JP7455941B1 - 触媒塗工装置用の器具、及び、触媒塗工装置 - Google Patents

Abstract

【課題】外筒延長部の内周面に触媒の塗工層を形成し難くすることが可能な触媒塗工装置用の器具を提供すること。【解決手段】排出ガス浄化触媒のハニカム基材３４への触媒塗工装置用の器具は、可撓性を有する筒状の仕切部材７２を有し、金属製のハニカム基材よりも軸長が長い金属製の外筒３２に内挿され、該外筒によって軸方向を上下方向に配置した状態に支持される前記ハニカム基材に対して触媒金属を含む触媒スラリーを塗工するときに用いる。前記仕切部材は、その外周面を前記ハニカム基材の上端面３４ａに対して上側に突出する前記外筒の外筒延長部３３ａの内周面に対向して配置される。前記ハニカム基材の上端面、かつ、前記仕切部材の内周面の内側に対して前記触媒スラリーが供給されたとき、該触媒スラリーが前記外筒延長部の内周面に接触することを抑制するように、前記仕切部材の下端が、前記ハニカム基材の上端面に近接して配置される。【選択図】図５

Description

本発明は、触媒塗工装置用の器具、及び、触媒塗工装置に関する。

排出ガス浄化触媒は、触媒が塗工されたハニカム基材と、ハニカム基材の形状を維持するための外筒とを有する。
例えば、ハニカム基材の隔壁上へ触媒層を形成するために、触媒金属等を含んだ触媒スラリーをハニカム基材の隔壁上へ塗工することがある。例えば、特許文献１には、ハニカム基材への触媒スラリーの塗工を行う製造装置の一例及び塗工方法が開示されている。

特開昭63-051949号公報

排出ガス浄化触媒の製造時には、排出ガス浄化触媒のハニカム基材の端面に対して突出する外筒の外筒延長部の内周面に、触媒スラリーが付着することを防止すると、排出ガス浄化触媒の製造に関する後続の作業を行い易くなる。

本発明は、外筒延長部の内周面に触媒スラリーの塗工層を形成し難くすることが可能な触媒塗工装置用の器具、及び、触媒塗工装置を提供することを目的とする。

本発明の一側面によると、排出ガス浄化触媒の前記ハニカム基材への触媒塗工装置用の器具は、可撓性を有する筒状の仕切部材を有し、金属製のハニカム基材よりも軸長が長い金属製の外筒に内挿され、該外筒によって軸方向を上下方向に配置した状態に支持される前記ハニカム基材に対して触媒金属を含む触媒スラリーを塗工するときに用いる。前記仕切部材は、その外周面を前記ハニカム基材の上端面に対して上側に突出する前記外筒の外筒延長部の内周面に対向して配置される。前記ハニカム基材の上端面、かつ、前記仕切部材の内周面の内側に対して前記触媒スラリーが供給されたとき、該触媒スラリーが前記外筒延長部の内周面に接触することを抑制するように、前記仕切部材の下端が、前記ハニカム基材の上端面に近接して配置される。

本発明によれば、外筒延長部の内周面に触媒スラリーの塗工層を形成し難くすることが可能な触媒塗工装置用の器具、及び、触媒塗工装置を提供することができる。

第１実施形態に係る触媒塗工装置を示す概略的な断面図。 図１中の符号ＩＩで示す位置の拡大図。 図１中の符号ＩＩＩで示す位置の拡大図。 図１に示す触媒塗工装置の吸引装置を動作させた状態を示す概略的な断面図。 図４中の符号Ｖで示す位置の拡大図。 第１及び第２実施形態に係る触媒塗工装置の概略的なブロック図。 第２実施形態に係る触媒塗工装置を示す概略的な断面図。 図７中の符号ＶＩＩＩで示す位置の拡大図。 図７に示す触媒塗工装置の吸引装置を動作させた状態を示す概略的な断面図。 図７中の符号Ｘで示す位置の拡大図。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。以下に記載する事項は、単独で又は複数を組み合わせて、上記側面の各々に組み入れることができる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、下記の材質、形状、及び構造等によって限定されるものではない。本発明の技術的思想には、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

なお、同様又は類似した機能を有する要素については、以下で参照する図面において同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面は模式的なものであり、或る方向の寸法と別の方向の寸法との関係、及び、或る部材の寸法と他の部材の寸法との関係等は、現実のものとは異なり得る。

（第１実施形態）
第１実施形態に係る触媒塗工装置１０について、図１から図６を用いて説明する。

図１には、触媒塗工装置１０に略柱状の触媒フィルターとしての排出ガス浄化触媒（排出ガス浄化器具）２０を配置した状態を示す概略的な断面図を示す。図２は、図１中の符号ＩＩで示す位置の拡大図である。図３は、図１中の符号ＩＩＩで示す位置の拡大図である。

図４には、触媒塗工装置１０に配置した排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４に触媒スラリーＳを塗工している状態を示す概略的な断面図を示す。図５は、図４中の符号Ｖで示す位置の拡大図である。

なお、図１及び図４に示すように、ＸＹＺ直交座標系を設定する。Ｘ軸方向は、後述する台座４２及びその台座４２上に載置された状態で搬送される排出ガス浄化触媒２０の搬送方向に一致する。Ｚ軸方向は、上下方向に一致する。Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向に一致する。

図６は、触媒塗工装置１０の概略的なブロック図である。

図１から図５に示すように、排出ガス浄化触媒２０は、外筒３２とハニカム基材３４とを含む。
外筒３２は、例えば円筒形状を有する。外筒３２は、多角筒状、楕円筒形状及び長円筒形状などの他の筒形状を有していてもよい。外筒３２は、例えばステンレス鋼材などの金属製である。

外筒３２の軸長は、ハニカム基材の軸長よりも長く形成される。外筒３２の中空部には、ハニカム基材３４が収容される。すなわち、外筒３２には、ハニカム基材３４が内挿される。ハニカム基材３４は、外筒３２の中空部の形状を維持するように形成される。本実施形態では、ハニカム基材３４は、円柱状に形成されるものとする。

ハニカム基材３４は、外筒３２の一端部３２ａと他端部３２ｂとの間の中空部に収容される。このため、ハニカム基材３４の一端面（触媒塗工装置１０に配置されたときの上端面）３４ａは、外筒３２の一端部３２ａの開口部から他端部３２ｂ側に離間し、ハニカム基材３４の他端面（触媒塗工装置１０に配置されたときの下端面）３４ｂは、外筒３２の他端部３２ｂの開口部から一端部３２ａ側に離間する。すなわち、外筒３２は、ハニカム基材３４の一端面（上端面）３４ａに対して突出する第１の外筒延長部３３ａを一端側に有する。外筒３２は、ハニカム基材３４の他端面（下端面）３４ｂに対して突出する第２の外筒延長部３３ｂを他端側に有する。本実施形態では、第１の外筒延長部３３ａ及び第２の外筒延長部３３ｂを有する例について説明するが、第１の外筒延長部３３ａ及び第２の外筒延長部３３ｂは、いずれか１つであってもよい。例えば、外筒３２の他端部３２ｂとハニカム基材３４の他端面３４ｂとが面一であってもよい。
本実施形態では、第１の外筒延長部３３ａ及び第２の外筒延長部３３ｂの両方を有する例について説明する。

なお、外筒３２の一端部３２ａには、環状体３６が着脱可能に固定されることが好適である。環状体３６のうち、外筒３２の一端部３２ａ側とは反対側の面は、外筒３２の軸方向を上下方向に配置したときに、案内部材４４の後述する鍔部７６の下面と接触又は鍔部７６が載置される平面として形成されることが好適である。なお、環状体３６は、触媒塗工装置１０で後述する触媒スラリーＳがハニカム基材３４に塗工される前に取り付けられ、塗工された後、取り外されることが好適である。

環状体３６は、後述する案内部材４４の鍔部７６との接触に対して緩衝し得る環状の緩衝部材として形成されることも好適である。

ハニカム基材３４は、例えば、ステンレス鋼材などの金属材製である。一例であるが、ハニカム基材３４は、例えば、平板（金属箔）と波板（金属箔）とを重ね合わせた状態で巻回した略円柱状の構造を有し得る。ハニカム基材３４は、外筒３２の中空部に収容されることにより形状が維持される。ハニカム基材３４は、外筒３２内の中空部とほぼ等しい外形を有する。このようなハニカム基材３４は、平板と波板との間の隙間を貫通孔として有し得る。ハニカム基材３４の多数の貫通孔の貫通方向は、平行に配置されることが好適である。ハニカム基材３４の多数の貫通孔の貫通方向は、外筒３２の中心軸の軸方向にそれぞれ平行であることが好適である。なお、ハニカム基材３４の各貫通孔を規定する壁面をセル（隔壁）と称することがある。

排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４には、排出ガスに含まれる一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）等の有害成分を分解、浄化する触媒が塗工（担持）される。
なお、ここでは「排出ガス浄化触媒２０」と、「触媒」とを区別して用いることとする。「排出ガス浄化触媒２０」という場合は、触媒フィルターをいう。また、単に「触媒」という場合は、図１に示す「排出ガス浄化触媒２０」全体ではなく、ハニカム基材３４に塗工される触媒等をいう。

本実施形態では、排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４に触媒を塗工する触媒塗工装置１０について説明する。

触媒を含む塗工液としては、ハニカム基材３４の上端面に適宜の量が供給されたときに、それ自体の粘性、及び、表面張力等により、ハニカム基材３４の上端面に広がり、吸引した際には、均一的にハニカム基材３４に塗工される、触媒スラリーＳが用いられ得る。この状態において、触媒スラリーＳの一部は、ハニカム基材３４の上端面３４ａから下端面３４ｂに向かって流れる。すなわち、触媒スラリーＳは、ハニカム基材３４の上端面３４ａと下端面３４ｂとを貫通する貫通孔を形成する隔壁上を流れる。貫通孔の軸方向は、外筒３２の軸方向（中心軸）と平行であることが好適である。また、触媒スラリーＳの一部は、ハニカム基材３４の上端面３４ａ上を外筒３２の第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって流れる。このため、触媒スラリーＳがハニカム基材３４の上端面３４ａに供給されると、触媒スラリーＳはハニカム基材３４の上端面３４ａ上を広がる。

触媒金属は、例えば、白金、パラジウム及びロジウム化合物などの白金族金属；鉄及び銅などのその他の遷移金属；リチウム及びカリウムなどのアルカリ金属；バリウムなどのアルカリ土類金属；又はそれらの２以上である。
耐熱性担体は、例えば、アルミナなどの耐火無機酸化物である。助触媒は、例えば、セリア及びセリア－ジルコニア複合酸化物などの酸素貯蔵材料；アルカリ金属を含んだ窒素酸化物（ＮＯｘ）吸蔵材料；ゼオライトなどの炭化水素吸着剤；又はそれらの２以上である。
分散媒は、例えば、水である。分散媒は、有機溶剤であってもよく、有機溶剤と水との混合物であってもよい。
塗工液は、添加剤、例えば、セルロースなどの増粘剤、分散安定剤及びバインダを更に含むことができる。塗工液がセルロースなどの増粘剤を含む場合、その濃度は、０．３乃至３質量％の範囲内とすることが好ましい。

本実施形態では、排出ガス浄化触媒２０の第１の外筒延長部３３ａが上側に、第２の外筒延長部３３ｂが下側に配置され、かつ、環状体３６が第１の外筒延長部３３ａに取り付けられた状態で、触媒塗工装置１０を用いて触媒がハニカム基材３４に塗工され、排出ガス浄化触媒２０が製造されるものとして説明する。

なお、外筒３２の最大径は、例えば３３ｍｍ乃至１７５ｍｍの範囲内にある。外筒３２の軸方向の寸法、即ち、外筒３２の長さは、例えば、５０ｍｍ乃至２１０ｍｍの範囲内にある。外筒３２の軸方向におけるハニカム基材３４の寸法は、例えば４０ｍｍ乃至１８５ｍｍの範囲内にある。ハニカム基材３４から外筒３２の各開口までの距離は、例えば５ｍｍ乃至４５ｍｍの範囲内にある。

なお、ハニカム基材３４は、上述したものに限らず、ハニカム基材３４を貫通する多数の貫通孔の一端が第１の外筒延長部３３ａ側にあり、他端が第２の外筒延長部３３ｂ側にあればよい。

以下、触媒塗工装置１０について説明する。

触媒塗工装置１０は、図１及び図４に示す排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４を、塗工液で塗工する装置である。

図１から図５に示すように、触媒塗工装置１０は、台座４２と、案内部材（触媒塗工装置１０用の器具）４４と、触媒スラリー供給装置４６と、吸引装置４８とを含む。図６に示すように、触媒塗工装置１０は、移動装置５０ａ－５０ｄと、移動装置５０ａ－５０ｄ、供給装置４６及び吸引装置４８を制御するコントローラ５２とを有する。なお、図１及び図４中には、移動装置５０ａ－５０ｄの図示を省略する。

移動装置５０ａは、図１及び図４中には図示しないが、台座４２をＸ軸方向に搬送し、台座４２の後述する開口６０を所定位置又はその近傍に配置し、開口６０の中心軸をＺ軸方向に沿って位置させる。移動装置５０ｂは、台座４２の開口６０の第１の嵌合部６２に支持される排出ガス浄化触媒２０の第１の外筒延長部３３ａに対して案内部材４４をＺ軸方向に移動させる。移動装置５０ｃは、供給装置４６をＺ軸方向に移動させる。移動装置５０ｄは、吸引装置４８の後述する吸引口４８ａが台座４２の開口６０の第２の嵌合部６４に嵌合されるように、台座４２に対してＺ軸方向に吸引装置４８を移動させる。なお、移動装置５０ｄは、吸引装置４８の吸引口４８ａが台座４２の開口６０の第２の嵌合部６４に嵌合された状態で、台座４２の上下方向位置を変化させないことが好適である。

コントローラ５２は、例えば、Central Processing Unit（ＣＰＵ）、Application Specific Integrated Circuit（ＡＳＩＣ）等の集積回路である。コントローラ５２として、汎用のコンピュータが用いられてもよい。コントローラ５２は、専用回路として設けられている場合に限らず、コンピュータで実行されるプログラムを有し得る。この場合、プログラムは、集積回路内の記憶領域、メモリ等に記録されている。コントローラ５２は、供給装置４６、吸引装置４８、及び、移動装置５０ａ－５０ｄに接続されている。コントローラ５２は、供給装置４６、吸引装置４８、及び、移動装置５０ａ－５０ｄを適宜に動かし、触媒塗工装置１０により排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４に対して触媒スラリーＳの塗工処理を実行する。

コントローラ５２は、供給装置４６から例えば単位時間あたり所定量の触媒スラリーＳを後述するノズル部４６ａから吐出させる。コントローラ５２は、吸引装置４８の後述する吸引口４８ａを通して例えば所定時間、所定の吸引圧力で、吸引作用を生じさせる。

図１、図２及び図４に示す台座４２は、排出ガス浄化触媒２０を所定の位置に所定の向きに支持する、プレート又はブロックとして形成される。台座４２は、排出ガス浄化触媒２０の支持、吸引装置４８による吸引等による弾性変形が抑制される剛性を有する金属材で形成されることが好適である。

台座４２は、Ｚ軸方向に沿って上下に貫通する開口（貫通孔）６０を有する。台座４２の開口６０の上側の周囲には、環状の第１の嵌合部６２が設けられる。台座４２の開口６０の下側の周囲には、環状の第２の嵌合部６４が形成される。

第１の嵌合部６２は、排出ガス浄化触媒２０の外筒３２の第２の外筒延長部３３ｂの他端部（下端部）３２ｂ及びその外周面を支持し、外筒３２の軸方向を上下方向（Ｚ軸方向）に位置決めする。

第２の嵌合部６４は、吸引装置４８の後述する吸引口４８ａを支持し、吸引装置４８の吸引方向を外筒３２の軸方向（上下方向）と一致させるように、吸引装置４８の吸引口４８ａを位置決めする。

台座４２は、移動装置５０ａにより、Ｘ軸方向など、所定方向に搬送されるように形成されることが好適である。台座４２は、排出ガス浄化触媒２０の第１の外筒延長部３３ａに対して案内部材４４が所定の状態に取り付けられ、案内部材４４に対して供給装置４６から適切に触媒スラリーＳが供給され、また、第２の嵌合部６４に対して吸引装置４８が所定の状態に取り付けられるように移動される例えば移動装置（搬送装置）５０ａにより所定位置に配置される。台座４２は、台座４２の開口６０の中心軸に沿って、吸引装置４８、案内部材４４及び供給装置４６がＺ軸方向に沿って上下動する位置関係に配置される。

なお、台座４２は、移動装置５０ａにより搬送されるのではなく、予め固定されていることも好適である。この場合、触媒スラリーＳがハニカム基材３４に塗工される際に、第１の嵌合部６２に対して排出ガス浄化触媒２０の外筒３２の下端部３２ｂが支持される。

案内部材４４は、仕切部材（筒状部）７２と、拡径部（ガイド）７４と、鍔部７６とを含む。

仕切部材７２は、案内部材４４の最下部に位置する。本実施形態では、仕切部材７２は、円筒状に形成される。仕切部材７２の軸方向は、上下方向に一致する。

仕切部材７２は、本実施形態では、筒状体８２と、カーテン状の弾性部材（可撓性を有する仕切部材）８４とを有する。筒状体８２及び弾性部材８４は、それぞれ筒状に形成され、例えば略円筒状に形成される。

筒状体８２は、触媒スラリーＳが内側に配設されたり、触媒スラリーＳが吸引されているときに筒状体８２の形状を維持するように、適宜の剛性を有する筒状に形成される。
筒状体８２の内径は、上端から下端まで一定であることが好適であるが、筒状体８２の内径は、下側ほど小さくなっていてもよい。
筒状体８２の外周面は、第１の外筒延長部３３ａの内周面との間に環状の隙間Ｇを有するように形成される。筒状体８２の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の隙間Ｇの距離は、例えば４ｍｍ程度であることが好適である。
仕切部材７２は、弾性部材８４を有していれば、筒状体８２は、必ずしも必要ではない。

弾性部材８４は、筒状体８２の例えば外周面に固定され、筒状体８２の下端よりも下方に延びる筒状に形成される。弾性部材８４は、第１の外筒延長部３３ａの内周面に触媒スラリーＳが付着することを防止し、触媒スラリーＳから保護するために用いられる。
弾性部材８４は、触媒スラリーＳが内側に配設されたときに弾性部材８４の形状を維持し、触媒スラリーＳが吸引されているときに筒状の弾性部材８４が外側にフレア状に広がり、第１の外筒延長部３３ａの内周面に近接するように弾性変形するような、適宜の剛性を有する筒状に形成される。このため、弾性部材８４は、筒状体８２よりも柔らかい素材で適宜に薄肉に形成される。
弾性部材８４には、耐薬品性が良好で、可撓性を有し、適宜の反発弾性を有する素材が用いられる。弾性部材８４としては、例えば、シリコーンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム等が用いられることが好適である。なお、弾性部材８４の厚さや、Ｚ軸方向に沿う長さは、用いる触媒スラリーＳの粘性、弾性部材８４の反発弾性、第１の外筒延長部３３ａの内周面と弾性部材８４との間の距離、筒状体８２に対する弾性部材８４の固定方法、筒状体８２とハニカム基材３４の上端面３４ａとの間の距離等、種々の要因により調整される。
なお、弾性部材８４は、素材の調整又は厚さの調整等により、上端と下端との間で硬さ（弾性変形のしやすさ）が調整されていてもよい。弾性部材８４の硬さ（変形しやすさ）は、吸引されていないときには、触媒スラリーＳが弾性部材８４の外側に移動することを抑制するように形成されている。また、弾性部材８４の硬さ（変形しやすさ）は、吸引されているときには、弾性部材８４の下端８４ａが第１の外筒延長部３３ａの内周面に近接するようにフレア状に弾性変形するように形成されている。

筒状体８２の下端８２ａと弾性部材８４の下端８４ａとの間の距離は、一例であるが、４ｍｍ程度であることが好適である。なお、弾性部材８４を図１及び図３に示す状態から、図４及び図５に示す状態に向けて曲げたとき、弾性部材８４の下端８４ａが第１の外筒延長部３３ａの内周面に触れないような距離に形成されることが好適である。弾性部材８４の下端８４ａが第１の外筒延長部３３ａの内周面に最も近づいたとき、弾性部材（カーテン）８４の下端８４ａと第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の距離が０ｍｍから２ｍｍ程度であることが好適である。

図２に示すように、弾性部材（カーテン）８４の下端（遠位端）８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに触れない位置に配置されることが好適である。弾性部材（カーテン）８４の下端８４ａとハニカム基材３４の上端面３４ａとの間の距離は、０ｍｍから２ｍｍ程度であることが好適である。

なお、筒状体８２が存在しない場合、弾性部材８４は、鍔部７６に固定又は一体成型される。

拡径部７４は仕切部材７２の上方に連続して延出され、上方に向かうにつれて拡径する。本実施形態では、拡径部７４は仕切部材７２の筒状体８２の上方に連続して延出される。拡径部７４は、供給装置４６及び／又は触媒スラリー（塗工液）Ｓを仕切部材７２の内側（中空部）に案内する。拡径部７４の上端における内径、下端における内径、及び、拡径部７４の上端と下端との間のいずれの内径も含めて、仕切部材７２の内径より大きい。拡径部７４の下端における内径は、仕切部材７２の内径と等しくてもよい。

鍔部７６は、仕切部材７２に設けられ、仕切部材７２の外周面の上端と下端との間の位置から外側へ突き出る。鍔部７６は、本実施形態では、筒状体８２の外周面から水平方向に突き出ることが好適である。本実施形態では、鍔部７６の下面は、外筒３２の上方側の第１の外筒延長部３３ａに固定される環状体３６に載置される。このため、鍔部７６は、第１の外筒延長部３３ａの端部３２ａに対向して配置される。

なお、鍔部７６は、円環状に形成されることが好適であるが、連続した環状でなくてもよい。

案内部材４４のうち、弾性部材８４を除く部分は、一体的に形成されていてもよく、複数部材を組み合わせて形成してもよい。本実施形態では、案内部材４４のうち、弾性部材８４を除く部分が、概略、上下の２つの部材で形成される例について説明する。本実施形態では、案内部材４４は、第１部材１１０と、第２部材１２０とを含む。

第１部材１１０は、案内部材４４の上側の部材として形成される。第１部材１１０は、筒状体８２の一部を形成する第１の筒状体部１１１と、第１の筒状体部１１１の一端（上端）から上方に連続して形成され第１の筒状体部１１１から上方に離間するにつれて大きくなる内径を有する筒形状を有する拡径部７４と、第１の筒状体部１１１の他端（下端）から外側へ突き出す第１鍔状部１１２とを含む。第１部材１１０は、樹脂、例えばポリエチレンで作製されるが、ステンレス鋼材やアルミニウム合金材などの金属製であっても良い。

第２部材１２０は、案内部材４４の下側の部材として形成される。第２部材１２０は、筒状体８２の残りの一部を形成する第２の筒状体部１２１と、筒状体８２の一端（上端）から外側へ突き出す第２鍔状部１２２とを含む。第２部材１２０は、樹脂、例えばポリエチレンで作製されるが、ステンレス鋼材やアルミニウム合金材などの金属製であっても良い。

第２の筒状体部１２１の内径は、第１の筒状体部１１１の内径と同じで、第１の筒状体部１１１及び第２の筒状体部１２１の内周面は、面一であることが好適である。なお、第２の筒状体部１２１の外径は第１の筒状体部１１１の外径よりも小さく、第２の筒状体部１２１の方が第１の筒状体部１１１に対して薄肉であることが好適である。そして、第２の筒状体部１２１の外径は、外筒３２の内径より小さく、第２の筒状体部１２１の外周面と外筒３２の第１の外筒延長部３３ａの内周面との間には適宜の大きさの隙間Ｇが形成される。

第２鍔状部１２２が突出する方向は、第１鍔状部１１２が突出する方向と一致する。第１の鍔状部１１２を上側とし、第２の鍔状部１２２を下側として固定され、鍔部７６が形成される。第１の鍔状部１１２及び第２の鍔状部１２２は図示しないが、第１の鍔状部１１２及び第２の鍔状部１２２の間に例えばＯリング等が配置された状態で、例えばボルト及びナット等により水密に固定されることが好適である。例えば鍔部７６は移動装置５０ｂに支持されて案内部材４４が所定範囲内をＺ軸方向に沿って上下動する。

なお、鍔部７６の下面（第２の鍔状部１２２の下面）が環状体３６の上面に当接するとき、弾性部材８４の下端８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに対して０ｍｍから２ｍｍ程度上方の位置に配置される。

供給装置４６は、案内部材４４とは独立してＺ軸方向に沿って所定範囲内を上下動可能であることが好適である。供給装置４６は、案内部材４４の拡径部７４内に嵌まる大きさのノズル部４６ａを有する。ノズル部４６ａを介して、触媒スラリーＳが筒状体８２及び弾性部材８４の内側に供給される。供給装置４６は、移動装置５０ｃに支持されて供給装置４６が所定範囲内を上下動する。

吸引装置４８は、案内部材４４及び供給装置４６とは独立してＺ軸方向に沿って所定範囲内を上下動可能であることが好適である。吸引装置４８の上端の吸引口４８ａは、第２の嵌合部６４に当接する。吸引装置４８は、移動装置５０ｄに支持されて吸引装置４８が所定範囲内を上下動する。

次に、触媒塗工装置１０を用いて排出ガス浄化触媒２０に触媒スラリーＳを塗工する触媒塗工方法（製造方法）について説明する。

上記の触媒塗工装置１０を使用すると、例えば、以下の方法により排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４に触媒を塗工することができる。

触媒塗工装置１０の初期位置（第１の位置）は、例えば、以下の位置である。
排出ガス浄化触媒２０の第１の外筒延長部３３ａの上端部３２ａよりも案内部材４４の弾性部材８４の下端８４ａが上方に位置する。また、供給装置４６のノズル部４６ａの下端が、案内部材４４の拡径部７４の上端よりも上方に位置する。また、吸引装置４８の上端の吸引口４８ａよりも、台座４２の下端が上方に位置する。

触媒塗工装置１０でハニカム基材３４に触媒スラリーＳを塗工する場合、触媒塗工装置１０の台座４２、案内部材４４、供給装置４６及び吸引装置４８は、以下の位置（第２の位置）に移動する。

台座４２の第１の嵌合部６２に対して排出ガス浄化触媒２０の第２の外筒延長部３３ｂの下端部３２ｂを支持させる。このとき、台座４２の開口６０の中心軸が、外筒３２の中心軸に一致する。

この状態の台座４２を、コントローラ５２は、移動装置５０ａを動作させてハニカム基材３４に触媒スラリーＳを塗工する所定の塗工位置に搬送し、停止させる。このとき、台座４２の開口６０の中心軸が、案内部材４４、供給装置４６及び吸引装置４８の中心軸に一致する。すなわち、外筒３２の中心軸の軸方向が上下方向に一致し、第１の外筒延長部３３ａの上側に案内部材４４が配置され、案内部材４４の拡径部７４の近傍又はその上側に供給装置４６が配置される。また、台座４２及び第２の外筒延長部３３ｂの下側に、吸引装置４８が配置される。

なお、台座４２の開口６０の中心軸を、案内部材４４、供給装置４６及び吸引装置４８の中心軸に一致するように配置してから、台座４２の第１の嵌合部６２に排出ガス浄化触媒２０の第２の外筒延長部３３ｂの下端部３２ｂを支持させてもよい。

そして、コントローラ５２は、移動装置５０ｂを動作させて案内部材４４を降下させ、弾性部材８４及び筒状体８２を第１の外筒延長部３３ａの内側に配置する。案内部材４４は、鍔部７６の下面（第２の鍔状部１２２の下面）が環状体３６の上面に接触し、載置される。このとき、弾性部材８４の下端８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに対して僅かに上方に離間する。具体的には、弾性部材８４の下端８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに対して０ｍｍから２ｍｍ程度である。また、弾性部材８４の外周面は、第１の外筒延長部３３ａの内周面に対して離間する。

コントローラ５２は、移動装置５０ｄを動作させて吸引装置４８の吸引口４８ａを上昇させ、吸引口４８ａを台座４２の第２の嵌合部６４に嵌合させる。なお、コントローラ５２は、移動装置５０ｂにより案内部材４４を降下させ、第１の外筒延長部３３ａに向かって動かすタイミング、移動装置５０ｄにより吸引装置４８を上昇させ、台座４２に向かって動かすタイミングは、どちらが先であってもよく、同時期であってもよい。

そして、コントローラ５２は、移動装置５０ｃを動作させて供給装置４６のノズル部４６ａを案内部材４４の拡径部７４の下端近傍まで仕切部材７２の中空部に向かって案内する。コントローラ５２は、供給装置４６を制御し、ノズル部４６ａから、触媒スラリーＳを、ハニカム基材３４の上端面３４ａと弾性部材８４の内周面及び筒状体８２の内周面との間の空間に載置する。そして、１つの排出ガス浄化触媒２０に対して、所定量の触媒スラリーＳを吐出させた後、コントローラ５２は、移動装置５０ｃを動作させて案内部材４４に対して供給装置４６を上昇させ、拡径部７４の上端よりも供給装置４６の下端を上側に配置する。

弾性部材８４の内周面及び筒状体８２の内周面は、触媒スラリーＳが弾性部材８４よりも外側に向かう触媒スラリーＳの流れを塞き止める。したがって、弾性部材８４は、触媒スラリーＳが弾性部材８４の位置よりも第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって移動することを抑制する。

なお、吸引装置４８で吸引を行う前における、図１に示す弾性部材８４の内周面の内側の領域の下方の領域を第１の領域（中央領域）Ｒ１とし、弾性部材８４の内周面よりも外側の領域の下方の領域を第２の領域（外周領域）Ｒ２とする。第２の領域Ｒ２は、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の領域の下方の領域である。第１の領域Ｒ１は略円柱状に形成され、第２の領域Ｒ２は第１の領域Ｒ１と同心状に略円筒状に形成される。
なお、後述するように、第１の領域Ｒ１、第２の領域Ｒ２は、弾性部材８４の下端８４ａが外側に開くことに応じて変化する。

吸引口４８ａを第２の嵌合部６４に例えば当接させた状態で、コントローラ５２は、吸引装置４８を動作させ、排出ガス浄化触媒２０の下方からハニカム基材３４に対して吸引を行う。吸引作用は、第１の領域（中央領域）Ｒ１及び第２の領域（外周領域）Ｒ２の両方に働く。このため、吸引装置４８の吸引口４８ａは、ハニカム基材３４の下端面３４ｂに対向する位置に配置され、触媒スラリーＳを吸引し得る。

このとき、図４に示すように、弾性部材８４の内周面の内側の触媒スラリーＳが第１の領域Ｒ１の貫通孔を通して吸引装置４８に吸引される。また、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａとの間の空間が吸引され、負圧となる。このため、仕切部材７２の弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の圧力は、仕切部材７２の弾性部材８４の内周面の内側の圧力よりも小さくなる。このとき、弾性部材８４の内周面側の第１の圧力の方が、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａとの間の第２の圧力に比べて相対的に大きい。このため、図４及び図５に示すように、弾性部材８４は外側にフレア状に開く。すなわち、弾性部材８４の下端８４ａが、第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって、フレア状に弾性変形して移動する。したがって、第１の領域Ｒ１は外筒３２の径方向に沿って外側に拡大し、第２の領域Ｒ２は外筒３２の径方向に沿って内側から外側に縮小する。弾性部材８４の下端８４ａは、図１及び図２に示す位置から弾性変形により、図４及び図５に示す位置に動くまでには、第１の領域Ｒ１は拡大し続け、第２の領域Ｒ２は縮小し続ける。このように、触媒スラリーＳのストッパとなる弾性部材８４が図１及び図２に示す状態から、図４及び図５に示す状態に弾性変形することに伴って、触媒スラリーＳが弾性部材８４の内周面に追従してハニカム基材３４の上端面３４ａ上を第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって移動する。弾性部材８４の下端８４ａは、弾性変形により、第１の外筒延長部３３ａの内周面に近接する。このとき、吸引装置４８の吸引作用により、第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって移動する触媒スラリーＳは、外筒３２の内周面、及び、外筒３２の内周面の近傍の、ハニカム基材３４の外周面近傍のセルを上側から下側に向かって流れる。

ここでは、供給装置４６から供給された触媒スラリーＳが適宜の量であり、触媒スラリーＳが適宜の粘性を有することにより、弾性部材８４の内周面の内側の触媒スラリーＳが第２の領域Ｒ２の貫通孔を通して吸引装置４８に吸引される。このため、触媒スラリーＳの一部は、ハニカム基材３４の最外周にも塗工される。

なお、供給装置４６から供給された触媒スラリーＳが少なく、又は、触媒スラリーＳの粘性が低すぎると、第１の領域Ｒ１の拡大量が小さく、触媒スラリーＳがハニカム基材３４の最外周にも塗工されない。このため、触媒スラリーＳの量、触媒スラリーＳの粘性等は、初期状態での第１の領域Ｒ１と第２の領域Ｒ２の関係等により適宜に設定される。

触媒スラリーＳは、吸引装置４８により回収し、別の排出ガス浄化触媒２０に塗工するために再利用され得る。

したがって、図４及び図５に示すように、触媒塗工装置１０は、排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４の最外周及びその近傍にも、触媒スラリーＳを塗工することができる。このとき、第１の外筒延長部３３ａの内周面に触媒スラリーＳが意図せず塗工されることを抑制することができる。

そして、排出ガス浄化触媒２０は、全セルに塗工された触媒スラリーＳを乾燥させた後、焼成される。

このように、本実施形態に係る触媒塗工装置１０の案内部材（器具）４４は、外筒３２の軸方向を上下方向に配置したときに、ハニカム基材３４の上端面３４ａに対して上側に突出する第１の外筒延長部３３ａの内周面に弾性部材８４の外周面を対向して隣接させる。そして、ハニカム基材３４の上端面３４ａ、かつ、弾性部材８４の内周面の内側に対してハニカム基材３４に塗工される触媒スラリーＳが供給されたとき、弾性部材８４は、触媒スラリーＳが第１の外筒延長部３３ａの内周面に接触することを抑制するように、弾性部材８４の下端８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに隣接する。ハニカム基材３４の上端面３４ａ、かつ、弾性部材８４の内周面の内側に触媒スラリーＳが供給された状態で、ハニカム基材３４の下側から吸引されると、触媒スラリーＳがハニカム基材３４に塗工される。このとき、弾性部材８４の下端８４ａは、第１の外筒延長部３３ａの内周面に近接するようにフレア状に弾性変形される。このため、本実施形態によれば、第１の外筒延長部３３ａの内周面を弾性部材８４で保護することができ、第１の外筒延長部３３ａの内周面に触媒スラリーＳの塗工層を形成し難くすることが可能な触媒塗工装置１０用の案内部材（器具）４４、及び、触媒塗工装置１０が提供される。

本実施形態に係る触媒塗工装置１０によれば、案内部材４４の仕切部材７２と外筒３２の第１の外筒延長部３３ａとの位置関係、弾性部材８４の下端８４ａとハニカム基材３４の上端面３４ａとの位置関係、弾性部材８４の可撓性の調整（弾性部材８４の長さの調整を含む）、吸引装置４８の吸引作用を動作させる前にハニカム基材３４の上端面３４ａに供給される触媒スラリーＳの量、触媒スラリーＳの粘性の調整等により、ハニカム基材３４の中心軸及びその近傍から、外周面に至るまでの領域に、良好に触媒スラリーＳを塗工することができる。このとき、第１の外筒延長部３３ａの内周面に触媒スラリーＳが塗工されることを抑制することができる。

このとき、第１の外筒延長部３３ａの内周面をそれぞれマスキングにより保護したり、バルーン等を用いて第１の外筒延長部３３ａの内周面を保護する必要がない。又は、その第１の外筒延長部３３ａの内周面へのマスキングの領域を小さくすることができる。このため、触媒塗工装置１０としては、単に、案内部材４４をＺ軸方向に沿って上下動させ、案内部材４４の鍔部７６の下面を排出ガス浄化触媒２０の第１の外筒延長部３３ａの上端部３２ａに取り付けられた環状体３６に載置するだけで、第１の外筒延長部３３ａの内周面を触媒スラリーＳの付着から保護することができる。

このように、本実施形態によれば、第１の外筒延長部３３ａの内周面に触媒スラリーＳの塗工層を形成し難くすることが可能な触媒塗工装置１０用の案内部材（器具）４４、及び、触媒塗工装置１０を提供することができる。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態に係る触媒塗工装置１０について、図７から図１０を用いて説明する。本実施形態は第１実施形態の変形例であって、第１実施形態で説明した部材と同一の部材又は同一の機能を有する部材には極力同一の符号を付し、詳しい説明を省略する。

本実施形態では、案内部材４４の鍔部７６と排出ガス浄化触媒２０の環状体３６との間に、排出ガス浄化触媒２０の外部に連通し、排出ガス浄化触媒２０の外側から弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間に空気を取り込む流路（空気取込口）Ｆが形成される例について説明する。

図７及び図８に示すように、排出ガス浄化触媒２０の第１の外筒延長部３３ａの上端部３２ａに取り付けられる環状体３６の外径及びＺ軸方向に沿う肉厚は、第１実施形態で説明した環状体３６の外径及び肉厚に比べて小さく形成される。

図７から図１０に示すように、本実施形態では、案内部材４４は、第１部材１１０、第２部材１２０に加えて、第３部材１３０を有する。第３部材１３０は、第２の鍔状部１２２の下面に形成される円板体として形成される。第３部材１３０の内径は、環状体３６の外径よりも大きい。

そして、排出ガス浄化触媒２０に対して、案内部材４４は、第１実施形態で説明した位置関係と同じ位置関係に配置される。すなわち、弾性部材８４の下端８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに対して０ｍｍから２ｍｍ上方に離れた位置に配置される。

このため、環状体３６の外周面と第３部材１３０の内周面との間、環状体３６の上面と第２の鍔状部１２２の下面との間には、筒状体８２の外周面及び弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間と、排出ガス浄化触媒２０の外側とを連通する空気の流路Ｆが形成される。流路Ｆは、外筒３２の中心軸の軸回りに環状に形成される。

次に、触媒塗工装置１０を用いて排出ガス浄化触媒２０に触媒スラリーＳを塗工する触媒塗工方法（製造方法）について説明する。ここでは、第１実施形態で説明した触媒塗工方法と同一の部分について、適宜に説明を省略する。

第１実施形態で説明したように、排出ガス浄化触媒２０に対して、案内部材４４の弾性部材８４は、第１実施形態で説明した位置関係と同じ位置関係に配置される。すなわち、弾性部材８４の下端８４ａは、ハニカム基材３４の上端面３４ａに対して０ｍｍから２ｍｍ上方に離れた位置に配置される。このとき、弾性部材８４の外周面及び筒状体８２の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間、環状体３６の上面と第２の鍔状部１２２の下面との間、環状体３６の外周面と第３部材１３０の内周面との間には、流路Ｆが形成される。

この状態で、触媒スラリーＳが筒状体８２及び弾性部材８４の内周面の内側に供給される。また、吸引装置４８の吸引口４８ａは、第２の嵌合部６４に嵌合される。

なお、吸引装置４８で吸引を行う前における、図７及び図８に示す弾性部材８４の内周面の内側の領域の下方の領域を第１の領域（中央領域）Ｒ１とし、弾性部材８４の内周面よりも外側の領域の下方の領域を第２の領域（外周領域）Ｒ２とする。第２の領域Ｒ２は、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の領域の下方の領域である。第１の領域は略円柱状に形成され、第２の領域Ｒ２は略円筒状に形成される。

この状態で、コントローラ５２は吸引装置４８を動作させ、排出ガス浄化触媒２０の下方からハニカム基材３４に対して吸引を行う。吸引作用は、第１の領域（中央領域）Ｒ１及び第２の領域（外周領域）Ｒ２の両方に働く。このとき、弾性部材８４の内周面の内側の触媒スラリーＳが第１の領域Ｒ１の貫通孔を通して吸引装置４８に吸引される。また、第１の領域Ｒ１の貫通孔を通して弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａとの間の空間が吸引され、負圧となる。このため、仕切部材７２の弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の圧力は、仕切部材７２の弾性部材８４の内周面の内側の圧力よりも小さくなる。このとき、弾性部材８４の内周面側の第１の圧力の方が、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａとの間の第２の圧力に比べて相対的に大きい。このため、弾性部材８４は、外側にフレア状に開くとともに、触媒スラリーＳが、第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって移動する。したがって、弾性部材８４の内周面の内側の触媒スラリーＳが第２の領域Ｒ２の貫通孔を通して吸引装置４８に吸引される。このため、触媒スラリーＳの一部は、ハニカム基材３４の最外周にも塗工される。

本実施形態では、上述した流路Ｆが形成されている。弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａとの間の空間が吸引され、負圧となると、この流路Ｆを通して、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａとの間に、弾性部材８４の下端８４ａをハニカム基材３４の上端面３４ａに向けて押し返す方向に向かう外気が導入される。この外気は、触媒スラリーＳが意図せず第１の外筒延長部３３ａに付着することを抑制する作用を生じさせる。

なお、弾性部材８４の下端と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間の距離は、２ｍｍ以内となるように設定されることが好適である。

このため、第１実施形態で説明した構造の触媒塗工装置１０に比べて、本実施形態に係る触媒塗工装置１０は、第１の外筒延長部３３ａの内周面に対する触媒スラリーＳの付着をより防止することができる。

吸引装置４８によりハニカム基材３４の他端面（下端面）３４ｂの吸引が行われているとき、筒状体８２及び弾性部材８４の内周面に沿う内側と、筒状体８２及び弾性部材８４の外周面に沿う外側（符号βで示す）とで、風速差が生じる。筒状体８２及び弾性部材８４の内周面に沿う内側αの方が、筒状体８２及び弾性部材８４の外周面に沿う外側βよりも風速が大きくなる。このため、弾性部材８４の下端８４ａが、第１の外筒延長部３３ａの内周面に向かって広がる。このため、触媒スラリーＳがハニカム基材３４の最外周部へ拡散しつつ、全セル（隔壁）に塗工される。

吸引装置４８の動作を停止し、吸引を停止させると、弾性部材８４の下端８４ａの位置が、弾性変形８４の弾性力により、図７及び図８に示す位置に戻される。

したがって、図９及び図１０に示すように、排出ガス浄化触媒２０のハニカム基材３４の最外周及びその近傍にも、触媒スラリーＳが塗工される。そして、排出ガス浄化触媒２０は、全セルに塗工された触媒スラリーＳを乾燥させた後、焼成される。

本実施形態では、鍔部７６と第１の外筒延長部３３ａの端部３２ａとの間には、触媒スラリーＳが供給された状態でのハニカム基材３４の下端面３４ｂの吸引により、弾性部材８４の外周面と第１の外筒延長部３３ａの内周面との間に空気を取り込む流路（空気取込口）Ｆが設けられる。このため、吸引が行われている際に流れる流路Ｆに沿う空気により、第１の外筒延長部３３ａの内周面に付着しようとする触媒スラリーＳが付着せずに、又は、一旦、付着した後、空気の流れによりハニカム基材３４に向けて移動する。したがって、本実施形態によれば、第１の外筒延長部３３ａの内周面を弾性部材８４で保護することができ、第１の外筒延長部３３ａの内周面に触媒スラリーＳの塗工層を形成し難くすることが可能な触媒塗工装置１０用の案内部材（器具）４４、及び、触媒塗工装置１０を提供することができる。

流路（空気取込口）Ｆは、鍔部７６を貫通していない。このため、案内部材４４の外側から空気を取り込む際に、案内部材４４の拡径部７４の外側からのゴミ等が流路Ｆに取り込まれることを抑制することができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。

１０…触媒塗工装置、２０…排出ガス浄化触媒、３２…外筒、３２ａ…一端部（上端部）、３２ｂ…他端部（下端部）、３３ａ…第１の外筒延長部、３３ｂ…第２の外筒延長部、３４…ハニカム基材、３４ａ…一端面（上端面）、３４ｂ…他端面（下端面）、３６…環状体、４２…台座、４４…案内部材、４６…供給装置、４６ａ…ノズル部、４８…吸引装置、４８ａ…吸引口、５０ａ－５０ｄ…移動装置、５２…コントローラ、６０…開口、６２…第１の嵌合部、６４…第２の嵌合部、７２…仕切部材（筒状部）、７４…拡径部、７６…鍔部、８２…筒状体、８４…弾性部材、８４ａ…下端（遠位端）、１１０…第１部材、１１１…筒状体部、１１２…第１の鍔状部、１２０…第２の部材、１２１…筒状体部、１２２…第２の鍔状部、１３０…第３の部材。

Claims (6)

1. 金属製のハニカム基材よりも軸長が長い金属製の外筒に内挿され、該外筒によって軸方向を上下方向に配置した状態に支持される前記ハニカム基材に対して触媒金属を含む触媒スラリーを塗工する、排出ガス浄化触媒の前記ハニカム基材への触媒塗工装置用の器具であって、
   可撓性を有する筒状の仕切部材を有し、前記仕切部材がその外周面を前記ハニカム基材の上端面に対して上側に突出する前記外筒の外筒延長部の内周面に対向して配置され、
   前記ハニカム基材の上端面、かつ、前記仕切部材の内周面の内側に対して前記触媒スラリーが供給されたとき、該触媒スラリーが前記外筒延長部の内周面に接触することを抑制するように、前記仕切部材の下端が、前記ハニカム基材の上端面に近接して配置される、
   器具。
2. 前記触媒スラリーが供給された状態で、前記ハニカム基材の下端面からの吸引により、前記仕切部材の下端は、前記外筒延長部の内周面に近接するようにフレア状に弾性変形する、請求項１に記載の器具。
3. 前記仕切部材はその外周面に鍔部を有し、該鍔部は、前記外筒延長部の端面に対向して配置され、
   前記鍔部と前記外筒延長部の端面との間には、前記触媒スラリーが供給された状態での前記ハニカム基材の下端面の吸引により、前記仕切部材の外周面と前記外筒延長部の内周面との間に空気を取り込む空気取込口が設けられる、請求項１又は請求項２に記載の器具。
4. 前記排出ガス浄化触媒の前記外筒の軸方向を上下方向に配置したときに、前記外筒の下端を支持する台座と、
   前記外筒の前記外筒延長部に取り付けられる、請求項１又は請求項２に記載の器具と、
   前記ハニカム基材の上端面、かつ、前記仕切部材の内周面の内側に前記触媒スラリーを供給する触媒スラリー供給装置と、
   前記台座を介して前記ハニカム基材の下端面を吸引することにより、前記ハニカム基材の前記上端面の前記触媒スラリーを前記ハニカム基材に塗工する吸引装置と
   を有する、前記排出ガス浄化触媒の前記ハニカム基材への触媒塗工装置。
5. 外筒の内側に配置される金属製のハニカム基材よりも軸長が長い金属製の外筒に内挿され、該外筒によって軸方向を上下方向に配置した状態に支持される前記ハニカム基材の上端面の上側に、前記上下方向を前記外筒の軸方向に一致させた筒状で可撓性を有する仕切部材の外周面を、前記ハニカム基材の上端面に対して上側に突出する前記外筒の第１の外筒延長部の内周面に対向して配置すること、
   前記ハニカム基材の上端面、かつ、前記仕切部材の内周面の内側に触媒スラリーを供給すること、
   前記ハニカム基材の下端面の下側から前記触媒スラリーを吸引し、前記仕切部材の前記外周面と前記第１の外筒延長部の前記内周面との間の圧力を、前記仕切部材の前記内周面の内側の圧力よりも小さくし、前記仕切部材の下端を前記第１の外筒延長部の前記内周面に近づけるようにフレア状に弾性変形させること、
   を有する、排出ガス浄化触媒の前記ハニカム基材への触媒塗工方法。
6. 前記仕切部材を前記ハニカム基材の前記上端面に対して配置することは、
   前記ハニカム基材の前記上端面と前記仕切部材の下端との間を０ｍｍから２ｍｍに配置すること、及び、
   前記触媒スラリーを、前記ハニカム基材の前記上端面と前記仕切部材の下端との間から前記触媒スラリーが前記第１の外筒延長部の前記内周面に向かうことを抑制する粘性とすること
   を含む、請求項５に記載の触媒塗工方法。