JP7441046B2 - 保持装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態における静電チャック10の外観構成を概略的に示す斜視図である。図2は、静電チャック10のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。図1、図2には、方向を特定するために、互いに直交するXYZ軸が示されている。図2において、Y軸正方向は、紙面裏側に向かう方向である。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック10は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。
カーボンナノチューブを形成する基板を用意する。次いで、基板上に、例えば、スパッタ法、化学蒸着(Chemical Vapor Deposition、CVD)法、物理蒸着(Physical Vapor Deposition、PVD)法、真空蒸着法等により、触媒金属膜を形成する。触媒金属膜としては、例えば、膜厚約2.5nmのFe(鉄)膜を例示する。触媒金属としては、Feのほか、Co(コバルト)、Ni(ニッケル)、W(タングステン)、Mo(モリブデン)、Au(金)、Ag(銀)、Pt(白金)又はこれらのうち少なくとも一の材料を含む合金を用いても良い。また、これらの触媒金属の下地膜として、W(タングステン)、Mo(モリブデン)、Ti(チタン)、Zr(ジルコニウム)、V(バナジウム)、Cr(クロム)、Al(アルミニウム)、Cu(銅)、Au(金)、Pt(白金)、Pd(パラジウム)、Al2O3(酸化アルミニウム)、TiO2(酸化チタン)、からなる膜又はこれらのうち少なくとも一の材料を含む合金からなる膜を形成しても良い。例えば、Fe(約2.5nm)/Al(約10nm)の積層構造等を適用することができる。下地層の形成方法としては、セラミックの配線形成方法と同じ方法(金属成分を含むペーストの印刷、同時焼成)の他、スパッタ法、CVD法、PVD法、真空蒸着法等が挙げられる。
図3は、第2実施形態における静電チャック10AのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。図3において、Y軸正方向は、紙面裏側に向かう方向である。本実施形態の静電チャック10Aは、保持部100と接合部300との間に配置される第1金属層510を、さらに備える。以下に説明する実施形態において、第1実施形態の静電チャック10と同一の構成には同一の符号を付し、先行する説明を参照する。
図4は、第3実施形態の静電チャック10BのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。本実施形態の静電チャック10Bは、第2実施形態の静電チャック10Aの構成に加え、さらに、保持部100と第1金属層510との間に配置される第2金属層520を備える。
図5は、第4実施形態における静電チャック10CのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。本実施形態の静電チャック10Cは、冷却部200と接合部300との間に配置される第1金属層510と、第1金属層510の外周面の上に形成された第1保護部600を、さらに備える。
図6は、第5実施形態における静電チャック10Dの平面構成を概略的に示す説明図である。図6において、Z軸正方向は、紙面表側に向かう方向である。図7は、静電チャック10DのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。図7は、図6におけるA-A断面を示す。本実施形態の静電チャック10Dは、保持部100Dの載置面S1から冷却部200Dの下面202(Z軸負方向の面)に到る貫通孔である冷却用ガス孔102を、備える。冷却用ガス孔102には、例えば、ヘリウムガス等の冷却用ガスが供給される。これにより、ウェハWの均熱性を向上させることができる。また、静電チャック10Dは、保持部100D内の吸着電極400の裏側から冷却部200Dの下面202に到る貫通孔であり、吸着電極400に電圧を印加するための端子孔104を、備える。冷却用ガス孔102および端子孔104は、共に、接合部300Dを貫通している。すなわち、接合部300Dは、積層方向(Z軸方向)に自身を貫通する貫通孔302と貫通孔304を備える。換言すると、冷却用ガス孔102は貫通孔302を含み、端子孔104は貫通孔304を含む。
図8は、第6実施形態における接合部300Eの平面構成を概略的に示す説明図である。図8において、Z軸正方向は、紙面表側に向かう方向である。本実施形態の接合部300Eは、第5実施形態の接合部300Dと同様に、積層方向(Z軸方向)に自身を貫通する貫通孔302と貫通孔304を備える。接合部300Eは、貫通孔302と貫通孔304の外周に形成され、カーボンナノチューブの密度が他の部分より高い緻密部306を備える。
図9は、第7実施形態における静電チャック10FのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。図9(a)は、保持部100と冷却部200とが接合される前の状態を示し、図9(b)は保持部100と冷却部200とが接合された状態を示す。
本発明は上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
100、100D…保持部
102…冷却用ガス孔
104…端子孔
200、200D…冷却部
201…上面
202…下面
210…冷媒流路
300、300D、300E、300F…接合部
302、304…貫通孔
306…緻密部
310…第1接合部
311…第1表面
312…第1裏面
320…第2接合部
321…第2表面
322…第2裏面
351…第1接着面
352…第2接着面
400…吸着電極
510、510D、511、512…第1金属層
520…第2金属層
600…第1保護部
700…第2保護部
800…第3保護部
S1…載置面
S2…裏面
W…ウェハ
Claims (8)
- 対象物を保持する保持装置であって、
板状に形成され、前記対象物が載置される載置面を有する保持部と、
前記保持部に対して、前記載置面とは反対側に配置された冷却部と、
前記保持部と前記冷却部との間に配置され、前記保持部と前記冷却部とを接合する接合部と、
を備え、
前記接合部は、カーボンナノチューブから成り、
前記カーボンナノチューブは、自身の長手方向が前記保持部と前記冷却部との積層方向に沿うように、配向しており、
前記保持装置は、
さらに、
前記保持部と前記接合部との間、および前記接合部と前記冷却部との間の少なくともいずれか一方に配置される第1金属層と、
前記保持部側に配置される前記第1金属層と前記保持部との間、および前記冷却部側に配置される前記第1金属層と前記冷却部との間、の少なくともいずれか一方に配置される第2金属層と、
前記第1金属層の外周面の少なくとも一部の上に形成された第1保護部と、
を備えることを特徴とする、
保持装置。 - 対象物を保持する保持装置であって、
板状に形成され、前記対象物が載置される載置面を有する保持部と、
前記保持部に対して、前記載置面とは反対側に配置された冷却部と、
前記保持部と前記冷却部との間に配置され、前記保持部と前記冷却部とを接合する接合部と、
を備え、
前記接合部は、カーボンナノチューブから成り、
前記カーボンナノチューブは、自身の長手方向が前記保持部と前記冷却部との積層方向に沿うように、配向しており、
前記接合部は、前記積層方向に自身を貫通する貫通孔を備えると共に、前記貫通孔の外周に形成され、前記カーボンナノチューブの密度が他の部分より高い緻密部を備えることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1に記載の保持装置であって、
前記接合部は、前記積層方向に自身を貫通する貫通孔を備えると共に、前記貫通孔の外周に形成され、前記カーボンナノチューブの密度が他の部分より高い緻密部を備えることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項2に記載の保持装置であって、
さらに、
前記保持部と前記接合部との間、および前記接合部と前記冷却部との間の少なくともいずれか一方に配置される第1金属層を、備えることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項4に記載の保持装置であって、
前記保持部側に配置される前記第1金属層と前記保持部との間、および前記冷却部側に配置される前記第1金属層と前記冷却部との間、の少なくともいずれか一方に配置される第2金属層を、備えることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の保持装置であって、
さらに、
前記接合部の外周面の少なくとも一部の上に形成された第2保護部を備えることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部は、前記積層方向に自身を貫通する貫通孔を備え、
前記保持装置は、
さらに、
前記貫通孔の内周面の少なくとも一部の上に形成された第3保護部を備えることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部は、
前記保持部側の第1表面と前記第1表面の裏側の第1裏面とを有する第1接合部と、
前記冷却部側の第2表面と前記第2表面の裏側の第2裏面とを有する第2接合部と、を備え、
前記第1接合部の前記第1裏面から積層方向に所定の距離までと、前記第2接合部の前記第2裏面から所定の距離までと、が重なり合っていることを特徴とする、
保持装置。
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Citations (6)
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---|---|---|---|---|
WO2009054461A1 (ja) | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 放熱構造及びその製造方法、ヒートシンク及び放熱装置、加熱装置及びサセプタ、セラミックフィルタ及びその製造方法、並びに排ガス浄化用セラミックフィルタ及びディーゼルパティキュレートフィルタ |
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