JP7495824B2 - 有機シラノール化合物の製造方法 - Google Patents
有機シラノール化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7495824B2 JP7495824B2 JP2020104810A JP2020104810A JP7495824B2 JP 7495824 B2 JP7495824 B2 JP 7495824B2 JP 2020104810 A JP2020104810 A JP 2020104810A JP 2020104810 A JP2020104810 A JP 2020104810A JP 7495824 B2 JP7495824 B2 JP 7495824B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- general formula
- formula
- dehydrating agent
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 title description 6
- -1 silyl compound Chemical class 0.000 claims description 58
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 25
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- OVRKATYHWPCGPZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyloxane Chemical compound CC1CCOCC1 OVRKATYHWPCGPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 14
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims description 12
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 8
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 7
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims description 4
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000012245 magnesium oxide Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- FOBPTJZYDGNHLR-UHFFFAOYSA-N diphosphorus Chemical compound P#P FOBPTJZYDGNHLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 97
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- HSNUIYJWTSJUMS-UHFFFAOYSA-N sodium;trimethyl(oxido)silane Chemical compound [Na+].C[Si](C)(C)[O-] HSNUIYJWTSJUMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 11
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- LBKJNHPKYFYCLL-UHFFFAOYSA-N potassium;trimethyl(oxido)silane Chemical compound [K+].C[Si](C)(C)[O-] LBKJNHPKYFYCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- UBGXLEFOIVWVRP-UHFFFAOYSA-N fluoro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(F)C1=CC=CC=C1 UBGXLEFOIVWVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- RTXDMWNDEUYXPG-UHFFFAOYSA-N sodium;oxido(triphenyl)silane Chemical compound [Na+].C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)([O-])C1=CC=CC=C1 RTXDMWNDEUYXPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- KQIADDMXRMTWHZ-UHFFFAOYSA-N chloro-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](Cl)(C(C)C)C(C)C KQIADDMXRMTWHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)F CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- QVMRVWAOMIXFFW-UHFFFAOYSA-N triethyl(fluoro)silane Chemical compound CC[Si](F)(CC)CC QVMRVWAOMIXFFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVZTVZJLMIHPEY-UHFFFAOYSA-N triphenyl(triphenylsilyloxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)O[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IVZTVZJLMIHPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- OMOVVBIIQSXZSZ-UHFFFAOYSA-N [6-(4-acetyloxy-5,9a-dimethyl-2,7-dioxo-4,5a,6,9-tetrahydro-3h-pyrano[3,4-b]oxepin-5-yl)-5-formyloxy-3-(furan-3-yl)-3a-methyl-7-methylidene-1a,2,3,4,5,6-hexahydroindeno[1,7a-b]oxiren-4-yl] 2-hydroxy-3-methylpentanoate Chemical compound CC12C(OC(=O)C(O)C(C)CC)C(OC=O)C(C3(C)C(CC(=O)OC4(C)COC(=O)CC43)OC(C)=O)C(=C)C32OC3CC1C=1C=COC=1 OMOVVBIIQSXZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CC DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDQTZCVWLBTXKP-UHFFFAOYSA-N fluoro-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](F)(C(C)C)C(C)C QDQTZCVWLBTXKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKXVGDZNDSIUAI-UHFFFAOYSA-N methoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OC)C1=CC=CC=C1 BKXVGDZNDSIUAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKFVVAUPACHDIG-UHFFFAOYSA-N methoxy-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](C(C)C)(C(C)C)C(C)C YKFVVAUPACHDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000003375 sulfoxide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- BXYXWBBROYOLIG-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C(C)(C)C BXYXWBBROYOLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGIOBUFWMVEWCO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-fluoro-dimethylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)F XGIOBUFWMVEWCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFYMKQYUPMRFA-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)C(C)(C)C SYFYMKQYUPMRFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- LGSAOJLQTXCYHF-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)-tri(propan-2-yl)silyloxysilane Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)O[Si](C(C)C)(C(C)C)C(C)C LGSAOJLQTXCYHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silicon Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)C(C)C ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Chemical group 0.000 description 1
Description
本発明は、有機シラノール化合物の製造方法に関する。より詳細には、水素の発生を抑えつつ、有機シラノール化合物を収率よく、製造する方法に関するものである。
有機シラノールの金属塩（本明細書において、「有機シラノール化合物」という。）は従来、対応するシラノールと、金属単体または金属の水酸化物との反応により合成されてきた（例えば、非特許文献１）。しかしながら、この方法は、原料のシラノールが一般的に不安定でありあることから、比較的高価であり、有機シラノール化合物を製造するコストを高くする傾向にあった。また、金属単体を用いる場合、水素を発生することがあり、改善の余地があった。
比較的安定で安価なジシロキサン化合物と、金属の水酸化物とを原料とする有機シラノール化合物の合成方法が報告されている（例えば、非特許文献２）。しかしながら、該方法は、下記に示す平衡反応であるため、目的物である有機シラノール化合物の収率が低い傾向にあった。
比較的安定で安価なジシロキサン化合物と、金属の水酸化物とを原料とする有機シラノール化合物の製造方法において、脱水剤として水素化ナトリウムを添加する方法が開示されている（特許文献１）。この方法は、水素化ナトリウムにより、副生する水を除去し、平衡を有機シラノール化合物が生成する側に偏らせ、収率よく有機シラノール化合物を製造する方法と推察される。しかしながら、該方法では、水素化ナトリウムと水が反応し、水素を発生することがあり、改善の余地があった。
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ６８巻（１９４６年）２２８２－２２８４貢
Ｃｒｏａｔｉｃａ Ｃｈｅｍｉｃａ Ａｃｔａ ８０巻（２００７年）１０９－１１５貢
本発明は、上記事情を鑑みなされたものであり、水素の発生を抑え、収率が高い有機シラノール化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、シリル化合物と金属水酸化物を反応させ、特定の脱水剤を利用して副生する水を除去し、有機シラノール化合物を製造する方法は、水素の発生を抑え、収率が高いことを見出し、本発明をなすに至った。
即ち、本発明は以下のとおりである。
［１］
下記一般式（１）：
（式（１）中、Ｒ1～Ｒ3は各々独立に置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基であり、Ｒ4は－ＯＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7（Ｒ5～Ｒ7は各々独立に置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、－ＯＲ8（Ｒ8は置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、またはＸ（Ｘはハロゲン原子である。）
で表されるシリル化合物と、
下記一般式（２）：
（式（２）中、Ｍはアルカリ金属、またはアルカリ土類金属であり、ｎは、Ｍがアルカリ金属の場合は１、アルカリ土類金属の場合は２である。）
で表される金属水酸化物との反応において、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、およびモレキュラーシーブからなる群より選ばれる少なくとも１種の脱水剤を用いることを特徴とする、
下記一般式（３）：
（式（３）中、Ｒ1～Ｒ3は一般式（１）のＲ1～Ｒ3であり、Ｍ、ｎは一般式（２）のＭ、ｎである。）
で表される有機シラノール化合物の製造方法。
［２］
一般式（２）において、Ｍがアルカリ金属である、［１］に記載の製造方法。
［３］
１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、および４－メチルテトラヒドロピランからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒を利用する、［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］
一般式（１）で表される前記シリル化合物、一般式（２）で表される前記金属水酸化物、および前記脱水剤を含む混合物中で、一般式（１）で表される前記シリル化合物と一般式（２）で表される前記金属水酸化物とを反応させる、［１］～［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］
Ａ）一般式（１）で表される前記シリル化合物、および一般式（２）で表される前記金属水酸化物を含む混合物中で、一般式（１）で表される前記シリル化合物と一般式（２）で表される前記金属水酸化物とを反応させる工程Ａと、
Ｂ）前記工程Ａにおいて蒸発した、水を含む物質を液化させる工程Ｂと、
Ｃ）前記工程Ｂにおいて、液化した水を含む物質と脱水剤とを接触させる工程Ｃと、
Ｄ）前記工程Ｃにおいて、液化し、脱水剤と接触させた物質を、前記工程Ａに再利用する工程Ｄと、
を含む、［１］～［３］のいずれかに記載の製造方法。
［１］
下記一般式（１）：
で表されるシリル化合物と、
下記一般式（２）：
で表される金属水酸化物との反応において、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、およびモレキュラーシーブからなる群より選ばれる少なくとも１種の脱水剤を用いることを特徴とする、
下記一般式（３）：
で表される有機シラノール化合物の製造方法。
［２］
一般式（２）において、Ｍがアルカリ金属である、［１］に記載の製造方法。
［３］
１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、および４－メチルテトラヒドロピランからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒を利用する、［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］
一般式（１）で表される前記シリル化合物、一般式（２）で表される前記金属水酸化物、および前記脱水剤を含む混合物中で、一般式（１）で表される前記シリル化合物と一般式（２）で表される前記金属水酸化物とを反応させる、［１］～［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］
Ａ）一般式（１）で表される前記シリル化合物、および一般式（２）で表される前記金属水酸化物を含む混合物中で、一般式（１）で表される前記シリル化合物と一般式（２）で表される前記金属水酸化物とを反応させる工程Ａと、
Ｂ）前記工程Ａにおいて蒸発した、水を含む物質を液化させる工程Ｂと、
Ｃ）前記工程Ｂにおいて、液化した水を含む物質と脱水剤とを接触させる工程Ｃと、
Ｄ）前記工程Ｃにおいて、液化し、脱水剤と接触させた物質を、前記工程Ａに再利用する工程Ｄと、
を含む、［１］～［３］のいずれかに記載の製造方法。
本発明によれば、有機シラノール化合物を、水素の発生を抑えて、収率が高く製造することができる。
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の本実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本実施形態に係る製造方法は、下記一般式（１）：
（式（１）中、Ｒ1～Ｒ3は各々独立に置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基であり、Ｒ4は－ＯＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7（Ｒ5～Ｒ7は各々独立に置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、－ＯＲ8（Ｒ8は置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、またはＸ（Ｘはハロゲン原子である。）、
で表されるシリル化合物と、
下記一般式（２）：
（式（２）中、Ｍはアルカリ金属、またはアルカリ土類金属であり、ｎは、Ｍがアルカリ金属の場合は１、アルカリ土類金属の場合は２である。）
で表される金属水酸化物との反応において、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、およびモレキュラーシーブからなる群より選ばれる少なくとも１種の脱水剤を利用することを特徴とする、
下記一般式（３）：
（式（３）中、Ｒ1～Ｒ3は上記一般式（１）と同じＲ1～Ｒ3であり、Ｍ、ｎは上記一般式（２）と同じＭ、ｎである。）
で表される有機シラノール化合物の製造方法。
で表されるシリル化合物と、
下記一般式（２）：
で表される金属水酸化物との反応において、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、およびモレキュラーシーブからなる群より選ばれる少なくとも１種の脱水剤を利用することを特徴とする、
下記一般式（３）：
で表される有機シラノール化合物の製造方法。
本明細書において、上記一般式（１）で表されるシリル化合物を「化合物（１）」、上記一般式（２）で表される金属水酸化物を「化合物（２）」、上記一般式（３）で表される有機シラノール化合物を「化合物（３）」と称する場合がある。
以下、シリル化合物、金属水酸化物、有機シラノール化合物およびその他の成分の詳細について説明する
＜シリル化合物（化合物（１））＞
化合物（１）において、Ｒ1～Ｒ3は各々独立に置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基であり、Ｒ4は－ＯＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7（Ｒ5～Ｒ7は各々独立に置換されていても良い炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、－ＯＲ8（Ｒ8は置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、またはＸ（Ｘはハロゲン原子である。）である。
化合物（１）において、Ｒ1～Ｒ3は各々独立に置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基であり、Ｒ4は－ＯＳｉＲ5Ｒ6Ｒ7（Ｒ5～Ｒ7は各々独立に置換されていても良い炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、－ＯＲ8（Ｒ8は置換されていてもよい炭素数１～１０個の炭化水素基である。）、またはＸ（Ｘはハロゲン原子である。）である。
Ｒ1～Ｒ3、Ｒ5～Ｒ8について「置換されていてもよい炭化水素基」とは、例えば、脂肪族炭化水素基、フェニル基等の芳香族炭化水素基、または炭化水素基中の水素原子がフッ素原子に置換されたトリフルオロメチル基等のフッ素置換炭化水素基等が挙げられる。
上記炭化水素基は、必要に応じて、官能基を有していてもよい。
このような官能基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトリル基（－ＣＮ）、エーテル基（－Ｏ－）、カーボネート基（－ＯＣＯ2－）、エステル基（－ＣＯ2－）、カルボニル基（－ＣＯ－）、スルフィド基（－Ｓ－）、スルホキシド基（－ＳＯ－）、スルホニル基（－ＳＯ2－）、およびウレタン基（－ＮＨＣＯ2－）等が挙げられる。
上記炭化水素基は、必要に応じて、官能基を有していてもよい。
このような官能基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトリル基（－ＣＮ）、エーテル基（－Ｏ－）、カーボネート基（－ＯＣＯ2－）、エステル基（－ＣＯ2－）、カルボニル基（－ＣＯ－）、スルフィド基（－Ｓ－）、スルホキシド基（－ＳＯ－）、スルホニル基（－ＳＯ2－）、およびウレタン基（－ＮＨＣＯ2－）等が挙げられる。
Ｒ1～Ｒ3、Ｒ5～Ｒ8の炭素数は１～１０個が好ましい。化合物（１）の入手が容易であり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、炭素数１～８個がより好ましい。化合物（１）と、化合物（２）との反応性がより高くなり、反応時間が短くなる傾向にあることから、炭素数１～６個がさらに好ましい。
Ｒ1～Ｒ3、Ｒ5～Ｒ8を具体的に例示するならば、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、１－メチルビニル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、およびフルオロメチル基等の脂肪族炭化水素基、ベンジル基、フェニル基、ニトリル置換フェニル基、およびフルオロ化フェニル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。入手が容易であり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基、およびフェニル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、およびフェニル基が特に好ましい。
Ｘは、ハロゲン原子であれば特に限定されないが、入手が容易となり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、フッ素原子、および塩素原子が好ましい。目的物である化合物（３）に含まれるハロゲン原子の量を低減でき、より高い純度の有機シラノール化合物を得られる傾向にあることから、フッ素原子がさらに好ましい。
化合物（１）を具体的に例示するならば、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサイソプロピルジシロキサン、１，２－ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）１，１，２，２－テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、メトキシトリメチルシラン、メトキシトリエチルシラン、メトキシトリイソプロピルシラン、メトキシ（ｔｅｒｔ－ブチル）ジメチルシラン、メトキシトリフェニルシラン、エトキシトリメチルシラン、エトキシトリエチルシラン、エトキシトリイソプロピルシラン、エトキシ（ｔｅｒｔ－ブチル）ジメチルシラン、エトキシトリフェニルシラン、トリメチルシリルフルオリド、トリエチルシリルフルオリド、トリイソプロピルシリルフルオリド、（ｔｅｒｔ－ブチル）ジメチルシリルフルオリド、トリフェニルシリルフルオリド、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド、（ｔｅｒｔ－ブチル）ジメチルシリルクロリド、およびトリフェニルシリルクロリド等が挙げられる。
上記の中でも、入手が容易であり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、トリメチルシリルフルオリド、トリエチルシリルフルオリド、トリフェニルシリルフルオリド、トリメチルシリルクロリド、およびトリエチルシリルクロリドがより好ましい。同様の観点から、ヘキサメチルジシロキサン、メトキシトリメチルシラン、およびトリフェニルシリルフルオリドがさらに好ましい。
化合物（１）は、単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
上記の中でも、入手が容易であり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、トリメチルシリルフルオリド、トリエチルシリルフルオリド、トリフェニルシリルフルオリド、トリメチルシリルクロリド、およびトリエチルシリルクロリドがより好ましい。同様の観点から、ヘキサメチルジシロキサン、メトキシトリメチルシラン、およびトリフェニルシリルフルオリドがさらに好ましい。
化合物（１）は、単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
＜金属水酸化物（化合物（２））＞
金属水酸化物を示す一般式（２）において、Ｍはアルカリ金属、またはアルカリ土類金属である。化合物（１）との反応性がより高くなり、反応時間がより短くなる傾向にあることから、アルカリ金属がより好ましい。アルカリ金属としては特に限定されないが、入手が容易であり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、リチウム、ナトリウム、およびカリウムが好ましい。化合物（３）の収率がより高くなる傾向にあることから、ナトリウム、カリウムがさらに好ましい。
化合物（２）は、単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
金属水酸化物を示す一般式（２）において、Ｍはアルカリ金属、またはアルカリ土類金属である。化合物（１）との反応性がより高くなり、反応時間がより短くなる傾向にあることから、アルカリ金属がより好ましい。アルカリ金属としては特に限定されないが、入手が容易であり、製造コストをより抑制でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、リチウム、ナトリウム、およびカリウムが好ましい。化合物（３）の収率がより高くなる傾向にあることから、ナトリウム、カリウムがさらに好ましい。
化合物（２）は、単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
＜有機シラノール化合物（化合物（３））の製造＞
化合物（１）と化合物（２）とを反応させることにより、化合物（３）を得ることができる。
化合物（１）と化合物（２）とを反応させることにより、化合物（３）が得られる詳細な理由は明らかではないが、下記に示すように化合物（１）と化合物（２）が反応することでシラノール（Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＯＨ）を形成し、シラノールと化合物（２）とが反応することで、下記式（３）で表される化合物と水とが生成すると推察される。
化合物（１）と化合物（２）とを反応させることにより、化合物（３）を得ることができる。
化合物（１）と化合物（２）とを反応させることにより、化合物（３）が得られる詳細な理由は明らかではないが、下記に示すように化合物（１）と化合物（２）が反応することでシラノール（Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＯＨ）を形成し、シラノールと化合物（２）とが反応することで、下記式（３）で表される化合物と水とが生成すると推察される。
上述したように、シラノール（Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＯＨ）と金属水酸化物との反応は平衡反応であるため、副生する水を脱水剤により除去することで、平衡を有機シラノール化合物が生成する側に偏らせ、有機シラノール化合物の収率をより高くできる傾向がある。
脱水剤は、一般的に使用されるものであれば特に限定されないが、化合物（１）と、化合物（２）との反応により発生する水を除去でき、且つ水素の発生を抑えつつ、化合物（３）を製造できるという観点から、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、およびモレキュラーシーブが好ましい。また、脱水能力が高く、効率的に脱水ができ、化合物（３）の収率が一層高まる傾向にあることから、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、およびモレキュラーシーブがより好ましい。
これらの脱水剤は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
これらの脱水剤は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
化合物（１）と化合物（２）との反応時、化合物（１）、化合物（２）、および脱水剤を含む混合物を用いても良い。本実施形態の製造方法において、化合物（１）、化合物（２）および上記脱水剤を含む混合物中で、化合物（１）と化合物（２）とを反応させることが好ましい。化合物（１）、化合物（２）、および脱水剤を含む混合物を使用することにより、化合物（１）と化合物（２）との反応により副生する水を除去し、化合物（３）を収率よく製造することができる。化合物（３）の収率がより高まる傾向にあることから、脱水剤は、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、および五酸化二リンが好ましく、酸化カルシウムがさらに好ましい。
化合物（１）と化合物（２）との反応時、化合物（１）、および化合物（２）を含む混合物を用い、蒸発した水を少なくとも含む物質を液化させ、液化した物質と脱水剤とを接触させ、化合物（１）と化合物（２）との反応に再利用しても良い。液化した水を少なくとも含む物質と脱水剤を接触させることにより、化合物（１）と化合物（２）との反応により副生する水を除去し、化合物（３）を収率よく製造することができる。本実施形態の製造方法は、
工程Ａ）化合物（１）、および化合物（２）を含む混合物中で、化合物（１）と化合物（２）とを反応させる工程Ａ、
工程Ｂ）上記工程Ａにおいて蒸発した水を含む物質Ｂを、液化させる工程Ｂ、
工程Ｃ）上記工程Ｂにおいて液化した水を含む物質Ｃと脱水剤とを、接触させる工程Ｃ、
工程Ｄ）上記工程Ｃにおいて液化し、脱水剤を接触させた物質Ｄを、上記工程Ａに再利用する工程Ｄ、
を含むことが好ましい。上記工程Ｄにおける再利用としては、上記物質Ｄを工程Ａの混合物中に添加することが挙げられる。
化合物（３）の収率がより優れる傾向にあり、脱水剤が簡便な操作で再生、再利用でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、脱水剤は活性アルミナ、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、およびモレキュラーシーブがより好ましい。同様の観点から、活性アルミナ、モレキュラーシーブがより好ましく、モレキュラーシーブさらに好ましい。
工程Ａ）化合物（１）、および化合物（２）を含む混合物中で、化合物（１）と化合物（２）とを反応させる工程Ａ、
工程Ｂ）上記工程Ａにおいて蒸発した水を含む物質Ｂを、液化させる工程Ｂ、
工程Ｃ）上記工程Ｂにおいて液化した水を含む物質Ｃと脱水剤とを、接触させる工程Ｃ、
工程Ｄ）上記工程Ｃにおいて液化し、脱水剤を接触させた物質Ｄを、上記工程Ａに再利用する工程Ｄ、
を含むことが好ましい。上記工程Ｄにおける再利用としては、上記物質Ｄを工程Ａの混合物中に添加することが挙げられる。
化合物（３）の収率がより優れる傾向にあり、脱水剤が簡便な操作で再生、再利用でき、経済性により優れる製造方法となる傾向にあることから、脱水剤は活性アルミナ、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、およびモレキュラーシーブがより好ましい。同様の観点から、活性アルミナ、モレキュラーシーブがより好ましく、モレキュラーシーブさらに好ましい。
脱水剤は乾燥ガス気流下で加熱することにより、再生、再利用することができる。例えば、活性アルミナは１８０℃、酸化カルシウムは１０００℃、酸化マグネシウムは８００℃、モレキュラーシーブは４００℃に加熱することでそれぞれ再生することができる。
化合物（１）と化合物（２）とのモル比は、化合物（３）の収率がより高まる傾向にあることから、１：０．５～１：１０であることが好ましい。同様の観点から、化合物（１）と化合物（２）とのモル比は、１：０．７５～１：５であることがより好ましく、収率が一層向上する観点から、さらに好ましくは１：２～１：３、特に好ましくは１：２．０５～１：３である
化合物（２）と脱水剤との質量比は、１：０．３～１：５が好ましい。化合物（２）と脱水剤との質量比が上記範囲内であると、化合物（３）をより収率よく製造することができる。質量比が１：０．３以上であると、水を効率的に除去できる傾向にある。質量比が１：５以下であると、脱水剤の利用効率が向上し、経済性により優れる傾向にある。同様の観点から、１：０．５～１：３であることがより好ましく、収率が一層向上する観点から、さらに好ましくは１：０．５～１：２．５、特に好ましくは１：０．５～１：１．３５である。
本実施形態の製造方法において、化合物（１）と化合物（２）との反応時には、溶媒を用いてもよい。
上記溶媒としては、反応時に不活性であり、一般的に使用されるものであれば特に限定されないが、具体例としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、および１，２－ジクロロベンゼン等の芳香族系溶媒、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、およびアニソール等のエーテル基含有溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、およびベンゾニトリル等のニトリル基含有溶媒、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、および２－ブタノール等の水酸基含有溶媒等が挙げられる。中でも、化合物（３）の収率が高まる傾向にあることから、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、およびアニソール等のエーテル基含有溶媒がより好ましい。同様の観点から、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、および４－メチルテトラヒドロピランがより好ましく、１，２－ジメトキシエタン、および４－メチルテトラヒドロピランがさらに好ましい。
これらの有機溶媒は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
上記溶媒としては、反応時に不活性であり、一般的に使用されるものであれば特に限定されないが、具体例としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、および１，２－ジクロロベンゼン等の芳香族系溶媒、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、およびアニソール等のエーテル基含有溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、およびベンゾニトリル等のニトリル基含有溶媒、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、および２－ブタノール等の水酸基含有溶媒等が挙げられる。中でも、化合物（３）の収率が高まる傾向にあることから、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、およびアニソール等のエーテル基含有溶媒がより好ましい。同様の観点から、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、および４－メチルテトラヒドロピランがより好ましく、１，２－ジメトキシエタン、および４－メチルテトラヒドロピランがさらに好ましい。
これらの有機溶媒は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いても良い。
化合物（２）と溶媒との質量比は１：１～１：１００であることが好ましく、より好ましくは１：２～１：５０である。化合物（２）と溶媒との質量比が１：２以上であると、化合物（１）と化合物（２）との反応により生成した化合物（３）の析出を抑制できる傾向にある。化合物（２）と溶媒との質量比が１：５０以下であると、化合物（３）の収率がより優れる傾向にある。同様の観点から、化合物（２）と溶媒との質量比は、１：３～１：３０であることがさらに好ましい。
化合物（１）と化合物（２）との反応温度は、通常用いられる範囲であれば特に限定されないが、４０℃～１６０℃であることが好ましく、より好ましくは６０℃～１３０℃である。温度が上記範囲内であると、化合物（３）を収率よく製造することができる。反応温度が６０℃以上であると、化合物（３）の収率が高まる傾向にある。１３０℃以下であると、化合物（１）、および化合物（３）の分解を抑制でき、化合物（３）を収率よく製造することができる。
反応温度は上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
反応温度は上記範囲であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。
化合物（１）と化合物（２）との反応時間は、通常用いられる範囲であれば特に限定されないが、１～１００時間が好ましく、５～５０時間がより好ましい。
混合撹拌時の圧力は、混合撹拌を行う温度によるが、通常用いられる範囲であれば特に限定されないが、１０ｋＰａ～５０００ｋＰａが好ましい。
反応雰囲気は、通常用いられる雰囲気であれば特に限定されないが、通常は大気雰囲気、窒素雰囲気、およびアルゴン雰囲気等が用いられる。これらの中でも、より安全に化合物（３）を製造できる傾向にあることから、窒素雰囲気、およびアルゴン雰囲気が好ましい。また、より経済性に優れる製造方法となる傾向にあることから、窒素雰囲気がさらに好ましい。
反応雰囲気は、単独で用いても良いし、複数種の反応雰囲気を組み合わせて用いても良い。
反応雰囲気は、単独で用いても良いし、複数種の反応雰囲気を組み合わせて用いても良い。
目的物である化合物（３）と、化合物（１）、化合物（２）、および脱水剤とを少なくとも含む反応生成物から、各々を分離除去する方法としては、一般的に用いられる分離除去方法であれば特に限定されず用いることができる。例えば、蒸留による揮発成分の分離除去、濾過による不溶固体の分離除去、再結晶による分離精製等が挙げられる。
これらの方法は、単独で用いても良いし、複数種の方法を組み合わせて用いても良い。
これらの方法は、単独で用いても良いし、複数種の方法を組み合わせて用いても良い。
例えば、溶媒を用いて化合物（３）を製造する場合における濾過による分離除去方法では、化合物（２）、および脱水剤を濾過により除去し、化合物（１）、化合物（３）、および溶媒の混合物を取得することができる。さらに、蒸留、再結晶等により、化合物（１）、化合物（３）、および溶媒を各々分離することができる。
以上のように、本発明は、有機シラノール化合物を安全に、収率が高く製造することができる。
以下に本実施形態を具体的に説明した実施例を例示する。本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
実施例および比較例において使用された分析方法は、以下の通りである。
核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）：1Ｈ－ＮＭＲ、19Ｆ－ＮＭＲによる分子構造解析
測定装置：ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ型核磁気共鳴装置（日本電子株式会社製）
溶媒：重クロロホルム
基準物質：テトラメチルシラン（０．００ｐｐｍ）
積算回数：８回
核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）：1Ｈ－ＮＭＲ、19Ｆ－ＮＭＲによる分子構造解析
測定装置：ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ型核磁気共鳴装置（日本電子株式会社製）
溶媒：重クロロホルム
基準物質：テトラメチルシラン（０．００ｐｐｍ）
積算回数：８回
＜反応温度＞
反応温度は、外部加熱冷却装置を用いず、室温である場合は、室温である。また、ウォーターバスやオイルバス等の外部加熱冷却装置を利用する場合には、外部加熱冷却装置に用いられている媒体の温度が反応温度である。
反応温度は、外部加熱冷却装置を用いず、室温である場合は、室温である。また、ウォーターバスやオイルバス等の外部加熱冷却装置を利用する場合には、外部加熱冷却装置に用いられている媒体の温度が反応温度である。
［実施例１］
還流冷却器を取り付けた２００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（１０．０ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（５０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（５．０ｇ、１２５．０ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（６．９ｇ、１２３．０ｍｍｏｌ）を加え、１２５℃で３０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラートを含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が８０．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。さらに、得られた溶液から未反応のヘキサメチルジシロキサンと、４－メチルテトラヒドロピランを減圧留去すると白色固体（１１．０ｇ）が得られた。得られた白色固体は1Ｈ－ＮＭＲより、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９８．０質量％（収率７８．０ｍｏｌ％）、４－メチルテトラヒドロピランが２．０質量％含まれていることが確認された。
ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）
1Ｈ－ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）０．２０（９Ｈ）
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
還流冷却器を取り付けた２００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（１０．０ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（５０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（５．０ｇ、１２５．０ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（６．９ｇ、１２３．０ｍｍｏｌ）を加え、１２５℃で３０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラートを含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が８０．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。さらに、得られた溶液から未反応のヘキサメチルジシロキサンと、４－メチルテトラヒドロピランを減圧留去すると白色固体（１１．０ｇ）が得られた。得られた白色固体は1Ｈ－ＮＭＲより、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９８．０質量％（収率７８．０ｍｏｌ％）、４－メチルテトラヒドロピランが２．０質量％含まれていることが確認された。
ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）
1Ｈ－ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）０．２０（９Ｈ）
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［実施例２］
還流冷却器を取り付けた２００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（１０．０ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）、１，２－ジメトキシエタン（５０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（５．０ｇ、１２５．０ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（６．９ｇ、１２３．０ｍｍｏｌ）を加え、８５℃で１０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する１，２－ジメトキシエタン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が７４．１ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
還流冷却器を取り付けた２００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（１０．０ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）、１，２－ジメトキシエタン（５０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（５．０ｇ、１２５．０ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（６．９ｇ、１２３．０ｍｍｏｌ）を加え、８５℃で１０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する１，２－ジメトキシエタン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が７４．１ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［実施例３］
還流冷却器を取り付けた２００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（１０．０ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（５０．０ｇ）、水酸化カリウム（１０．０ｇ、１７８．２ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（６．９ｇ、１２３．０ｍｍｏｌ）を加え１２０℃で７時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９９．５ｍｏｌ％生成していることが確認された。
カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）
1Ｈ－ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）０．２１（９Ｈ）
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
還流冷却器を取り付けた２００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（１０．０ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（５０．０ｇ）、水酸化カリウム（１０．０ｇ、１７８．２ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（６．９ｇ、１２３．０ｍｍｏｌ）を加え１２０℃で７時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９９．５ｍｏｌ％生成していることが確認された。
カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）
1Ｈ－ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）０．２１（９Ｈ）
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［実施例４］
３００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（３０．０ｇ、１８４．８ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（２１０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（１４．８ｇ、３７０．０ｍｍｏｌ）、を加え、モレキュラーシーブ３Ａ１／１６（３３．３ｇ）を充填したソックスレー抽出器を取り付け、その上に還流冷却器を取り付けた。その後、１２５℃で３０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９５．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
３００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（３０．０ｇ、１８４．８ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（２１０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（１４．８ｇ、３７０．０ｍｍｏｌ）、を加え、モレキュラーシーブ３Ａ１／１６（３３．３ｇ）を充填したソックスレー抽出器を取り付け、その上に還流冷却器を取り付けた。その後、１２５℃で３０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９５．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［実施例５］
実施例４で使用したモレキュラーシーブ３Ａ１／１６を取り出し、１８０℃、０．５ｋＰａ、２４時間の条件にて、真空乾燥機で乾燥した。乾燥したモレキュラーシーブ３Ａ１／１６を用い、実施例４と同じ条件にて反応し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９４．６ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
実施例４で使用したモレキュラーシーブ３Ａ１／１６を取り出し、１８０℃、０．５ｋＰａ、２４時間の条件にて、真空乾燥機で乾燥した。乾燥したモレキュラーシーブ３Ａ１／１６を用い、実施例４と同じ条件にて反応し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９４．６ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［実施例６］
還流冷却器を取り付けた１００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、トリフェニルシリルフルオリド（５．０ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）、１，２－ジメトキシエタン（４０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（１．５ｇ、３７．５ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（２．０ｇ、３５．７ｍｍｏｌ）を加え９０℃で８時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリフェニルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する１，２－ジメトキシエタン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリフェニルシラノラート（有機シラノール化合物）が９６．５ｍｏｌ％生成していることが確認された。
ナトリウムトリフェニルシラノラート（有機シラノール化合物）
1Ｈ－ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）７．５２－７．６０（９Ｈ）、７．９７－８．００（６Ｈ）
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
還流冷却器を取り付けた１００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、トリフェニルシリルフルオリド（５．０ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）、１，２－ジメトキシエタン（４０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（１．５ｇ、３７．５ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（２．０ｇ、３５．７ｍｍｏｌ）を加え９０℃で８時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリフェニルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する１，２－ジメトキシエタン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリフェニルシラノラート（有機シラノール化合物）が９６．５ｍｏｌ％生成していることが確認された。
ナトリウムトリフェニルシラノラート（有機シラノール化合物）
1Ｈ－ＮＭＲ：δ（ｐｐｍ）７．５２－７．６０（９Ｈ）、７．９７－８．００（６Ｈ）
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［実施例７］
還流冷却器を取り付けた１００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、メトキシトリメチルシラン（１０．０ｇ、９６．０ｍｍｏｌ）、１，２－ジメトキシエタン（５０．０ｇ）、水酸化カリウム（１６．０ｇ、２８５．２ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（８．１ｇ、１４４．４ｍｍｏｌ）を加え６０℃で２時間、１００℃で４時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する１，２－ジメトキシエタン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９９．９ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
還流冷却器を取り付けた１００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、メトキシトリメチルシラン（１０．０ｇ、９６．０ｍｍｏｌ）、１，２－ジメトキシエタン（５０．０ｇ）、水酸化カリウム（１６．０ｇ、２８５．２ｍｍｏｌ）、酸化カルシウム（８．１ｇ、１４４．４ｍｍｏｌ）を加え６０℃で２時間、１００℃で４時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する１，２－ジメトキシエタン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、カリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が９９．９ｍｏｌ％生成していることが確認された。
なお、室温まで冷却した３口フラスコの気相部を、可燃性ガス検知器（新コスモス株式会社製、ＸＰ－３１１０）にて測定をした結果、水素は検出されなかった。
［比較例１］
還流冷却器を取り付けた３００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（３０．０ｇ、１８４．８ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（１５０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（１４．８ｇ、３７０．０ｍｍｏｌ）を加え、１２５℃で３０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が４５．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。
還流冷却器を取り付けた３００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（３０．０ｇ、１８４．８ｍｍｏｌ）、４－メチルテトラヒドロピラン（１５０．０ｇ）、水酸化ナトリウム（１４．８ｇ、３７０．０ｍｍｏｌ）を加え、１２５℃で３０時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有する４－メチルテトラヒドロピラン溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が４５．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。
［比較例２］
還流冷却器を取り付けた１００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（５．０ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）、エタノール（３０．１ｇ）、水酸化ナトリウム（３．１ｇ、７７．５ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で７時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有するエタノール溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が６４．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。
還流冷却器を取り付けた１００ｍＬの３口フラスコに、窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシロキサン（５．０ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）、エタノール（３０．１ｇ）、水酸化ナトリウム（３．１ｇ、７７．５ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で７時間加熱後、室温まで冷却した後、不溶物を濾過し、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）を含有するエタノール溶液を得た。得られた溶液をサンプリングし、1Ｈ－ＮＭＲで測定すると、ナトリウムトリメチルシラノラート（有機シラノール化合物）が６４．０ｍｏｌ％生成していることが確認された。
本発明により、有機シラノール化合物を水素の発生を抑え、収率が高く製造することができる。
Claims (5)
- 下記一般式（１）：
で表されるシリル化合物と、
下記一般式（２）：
で表される金属水酸化物との反応において、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、五酸化二リン、活性アルミナ、シリカゲル、およびモレキュラーシーブからなる群より選ばれる少なくとも１種の脱水剤を用いることを特徴とする、
下記一般式（３）：
で表される有機シラノール化合物の製造方法。 - 一般式（２）において、Ｍがアルカリ金属である、請求項１に記載の製造方法。
- １，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、および４－メチルテトラヒドロピランからなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒を利用する、請求項１または２に記載の製造方法。
- 一般式（１）で表される前記シリル化合物、一般式（２）で表される前記金属水酸化物、および前記脱水剤を含む混合物中で、一般式（１）で表される前記シリル化合物と一般式（２）で表される前記金属水酸化物とを反応させる、請求項１～３のいずれか１項に記載の製造方法。
- Ａ）一般式（１）で表される前記シリル化合物、および一般式（２）で表される前記金属水酸化物を含む混合物中で、一般式（１）で表される前記シリル化合物と一般式（２）で表される前記金属水酸化物とを反応させる工程Ａと、
Ｂ）前記工程Ａにおいて蒸発した、水を含む物質を液化させる工程Ｂと、
Ｃ）前記工程Ｂにおいて、液化した水を含む物質と脱水剤とを接触させる工程Ｃと、
Ｄ）前記工程Ｃにおいて、液化し、脱水剤と接触させた物質を、前記工程Ａに再利用する工程Ｄと、
を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020104810A JP7495824B2 (ja) | 2020-06-17 | 2020-06-17 | 有機シラノール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020104810A JP7495824B2 (ja) | 2020-06-17 | 2020-06-17 | 有機シラノール化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021195353A JP2021195353A (ja) | 2021-12-27 |
| JP7495824B2 true JP7495824B2 (ja) | 2024-06-05 |
Family
ID=79197139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020104810A Active JP7495824B2 (ja) | 2020-06-17 | 2020-06-17 | 有機シラノール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7495824B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004168677A (ja) | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Toray Ind Inc | シリコーンモノマーの精製方法 |
| CN107235996A (zh) | 2017-06-16 | 2017-10-10 | 壮铭新材料科技江苏有限公司 | 一种三甲基硅醇盐的制备方法及应用 |
| WO2019176425A1 (ja) | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 旭化成株式会社 | スルホン酸基含有モノマーの製造方法 |
-
2020
- 2020-06-17 JP JP2020104810A patent/JP7495824B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004168677A (ja) | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Toray Ind Inc | シリコーンモノマーの精製方法 |
| CN107235996A (zh) | 2017-06-16 | 2017-10-10 | 壮铭新材料科技江苏有限公司 | 一种三甲基硅醇盐的制备方法及应用 |
| WO2019176425A1 (ja) | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 旭化成株式会社 | スルホン酸基含有モノマーの製造方法 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| DENMARK, S. E. et al.，Cross-coupling of aromatic bromides with allylic silanolate salts，Journal of the American Chemical Society，2008年，Vol.130, No.48，pp.16382-16393，DOI:10.1021/ja805951j |
| LOVRIC, M. et al.，Scope and limitations of sodium and potassium trimethylsilanolate as reagents for conversion of esters to carboxylic acids，Croatica Chemica Acta，2007年，Vol.80, No.1，pp.109-115 |
| NAGANO, H. et al.，Highly diastereoselective 7-endo radical cyclization of ethyl α-methylene-γ-(bromomethyl)dimethylsiloxycarboxylates，Tetrahedron Letters，2004年，Vol.45, No.22，pp.4329-4332，DOI:10.1016/j.tetlet.2004.03.188 |
| Steffen, Patricia et al.，Catalytic and Stereoselective ortho-Lithiation of a Ferrocene Derivative，Angewandte Chemie, International Edition，2013年07月23日，vol.52, no.37，pp.9836-9840，DOI:10.1002/anie.201303650 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021195353A (ja) | 2021-12-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3844528B2 (ja) | Ｉｉｉａ族の有機金属誘導体およびその製造方法 | |
| JP3543352B2 (ja) | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法 | |
| US6803477B2 (en) | Magnesium mediated preparation of fluorinated alkyl silanes | |
| US6114560A (en) | Method for preparing a short-chain polysulfide silane mixture | |
| KR102044434B1 (ko) | 불포화 결합 함유 실란 화합물의 정제 방법 및 제조 방법 | |
| KR102364123B1 (ko) | 술폰산기 함유 모노머의 제조 방법 | |
| JP7495824B2 (ja) | 有機シラノール化合物の製造方法 | |
| KR100766368B1 (ko) | 오르가노실란의 제조 방법 | |
| JP7495823B2 (ja) | 有機シラノール化合物の製造方法 | |
| JPS63156795A (ja) | ケトキシモシランの製造方法 | |
| Holfter et al. | Insertion of. gamma.-SO3 into Perfluoroalkyl-and Polyfluoroalkoxysilanes | |
| JP2005511700A (ja) | ポリスルフィドモノオルガノオキシシランの製造法 | |
| US4111999A (en) | Cleavage of silylated carboranes and method for preparing meta-carborane employing same | |
| EP1437357B1 (en) | Process for production of alkoxysilane-based compound | |
| JP4884982B2 (ja) | ビニルシランの製造方法 | |
| JPH0977762A (ja) | ２−アリロキシメチル−１，４−ジオキサンの製造方法 | |
| JP4526275B2 (ja) | テトラ置換ホスホニウムテトラキスアロイルオキシボレート及びその前駆体の製造方法 | |
| JP2002504557A (ja) | トリフル酸のアシル化に有用な方法 | |
| JP4768589B2 (ja) | アミノアルコキシシラン化合物の合成方法 | |
| JP2006232743A (ja) | １，３−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸ジメチルの製造方法 | |
| JP2009108045A (ja) | β位がアルキル化されたピロール類の製造方法 | |
| JP4797449B2 (ja) | 含ヨウ素フルオロポリエーテルおよびその製造法 | |
| JP2003171388A (ja) | スルホン酸アミン塩の製造方法 | |
| JP2542519B2 (ja) | ジメチルアルキル―又はジメチルアルケニル―シリルメチルポリシラン及びその製造法 | |
| WO2021168072A1 (en) | Efficient and selective route for the synthesis of alkyl 2-benzoylbenzoate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230222 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240123 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240125 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240507 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240524 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7495824 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |