JP7437745B2 - レーザ発振器及びレーザ加工装置 - Google Patents

レーザ発振器及びレーザ加工装置 Download PDF

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Description

本発明は、レーザ発振器及びレーザ加工装置に関するものである。
特許文献1には、伝送ファイバの入射部の近傍に集光レンズを設け、入射部側で、伝送ファイバに入射されるレーザビームのスポット径を変更することで、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを調節可能にする構成が開示されている。
特表2015-500571号公報
ところで、レーザビームのビームプロファイルを変更するために、伝送ファイバの入射端にレーザビームを導光するための折り返しミラーの角度を調整し、レーザビームの入射位置を変更することが考えられる。
これにより、レーザビームの入射位置を、ダブルコアの伝送ファイバのセンターコアから外側のリングコアまで連続的に移動させ、ビームプロファイルを変更できる。
ここで、レーザビーム全体が、伝送ファイバのセンターコア又はリングコアに入射する位置では、低い開口数(NA)でレーザビームを出射することができる。
一方、レーザビームが、センターコアとリングコアとに跨がって入射する位置では、センターコアとリングコアとの間でフッ素ドープされた屈折率の低い層にレーザビームの一部が入射してしまい、伝送ファイバの開口数が悪化してしまう。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、その目的は、伝送ファイバの開口数の悪化を抑えつつ、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを変更できるようにすることにある。
本発明は、複数のレーザビームを合成して伝送ファイバに入射させるレーザ発振器を対象とし、次のような解決手段を講じた。
すなわち、第1の発明は、前記伝送ファイバは、第1コアと、該第1コアの外周部に設けられた第2コアと、該第2コアの外周部に設けられたクラッドとを有し、
前記複数のレーザビームは、第1レーザビームと、該第1レーザビームとは偏光の向きが異なる第2レーザビームとを含み、
前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームを偏波合成する第1光学部材と、
前記第1光学部材の角度を調整して、前記伝送ファイバの入射端における前記第2レーザビームの入射位置を変更する第1角度調整部とを備えている。
第1の発明では、第1レーザビーム及び第2レーザビームが、第1光学部材で偏波合成される。第2レーザビームは、第1レーザビームとは偏光の向きが異なっている。第1光学部材の角度を調整することで、伝送ファイバの入射端における第2レーザビームの入射位置が変更される。
このような構成とすれば、第1コアに入射されるレーザビームと、第2コアに入射されるレーザビームの割合を調整して、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを変更することができる。
これにより、加工内容や加工対象物の形状等に応じたビームプロファイルを得ることができ、所望の品質のレーザ加工を行うことができる。
また、第2レーザビームの入射位置を調整して、第1コアと第2コアとに跨がって第2レーザビームが入射しないようにすることで、伝送ファイバの開口数の悪化を抑えることができる。
第2の発明は、第1の発明において、
前記第1角度調整部は、前記第1光学部材の角度を調整して、前記第1レーザビームを前記第1コアに入射させる一方、前記第2レーザビームを前記第2コアに入射させる。
第2の発明では、第1光学部材の角度を調整することで、第1レーザビームを第1コアに入射させ、第2レーザビームを第2コアに入射させる。
これにより、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを、センターコアモードと中間モードとに変更することができる。
ここで、センターコアモードとは、第1レーザビーム及び第2レーザビームの両方が第1コアに入射するモードである。中間モードとは、第1レーザビームが第1コアに入射し且つ第2レーザビームが第2コアに入射するモードである。
第3の発明は、第1又は第2の発明において、
前記第1光学部材で偏波合成された前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームを前記伝送ファイバに向けて導光させる第2光学部材と、
前記第2光学部材の角度を調整して、前記伝送ファイバの入射端における前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームの入射位置を変更する第2角度調整部とを備えている。
第3の発明では、第2光学部材によって、第1レーザビーム及び第2レーザビームが伝送ファイバに向けて導光される。第2光学部材の角度を調整することで、伝送ファイバの入射端における第1レーザビーム及び第2レーザビームの入射位置が変更される。
これにより、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを、リングコアモードに変更することができる。ここで、リングコアモードとは、第1レーザビーム及び第2レーザビームの両方が第2コアに入射するモードである。
第4の発明は、第1乃至第3の発明のうち何れか1つに記載のレーザ発振器と、
前記伝送ファイバの出射端に接続されたレーザ加工ヘッドとを備えたレーザ加工装置である。
第4の発明では、第1乃至第4の発明のうち何れか1つに記載のレーザ発振器で合成されたレーザビームが、伝送ファイバを介してレーザ加工ヘッドから出射することで、レーザ加工装置を構成するようにしている。
そして、本発明のレーザ発振器では、伝送ファイバの開口数の悪化を抑えるようにしているので、レーザ加工ヘッドにおける受光可能な開口数の制約に抵触することはない。
本発明によれば、伝送ファイバの開口数の悪化を抑えつつ、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを変更することができる。
本実施形態1に係るレーザ加工装置の構成を示す斜視図である。 ビーム結合器の内部構成を示す正面図である。 センターコアモード時のレーザビームの入射位置を示す側面図である。 センターコアモード時のビームプロファイルを示す模式図である。 リングコアモード時のレーザビームの入射位置を示す側面図である。 リングコアモード時のビームプロファイルを示す模式図である。 中間モード時のレーザビームの入射位置を示す正面図である。 中間モード時のレーザビームの入射位置を示す平面図である。 中間モード時のビームプロファイルを示す模式図である。 本実施形態2に係るレーザ加工装置の構成を示す斜視図である。 ビーム結合器の内部構成を示す正面図である。 センターコア過多モード時のレーザビームの入射位置を示す正面図である。 センターコア過多モード時のビームプロファイルを示す模式図である。 リングコア過多モード時のレーザビームの入射位置を示す正面図である。 リングコア過多モード時のビームプロファイルを示す模式図である。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。
《実施形態1》
〈レーザ加工装置の構成〉
図1に示すように、レーザ加工装置1は、レーザ発振器10と、伝送ファイバ40と、レーザ加工ヘッド2と、制御部5と、電源6とを備えている。
レーザ発振器10は、複数のレーザモジュールLM1~LM4と、ビーム結合器20と、集光ユニット15とを有する。図1に示す例では、レーザモジュールLM1~LM4は4つ設けられている。
複数のレーザモジュールLM1~LM4は、異なる波長のレーザビームを発する複数のレーザダイオード又はレーザアレイで構成されている。レーザモジュールLM1~LM4内で波長合成されたレーザビームは、各々のレーザモジュールLM1~LM4からそれぞれ出射される。
ビーム結合器20は、複数のレーザモジュールLM1~LM4からそれぞれ出射されたレーザビームLB1~LB4(図2参照)を一つのレーザビームLBに結合する。ビーム結合器20は、レーザビームLBを集光ユニット15に出射する。
集光ユニット15は、集光レンズ16を有する。集光レンズ16は、集光ユニット15に入射されたレーザビームLBを集光する。集光ユニット15で集光されたレーザビームLBは、所定の倍率でビーム径が縮小され、伝送ファイバ40に入射される。
伝送ファイバ40の入射端は、集光ユニット15に接続されている。伝送ファイバ40の出射端は、レーザ加工ヘッド2に接続されている。伝送ファイバ40は、集光ユニット15を介してレーザ発振器10から受け取ったレーザビームLBを、レーザ加工ヘッド2に向かって導光する。なお、後述するが、伝送ファイバ40はダブルコアファイバで構成されている。
レーザ加工ヘッド2は、伝送ファイバ40で導光されたレーザビームLBを外部に向けて照射する。例えば、図1に示すレーザ加工装置1では、所定の位置に配置された加工対象物であるワーク(図示せず)に向けてレーザビームLBを出射する。
制御部5は、レーザ発振器10のレーザ発振を制御する。具体的に、制御部5は、レーザ発振器10に接続された電源6に対して、出力電圧やオン時間等の制御信号を供給することで、各々のレーザモジュールLM1~LM4のレーザ発振制御を行う。
なお、制御部5は、各々のレーザモジュールLM1~LM4に対して個別にレーザ発振制御を行うことも可能である。例えば、レーザモジュールLM1~LM4にレーザ発振出力やオン時間等を異ならせるようにしてもよい。また、制御部5は、レーザ加工ヘッド2が取り付けられたマニピュレータ(図示せず)の動作を制御してもよい。
また、後述するが、制御部5は、ビーム結合器20の内部に配置された各種の光学部材に連結されたアクチュエータの動作を制御する。
電源6は、レーザ発振を行うための電力を、レーザ発振器10の複数のレーザモジュールLM1~LM4に対してそれぞれ供給する。なお、制御部5からの指令により、各々のレーザモジュールLM1~LM4に供給される電力を異ならせるようにしてもよい。
また、電源6は、レーザ加工装置1の可動部に対してそれぞれ電力を供給するようにしてもよいし、レーザ加工装置1の可動部向けには別の電源(図示せず)から電力を供給するようにしてもよい。
図2に示すように、ビーム結合器20は、複数の平行平板OC1~OC4と、ミラーMR1~MR4と、波長板25と、第1光学部材21と、第2光学部材22とを有する。
平行平板OC1~OC4は、石英ガラス製の部材である。平行平板OC1~OC4は、レーザモジュールLM1~LM4から出射されたレーザビームLB1~LB4の光路上に配置されている。レーザモジュールLM1~LM4は、S偏光のレーザビームLB1~LB4を出射する。
ミラーMR1,MR4は、折り返し用のミラーである。ミラーMR2,MR3は、空間合成用のミラーである。
レーザビームLB1は、ミラーMR1及びミラーMR2で反射され、第1光学部材21に向かう。レーザビームLB2は、ミラーMR2でレーザビームLB1と空間合成され、第1光学部材21に向かう。
レーザビームLB3は、ミラーMR3で反射され、波長板25を透過する。レーザビームLB4は、ミラーMR4で反射され、ミラーMR3でレーザビームLB3と空間合成された後、波長板25を透過する。
波長板25は、λ/2プレートで構成されている。波長板25は、レーザビームLB3,LB4の偏光の向きを変更する。具体的に、レーザモジュールLM3,LM4は、S偏光のレーザビームLB3,LB4を出射している。そのため、波長板25を透過したレーザビームLB3,LB4は、P偏光となる。波長板25を透過したレーザビームLB3,LB4は、第1光学部材21に向かう。
第1光学部材21は、偏光合成ミラーで構成されている。第1光学部材21は、偏光の向きが異なるレーザビームを偏波合成する。具体的に、第1光学部材21は、S偏光のレーザビームLB1,LB2(第1レーザビーム)を透過させる一方、P偏光のレーザビームLB3,LB4(第2レーザビーム)を反射させる。
第1光学部材21には、第1角度調整部23が設けられている。第1角度調整部23は、モータ等のアクチュエータで構成されている。第1角度調整部23は、第1光学部材21の傾斜角度を調整する。詳しくは後述するが、第1光学部材21の角度を調整することで、伝送ファイバ40の入射端におけるレーザビームLB3,LB4の入射位置を変更することができる。
第1光学部材21を透過したレーザビームLB1,LB2と、第1光学部材21で反射されたレーザビームLB3,LB4とは、第2光学部材22に向かう。
第2光学部材22は、折り返しミラーで構成されている。第2光学部材22は、集光レンズ16に向かってレーザビームLB1~LB4を反射させる。集光レンズ16で集光されたレーザビームLB1~LB4は、伝送ファイバ40の入射端に向かって導光される。
第2光学部材22には、第2角度調整部24が設けられている。第2角度調整部24は、モータ等のアクチュエータで構成されている。第2角度調整部24は、第2光学部材22の傾斜角度を調整する。詳しくは後述するが、第2光学部材22の角度を調整することで、伝送ファイバ40の入射端におけるレーザビームLB1~LB4の入射位置を変更することができる。
図3に示すように、伝送ファイバ40は、第1コア41と、第2コア42と、クラッド43とを有する。
第1コア41は、断面が略円形状に形成されている。第1コア41の材質は、石英ガラス(屈折率:約1.45)である。
第2コア42は、第1コア41の外周部に設けられている。第2コア42は、第1コア41と同軸に設けられている。第2コア42の材質は、石英ガラス(屈折率:約1.45)である。
クラッド43は、第2コア42の外周部に設けられている。クラッド43は、第1コア41及び第2コア42と同軸に設けられている。クラッド43の材質は、石英ガラス(屈折率:約1.45)である。
図4に示すように、第1コア41と第2コア42との間には、第1低屈折率層44が設けられている。第1低屈折率層44は、フッ素がドープされた石英ガラスで構成されている。第1低屈折率層44の屈折率は、約1.445であり、第1コア41及び第2コア42の屈折率よりも低くなっている。
第2コア42とクラッド43との間には、第2低屈折率層45が設けられている。第2低屈折率層45は、第1低屈折率層44よりも高濃度にフッ素がドープされた石英ガラスで構成されている。第2低屈折率層45の屈折率は、約1.43であり、第2コア42及びクラッド43の屈折率よりも低くなっている。
伝送ファイバ40における第1コア41及び第2コア42の少なくとも一方には、レーザビームが入射する。レーザビームは、第1コア41及び第2コア42の少なくとも一方の内部で全反射され、伝送ファイバ40の出射端から出射される。
つまり、第1コア41及び第2コア42の少なくとも一方は、レーザビームの光導波路として機能する。クラッド43は、レーザビームを第1コア41及び第2コア42の少なくとも一方の内部に閉じ込める光閉じ込め部として機能する。なお、図示しないが、クラッド43の表面は、被膜で覆われている。
〈レーザビームのビームプロファイルについて〉
以下の説明では、図1~図3において、レーザ発振器10からビーム結合器20へ入射されるレーザビームLBの進行方向をX方向、レーザモジュールLM2から出射されたレーザビームLB2が第1光学部材21に向かう方向をZ方向、X方向及びZ方向と直交する方向をY方向とそれぞれ呼ぶことがある。
図1に示すレーザ加工装置1を用いてレーザ加工を行う場合、加工対象物及び加工内容によって、レーザビームLBのビームプロファイルを変化させる場合が生じうる。
このような場合に、伝送ファイバ40の入射端におけるレーザビームLBの入射位置を変えることで、伝送ファイバ40から出射されるレーザビームLBのビームプロファイルを変化させることができる。
具体的に、図2に示す例における、第1光学部材21及び第2光学部材22の傾斜角度では、レーザビームLB1~LB4が伝送ファイバ40の第1コア41に入射する(図3参照)。このように、レーザビームLB1~LB4が第1コア41にのみ入射されるモードを、センターコアモードという。
センターコアモードでは、伝送ファイバ40から出射されるレーザビームLBのビームプロファイルは、単峰状のガウシアン分布となる(図4参照)。
なお、本実施形態では、「ビームプロファイル」は、レーザビーム強度の空間分布を意味する。図4では、レーザビーム強度は、Z方向の波形変化で示されており、空間分布はX方向の波形変化で示されている。なお、図示しないが、本実施形態では、Y方向の波形変化もX方向の波形変化と同様である。ただし、X方向とY方向とで空間分布が異なっていてもよい。
また、図5に示すように、第1光学部材21をセンターコアモードと同じ角度とした状態で、第2光学部材22の角度を調整することで、レーザビームLB1~LB4が伝送ファイバ40の第2コア42に入射する。このように、レーザビームLB1~LB4が第2コア42にのみ入射されるモードを、リングコアモードという。
リングコアモードでは、伝送ファイバ40から出射されるレーザビームLBのビームプロファイルは、2つのピークを有する形状となる(図6参照)。リングコアモードでは、センターコアモードと比べてビームプロファイルの半値幅が大きくなる。
また、図7及び図8に示すように、第2光学部材22をセンターコアモードと同じ角度とした状態で、第1光学部材21の角度を調整することで、レーザビームLB1,LB2が第1コア41に入射し、レーザビームLB3,LB4が第2コア42に入射する。このようなモードを、中間モードという。
中間モードでは、レーザビームLB3,LB4の入射位置を調整して、第1コア41と第2コア42とに跨がってレーザビームLBが入射しないようにしている。これにより、伝送ファイバ40の開口数の悪化を抑えることができる。
中間モードでは、伝送ファイバ40から出射されるレーザビームLBのビームプロファイルは、3つのピークを有する形状となる(図9参照)。中間モードでは、センターコアモードと比べてビームプロファイルの半値幅が大きくなる。
このように、第1光学部材21及び第2光学部材22の角度を調整して、伝送ファイバ40の入射端におけるレーザビームLB1~LB4の入射位置を変化させることで、第1コア41を伝搬するレーザビームと第2コア42を伝搬するレーザビームとの割合を調整できる。
以上のように、本実施形態に係るレーザ加工装置1によれば、加工内容や加工対象物の形状等に応じたビームプロファイルを得ることができ、所望の品質のレーザ加工を行うことができる。
例えば、薄い鋼板をレーザ加工装置1で切断加工する場合には、切断箇所でのエネルギー密度を高める方がよく、また、切断幅は狭いほうがよい。よって、図4のセンターコアモードのように、ビームプロファイルを単峰状のガウシアン分布に制御するのが好ましい。
一方、厚い鋼板をレーザ加工装置1で切断加工する場合には、鋼板の厚みに対応させて切断幅もある程度広くとる必要がある。よって、図9の中間モードのように、ビームプロファイルを空間的に拡がった形状に制御するのが好ましい。
《実施形態2》
図10は、本実施形態2に係るレーザ加工装置の構成を示す斜視図である。以下、前記実施形態1と同じ部分については同じ符号を付し、相違点についてのみ説明する。
図10に示すように、レーザ発振器10は、複数のレーザモジュールLM1~LM6と、ビーム結合器20と、集光ユニット15とを有する。図10に示す例では、レーザモジュールLM1~LM6は6つ設けられている。
図11に示すように、ビーム結合器20は、複数の平行平板OC1~OC6と、ミラーMR1~MR10と、波長板25,35と、第1光学部材21と、第2光学部材22とを有する。
平行平板OC1~OC6は、レーザモジュールLM1~LM6から出射されたレーザビームLB1~LB6の光路上に配置されている。レーザモジュールLM1~LM6は、S偏光のレーザビームLB1~LB6を出射する。
ミラーMR1,MR4~MR8は、折り返し用のミラーである。ミラーMR2,MR3,MR9は、空間合成用のミラーである。ミラーMR10は、偏波合成ミラーである。
レーザビームLB1,LB2は、ミラーMR2で空間合成され、第1光学部材21に向かう。
レーザビームLB3,LB4は、ミラーMR3で空間合成された後、波長板25を透過する。波長板25を透過したレーザビームLB3,LB4は、P偏光となる。波長板25を透過したレーザビームLB3,LB4は、第1光学部材21に向かう。
第1光学部材21を透過したレーザビームLB1,LB2と、第1光学部材21で反射されたレーザビームLB3,LB4とは、ミラーMR8で反射され、ミラーMR9に向かう。
一方、レーザビームLB5は、平行平板OC5を透過した後、ミラーMR5で反射された後、波長板35を透過する。波長板35は、レーザビームLB5の偏光の向きを変更する。具体的に、レーザモジュールLM5は、S偏光のレーザビームLB5を出射している。そのため、波長板35を透過したレーザビームLB5は、P偏光となる。波長板35を透過したレーザビームLB5は、ミラーMR10に向かう。
レーザビームLB6は、平行平板OC6を透過した後、ミラーMR6及びミラーMR7で反射された後、ミラーMR10に向かう。
ミラーMR10は、偏波合成ミラーであり、偏光の向きが異なるレーザビームを偏波合成する。具体的に、ミラーMR10は、S偏光のレーザビームLB6を透過させる一方、P偏光のレーザビームLB5を反射させる。ミラーMR10で偏波合成されたレーザビームLB5,LB6は、ミラーMR9に向かう。
レーザビームLB1~LB6は、ミラーMR9で空間合成された後、第2光学部材22に向かう。ここで、図12にも示すように、ミラーMR9の角度は、レーザビームLB5,LB6が第2コア42に入射するように設定されている。
具体的に、図12に示す例における、第1光学部材21及び第2光学部材22の角度では、レーザビームLB1~LB4が伝送ファイバ40の第1コア41に入射する一方、レーザビームLB5,LB6が第2コア42に入射する。このように、第1コア41に入射するレーザビームの数が第2コア42に入射するレーザビームの数よりも多いモードを、センターコア過多モードという。
センターコア過多モードでは、伝送ファイバ40から出射されるレーザビームLBのビームプロファイルは、3つのピークを有する形状となる(図13参照)。センターコア過多モードでは、中央部のピークの高さが、左右両側のピークの高さよりも高くなっている。
また、図14に示すように、第2光学部材22をセンターコアモードと同じ角度とした状態で、第1光学部材21の角度を調整することで、レーザビームLB1,LB2が第1コア41に入射する一方、レーザビームLB3,LB4とレーザビームLB5,LB6とが左右に分かれてそれぞれ第2コア42に入射する。このようなモードを、リングコア過多モードという。
リングコア過多モードでは、伝送ファイバ40から出射されるレーザビームLBのビームプロファイルは、3つのピークを有する形状となる(図15参照)。リングコアモードでは、中央部のピークの高さが、左右両側のピークの高さよりも低くなっている。
このように、第1光学部材21及び第2光学部材22の角度を調整して、伝送ファイバ40の入射端におけるレーザビームLB1~LB6の入射位置を変化させることで、第1コア41を伝搬するレーザビームと第2コア42を伝搬するレーザビームとの割合を調整できる。
以上説明したように、本発明は、伝送ファイバの開口数の悪化を抑えつつ、伝送ファイバから出射されるレーザビームのビームプロファイルを変更できるという実用性の高い効果が得られることから、きわめて有用で産業上の利用可能性は高い。
1 レーザ加工装置
2 レーザ加工ヘッド
10 レーザ発振器
40 伝送ファイバ
41 第1コア
42 第2コア
43 クラッド
21 第1光学部材
22 第2光学部材
23 第1角度調整部
24 第2角度調整部
LB レーザビーム
LB1,LB2 レーザビーム(第1レーザビーム)
LB3,LB4 レーザビーム(第2レーザビーム)

Claims (4)

  1. 複数のレーザビームを合成して伝送ファイバに入射させるレーザ発振器であって、
    前記伝送ファイバは、第1コアと、該第1コアの外周部に設けられた第2コアと、該第1コアと該第2コアとの間に設けられ且つ該第1コア及び該第2コアよりも屈折率の低い第1低屈折率層と、該第2コアの外周部に設けられたクラッドとを有し、
    前記複数のレーザビームは、第1レーザビームと、該第1レーザビームとは偏光の向きが異なる第2レーザビームとを含み、
    前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームを偏波合成する第1光学部材と、
    前記第1光学部材の角度を調整して、前記第1コアと前記第2コアとに跨がって前記第2レーザビームが入射しないように、前記伝送ファイバの入射端における前記第2レーザビームの入射位置を変更する第1角度調整部とを備え
    前記第1角度調整部は、前記第1光学部材の角度を調整して、前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームの両方を前記第1コアに入射させるセンターコアモードと、前記第1レーザビームを前記第1コアに入射させる一方、前記第2レーザビームを前記第2コアに入射させる中間モードと、に変更するレーザ発振器。
  2. 請求項1において、
    前記第1光学部材で偏波合成された前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームを前記伝送ファイバに向けて導光させる第2光学部材と、
    前記第2光学部材の角度を調整して、前記伝送ファイバの入射端における前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームの入射位置を変更する第2角度調整部とを備えたレーザ発振器。
  3. 請求項2において、
    前記第2角度調整部は、前記第2光学部材の角度を調整して、前記第1レーザビーム及び前記第2レーザビームの両方を前記第2コアに入射させるリングコアモードに変更するレーザ発振器。
  4. 請求項1乃至3のうち何れか1つに記載のレーザ発振器と、
    前記伝送ファイバの出射端に接続されたレーザ加工ヘッドとを備えたレーザ加工装置。
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