is formed by irradiation with energy rays.
In Fig. 6B, cuts are made at positions C1 and C2 of the cured portion 22, which is formed with a width larger than the width required for use as the adhesive sheet 1A. By making cuts in the cured portion 22, it is possible to prevent the adhesive from adhering to the cutting blade. The cuts are made along the sheet longitudinal direction of the cured portion 22.
It is preferable that the width of the hardened portion 22 remaining outside both widthwise ends of the unhardened portion 21 (the distance from the boundary between the unhardened portion 21 and the hardened portion 22 to position C1 or position C2 in cross-sectional view) is independently 0.5 mm or more.

図6Cには、工程(P3)によって裁断後に、幅方向両端部にそれぞれ硬化部22が形成された粘着シート1Aと、端材1aとが示されている。 Figure 6C shows the adhesive sheet 1A, which has hardened portions 22 formed at both widthwise ends after cutting in step (P3), and scrap material 1a.

硬化部22よりも外側を裁断する工程(P3)の後に、裁断後の粘着シート1Aをロール状に巻き取る工程をさらに有することが好ましい。 After the step (P3) of cutting the portion outside the cured portion 22, it is preferable to further include a step of winding up the cut adhesive sheet 1A into a roll.

[粘着シートの使用方法]
本実施形態に係る粘着シート1Aも、第1実施形態に係る粘着シートと同様の使用方法に適用できる。
[How to use the adhesive sheet]
The pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to this embodiment can be used in the same manner as the pressure-sensitive adhesive sheet according to the first embodiment.

本実施形態に係る粘着シート1Aは、例えば、半導体加工用に用いることができる。粘着シート1Aは、半導体装置の製造工程中、複数の半導体チップ同士の間隔を拡張するためのエキスパンド工程に使用されることが好ましい。
複数の半導体チップは、粘着シート1Aの中央部(未硬化部21)に貼着されていることが好ましい。
エキスパンド工程においては、粘着シート1Aの硬化部22を離間装置の保持手段で保持することが好ましい。
The pressure-sensitive adhesive sheet 1A according to the present embodiment can be used, for example, for semiconductor processing. The pressure-sensitive adhesive sheet 1A is preferably used in an expanding step for expanding the gap between multiple semiconductor chips during the manufacturing process of a semiconductor device.
The semiconductor chips are preferably attached to the center portion (uncured portion 21) of the adhesive sheet 1A.
In the expanding step, it is preferable that the cured portion 22 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1A is held by a holding means of the separating device.

本実施形態に係る粘着シート1Aは、粘着剤の染み出しを抑制し、かつエキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差を小さくでき、拡張性に優れる。The adhesive sheet 1A of this embodiment has excellent extensibility because it suppresses the seepage of adhesive and reduces the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet when the adhesive sheet is expanded in the expansion process to expand the distance between semiconductor chips.

[実施形態の変形]
本発明は、上述の実施形態に何ら限定されない。本発明は、本発明の目的を達成できる範囲で、上述の実施形態を変形した態様などを含む。
[Modifications of the embodiment]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes modifications of the above-described embodiment within the scope of the invention.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。本発明はこれら実施例に何ら限定されない。The present invention will be described in more detail below with reference to examples. The present invention is not limited to these examples.

(粘着シートの作製)
[実施例1]
ブチルアクリレート(BA)62質量部、メタクリル酸メチル(MMA)10質量部、及び2-ヒドロキシエチルアクリレート(2HEA)28質量部を共重合してアクリル系共重合体を得た。このアクリル系共重合体に対して、2-イソシアナートエチルメタクリレート(昭和電工株式会社製、製品名「カレンズMOI」(登録商標))を付加した樹脂(アクリルA)の溶液(粘着剤主剤、固形分35.0質量%)を調製した。付加率は、アクリル系共重合体の2HEA100モル%に対して、2-イソシアナートエチルメタクリレートを80モル%とした。
得られた樹脂(アクリルA)の重量平均分子量(Mw)は、9万、Mw/Mnは4.5であった。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量Mw、及び数平均分子量Mnを測定し、それぞれの測定値から分子量分布(Mw/Mn)を求めた。
この粘着剤主剤に、UV樹脂A(10官能ウレタンアクリレート、日本合成化学工業株式会社製、製品名「UV-5806」、Mw=1740、光重合開始剤を含む。)、及び架橋剤としてのトリレンジイソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業株式会社製、製品名「コロネートL」)を添加した。粘着剤主剤中の固形分100質量部に対して、UV樹脂Aを50質量部添加し、架橋剤を0.2質量部添加した。添加後、30分間攪拌して、粘着剤組成物A1を調製した。
次いで、調製した粘着剤組成物A1の溶液をポリエチレンテレフタレート(PET)系剥離フィルム(リンテック株式会社製、製品名「SP-PET381031」、厚さ38μm)に塗布して乾燥させ、厚さ40μmの粘着剤層を剥離フィルム上に形成した。
当該粘着剤層に、基材としてのポリエステル系ポリウレタンエラストマーシート(シーダム株式会社製,製品名「ハイグレスDUS202」,厚さ100μm)を貼り合わせた後、幅方向における端部の不要部分を裁断除去して粘着シートを作製した。
(Preparation of adhesive sheet)
[Example 1]
An acrylic copolymer was obtained by copolymerizing 62 parts by mass of butyl acrylate (BA), 10 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA). A solution of a resin (acrylic A) (adhesive base, solid content 35.0% by mass) was prepared by adding 2-isocyanatoethyl methacrylate (manufactured by Showa Denko K.K., product name "Karens MOI" (registered trademark)) to this acrylic copolymer. The addition ratio was 80 mol % of 2-isocyanatoethyl methacrylate to 100 mol % of 2HEA in the acrylic copolymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained resin (acrylic A) was 90,000, and Mw/Mn was 4.5. The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn in terms of standard polystyrene were measured by gel permeation chromatography (GPC), and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was calculated from the respective measured values.
To this adhesive base, UV resin A (10-functional urethane acrylate, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., product name "UV-5806", Mw = 1740, containing a photopolymerization initiator) and a tolylene diisocyanate-based crosslinking agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., product name "Coronate L") were added as a crosslinking agent. 50 parts by mass of UV resin A and 0.2 parts by mass of the crosslinking agent were added relative to 100 parts by mass of the solid content in the adhesive base. After the addition, the mixture was stirred for 30 minutes to prepare adhesive composition A1.
Next, the prepared solution of pressure-sensitive adhesive composition A1 was applied to a polyethylene terephthalate (PET)-based release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031", thickness 38 μm) and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer with a thickness of 40 μm on the release film.
A polyester-based polyurethane elastomer sheet (manufactured by Seedam Co., Ltd., product name "Higress DUS202", thickness 100 μm) was bonded to the adhesive layer as a substrate, and unnecessary portions of the ends in the width direction were then cut and removed to produce an adhesive sheet.

[実施例2]
ブチルアクリレート(BA)52質量部、メタクリル酸メチル(MMA)20質量部、及び2-ヒドロキシエチルアクリレート(2HEA)28質量部を共重合してアクリル系共重合体を得た。このアクリル系共重合体に対して、2-イソシアナートエチルメタクリレート(昭和電工株式会社製、製品名「カレンズMOI」(登録商標))を付加した樹脂(アクリルA2)の溶液(粘着剤主剤)を調製した。付加率は、アクリル系共重合体の2HEA100モル%に対して、2-イソシアナートエチルメタクリレートを90モル%とした。
得られた樹脂(アクリルA2)の重量平均分子量(Mw)は、60万、Mw/Mnは4.5であった。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量Mw、及び数平均分子量Mnを測定し、それぞれの測定値から分子量分布(Mw/Mn)を求めた。
この粘着剤主剤に、エネルギー線硬化性樹脂A(阪本薬品工業株式会社製、製品名「SA-TE60」)、光重合開始剤(IGM Resins B.V.製、製品名「Omnirad 127D」)及び架橋剤(トーヨーケム株式会社製、TMP-TDI(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体)を添加した。粘着剤主剤中の固形分100質量部に対して、エネルギー線硬化性樹脂Aを18質量部添加し、光重合開始剤を1.3質量部添加し、架橋剤を0.2質量部添加し、酢酸エチルを添加した後、30分間攪拌して、固形分35.0質量%の粘着剤組成物A1を調製した。
次いで、調製した粘着剤組成物A1の溶液をポリエチレンテレフタレート(PET)系剥離フィルム(リンテック株式会社製、製品名「PET752150」)に塗布して、塗膜を90℃で90秒間乾燥させ、さらに100℃で90秒間乾燥させて、厚さ30μmの粘着剤層を剥離フィルム上に形成した。
当該粘着剤層に、ウレタン基材(倉敷紡績株式会社製,製品名「U-1490」,厚さ100μm,硬度90度(A型))を貼り合わせて、粘着テープを作製した。
この粘着テープを幅300mmに裁断する際、その裁断部を跨ぐようにLED-UVユニットを、裁断部一か所につき2灯設置した。LED-UVユニットのレンズ先端部とテープとの距離は10mmとした。LED-UVユニットの出力について、2灯とも出力50%でUV照射して、粘着剤層に硬化部を形成した。形成した硬化部に沿って粘着テープを裁断し、幅方向両端部に硬化部を有する粘着シート(幅300mm)を作製した。シート幅方向両端部の硬化部の幅は、表2に示すように、それぞれ、1.00mmとした。裁断時のスリットの速度は、10m/minとした。また、LED-UVユニットの出力と、LED-UVユニット1灯当たりの光量及び照度との関係を表2に示す。
[Example 2]
An acrylic copolymer was obtained by copolymerizing 52 parts by mass of butyl acrylate (BA), 20 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA). A solution (adhesive base) of a resin (acrylic A2) was prepared by adding 2-isocyanatoethyl methacrylate (manufactured by Showa Denko K.K., product name "Karens MOI" (registered trademark)) to this acrylic copolymer. The addition ratio was 90 mol % of 2-isocyanatoethyl methacrylate to 100 mol % of 2HEA in the acrylic copolymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained resin (acrylic A2) was 600,000, and Mw/Mn was 4.5. The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn in terms of standard polystyrene were measured by gel permeation chromatography (GPC), and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was calculated from the respective measured values.
To this adhesive base, an energy ray curable resin A (manufactured by Sakamoto Yakuhin Kogyo Co., Ltd., product name "SA-TE60"), a photopolymerization initiator (manufactured by IGM Resins B.V., product name "Omnirad 127D"), and a crosslinking agent (manufactured by Toyochem Co., Ltd., TMP-TDI (trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate)) were added. Relative to 100 parts by mass of the solid content in the adhesive base, 18 parts by mass of the energy ray curable resin A, 1.3 parts by mass of the photopolymerization initiator, 0.2 parts by mass of the crosslinking agent, and ethyl acetate were added, and the mixture was stirred for 30 minutes to prepare an adhesive composition A1 with a solid content of 35.0% by mass.
Next, the prepared solution of adhesive composition A1 was applied to a polyethylene terephthalate (PET)-based release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "PET752150"), and the coating was dried at 90°C for 90 seconds and further dried at 100°C for 90 seconds to form a 30 µm-thick adhesive layer on the release film.
A urethane substrate (manufactured by Kurabo Industries, Ltd., product name "U-1490", thickness 100 μm, hardness 90 degrees (A type)) was attached to the adhesive layer to prepare an adhesive tape.
When this adhesive tape was cut to a width of 300 mm, two LED-UV units were installed at each cut so as to straddle the cut portion. The distance between the lens tip of the LED-UV unit and the tape was 10 mm. Regarding the output of the LED-UV unit, both lamps were irradiated with UV at 50% output to form a cured portion in the adhesive layer. The adhesive tape was cut along the formed cured portion to prepare an adhesive sheet (width 300 mm) having a cured portion at both ends in the width direction. As shown in Table 2, the width of the cured portion at both ends in the sheet width direction was 1.00 mm. The slit speed during cutting was 10 m/min. Table 2 also shows the relationship between the output of the LED-UV unit and the light amount and illuminance per LED-UV unit.

実施例2で使用したLED-UVユニットの説明は以下のとおりである。
・LED-UVユニット
HOYA CANDEO OPTRONICS社製
制御部=H-1 VC II
発光部=H-1 VH4
レンズ=HO-03L
The LED-UV unit used in Example 2 is described below.
・LED-UV unit: HOYA CANDEO OPTRONICS Control unit: H-1 VC II
Light emitting part = H-1 VH4
Lens = HO-03L

[実施例3]
実施例3の粘着シートは、実施例2に係る粘着シートの作製におけるLED-UVユニットの出力を40%に変更したこと、並びにシート幅方向両端部の硬化部の幅を表2に示すようにそれぞれ0.50mmとした以外、実施例2と同様にして作製した。
[Example 3]
The adhesive sheet of Example 3 was produced in the same manner as in Example 2, except that the output of the LED-UV unit in the production of the adhesive sheet of Example 2 was changed to 40% and the width of the cured portion at both ends in the sheet width direction was set to 0.50 mm, as shown in Table 2.

[実施例4]
実施例4の粘着シートは、実施例2に係る粘着シートの作製におけるLED-UVユニットの出力を90%に変更したこと、並びにシート幅方向両端部の硬化部の幅を表2に示すようにそれぞれ1.25mmとした以外、実施例2と同様にして作製した。
[Example 4]
The adhesive sheet of Example 4 was produced in the same manner as in Example 2, except that the output of the LED-UV unit in the production of the adhesive sheet of Example 2 was changed to 90% and the width of the cured portion at both ends in the sheet width direction was set to 1.25 mm, as shown in Table 2.

[実施例5]
実施例5の粘着シートは、実施例2に係る粘着シートの作製における基材を上質紙(坪量:60g/m)に変更したこと以外、実施例2と同様にして作製した。
[Example 5]
The pressure-sensitive adhesive sheet of Example 5 was produced in the same manner as in Example 2, except that the substrate in the pressure-sensitive adhesive sheet of Example 2 was changed to fine paper (basis weight: 60 g/m 2 ).

[実施例6]
実施例6の粘着シートは、実施例2に係る粘着シートの作製における基材をポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:50μm)に変更したこと以外、実施例2と同様にして作製した。
[Example 6]
The pressure-sensitive adhesive sheet of Example 6 was produced in the same manner as in Example 2, except that the substrate in the production of the pressure-sensitive adhesive sheet of Example 2 was changed to a polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm).

[比較例1]
粘着剤主剤を下記に変更した以外は実施例1と同様に粘着シートを作製した。
ブチルアクリレート(BA)52質量部、メタクリル酸メチル(MMA)20質量部、及び2-ヒドロキシエチルアクリレート(2HEA)28質量部を共重合してアクリル系共重合体を得た。このアクリル系共重合体に対して、2-イソシアナートエチルメタクリレート(昭和電工株式会社製、製品名「カレンズMOI」(登録商標))を付加した樹脂(アクリルB)の溶液(粘着剤主剤、固形分35.0質量%)を調製した。付加率は、アクリル系共重合体の2HEA100モル%に対して、2-イソシアナートエチルメタクリレートを90モル%とした。
得られた樹脂(アクリルB)の重量平均分子量(Mw)は、60万、Mw/Mnは4.5であった。比較例1に係る樹脂(アクリルB)の重量平均分子量Mw及び分子量分布(Mw/Mn)は、実施例1と同様にして求めた。
[Comparative Example 1]
An adhesive sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that the adhesive base was changed as follows.
An acrylic copolymer was obtained by copolymerizing 52 parts by mass of butyl acrylate (BA), 20 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA). A solution of a resin (acrylic B) (adhesive base, solid content 35.0% by mass) was prepared by adding 2-isocyanatoethyl methacrylate (manufactured by Showa Denko K.K., product name "Karens MOI" (registered trademark)) to this acrylic copolymer. The addition ratio was 90 mol % of 2-isocyanatoethyl methacrylate to 100 mol % of 2HEA in the acrylic copolymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained resin (acrylic B) was 600,000, and Mw/Mn was 4.5. The weight average molecular weight Mw and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the resin (acrylic B) according to Comparative Example 1 were determined in the same manner as in Example 1.

[比較例2]
比較例2の粘着シートは、実施例2に係る粘着シートの作製においてUVを照射しなかったこと以外、実施例2と同様にして作製した。
[Comparative Example 2]
The pressure-sensitive adhesive sheet of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 2, except that the UV irradiation was not performed in the production of the pressure-sensitive adhesive sheet according to Example 2.

[粘着シートの評価]
作製した粘着シートについて、以下の評価を行った。評価結果を表1及び表2に示す。
[Evaluation of Adhesive Sheet]
The produced pressure-sensitive adhesive sheets were subjected to the following evaluations. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

<測定方法>
(引張強度の測定方法)
引張強度を測定するための引張試験機としては、株式会社島津製作所製のオートグラフAG-ISを用いた。
粘着シートから幅25mmの第一の試験片を作製した。硬化部と未硬化部とを有する粘着シートについては、粘着シートの未硬化部に対応する領域から第一の試験片を作製した。
第一の試験片に第一の半導体チップ及び第二の半導体チップを貼着して、第二の試験片を作製した。第一の半導体チップ及び第二の半導体チップとして、いずれも、縦寸法が45mmであり、横寸法が35mmであり、厚さ寸法が0.625mmである半導体チップを用いた。
第一の半導体チップ及び第二の半導体チップの縦寸法が45mmである辺を、第一の試験片の長手方向に沿って貼着した。
第一の半導体チップは、第一の試験片の長手方向の一端側に貼着した。第二の半導体チップは、第一の試験片の長手方向の他端側に貼着した。第一の試験片に貼着された第一の半導体チップと第二の半導体チップとの間隔を35μmとした。
<Measurement method>
(Method of measuring tensile strength)
The tensile strength was measured using an Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation.
A first test piece having a width of 25 mm was prepared from the pressure-sensitive adhesive sheet. For a pressure-sensitive adhesive sheet having a cured portion and an uncured portion, the first test piece was prepared from a region of the pressure-sensitive adhesive sheet corresponding to the uncured portion.
A first semiconductor chip and a second semiconductor chip were attached to the first test piece to prepare a second test piece. As the first semiconductor chip and the second semiconductor chip, both of the semiconductor chips used had a vertical dimension of 45 mm, a horizontal dimension of 35 mm, and a thickness dimension of 0.625 mm.
The first and second semiconductor chips were attached with their sides measuring 45 mm in the longitudinal direction of the first test piece.
The first semiconductor chip was attached to one end of the first test piece in the longitudinal direction, and the second semiconductor chip was attached to the other end of the first test piece in the longitudinal direction. The distance between the first and second semiconductor chips attached to the first test piece was 35 μm.

第一の試験片の長手方向のそれぞれの両端における基材及び粘着剤層を掴み具で把持して引張試験機で引張強度を測定した。第一の試験片の0.5mm引張り時(引張距離が0.5mmの時)の引張強度FA1を表1に示す。
第二の試験片の長手方向のそれぞれの両端における基材、粘着剤層及び半導体チップを掴み具で把持して引張試験機で引張強度を測定した。第二の試験片の0.5mm引張り時(引張距離が0.5mmの時)の引張強度FB1を表1に示す。
引張強度の単位は、Nである。
引張試験時のその他の条件は、以下の通りである。
掴み具間の距離:50mm
引張速度 :50mm/分
The substrate and the adhesive layer at both ends of the first test piece in the longitudinal direction were gripped with grippers, and the tensile strength was measured with a tensile tester. The tensile strength F A1 of the first test piece when pulled 0.5 mm (pulling distance 0.5 mm) is shown in Table 1.
The substrate, the adhesive layer, and the semiconductor chip at both ends of the second test piece in the longitudinal direction were gripped with grippers, and the tensile strength was measured with a tensile tester. The tensile strength F B1 of the second test piece when pulled 0.5 mm (pulling distance 0.5 mm) is shown in Table 1.
The unit of tensile strength is N.
Other conditions during the tensile test are as follows:
Distance between grippers: 50 mm
Tensile speed: 50 mm/min

(ヤング率の測定方法)
JIS K7161及びJIS K7127に準拠して、万能試験機(株式会社島津製作所製「オートグラフAG-IS500N」)を用いて引張試験を行った。引張試験において、第一の試験片および第二の試験片を固定し、引張速度50mm/分で引張試験を行った。そして、このときの応力ひずみ曲線を作成して、試験初期の応力ひずみ曲線の傾きからヤング率を算出した。
実施例1、実施例2及び比較例1に係る粘着シートのヤング率の測定結果を表1に示す。
(Method of measuring Young's modulus)
A tensile test was performed using a universal testing machine (Shimadzu Corporation's "Autograph AG-IS500N") in accordance with JIS K7161 and JIS K7127. In the tensile test, the first test piece and the second test piece were fixed, and the tensile test was performed at a tensile speed of 50 mm/min. A stress-strain curve was created at this time, and the Young's modulus was calculated from the slope of the stress-strain curve at the beginning of the test.
The measurement results of the Young's modulus of the pressure-sensitive adhesive sheets according to Example 1, Example 2 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.

Figure 0007541019000001
Figure 0007541019000001

表1に示すように、実施例1及び実施例2に係る粘着シートは、FB1/FA1が30以下であり、粘着シートの半導体チップが貼着されていない部位の引張強度と、半導体チップが貼着されている部位の引張強度との比FB1/FA1が、比較例1よりも小さかった。そのため、実施例1及び実施例2に係る粘着シートによれば、エキスパンド工程で粘着シートを展延させて半導体チップ間の距離を拡張させる際に、粘着シートの面内方向での伸び量の差が小さくなり、拡張性に優れ、半導体チップ間の距離のばらつきを小さくできる。 As shown in Table 1, the adhesive sheets according to Examples 1 and 2 had F B1 /F A1 of 30 or less, and the ratio F B1 /F A1 of the tensile strength of the portion of the adhesive sheet to which the semiconductor chip is not attached to the tensile strength of the portion to which the semiconductor chip is attached was smaller than that of Comparative Example 1. Therefore, according to the adhesive sheets according to Examples 1 and 2, when the adhesive sheet is spread in the expanding step to expand the distance between the semiconductor chips, the difference in the amount of elongation in the in-plane direction of the adhesive sheet is small, resulting in excellent expandability and enabling small variation in the distance between the semiconductor chips.

(粘着剤の染み出し抑制の評価方法)
幅方向両端部に硬化部を形成した幅300mmの粘着シートを巻き取ってロールを作製した。ロールを40℃で保管して3日経過後に、ロール端部に粘着剤の染み出しがあるか、目視あるいは顕微鏡で確認した。染み出し抑制の評価基準は、次のように設定した。本実施例においては、評価Aを合格と判定した。
・染み出し抑制の評価基準
評価A:ロール端部に外観変化なし
評価B:ロール端部に外観変化があり
(Method for evaluating suppression of adhesive bleeding)
A 300 mm wide pressure-sensitive adhesive sheet with hardened portions formed at both widthwise ends was wound up to prepare a roll. The roll was stored at 40° C. for 3 days, after which it was visually or microscopically confirmed whether the pressure-sensitive adhesive had seeped out from the roll ends. The evaluation criteria for the suppression of seepage were set as follows. In this example, evaluation A was judged to be acceptable.
Evaluation criteria for exudation suppression Evaluation A: No change in appearance at the roll end Evaluation B: Change in appearance at the roll end

(ばらつきの評価方法)
実施例及び比較例で作製した粘着シートを210mm×210mmのサイズに切断して、試験用粘着シートを得た。このとき、裁断後のシートの各辺が、粘着シートにおける基材のMD方向と平行または垂直となるように裁断した。
シリコンウエハをダイシングして、3mm×3mmのサイズのチップがX軸方向に7列、及びY軸方向に7列となるように、計49個のチップを切り出した。
試験用粘着シートの剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層の中心部に、上述の通り切り出した計49個のチップを貼付した。このとき、チップがX軸方向に7列、及びY軸方向に7列で並んでおり、チップ間の距離は、X軸方向およびY軸方向ともに35μmだった。
(Method of evaluating variability)
The pressure-sensitive adhesive sheets prepared in the Examples and Comparative Examples were cut to a size of 210 mm x 210 mm to obtain test pressure-sensitive adhesive sheets, with each side of the cut sheet being parallel or perpendicular to the MD direction of the substrate in the pressure-sensitive adhesive sheet.
The silicon wafer was diced to cut out a total of 49 chips, each measuring 3 mm×3 mm, in seven rows in the X-axis direction and seven rows in the Y-axis direction.
The release film of the test adhesive sheet was peeled off, and a total of 49 chips cut out as described above were attached to the center of the exposed adhesive layer. At this time, the chips were arranged in 7 rows in the X-axis direction and 7 rows in the Y-axis direction, and the distance between the chips was 35 μm in both the X-axis direction and the Y-axis direction.

次に、チップが貼付された試験用粘着シートを、2軸延伸可能なエキスパンド装置(離間装置)に設置した。図7には、当該エキスパンド装置100を説明する平面図が示される。図7中、X軸及びY軸は、互いに直交する関係にあり、当該X軸の正の方向を+X軸方向、当該X軸の負の方向を-X軸方向、当該Y軸の正の方向を+Y軸方向、当該Y軸の負の方向を-Y軸方向とする。試験用粘着シート200は、各辺がX軸またはY軸と平行となるように、エキスパンド装置100に設置した。その結果、試験用粘着シート200における基材のMD方向は、X軸またはY軸と平行となる。なお、図7中、チップは省略されている。Next, the test adhesive sheet with the chips attached was placed in a biaxially stretchable expanding device (spacing device). FIG. 7 shows a plan view of the expanding device 100. In FIG. 7, the X-axis and the Y-axis are perpendicular to each other, with the positive direction of the X-axis being the +X-axis direction, the negative direction of the X-axis being the -X-axis direction, the positive direction of the Y-axis being the +Y-axis direction, and the negative direction of the Y-axis being the -Y-axis direction. The test adhesive sheet 200 was placed in the expanding device 100 so that each side was parallel to the X-axis or Y-axis. As a result, the MD direction of the substrate in the test adhesive sheet 200 was parallel to the X-axis or Y-axis. Note that the chips are omitted in FIG. 7.

図7に示されるように、エキスパンド装置100は、+X軸方向、-X軸方向、+Y軸方向及び-Y軸方向のそれぞれに5つの保持手段101(計20個の保持手段101)を備える。各方向における5つの保持手段101のうち、保持手段101Aは、両端に位置し、保持手段101Cは、中央に位置し、保持手段101Bは、保持手段101Aと保持手段101Cとの間に位置する。試験用粘着シート200の各辺を、これらの保持手段101によって把持させた。7, the expanding device 100 has five holding means 101 in each of the +X-axis direction, -X-axis direction, +Y-axis direction, and -Y-axis direction (a total of 20 holding means 101). Of the five holding means 101 in each direction, holding means 101A are located at both ends, holding means 101C is located in the center, and holding means 101B is located between holding means 101A and holding means 101C. Each side of the test adhesive sheet 200 was gripped by these holding means 101.

ここで、図7に示されるように、試験用粘着シート200の一辺は210mmである。また、各辺における保持手段101同士の間隔は40mmである。また、試験用粘着シート200の一辺における端部(シートの頂点)と、当該辺に存在し、当該端部に最も近い保持手段101Aとの間隔は25mmである。 As shown in Figure 7, one side of the test adhesive sheet 200 is 210 mm. The distance between the holding means 101 on each side is 40 mm. The distance between the end of one side of the test adhesive sheet 200 (the apex of the sheet) and the holding means 101A on that side that is closest to that end is 25 mm.

・第1エキスパンド試験
続いて、保持手段101のそれぞれに対応する、図示されていない複数の張力付与手段を駆動させて、保持手段101をそれぞれ独立に移動させた。試験用粘着シートの四辺をつかみ治具で固定し、X軸方向、及びY軸方向にそれぞれ5mm/sの速度で、200mmの拡張量で試験用粘着シートをエキスパンドした。第1エキスパンド試験の結果、試験用粘着シートの面積は、エキスパンド前に対して381%に拡張された。本実施例においては、この拡張量200mmのエキスパンド試験を、第1エキスパンド試験と称する場合がある。実施例5及び実施例6の粘着シートは、拡張できなかった。
First expansion test Next, a plurality of tension applying means (not shown) corresponding to each of the holding means 101 were driven to move the holding means 101 independently. The four sides of the test adhesive sheet were fixed with a gripping jig, and the test adhesive sheet was expanded by an expansion amount of 200 mm at a speed of 5 mm/s in the X-axis direction and the Y-axis direction. As a result of the first expansion test, the area of the test adhesive sheet was expanded to 381% of that before expansion. In this embodiment, this expansion test with an expansion amount of 200 mm may be referred to as the first expansion test. The adhesive sheets of Examples 5 and 6 could not be expanded.

第1エキスパンド試験によって試験用粘着シートを拡張した後、リングフレームにより試験用粘着シート200の拡張状態を保持した。
拡張状態を保持した状態で、チップ同士の位置関係に基づいて標準偏差を算出することにより、ばらつきを評価した。試験用粘着シート上のチップの位置は、CNC画像測定機(株式会社ミツトヨ製、製品名「Vision ACCEL」)を用いて測定した。標準偏差は、JMP社製のデータ分析ソフトウェアJMP13を用いて算出した。ばらつきの評価基準は、次のように設定した。本実施例においては、評価A又は評価Bを合格と判定した。
・ばらつきの評価基準
評価A:標準偏差が100μm以下であった。
評価B:標準偏差が200μm以下であった。
評価C:標準偏差が201μm以上であった。
After the test pressure-sensitive adhesive sheet was expanded by the first expansion test, the expanded state of the test pressure-sensitive adhesive sheet 200 was maintained by a ring frame.
The standard deviation was calculated based on the positional relationship between the chips while maintaining the expanded state, and the variation was evaluated. The position of the chip on the test adhesive sheet was measured using a CNC image measuring device (manufactured by Mitutoyo Corporation, product name "Vision ACCEL"). The standard deviation was calculated using data analysis software JMP13 manufactured by JMP. The evaluation criteria for the variation were set as follows. In this embodiment, evaluation A or evaluation B was judged to be acceptable.
Evaluation Criteria for Variation Evaluation A: The standard deviation was 100 μm or less.
Evaluation B: The standard deviation was 200 μm or less.
Evaluation C: The standard deviation was 201 μm or more.

(伸度100%時の粘着剤浮きの評価方法)
エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部を含むように、粘着シートの長尺方向に沿って長さ150mm、幅25mmのサイズに切り出した第三の試験片を作製した。当該第三の試験片を、引張試験機の一対のチャックで把持した。引張試験機としては、株式会社島津製作所製のオートグラフAG-ISを用いた。第三の試験片を把持したチャック間距離を100mmとした。速度5mm/secで、チャック間距離が200mmになるまで伸長させた際に、粘着剤層の硬化部が基材との界面で剥がれて、浮きが発生しているか目視で確認した。伸度100%時の粘着剤浮きの評価基準は、次のように設定した。本実施例においては、評価Aを合格と判定した。
・伸度100%時の粘着剤浮きの評価基準
評価A:伸度100%時に粘着剤層の硬化部の浮きが発生しなかった
評価B:伸度100%時に粘着剤層の硬化部の浮きが1箇所以上発生した
(Method for evaluating adhesive lifting at 100% elongation)
A third test piece was prepared by cutting out the adhesive sheet in a length direction of 150 mm and a width of 25 mm so as to include a cured portion where the energy ray curable resin was cured. The third test piece was held by a pair of chucks of a tensile tester. The tensile tester used was an Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation. The distance between the chucks holding the third test piece was set to 100 mm. When the sheet was stretched at a speed of 5 mm/sec until the distance between the chucks reached 200 mm, it was visually confirmed whether the cured portion of the adhesive layer peeled off at the interface with the substrate and whether lifting occurred. The evaluation criteria for adhesive lifting at an elongation of 100% were set as follows. In this example, evaluation A was judged to be acceptable.
Evaluation criteria for adhesive lifting at 100% elongation: Evaluation A: No lifting occurred in the cured portion of the adhesive layer at 100% elongation. Evaluation B: Lifting occurred in one or more places in the cured portion of the adhesive layer at 100% elongation.

(面積拡張性の評価方法)
前述の第1エキスパンド試験の際に、粘着剤層の硬化部が基材との界面で剥がれて、浮きが発生しているか目視で確認した。面積拡張性の評価基準は、次のように設定した。本実施例においては、評価Aを合格と判定した。実施例5及び実施例6の粘着シートは、拡張できなかったため、評価できなかった。
・面積拡張性の評価基準
評価A:第1エキスパンド試験の際に粘着剤層の硬化部の浮きが発生しなかった。
評価B:第1エキスパンド試験の際に粘着剤層の硬化部の浮きが1箇所以上発生した。
(Evaluation method for area expandability)
During the first expand test described above, it was visually confirmed whether the cured portion of the adhesive layer peeled off at the interface with the substrate, causing lifting. The evaluation criteria for area expandability were set as follows. In this example, evaluation A was judged to be acceptable. The adhesive sheets of Examples 5 and 6 could not be evaluated because they could not be expanded.
Evaluation criteria for area expandability Evaluation A: No lifting of the cured portion of the pressure-sensitive adhesive layer occurred during the first expand test.
Evaluation B: During the first expanding test, lifting occurred in one or more locations in the cured portion of the pressure-sensitive adhesive layer.

Figure 0007541019000002
Figure 0007541019000002

実施例2~6に係る粘着シートは、幅方向両端部に硬化部を有していたため、粘着剤の染み出しを抑制できた。また、実施例2及び実施例3に係る粘着シートにおいては、伸度100%時及び第1エキスパンド試験の際の粘着剤の浮きが発生しなかった。実施例2及び実施例3に係る粘着シートの硬化部は、出力が40%~50%程度のUV照射によって形成されており、当該硬化部の硬化度が適切に制御されていたためと考えられる。The adhesive sheets of Examples 2 to 6 had hardened areas at both ends in the width direction, which prevented the adhesive from seeping out. Furthermore, in the adhesive sheets of Examples 2 and 3, no lifting of the adhesive occurred at 100% elongation or during the first expand test. This is thought to be because the hardened areas of the adhesive sheets of Examples 2 and 3 were formed by UV irradiation with an output of approximately 40% to 50%, and the degree of hardening of the hardened areas was appropriately controlled.

1…粘着シート、10…基材、20… 粘着剤層、CP1…第一の半導体チップ、CP2…第二の半導体チップ。 1...adhesive sheet, 10...substrate, 20...adhesive layer, CP1...first semiconductor chip, CP2...second semiconductor chip.

Claims (9)

粘着シートであって、
基材と、粘着剤層と、を有し、
前記基材は、熱可塑性エラストマー、またはゴム系材料を含有し、
前記粘着剤層は、エネルギー線硬化性樹脂を含有し、
前記粘着剤層は、エネルギー線で前記粘着剤層の幅方向両端部における前記エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部と、前記エネルギー線で前記エネルギー線硬化性樹脂が硬化されていない未硬化部と、を有し、
前記未硬化部に対応する領域の前記粘着シートから幅25mmの第一の試験片を作製して、前記第一の試験片の長手方向のそれぞれの両端における前記基材及び前記粘着剤層の前記未硬化部を掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の引張強度FA1と、
縦寸法が45mmであり、横寸法が35mmであり、厚さ寸法が0.625mmである第一の半導体チップ及び第二の半導体チップを前記第一の半導体チップ及び第二の半導体チップの縦寸法が45mmである辺を、前記第一の試験片の長手方向に沿わせ、前記第一の半導体チップと前記第二の半導体チップとの間隔を35μmとして、前記第一の試験片の長手方向の一端側の前記未硬化部の粘着剤層に前記第一の半導体チップを貼着し、前記第一の試験片の長手方向の他端側の前記未硬化部の粘着剤層に前記第二の半導体チップを貼着して第二の試験片を作製して、前記第二の試験片の長手方向のそれぞれの両端における前記基材、前記未硬化部の粘着剤層及び前記半導体チップを掴み具で把持して引張試験機による0.5mm引張り時の引張強度FB1と、が、下記数式(数1A)の関係を満た
半導体装置の製造工程中、複数の半導体チップ同士の間隔を拡張するためのエキスパンド工程に使用される、
粘着シート。
B1/FA1≦30 …(数1A)
An adhesive sheet,
The adhesive layer includes a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer.
The substrate contains a thermoplastic elastomer or a rubber-based material,
The pressure-sensitive adhesive layer contains an energy ray-curable resin,
the pressure -sensitive adhesive layer has a cured portion at both ends in a width direction of the pressure-sensitive adhesive layer where the energy ray curable resin is cured by energy rays, and an uncured portion at which the energy ray curable resin is not cured by the energy rays,
A first test piece having a width of 25 mm was prepared from the pressure-sensitive adhesive sheet in a region corresponding to the uncured portion, and the uncured portions of the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer at both ends of the first test piece in the longitudinal direction were gripped with grippers to measure the tensile strength F A1 when pulled 0.5 mm by a tensile tester;
A first semiconductor chip and a second semiconductor chip having a vertical dimension of 45 mm, a horizontal dimension of 35 mm, and a thickness dimension of 0.625 mm are aligned with the side of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip having a vertical dimension of 45 mm along the longitudinal direction of the first test piece, and a distance between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip is set to 35 μm. The first semiconductor chip is attached to the adhesive layer of the uncured portion at one end side of the longitudinal direction of the first test piece, and the second semiconductor chip is attached to the adhesive layer of the uncured portion at the other end side of the longitudinal direction of the first test piece to prepare a second test piece. The substrate, the adhesive layer of the uncured portion, and the semiconductor chip at each end in the longitudinal direction of the second test piece are held with a gripper, and the tensile strength F B1 when pulled 0.5 mm by a tensile tester satisfies the relationship of the following mathematical formula (Math 1A),
During the manufacturing process of a semiconductor device, the device is used in an expanding process for expanding the space between multiple semiconductor chips.
Adhesive sheet.
F B1 /F A1 ≦30...(Math 1A)
前記エネルギー線硬化性樹脂が硬化された硬化部を含むように、前記粘着シートの長尺方向に沿って長さ150mm、幅25mmのサイズに切り出した第三の試験片を作製し、当該第三の試験片をチャック間距離を100mmとして一対のチャックで把持し、速度5mm/secで、チャック間距離が200mmになるまで伸長させた際、前記硬化部と前記基材との界面に浮きが発生しない、
請求項1に記載の粘着シート。
a third test piece is prepared by cutting the adhesive sheet along the longitudinal direction to a size of 150 mm in length and 25 mm in width so as to include a cured portion in which the energy ray curable resin is cured; the third test piece is held by a pair of chucks with a chuck distance of 100 mm and extended at a speed of 5 mm/sec until the chuck distance becomes 200 mm; and no lift occurs at the interface between the cured portion and the substrate.
The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1 .
請求項1又は請求項2に記載の粘着シートにおいて、
前記粘着シートを、第一方向、前記第一方向とは反対方向である第二方向、前記第一方向に対して垂直方向である第三方向、及び前記第三方向とは反対方向である第四方向に伸長させて、伸長前の前記粘着シートの面積S1と、伸長後の前記粘着シートの面積S2との面積比(S2/S1)×100が381%であるときに、前記粘着剤層の前記硬化部が前記基材との界面で剥がれない、
粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1 or 2,
the pressure-sensitive adhesive sheet is stretched in a first direction, a second direction opposite to the first direction, a third direction perpendicular to the first direction, and a fourth direction opposite to the third direction; and when an area ratio (S2/S1)×100 of an area S1 of the pressure-sensitive adhesive sheet before stretching to an area S2 of the pressure-sensitive adhesive sheet after stretching is 381%, the cured portion of the pressure-sensitive adhesive layer does not peel off at the interface with the substrate.
Adhesive sheet.
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の粘着シートにおいて、
前記引張強度FA1と、前記引張強度FB1と、が、下記数式(数1B)の関係を満たす、
粘着シート。
1≦FB1/FA1≦30 …(数1B)
The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 3,
The tensile strength F A1 and the tensile strength F B1 satisfy the relationship of the following formula (Mathematical formula 1B):
Adhesive sheet.
1≦F B1 /F A1 ≦30…(Math 1B)
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の粘着シートにおいて、
前記第一の試験片のヤング率YA1と、前記第二の試験片のヤング率YB1と、が、下記数式(数2A)の関係を満たす、
粘着シート。
B1/YA1≦19 …(数2A)
The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 4,
The Young's modulus Y A1 of the first test piece and the Young's modulus Y B1 of the second test piece satisfy the relationship of the following mathematical formula (Mathematical Formula 2A):
Adhesive sheet.
Y B1 /Y A1 ≦19...(Math. 2A)
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の粘着シートにおいて、
前記粘着剤層は、アクリル系粘着剤を含有する、
粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 5,
The pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic pressure-sensitive adhesive.
Adhesive sheet.
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の粘着シートにおいて、
前記基材は、ウレタン系エラストマーを含有する、
粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 6,
The substrate contains a urethane-based elastomer.
Adhesive sheet.
請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の粘着シートにおいて、
前記粘着剤層は、前記エネルギー線硬化性樹脂と、前記エネルギー線硬化性樹脂とは異なるエネルギー線硬化性の(メタ)アクリル系共重合体とを含有する、
粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 7,
The pressure-sensitive adhesive layer contains the energy ray-curable resin and an energy ray-curable (meth)acrylic copolymer different from the energy ray-curable resin.
Adhesive sheet.
請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の粘着シートにおいて、
前記粘着シートは、長尺状であり、ロール状に巻き取られている、
粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 8,
The pressure-sensitive adhesive sheet is long and wound into a roll.
Adhesive sheet.
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