JP7434727B2 - Adhesive compositions, laminates and adhesive sheets - Google Patents

Adhesive compositions, laminates and adhesive sheets Download PDF

Info

Publication number
JP7434727B2
JP7434727B2 JP2019102440A JP2019102440A JP7434727B2 JP 7434727 B2 JP7434727 B2 JP 7434727B2 JP 2019102440 A JP2019102440 A JP 2019102440A JP 2019102440 A JP2019102440 A JP 2019102440A JP 7434727 B2 JP7434727 B2 JP 7434727B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
base material
resin
adhesive composition
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019102440A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020196789A (en
Inventor
正嗣 水野
武史 中村
来 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Resonac Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd, Resonac Corp filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2019102440A priority Critical patent/JP7434727B2/en
Publication of JP2020196789A publication Critical patent/JP2020196789A/en
Priority to JP2024016867A priority patent/JP2024050836A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7434727B2 publication Critical patent/JP7434727B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、接着剤組成物、積層体及び接着シートに関する。より詳しくは、本発明は、樹脂基材と樹脂基材又は金属基材との接着に用いられる接着剤組成物に関し、特に液晶ポリマー(以下、「LCP」と略す)等の低誘電特性を有する基材との接着に用いられる接着剤組成物に関する。 The present invention relates to an adhesive composition, a laminate, and an adhesive sheet. More specifically, the present invention relates to an adhesive composition used for adhering a resin base material and a resin base material or a metal base material, and in particular, an adhesive composition having low dielectric properties such as a liquid crystal polymer (hereinafter abbreviated as "LCP"). The present invention relates to an adhesive composition used for adhesion to a base material.

近年、プリント配線板における伝送信号の高速化に伴い、信号の高周波化が進んでいる。これに伴い、フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」と略す)には、高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)の要求が高まっている。このような要求に対して、FPCに用いられる基材フィルムとして、従来のポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレートフィルムに代えて、低誘電特性を有するLCP、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)等の基材フィルムが提案されている。 In recent years, as the speed of transmission signals in printed wiring boards has increased, the frequency of signals has been increasing. Along with this, there is an increasing demand for flexible printed wiring boards (hereinafter abbreviated as "FPC") to have low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in a high frequency region. In response to these demands, LCP, syndiotactic polystyrene (SPS), and polyphenylene sulfide (PPS), which have low dielectric properties, are being used as base films for FPCs instead of conventional polyimide (PI) and polyethylene terephthalate films. ) and other base films have been proposed.

しかしながら、低誘電特性を有する基材フィルムは、低極性のため、従来のエポキシ系接着剤又はアクリル系接着剤を用いた場合、接着力が弱く、カバーレイフィルム及び積層板等のFPC用部材の作製が困難であった。また、エポキシ系接着剤及びアクリル系接着剤は、低誘電特性に優れず、FPCの誘電特性を損なうという問題がある。 However, since base films with low dielectric properties have low polarity, when conventional epoxy adhesives or acrylic adhesives are used, the adhesive strength is weak, resulting in poor adhesive strength for FPC members such as coverlay films and laminates. It was difficult to manufacture. Furthermore, epoxy adhesives and acrylic adhesives have a problem of not being excellent in low dielectric properties and impairing the dielectric properties of FPC.

一方、ポリオレフィン樹脂は、低誘電特性を有することが知られている。そこで、ポリオレフィン樹脂を用いたFPC用接着剤組成物が提案されている。例えば、特許文献1では、FPCの電気特性を高めるために、オレフィン骨格を導入した変性ポリアミド接着剤組成物が提案されている。また、特許文献2では、芳香族オレフィンオリゴマー型改質剤とエポキシ樹脂を用いた接着剤及びフレキシブルプリント配線板用カバーレイが提案されている。 On the other hand, polyolefin resins are known to have low dielectric properties. Therefore, an adhesive composition for FPC using a polyolefin resin has been proposed. For example, Patent Document 1 proposes a modified polyamide adhesive composition into which an olefin skeleton is introduced in order to improve the electrical properties of FPC. Further, Patent Document 2 proposes an adhesive and a coverlay for a flexible printed wiring board using an aromatic olefin oligomer type modifier and an epoxy resin.

特開2007-284515号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-284515 特開2007-63306号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-63306

しかしながら、特許文献1及び2に記載された接着剤組成物は、ポリイミドフィルムとの接着性は得られるものの、LCP等の低誘電特性を有する基材フィルムとの接着性が得られ難いという問題がある。また、特許文献1及び2に記載された接着剤組成物は、誘電特性が劣るという問題がある。 However, the adhesive compositions described in Patent Documents 1 and 2 have a problem in that although they can obtain adhesive properties with polyimide films, it is difficult to obtain adhesive properties with base films having low dielectric properties such as LCP. be. Furthermore, the adhesive compositions described in Patent Documents 1 and 2 have a problem of poor dielectric properties.

また、LCP基材を用いる場合は、接着剤を用いずにLCPを溶融させ、銅箔と貼り合せて2層基板を作製する方法がある。しかしながらこの方法は、高温で貼り合せる装置又は機台が必要であったり、加工時にシワが入りやすく、歩留まりが低下したりするという問題がある。 Furthermore, when using an LCP base material, there is a method of melting the LCP without using an adhesive and bonding it with copper foil to produce a two-layer board. However, this method has problems in that it requires a device or machine for bonding at high temperatures, tends to wrinkle during processing, and reduces yield.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、LCP等の基材と良好な接着性を有し、且つ低誘電特性にも優れた接着剤組成物、それを用いた積層体及び接着シートを提供することを目的とする。 The present invention was made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and provides an adhesive composition that has good adhesion to substrates such as LCP and has excellent low dielectric properties, and an adhesive composition using the same. The purpose of the present invention is to provide a laminate and an adhesive sheet.

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ダイマー酸に由来する構造を有する特定のビスマレイミド樹脂を含有し、また、エポキシ樹脂、活性エステル系硬化剤を含有し、さらに特定の構造を持った硬化促進剤を含有する接着剤組成物が、優れた低誘電特性を発現するとともに、LCP等の低誘電特性を有する樹脂基材と高い接着性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have developed a method that contains a specific bismaleimide resin having a structure derived from dimer acid, and also contains an epoxy resin and an active ester curing agent. We have discovered that an adhesive composition containing a curing accelerator with a specific structure exhibits excellent low dielectric properties and has high adhesion to resin base materials with low dielectric properties such as LCP. The invention was completed.

すなわち、本発明は、以下の発明を提供する。
[1](A)下記一般式(1)で表されるビスマレイミド樹脂と、(B)エポキシ樹脂と、(C)活性エステル系硬化剤と、(D)硬化促進剤と、を含有し、上記(D)成分が、イミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含む、接着剤組成物。

Figure 0007434727000001

[式(1)中、Rはダイマー酸に由来する2価の炭化水素基を示し、Qは置換又は非置換の炭素数1~100の脂肪族基、置換又は非置換の芳香族基、或いは、置換又は非置換のヘテロ芳香族基を示し、nは0~100の整数を示す。]
[2]上記(B)成分の含有量が、上記(A)成分、上記(B)成分及び上記(C)成分の総量を100質量部として2.0~30.0質量部である、上記[1]に記載の接着剤組成物。
[3]上記(C)成分の含有量が、上記(A)成分、上記(B)成分及び上記(C)成分の総量を100質量部として2.0~35.0質量部である、上記[1]又は[2]に記載の接着剤組成物。
[4]上記(D)成分の含有量が、上記(A)成分、上記(B)成分及び上記(C)成分の総量100質量部に対して0.1~5.0質量部である、上記[1]~[3]のいずれかに記載の接着剤組成物。
[5]樹脂基材と、樹脂基材又は金属基材との接着に用いられる、上記[1]~[4]のいずれかに記載の接着剤組成物。
[6]基材と、該基材上に上記[1]~[5]のいずれかに記載の接着剤組成物を用いて形成された接着剤層と、を備える積層体。
[7]上記[1]~[5]のいずれかに記載の接着剤組成物によって接着された、樹脂基材と、樹脂基材又は金属基材とを備える積層体。
[8]上記[6]又は[7]に記載の積層体を備える接着シート。 That is, the present invention provides the following inventions.
[1] Contains (A) a bismaleimide resin represented by the following general formula (1), (B) an epoxy resin, (C) an active ester curing agent, and (D) a curing accelerator, An adhesive composition in which the component (D) contains at least one selected from the group consisting of imidazole compounds, amine compounds, and peroxide compounds.
Figure 0007434727000001

[In formula (1), R 1 represents a divalent hydrocarbon group derived from a dimer acid, Q is a substituted or unsubstituted aliphatic group having 1 to 100 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group, Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and n represents an integer of 0 to 100. ]
[2] The content of component (B) is 2.0 to 30.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of component (A), component (B), and component (C). The adhesive composition according to [1].
[3] The content of the component (C) is 2.0 to 35.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A), the component (B), and the component (C). The adhesive composition according to [1] or [2].
[4] The content of the component (D) is 0.1 to 5.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A), the component (B), and the component (C). The adhesive composition according to any one of [1] to [3] above.
[5] The adhesive composition according to any one of [1] to [4] above, which is used for bonding a resin base material and a resin base material or a metal base material.
[6] A laminate comprising a base material and an adhesive layer formed on the base material using the adhesive composition according to any one of [1] to [5] above.
[7] A laminate comprising a resin base material and a resin base material or a metal base material adhered by the adhesive composition according to any one of [1] to [5] above.
[8] An adhesive sheet comprising the laminate according to [6] or [7] above.

本発明によれば、LCP等の基材と良好な接着性を有し、且つ低誘電特性にも優れた接着剤組成物、それを用いた積層体及び接着シートを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an adhesive composition that has good adhesion to a base material such as LCP and also has excellent low dielectric properties, and a laminate and adhesive sheet using the same.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on its preferred embodiments.

[接着剤組成物]
本実施形態の接着剤組成物は、(A)一般式(1)で表されるビスマレイミド樹脂(以下、「(A)成分」ともいう)と、(B)エポキシ樹脂(以下、「(B)成分」ともいう)と、(C)活性エステル系硬化剤(以下、「(C)成分」ともいう)と、(D)硬化促進剤(以下、「(D)成分」ともいう)とを含有する。また、本実施形態の接着剤組成物において、上記(D)成分は、イミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物からなる群より選択される少なくとも一種の硬化促進剤を含む。さらに、本実施形態の接着剤組成物は、(E)有機溶剤(以下、「(E)成分」ともいう)を含有していてもよい。
[Adhesive composition]
The adhesive composition of the present embodiment includes (A) a bismaleimide resin represented by general formula (1) (hereinafter also referred to as "(A) component"), and (B) an epoxy resin (hereinafter referred to as "(B) component"). ), (C) an active ester curing agent (hereinafter also referred to as "(C) component"), and (D) a curing accelerator (hereinafter also referred to as "(D) component"). contains. Furthermore, in the adhesive composition of the present embodiment, the component (D) includes at least one type of curing accelerator selected from the group consisting of imidazole compounds, amine compounds, and peroxide compounds. Furthermore, the adhesive composition of this embodiment may contain (E) an organic solvent (hereinafter also referred to as "component (E)").

<(A)成分:ビスマレイミド樹脂>
(A)ビスマレイミド樹脂は、下記一般式(1)で表される化合物であり、ダイマー酸から誘導されたジアミンであるダイマージアミンとテトラカルボン酸二無水物とマレイン酸無水物とを反応させて得ることができる。
<(A) Component: Bismaleimide resin>
(A) Bismaleimide resin is a compound represented by the following general formula (1), and is produced by reacting dimer diamine, which is a diamine derived from dimer acid, tetracarboxylic dianhydride, and maleic anhydride. Obtainable.

Figure 0007434727000002

式(1)中、Rはダイマー酸に由来する2価の炭化水素基を示し、Qは置換又は非置換の炭素数1~100の脂肪族基、置換又は非置換の芳香族基、或いは、置換又は非置換のヘテロ芳香族基を示し、nは0~100の整数を示す。式(1)中のQは、LCP等の低誘電特性を有する樹脂基材に対するより優れた接着性、及び、より優れた低誘電特性を得る観点から、非置換の芳香族基であることが好ましい。また、式(1)中のnは、LCP等の低誘電特性を有する樹脂基材に対するより優れた接着性、及び、より優れた低誘電特性を得る観点から、5~30の整数であることが好ましい。
Figure 0007434727000002

In formula (1), R 1 represents a divalent hydrocarbon group derived from dimer acid, and Q represents a substituted or unsubstituted aliphatic group having 1 to 100 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group, or , represents a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and n represents an integer of 0 to 100. Q in formula (1) is preferably an unsubstituted aromatic group from the viewpoint of obtaining better adhesion to a resin base material having low dielectric properties such as LCP and better low dielectric properties. preferable. Further, n in formula (1) should be an integer of 5 to 30 from the viewpoint of obtaining better adhesion to a resin base material having low dielectric properties such as LCP and better low dielectric properties. is preferred.

ダイマージアミンは、例えば、特開平9-12712号公報に記載されているように、オレイン酸等の不飽和脂肪酸の二量体であるダイマー酸から誘導される化合物である。本実施形態では、公知のダイマージアミンを特に制限なく使用できるが、例えば下記一般式(3)及び/又は一般式(4)で表されるものが好ましい。 Dimer diamine is a compound derived from dimer acid, which is a dimer of unsaturated fatty acids such as oleic acid, as described in, for example, JP-A-9-12712. In the present embodiment, known dimer diamines can be used without particular limitation, but those represented by the following general formula (3) and/or general formula (4) are preferred, for example.

Figure 0007434727000003
Figure 0007434727000003

Figure 0007434727000004
Figure 0007434727000004

式(3)及び(4)中、p、q、r及びsはそれぞれ、p+q=6~17、r+s=8~19となるように選ばれる1以上の整数を示し、1~12の整数であってもよい。また、式(3)及び(4)中、破線で示した結合は、炭素-炭素単結合又は炭素-炭素二重結合を意味する。但し、破線で示した結合が炭素-炭素二重結合である場合、式(3)及び(4)は、炭素-炭素二重結合を構成する各炭素原子に結合する水素原子の数を、式(3)及び(4)に示した数から1つ減じた構造となる。 In formulas (3) and (4), p, q, r and s each represent an integer of 1 or more selected so that p+q=6 to 17 and r+s=8 to 19, and are integers of 1 to 12. There may be. Furthermore, in formulas (3) and (4), the bond shown by a broken line means a carbon-carbon single bond or a carbon-carbon double bond. However, when the bond shown by the broken line is a carbon-carbon double bond, formulas (3) and (4) calculate the number of hydrogen atoms bonded to each carbon atom constituting the carbon-carbon double bond using the formula The structure is obtained by subtracting one from the numbers shown in (3) and (4).

ダイマージアミンとしては、得られるビスマレイミド樹脂の有機溶剤溶解性、及び、当該ビスマレイミド樹脂を接着剤組成物の材料に用いた場合の接着剤組成物の耐熱性、耐熱接着性、低粘度等の観点から、上記一般式(4)で表されるものが好ましく、特に下記式(4-1)で表される化合物が好ましい。

Figure 0007434727000005
The dimer diamine is used to improve the organic solvent solubility of the resulting bismaleimide resin, as well as the heat resistance, heat-resistant adhesion, and low viscosity of the adhesive composition when the bismaleimide resin is used as a material for the adhesive composition. From this point of view, compounds represented by the above general formula (4) are preferred, and compounds represented by the following formula (4-1) are particularly preferred.
Figure 0007434727000005

ダイマージアミンの市販品としては、例えば、PRIAMINE1075、PRIAMINE1074(いずれもクローダジャパン株式会社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available dimer diamines include PRIAMINE 1075 and PRIAMINE 1074 (both manufactured by Croda Japan Co., Ltd.).

テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、無水ピロメリット酸;1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物;1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物;3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物;ビシクロ(2.2.2)オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物;ジエチレントリアミンペンタ酢酸二無水物;エチレンジアミン四酢酸二無水物;3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物;3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物;4,4’-オキシジフタリックス無水物;3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物;2,2’-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物;4,4’-ビスフェノールA ジフタル酸無水物;5-(2,5-ジオキシテトラヒドロ)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン無水物;エチレングリコールビス(トリメリット酸無水物);ヒドロキノンジフタル酸無水物;アリルナディック酸無水物(allyl nadic anhydride);2-オクテン-1-イルコハク酸無水物;1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物;3,4,5,6-テトラヒドロフタル酸無水物等が挙げられる。なかでも、耐熱性の観点から無水ピロメリット酸が好ましい。これらは1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic anhydride; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride; 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride; 3, 4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride; bicyclo(2.2.2)oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride; diethylenetriaminepentaacetic dianhydride; Ethylenediaminetetraacetic dianhydride; 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride; 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride; 4,4'-oxydianhydride Phthalix anhydride; 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride; 2,2'-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride; 4,4' -Bisphenol A Diphthalic anhydride; 5-(2,5-dioxytetrahydro)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride; Ethylene glycol bis(trimellitic anhydride); Hydroquinone diphthal Acid anhydride; allyl nadic anhydride; 2-octen-1-ylsuccinic anhydride; 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride; 3,4,5,6-tetrahydro Examples include phthalic anhydride. Among these, pyromellitic anhydride is preferred from the viewpoint of heat resistance. These can be used alone or in combination of two or more.

(A)ビスマレイミド樹脂の重量平均分子量は、LCP等の低誘電特性を有する樹脂基材に対するより優れた接着性、及び、より優れた低誘電特性を得る観点から、3000~70000であることが好ましく、5000~50000であることがより好ましく、7000~30000であることが更に好ましい。 (A) The weight average molecular weight of the bismaleimide resin is preferably 3,000 to 70,000 from the viewpoint of obtaining better adhesion to resin substrates having low dielectric properties such as LCP and better low dielectric properties. It is preferably from 5,000 to 50,000, even more preferably from 7,000 to 30,000.

(A)ビスマレイミド樹脂は、市販の化合物を用いることもでき、具体的には例えば、DESIGNER MOLECURES Inc.製のBMI-3000(ダイマージアミン、ピロメリット酸二無水物及びマレイン酸無水物より合成)、BMI-1500、BMI-1700、BMI-5000等を好適に用いることができる。 (A) A commercially available compound can also be used as the bismaleimide resin, and specifically, for example, DESIGNER MOLECURES Inc. BMI-3000 (synthesized from dimer diamine, pyromellitic dianhydride, and maleic anhydride), BMI-1500, BMI-1700, BMI-5000, and the like manufactured by the company can be suitably used.

<(B)成分:エポキシ樹脂>
(B)エポキシ樹脂は、特に限定されないが、LCP等の基材との接着性の観点から、ビスフェノールA骨格を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールF骨格を有するエポキシ樹脂、ノボラック骨格を有する多官能エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等が好ましい。
<(B) component: epoxy resin>
(B) Epoxy resins are not particularly limited, but from the viewpoint of adhesion to base materials such as LCP, epoxy resins having a bisphenol A skeleton, epoxy resins having a bisphenol F skeleton, polyfunctional epoxy resins having a novolac skeleton, Biphenyl type epoxy resin etc. are preferred.

ビスフェノールA骨格を有するエポキシ樹脂及びビスフェノールF骨格を有するエポキシ樹脂としては、下記一般式(2)で表される化合物が挙げられる。ビスフェノールA骨格を有するエポキシ樹脂及びビスフェノールF骨格を有するエポキシ樹脂は、LCP等の基材に対するより良好な接着性を得る観点から、下記一般式(2-1)で表されるエポキシ樹脂であることが好ましい。 Examples of the epoxy resin having a bisphenol A skeleton and the epoxy resin having a bisphenol F skeleton include compounds represented by the following general formula (2). The epoxy resin having a bisphenol A skeleton and the epoxy resin having a bisphenol F skeleton must be an epoxy resin represented by the following general formula (2-1) from the viewpoint of obtaining better adhesion to a base material such as LCP. is preferred.

Figure 0007434727000006

Figure 0007434727000007

式(2)及び式(2-1)中、Rは水素原子又はメチル基を示し、Rは2価の有機基を示し、mは0~30の整数を示す。式(2)及び式(2-1)中のmは、LCP等の低誘電特性を有する樹脂基材に対するより優れた接着性、及び、より優れた低誘電特性を得る観点から、0~10の整数であることが好ましい。式(2)のRとしては、置換又は非置換のアルキレン基、置換又は非置換のアルキレンオキシド基、置換又は非置換の芳香族基等が挙げられる。Rが置換又は非置換のアルキレン基、或いは、置換又は非置換のアルキレンオキシド基である場合、エポキシ樹脂に低弾性を付与することができる。
Figure 0007434727000006

Figure 0007434727000007

In formula (2) and formula (2-1), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a divalent organic group, and m represents an integer of 0 to 30. m in formula (2) and formula (2-1) is 0 to 10 from the viewpoint of obtaining better adhesion to a resin base material having low dielectric properties such as LCP and better low dielectric properties. is preferably an integer of . Examples of R 3 in formula (2) include a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene oxide group, and a substituted or unsubstituted aromatic group. When R 3 is a substituted or unsubstituted alkylene group or a substituted or unsubstituted alkylene oxide group, low elasticity can be imparted to the epoxy resin.

ノボラック骨格を有する多官能エポキシ樹脂としては、下記一般式(5)又は(6)で表される構造単位を有する化合物が挙げられ、例えばノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格変性ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ノボラック骨格を有する多官能エポキシ樹脂におけるエポキシ基の数は、3以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましい。下記一般式(5)中のAは、低誘電特性の観点から、ナフタレン骨格及びビフェニル骨格等の非置換の芳香族基であることが好ましい。 Examples of the polyfunctional epoxy resin having a novolak skeleton include compounds having a structural unit represented by the following general formula (5) or (6), such as novolac-type epoxy resin, naphthalene skeleton-modified novolac-type epoxy resin, biphenyl novolak. Type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, and the like. The number of epoxy groups in the polyfunctional epoxy resin having a novolak skeleton is preferably 3 or more, more preferably 5 or more. From the viewpoint of low dielectric properties, A in the following general formula (5) is preferably an unsubstituted aromatic group such as a naphthalene skeleton or a biphenyl skeleton.

Figure 0007434727000008

Figure 0007434727000009

式(5)及び式(6)中、Rは水素原子又はメチル基を示し、Aは置換又は非置換の炭素数1~30の脂肪族基、置換又は非置換の芳香族基、或いは、置換又は非置換のヘテロ芳香族基を有する2価の有機基を示し、x及びyは各々独立に1以上の整数を示す。xが2以上である場合、複数存在するRは同一でも異なっていてもよい。yが2以上である場合、複数存在するAは同一でも異なっていてもよい。
Figure 0007434727000008

Figure 0007434727000009

In formulas (5) and (6), R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and A is a substituted or unsubstituted aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group, or It represents a divalent organic group having a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and x and y each independently represent an integer of 1 or more. When x is 2 or more, a plurality of R 4s may be the same or different. When y is 2 or more, multiple A's may be the same or different.

ビフェニル型エポキシ樹脂としては、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されるものではないが、例えば下記一般式(7)で示されるエポキシ樹脂が好ましい。

Figure 0007434727000010
The biphenyl-type epoxy resin is not particularly limited as long as it has a biphenyl skeleton, but for example, an epoxy resin represented by the following general formula (7) is preferable.
Figure 0007434727000010

式(7)中、Rは水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数4~18の芳香族基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよく、tは平均値であり、0~10の数を示す。(A)成分との相溶性の観点から、tの値は3以下であることが好ましく、1以下であることがより好ましい。 In formula (7), R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aromatic group having 4 to 18 carbon atoms, each of which may be the same or different, and t is an average value. , indicates a number from 0 to 10. From the viewpoint of compatibility with component (A), the value of t is preferably 3 or less, more preferably 1 or less.

(B)エポキシ樹脂の含有量としては、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の総量を100質量部として、2.0~30.0質量部であることが好ましく、3.0~15.0質量部であることがより好ましく、5.0~10.0質量部であることが特に好ましい。(B)成分の含有量が2.0質量部以上であると、LCP基材とのより優れた接着強度が得られ易い傾向があり、30.0質量部以下であると、より優れた低誘電特性が得られ易い傾向がある。 The content of the epoxy resin (B) is preferably 2.0 to 30.0 parts by mass, based on the total amount of components (A), (B), and (C) being 100 parts by mass. The amount is more preferably 0 to 15.0 parts by weight, and particularly preferably 5.0 to 10.0 parts by weight. When the content of component (B) is 2.0 parts by mass or more, better adhesive strength with the LCP base material tends to be obtained, and when it is 30.0 parts by mass or less, better adhesive strength with the LCP base material is easily obtained. There is a tendency for dielectric properties to be easily obtained.

<(C)成分:活性エステル系硬化剤>
(C)活性エステル系硬化剤は、それ自体が硬化反応に関与する化合物であり、これを用いることで低誘電特性化の効果を得ることができる。
<Component (C): Active ester curing agent>
(C) The active ester curing agent itself is a compound that participates in the curing reaction, and by using it, it is possible to obtain the effect of lowering the dielectric properties.

活性エステル系硬化剤としては特に制限されないが、低誘電特性化の効果をより十分に得る観点から、フェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N-ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に1個又は2個以上有する化合物が好ましく用いられる。活性エステル系硬化剤としてより具体的には、例えば、「EPICLON HPC8000-65T」、「EPICLON HPC8000-L-65MT」、「EPICLON HPC8150-60T」(いずれもDIC株式会社製の商品名)等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The active ester curing agent is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining the effect of lower dielectric properties more fully, phenol esters, thiophenol esters, N-hydroxyamine esters, esters of heterocyclic hydroxy compounds, etc. A compound having one or more ester groups with high reaction activity in one molecule is preferably used. More specific examples of active ester curing agents include "EPICLON HPC8000-65T," "EPICLON HPC8000-L-65MT," and "EPICLON HPC8150-60T" (all product names manufactured by DIC Corporation). It will be done. These can be used alone or in combination of two or more.

活性エステル系硬化剤は、硬化反応時に下記式(I)に示すように(B)エポキシ樹脂と反応するものと考えられる。このような(C)活性エステル系硬化剤と、(B)エポキシ樹脂との反応において水酸基は生成せず、また、副反応が生じたとしても水酸基は生成し難く、その結果、低誘電特性を実現できるものと考えられる。 It is thought that the active ester curing agent reacts with the epoxy resin (B) as shown in the following formula (I) during the curing reaction. Hydroxyl groups are not generated in the reaction between the active ester curing agent (C) and the epoxy resin (B), and even if a side reaction occurs, hydroxyl groups are difficult to generate, resulting in poor dielectric properties. It is believed that this can be achieved.

Figure 0007434727000011

式中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、1価の有機基を示すが、本発明の効果がより十分に得られることから、芳香環を有する1価の有機基であってもよい。
Figure 0007434727000011

In the formula, R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a monovalent organic group, but since the effects of the present invention can be more fully obtained, R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a monovalent organic group having an aromatic ring. Good too.

(C)活性エステル系硬化剤の含有量としては、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の総量を100質量部として、2.0~35.0質量部であることが好ましく、3.0~20.0質量部であることがより好ましく、5.0~15.0質量部であることが特に好ましい。(C)成分の含有量が2.0質量部以上であると、より優れた低誘電特性が得られ易い傾向があり、35.0質量部以下であると、LCP基材とのより優れた接着強度が得られ易い傾向がある。 The content of the active ester curing agent (C) is preferably 2.0 to 35.0 parts by mass, based on the total amount of components (A), (B), and (C) being 100 parts by mass. , more preferably 3.0 to 20.0 parts by weight, particularly preferably 5.0 to 15.0 parts by weight. When the content of component (C) is 2.0 parts by mass or more, better low dielectric properties tend to be obtained, and when the content is 35.0 parts by mass or less, better properties with the LCP base material tend to be obtained. There is a tendency for adhesive strength to be easily obtained.

<(D)成分:硬化促進剤>
(D)硬化促進剤は、イミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含む。(D)硬化促進剤は、上記特定の硬化促進剤のみからなるものであってもよく、上記特定の硬化促進剤以外の他の硬化促進剤を更に含んでいてもよい。
<(D) Component: Curing accelerator>
(D) The curing accelerator includes at least one selected from the group consisting of imidazole compounds, amine compounds, and peroxide compounds. (D) The curing accelerator may consist only of the above-mentioned specific curing accelerator, or may further contain other curing accelerators other than the above-mentioned specific curing accelerator.

イミダゾール系化合物としては、例えば、1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、1-ビニル-2-メチルイミダゾール、1-プロピル-2-メチルイミダゾール、2-イソプロピルイミダゾール、1-シアノメチル-2-メチル-イミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール等が挙げられる。これらの中でも、イミダゾール系化合物としては、1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、及び2-エチル-4-メチルイミダゾールが好ましい。これらの化合物を用いることにより、(A)ビスマレイミド樹脂の反応がより促進され、得られる硬化物の耐熱性が向上するという利点が得られる。また、LCP等の低誘電特性を有する樹脂基材に対するより高い接着性が得られ易いことから、イミダゾール系化合物としては、1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾール、及び1,2-ジメチルイミダゾールが好ましく、1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾールがより好ましい。これらは1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of imidazole compounds include 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2,4 -Dimethylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole , 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 1-vinyl-2-methylimidazole, 1-propyl-2-methylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanomethyl-2-methyl-imidazole, 1- Examples include cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, and 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole. Among these, imidazole compounds include 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, and 2-ethyl -4-methylimidazole is preferred. Use of these compounds provides the advantage that the reaction of the bismaleimide resin (A) is further promoted and the heat resistance of the resulting cured product is improved. In addition, as imidazole compounds, 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazole and 1,2-dimethyl Imidazole is preferred, and 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazole is more preferred. These can be used alone or in combination of two or more.

アミン系化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリエチレンジアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、4-アミノピリジン、2-アミノピリジン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、4-ジエチルアミノピリジン、2-ヒドロキシピリジン、2-メトキシピリジン、4-メトキシピリジン等が挙げられる。 Examples of amine compounds include triethylamine, dimethylbenzylamine, triethylenediamine, tripropylamine, tributylamine, dimethylethanolamine, triethanolamine, 4-aminopyridine, 2-aminopyridine, N,N-dimethyl-4- Examples include aminopyridine, 4-diethylaminopyridine, 2-hydroxypyridine, 2-methoxypyridine, and 4-methoxypyridine.

過酸化物系化合物としては、ジクミルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジラウリルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,5,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-シクロヘキサン、シクロヘキサノンパーオキサイド、t-ブチルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシイソブチレート、t-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、クミルパーオキシオクトエート等が挙げられる。 Peroxide compounds include dicumyl peroxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, t-butylcumyl peroxide, benzoyl peroxide, dilauryl peroxide, cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, 1,1 -Bis(t-butylperoxy)-3,5,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(t-butylperoxy)-cyclohexane, cyclohexanone peroxide, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy Examples include isobutyrate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, cumylperoxyoctoate and the like.

上記特定の硬化促進剤以外の他の硬化促進剤としては、リン系硬化促進剤が挙げられる。リン系硬化促進剤としては、例えば、アルキルホスフィン、フェニルホスフィン等の1級ホスフィン、ジアルキルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の2級ホスフィン、及び、トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の3級ホスフィンなどのホスフィン化合物、並びに、ホスホニウム塩化合物が挙げられる。 Other curing accelerators other than the above-mentioned specific curing accelerators include phosphorus curing accelerators. Examples of the phosphorus curing accelerator include phosphine compounds such as primary phosphines such as alkylphosphine and phenylphosphine, secondary phosphines such as dialkylphosphine and diphenylphosphine, and tertiary phosphines such as trialkylphosphine and triphenylphosphine. , and phosphonium salt compounds.

本実施形態の接着剤組成物は、上記リン系硬化促進剤を含んでいてもよいが、その含有量は少ない方が好ましく、リン系硬化促進剤を含まなくてもよい。本発明者等は、リン系硬化促進剤と(C)活性エステル系硬化剤とを併用した場合、LCP等の基材に対する接着性が低下する場合があることを見出した。その理由について、本発明者等は以下のように推察している。すなわち、接着性を向上させるためには、接着に寄与する(B)エポキシ樹脂及び(C)活性エステル系硬化剤が、ベース樹脂である(A)ビスマレイミド樹脂と反応し、主鎖に取り込まれる必要があると考えられる。そして、硬化促進剤の種類によって各成分の反応性が異なり、リン系硬化促進剤を用いた場合には、(B)エポキシ樹脂及び(C)活性エステル系硬化剤の、(A)ビスマレイミド樹脂の主鎖への取り込みが生じ難く、接着性が向上し難いものと考えられる。これに対し、イミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物からなる群より選択される少なくとも一種の硬化促進剤を用いた場合には、(B)エポキシ樹脂及び(C)活性エステル系硬化剤の、(A)ビスマレイミド樹脂の主鎖への取り込みが生じ易く、接着性が向上し易いものと考えられる。 The adhesive composition of the present embodiment may contain the above-mentioned phosphorus-based curing accelerator, but the content is preferably small and does not need to contain the phosphorus-based curing accelerator. The present inventors have found that when a phosphorus-based curing accelerator and (C) an active ester-based curing agent are used together, the adhesiveness to a substrate such as LCP may be reduced. The present inventors speculate as follows about the reason. That is, in order to improve adhesion, (B) epoxy resin and (C) active ester curing agent, which contribute to adhesion, react with (A) bismaleimide resin, which is the base resin, and are incorporated into the main chain. It is considered necessary. The reactivity of each component varies depending on the type of curing accelerator, and when a phosphorus curing accelerator is used, (B) epoxy resin and (C) active ester curing agent, (A) bismaleimide resin It is thought that it is difficult to incorporate into the main chain and it is difficult to improve adhesiveness. On the other hand, when at least one type of curing accelerator selected from the group consisting of imidazole compounds, amine compounds, and peroxide compounds is used, (B) epoxy resin and (C) active ester curing It is considered that the agent is likely to be incorporated into the main chain of the bismaleimide resin (A), and the adhesiveness is likely to be improved.

LCP等の基材に対する接着性がより向上し易いことから、(D)硬化促進剤中のイミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物からなる群より選択される少なくとも一種の硬化促進剤の含有量は、(D)硬化促進剤全量を基準として、80~100質量%であることが好ましく、90~100質量%であることがより好ましく、95~100質量%であることが更に好ましい。 (D) At least one curing accelerator selected from the group consisting of imidazole compounds, amine compounds, and peroxide compounds in the curing accelerator, since the adhesion to substrates such as LCP is more likely to be improved. The content of (D) is preferably 80 to 100% by mass, more preferably 90 to 100% by mass, and even more preferably 95 to 100% by mass, based on the total amount of the curing accelerator (D). .

また、LCP等の基材に対する接着性がより向上し易いことから、(D)硬化促進剤中のリン系硬化促進剤の含有量は、(D)硬化促進剤全量を基準として、0~20質量%であることが好ましく、0~10質量%であることがより好ましく、0~5質量%であることが更に好ましい。 In addition, since the adhesion to substrates such as LCP is more likely to be improved, the content of the phosphorus-based curing accelerator in the curing accelerator (D) should be 0 to 20% based on the total amount of the curing accelerator (D). It is preferably 0 to 10% by weight, even more preferably 0 to 5% by weight.

(D)硬化促進剤の含有量は、特に限定されないが、LCP等の基材との接着性、及び、得られる硬化物の耐熱性をより向上する観点から、(A)成分のビスマレイミド樹脂と(B)成分のエポキシ樹脂と(C)活性エステル系硬化剤の総量100質量部に対して、0.1~5.0質量部であることが好ましく、1.0~3.0質量部であることがより好ましい。 (D) The content of the curing accelerator is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the adhesion to the base material such as LCP and the heat resistance of the obtained cured product, the bismaleimide resin of the component (A) The amount is preferably 0.1 to 5.0 parts by weight, preferably 1.0 to 3.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin (B) and the active ester curing agent (C). It is more preferable that

<(E)成分:有機溶剤>
本実施形態の接着剤組成物は、さらに(E)有機溶剤を含有することができる。本実施形態で用いる有機溶剤は、(A)ビスマレイミド樹脂、(B)エポキシ樹脂、(C)活性エステル系硬化剤、及び(D)硬化促進剤を溶解させるものであれば、特に限定されない。(E)有機溶剤として具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素;シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素;トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶剤;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル系溶剤;エチレングリコールモノn-ブチルエーテル、エチレングリコールモノiso-ブチルエーテル、エチレングリコールモノtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノiso-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノn-ブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノn-ブチルエーテ等のグリコールエーテル系溶剤などを使用することができる。これらは1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。好ましい態様としては、芳香族炭化水素であり、なかでもトルエン又はキシレンを用いることが好ましい。
<(E) component: organic solvent>
The adhesive composition of this embodiment can further contain (E) an organic solvent. The organic solvent used in this embodiment is not particularly limited as long as it dissolves (A) bismaleimide resin, (B) epoxy resin, (C) active ester curing agent, and (D) curing accelerator. (E) Specific examples of organic solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and decane; cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane, and ethylcyclo Alicyclic hydrocarbons such as hexane; halogenated hydrocarbons such as trichlorethylene, dichloroethylene, chlorobenzene, and chloroform; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol, and phenol Solvents; ketone solvents such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone, acetophenone; cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve; methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, Ester solvents such as butyl formate; ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol mono-iso-butyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-iso-butyl ether, triethylene glycol mono-n-butyl ether, tetra Glycol ether solvents such as ethylene glycol mono-n-butyl ether can be used. These can be used alone or in combination of two or more. In a preferred embodiment, aromatic hydrocarbons are used, and among them, toluene or xylene is preferably used.

本実施形態の接着剤組成物の調製は、一般的に採用されている方法に準じて実施される。調製方法としては例えば、溶融混合、粉体混合、溶液混合等の方法が挙げられる。また、この際には、本実施形態の必須成分以外の、例えば、無機充填材、離型剤、難燃剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、接着付与剤、低応力剤、着色剤、カップリング剤等を、本発明の効果を損なわない範囲において配合してもよい。 The adhesive composition of this embodiment is prepared according to a generally employed method. Examples of the preparation method include methods such as melt mixing, powder mixing, and solution mixing. In addition, in this case, ingredients other than the essential components of this embodiment, such as inorganic fillers, mold release agents, flame retardants, ion trapping agents, antioxidants, adhesion promoters, low stress agents, coloring agents, coupling agents, etc. Agents and the like may be added within a range that does not impair the effects of the present invention.

<無機充填材>
無機充填材は、接着剤組成物の熱膨張率低下及び耐湿信頼性向上のために添加される。
該無機充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ、クリストバライト等のシリカ類、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、酸化チタン、ガラス繊維、酸化マグネシウムなどが挙げられる。これらの無機充填材の平均粒径及び形状は、用途に応じて選択することができる。なかでも球状アルミナ、球状溶融シリカ、ガラス繊維等が好ましい。
<Inorganic filler>
The inorganic filler is added to reduce the coefficient of thermal expansion and improve moisture resistance reliability of the adhesive composition.
Examples of the inorganic filler include silicas such as fused silica, crystalline silica, and cristobalite, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, titanium oxide, glass fiber, and magnesium oxide. The average particle size and shape of these inorganic fillers can be selected depending on the application. Among them, spherical alumina, spherical fused silica, glass fiber, etc. are preferable.

<離型剤>
離型剤は、金型からの離型性を向上させるために添加される。該離型剤としては、例えば、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン、ポリプロピレン、モンタン酸、モンタン酸と飽和アルコール、2-(2-ヒドロキシエチルアミノ)エタノール、エチレングリコール、グリセリン等とのエステル化合物であるモンタンワックス、ステアリン酸、ステアリン酸エステル、ステアリン酸アミドなど、公知のものを全て使用することができる。
<Release agent>
A mold release agent is added to improve mold releasability from a mold. Examples of the mold release agent include carnauba wax, rice wax, candelilla wax, polyethylene, polyethylene oxide, polypropylene, montanic acid, montanic acid and saturated alcohol, 2-(2-hydroxyethylamino)ethanol, ethylene glycol, and glycerin. All known ester compounds such as montan wax, stearic acid, stearic ester, and stearic acid amide can be used.

<難燃剤>
難燃剤は、難燃性を付与するために添加される。該難燃剤は公知のものを全て使用することができ、特に制限されない。該難燃剤としては、例えば、ホスファゼン化合物、シリコーン化合物、モリブデン酸亜鉛担持タルク、モリブデン酸亜鉛担持酸化亜鉛、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化モリブデン等が挙げられる。
<Flame retardant>
Flame retardants are added to impart flame retardancy. All known flame retardants can be used and are not particularly limited. Examples of the flame retardant include phosphazene compounds, silicone compounds, talc supported on zinc molybdate, zinc oxide supported on zinc molybdate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, molybdenum oxide, and the like.

<イオントラップ剤>
イオントラップ剤は、液状の接着剤組成物中に含まれるイオン不純物を捕捉し、熱劣化及び吸湿劣化を防ぐために添加される。イオントラップ剤は公知のものを全て使用することができ、特に制限されない。イオントラップ剤としては、例えば、ハイドロタルサイト類、水酸化ビスマス化合物、希土類酸化物等が挙げられる。
<Ion trapping agent>
The ion trap agent is added to trap ionic impurities contained in the liquid adhesive composition and prevent thermal deterioration and moisture absorption deterioration. All known ion trapping agents can be used and are not particularly limited. Examples of the ion trapping agent include hydrotalcites, bismuth hydroxide compounds, and rare earth oxides.

[積層体]
本実施形態の積層体は、基材に接着剤組成物を積層したもの(基材/接着剤層の2層積層体)、又は、さらに基材を貼り合わせたもの(基材/接着剤層/基材の3層積層体)である。ここで、接着剤層とは、本実施形態の接着剤組成物を基材に塗布し、乾燥させた後の接着剤組成物の層をいう。本実施形態の接着剤組成物を、常法に従い、各種基材に塗布、乾燥すること、及びさらに他の基材を積層することにより、本実施形態の積層体を得ることができる。
[Laminated body]
The laminate of this embodiment is one in which an adhesive composition is laminated on a base material (two-layer laminate of base material/adhesive layer), or one in which a base material is further laminated (base material/adhesive layer). /3-layer laminate of base material). Here, the adhesive layer refers to a layer of the adhesive composition after applying the adhesive composition of the present embodiment to a base material and drying it. The laminate of this embodiment can be obtained by applying the adhesive composition of this embodiment to various base materials, drying, and further laminating other base materials in accordance with a conventional method.

<基材>
本実施形態において基材とは、本実施形態の接着剤組成物を塗布、乾燥し、接着剤層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、フィルム状樹脂等の樹脂基材、金属板及び金属箔等の金属基材、紙類などを挙げることができる。
<Base material>
In this embodiment, the base material is not particularly limited as long as it can form an adhesive layer by coating and drying the adhesive composition of this embodiment, but it is a resin base material such as a film-like resin. , metal substrates such as metal plates and metal foils, and papers.

樹脂基材の材質としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。樹脂基材として好ましくは、フィルム状樹脂(以下、「基材フィルム層」ともいう)である。 Examples of the material of the resin base material include polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, and fluorine resin. Preferably, the resin base material is a film-like resin (hereinafter also referred to as "base film layer").

金属基材としては、回路基板に使用可能な任意の従来公知の導電性材料が使用可能である。素材としては、SUS、銅、アルミニウム、鉄、スチール、亜鉛、ニッケル等の各種金属、及びそれぞれの合金、めっき品、亜鉛又はクロム化合物等の他の金属で処理した金属などを例示することができる。金属基材として好ましくは金属箔であり、より好ましくは銅箔である。金属箔の厚さについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、金属箔の厚さは、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下である。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。金属箔は、通常、ロール状の形態で提供されているが、後述するようなプリント配線板を製造する際に使用される金属箔の形態は特に限定されない。リボン状の形態の金属箔を用いる場合、その長さは特に限定されない。また、その幅も特に限定されないが、250~500cm程度であることが好ましい。 As the metal base material, any conventionally known conductive material that can be used for circuit boards can be used. Examples of materials include various metals such as SUS, copper, aluminum, iron, steel, zinc, and nickel, as well as their alloys, plated products, and metals treated with other metals such as zinc or chromium compounds. . The metal base material is preferably a metal foil, more preferably a copper foil. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and even more preferably 10 μm or more. Further, the thickness of the metal foil is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and still more preferably 20 μm or less. If the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit. On the other hand, if the thickness is too thick, processing efficiency during circuit production may be reduced. Metal foil is usually provided in the form of a roll, but there are no particular limitations on the form of the metal foil used when manufacturing a printed wiring board as described below. When using a ribbon-shaped metal foil, its length is not particularly limited. Furthermore, the width is not particularly limited, but it is preferably about 250 to 500 cm.

紙類としては、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙等を例示することができる。また、複合素材として、ガラスエポキシ等を例示することができる。 Examples of paper include high-quality paper, kraft paper, roll paper, glassine paper, and the like. Moreover, glass epoxy etc. can be illustrated as a composite material.

接着剤組成物との接着力、耐久性の観点から、基材の材質としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、SUS鋼板、銅箔、アルミ箔、又はガラスエポキシが好ましい。 From the viewpoint of adhesive strength and durability with the adhesive composition, the base material may include polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, Fluororesin, SUS steel plate, copper foil, aluminum foil, or glass epoxy is preferred.

<接着シート>
本実施形態の接着シートは、上述した積層体を備えるものであり、例えば、上記積層体と離型基材とを接着剤組成物を介して積層したものである。具体的な構成態様としては、積層体(基材/接着剤層)/離型基材、積層体(基材/接着剤層/基材)/接着剤層/離型基材、又は離型基材/接着剤層/積層体(基材/接着剤層/基材)/接着剤層/離型基材などが挙げられる。離型基材を積層することで接着シートを構成する接着剤層の保護層として機能する。また、離型基材を使用することで、接着シートから離型基材を離型して、さらに別の基材に接着剤層を転写することができる。
<Adhesive sheet>
The adhesive sheet of this embodiment includes the above-mentioned laminate, and is, for example, one in which the above-mentioned laminate and a release base material are laminated with an adhesive composition interposed therebetween. Specific structural aspects include laminate (base material/adhesive layer)/mold release base material, laminate (base material/adhesive layer/base material)/adhesive layer/mold release base material, or mold release Examples include base material/adhesive layer/laminate (base material/adhesive layer/base material)/adhesive layer/release base material. By laminating the release base material, it functions as a protective layer for the adhesive layer that constitutes the adhesive sheet. Further, by using a release base material, it is possible to release the release base material from the adhesive sheet and further transfer the adhesive layer to another base material.

本実施形態の接着シートは、本実施形態の接着剤組成物を、常法に従い、各種積層体に塗布、乾燥することにより得ることができる。また、乾燥後、接着剤層に離型基材を貼付けると、積層体を構成する基材への裏移りを起こすことなく巻き取りが可能になり、操業性に優れるとともに、接着剤層が保護されることから保存性に優れ、使用も容易となる。
また、離型基材に接着剤組成物を塗布、乾燥後、必要に応じて別の離型基材を貼付すれば、接着剤層そのものを他の基材に転写することも可能になる。
The adhesive sheet of this embodiment can be obtained by applying the adhesive composition of this embodiment to various laminates and drying it according to a conventional method. In addition, by attaching a release base material to the adhesive layer after drying, it becomes possible to wind up the laminate without causing set-off to the base material that makes up the laminate. Since it is protected, it has excellent storage stability and is easy to use.
Further, by applying an adhesive composition to a release base material, drying it, and then attaching another release base material as necessary, it becomes possible to transfer the adhesive layer itself to another base material.

<離型基材>
離型基材としては、特に限定されるものではないが、例えば、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙等の紙の両面に、クレー、ポリエチレン、ポリプロピレン等の目止剤の塗布層を設け、さらにその各塗布層の上にシリコーン系、フッ素系、アルキド系の離型剤が塗布されたものが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-α-オレフィン共重合体、プロピレン-α-オレフィン共重合体等の各種オレフィンフィルム単独、及びポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に上記離型剤を塗布したものも挙げられる。離型基材と接着剤層との離型力、シリコーンが電気特性に悪影響を与える等の理由から、上質紙の両面にポリプロピレン目止処理しその上にアルキド系離型剤を用いたもの、又はポリエチレンテレフタレート上にアルキド系離型剤を用いたものが好ましい。
<Release base material>
The release base material is not particularly limited, but for example, paper such as high-quality paper, kraft paper, roll paper, glassine paper, etc., with a coating layer of a filler such as clay, polyethylene, or polypropylene on both sides. Examples include those in which a silicone-based, fluorine-based, or alkyd-based mold release agent is applied on each coating layer. Also included are various olefin films alone such as polyethylene, polypropylene, ethylene-α-olefin copolymer, propylene-α-olefin copolymer, and films made of polyethylene terephthalate and the like coated with the above mold release agent. For reasons such as the release force between the release base material and the adhesive layer and the adverse effects of silicone on electrical properties, we use high-quality paper with a polypropylene filling treatment on both sides and then use an alkyd release agent on top of that. Alternatively, it is preferable to use an alkyd mold release agent on polyethylene terephthalate.

なお、本実施形態において接着剤組成物を基材上にコーティングする方法としては、特に限定されないが、コンマコーター、リバースロールコーター等が挙げられる。もしくは、必要に応じて、プリント配線板の構成材料である圧延銅箔、又はポリイミドフィルムに直接もしくは転写法で接着剤層を設けることもできる。乾燥後の接着剤層の厚さは、必要に応じて、適宜変更されるが、好ましくは5~200μmの範囲である。接着剤層の厚さが5μm未満では、接着強度が不十分となる場合がある。厚さが200μm以上では乾燥が不十分で残留溶剤が多くなる場合があり、プリント配線板製造のプレス時にフクレを生じるおそれがあるという問題点が挙げられる。乾燥条件は特に限定されないが、乾燥後の残留溶剤率は1質量%以下が好ましい。1質量%超では、プリント配線板製造のプレス時に残留溶剤が発泡して、フクレを生じ易いという問題点が挙げられる。 In this embodiment, the method for coating the adhesive composition on the base material is not particularly limited, but examples include a comma coater, a reverse roll coater, and the like. Alternatively, if necessary, an adhesive layer can be provided directly or by a transfer method on the rolled copper foil or polyimide film that is the constituent material of the printed wiring board. The thickness of the adhesive layer after drying may be changed as necessary, but is preferably in the range of 5 to 200 μm. If the thickness of the adhesive layer is less than 5 μm, the adhesive strength may be insufficient. If the thickness is 200 μm or more, drying may be insufficient and a large amount of residual solvent may be present, which poses a problem that blisters may occur during pressing for manufacturing printed wiring boards. The drying conditions are not particularly limited, but the residual solvent rate after drying is preferably 1% by mass or less. If it exceeds 1% by mass, there is a problem in that the residual solvent foams during pressing in the production of printed wiring boards, which tends to cause blisters.

<プリント配線板>
本実施形態におけるプリント配線板は、導体回路を形成する金属箔と樹脂基材とから形成された積層体を構成要素として含むものである。プリント配線板は、例えば、金属張積層体を用いてサブトラクティブ法等の従来公知の方法により製造することができる。本実施形態におけるプリント配線板は、必要に応じて金属箔によって形成された導体回路を、部分的、或いは全面的にカバーフィルム又はスクリーン印刷インキ等を用いて被覆した、いわゆるフレキシブル回路板(FPC)、フラットケーブル、テープオートメーティッドボンディング(TAB)用の回路板などを総称している。
<Printed wiring board>
The printed wiring board in this embodiment includes, as a component, a laminate formed from metal foil and a resin base material forming a conductor circuit. The printed wiring board can be manufactured, for example, using a metal-clad laminate by a conventionally known method such as a subtractive method. The printed wiring board in this embodiment is a so-called flexible circuit board (FPC) in which a conductor circuit formed of metal foil is partially or entirely covered with a cover film or screen printing ink as necessary. , flat cables, circuit boards for tape automated bonding (TAB), etc.

本実施形態のプリント配線板は、プリント配線板として採用され得る任意の積層構成とすることができる。例えば、基材フィルム層、金属箔層、接着剤層、及びカバーフィルム層の4層から構成されるプリント配線板とすることができる。また例えば、基材フィルム層、接着剤層、金属箔層、接着剤層、及びカバーフィルム層の5層から構成されるプリント配線板とすることができる。 The printed wiring board of this embodiment can have any laminated structure that can be adopted as a printed wiring board. For example, it can be a printed wiring board composed of four layers: a base film layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer. Further, for example, a printed wiring board can be made up of five layers: a base film layer, an adhesive layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.

さらに、必要に応じて、上記のプリント配線板を2つもしくは3つ以上積層した構成とすることもできる。 Furthermore, if necessary, it is also possible to have a structure in which two or three or more of the above printed wiring boards are laminated.

本実施形態の接着剤組成物は、プリント配線板の各接着剤層に好適に使用することが可能である。特に本実施形態の接着剤組成物を接着剤として使用すると、プリント配線板を構成する従来のポリイミド、ポリエステルフィルム、銅箔だけでなく、LCP等の低極性の樹脂基材と高い接着性を有し、耐はんだリフロー性を得ることができ、接着剤層自身が低誘電特性に優れる。そのため、カバーレイフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに用いる接着剤組成物として好適である。 The adhesive composition of this embodiment can be suitably used for each adhesive layer of a printed wiring board. In particular, when the adhesive composition of this embodiment is used as an adhesive, it has high adhesion not only to conventional polyimide, polyester film, and copper foil that constitute printed wiring boards, but also to low polarity resin base materials such as LCP. However, it is possible to obtain solder reflow resistance, and the adhesive layer itself has excellent low dielectric properties. Therefore, it is suitable as an adhesive composition for use in coverlay films, laminates, resin-coated copper foils, and bonding sheets.

本実施形態のプリント配線板において、基材フィルムとしては、従来からプリント配線板の基材として使用されている任意の樹脂フィルムが使用可能である。基材フィルムの樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。本実施形態の接着剤組成物は、特に、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の低極性基材に対しても、優れた接着性を有する。 In the printed wiring board of this embodiment, any resin film conventionally used as a base material for printed wiring boards can be used as the base film. Examples of the resin for the base film include polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, and fluorine resin. The adhesive composition of this embodiment has excellent adhesion particularly to low polar base materials such as liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resin.

<カバーフィルム>
カバーフィルムとしては、プリント配線板用の絶縁フィルムとして従来公知の任意の絶縁フィルムが使用可能である。例えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の各種ポリマーから製造されるフィルムが使用可能である。より好ましくは、ポリイミドフィルム又は液晶ポリマーフィルムである。
<Cover film>
As the cover film, any insulating film conventionally known as an insulating film for printed wiring boards can be used. For example, manufactured from various polymers such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyimide, polyamideimide, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, etc. film is available. More preferred are polyimide films or liquid crystal polymer films.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

[物性評価方法]
<重量平均分子量(Mw)>
重量平均分子量(Mw)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)により測定した。テトラヒドロフラン(THF)にマレイミド樹脂を濃度3質量%となるように溶解させたサンプルを、30℃に加温されたカラム(GL-R420(株式会社日立ハイテクフィールディング製)×1本、GL-R430(株式会社日立ハイテクフィールディング製)×1本、GL-R440(株式会社日立ハイテクフィールディング製)×1本)に50μL注入し、展開溶媒としてTHFを用い、流速1.6mL/minの条件で測定を行った。なお、検出器には、L-3350 RI検出器(株式会社日立製作所製)を用い、溶出時間から標準ポリスチレン(東ソー株式会社製)を用いて作製した分子量/溶出時間曲線により重量平均分子量(Mw)を換算した。
[Physical property evaluation method]
<Weight average molecular weight (Mw)>
The weight average molecular weight (Mw) was measured by GPC (gel permeation chromatography). A sample of maleimide resin dissolved in tetrahydrofuran (THF) to a concentration of 3% by mass was heated to 30°C using columns (GL-R420 (manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.) x 1, GL-R430 (manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.) 50 μL was injected into 1 bottle (manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.) and 1 bottle of GL-R440 (manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.), and measurements were performed at a flow rate of 1.6 mL/min using THF as the developing solvent. Ta. The detector used was an L-3350 RI detector (manufactured by Hitachi, Ltd.), and the weight average molecular weight (Mw ) was converted.

<樹脂フィルムの作製>
後述する実施例及び比較例で得られた接着剤組成物を、アプリケータを用いて、ピューレックス(登録商標)A31(ポリエステルフィルム、帝人デュポン株式会社製、商品名)の上に乾燥後の厚さが65μmとなるように塗布し、オーブンを用いて130℃、10分間の乾燥処理を行い、樹脂フィルムを作製した。
<Preparation of resin film>
Using an applicator, the adhesive compositions obtained in the Examples and Comparative Examples described below were applied onto Purex (registered trademark) A31 (polyester film, manufactured by Teijin DuPont Ltd., trade name) to a thickness after drying. The resin film was coated to a thickness of 65 μm and dried in an oven at 130° C. for 10 minutes.

<接着強度>
ピューレックスA31を剥離した樹脂フィルムと、厚さ0.7mmのガラス板と、厚さ75μmのLCPフィルム(株式会社クラレ製、商品名「ベクスター」)とを、樹脂フィルムが真ん中になるように積層し、熱プレスにて200℃、2MPa、1時間の条件で熱圧着し、ガラス板、樹脂フィルムの硬化物、LCPフィルムがこの順に積層されてなる積層体を得た。得られた積層体のLCPフィルムを剥離することで接着強度を測定した。剥離強度は、90°剥離測定機(株式会社山電製、商品名「RHEONER II CREEP METER RE2-3305B」)を用いて、常温で引張速度5mm/sで測定した。また、剥離時の剥離位置(剥離モード)を観察した。
<Adhesive strength>
A resin film from which Purex A31 has been peeled off, a glass plate with a thickness of 0.7 mm, and an LCP film with a thickness of 75 μm (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name "Vexter") are laminated so that the resin film is in the middle. Then, thermocompression bonding was carried out using a hot press at 200° C., 2 MPa, and 1 hour to obtain a laminate in which a glass plate, a cured resin film, and an LCP film were laminated in this order. The adhesive strength was measured by peeling off the LCP film of the obtained laminate. The peel strength was measured using a 90° peel measuring machine (manufactured by Yamaden Co., Ltd., trade name "RHEONER II CREEP METER RE2-3305B") at room temperature and a tensile speed of 5 mm/s. In addition, the peeling position (peeling mode) during peeling was observed.

<誘電率及び誘電正接>
ピューレックスA31を剥離した樹脂フィルムと、2枚の銅箔(商品名「F2WS-18」、古河電工株式会社製)とを、銅箔の粗化面が樹脂フィルムと対面するように積層し、熱プレスにて200℃、2MPa、1時間の条件で熱圧着し、銅箔、樹脂フィルムの硬化物、銅箔がこの順に積層されてなる銅箔積層体を得た。得られた銅箔積層体の両面の銅箔をエッチングにより除去し、130℃で30分乾燥させた後、5cm×5cmの試験片を作製した。誘電率及び誘電正接の測定は、周波数2MHzではアジレント・テクノロジー社製、商品名「E4980A プレシジョンLCRメータ」を用い、周波数10GHzではアジレント・テクノロジー社製、商品名「ベクトル型ネットワークアナライザ 8364B」を用いて実施した。本実施例及び比較例において、誘電率は、周波数2MHzで測定した場合の方が若干低い値となり、誘電正接は、周波数10GHzで測定した場合の方が若干低い値となる傾向があるが、測定値に大きな変動は見られなかった。そのため、一部の実施例を除き、誘電率及び誘電正接の測定は、周波数2MHz又は周波数10GHzの一方の条件で行った。
<Permittivity and dielectric loss tangent>
A resin film from which Purex A31 was peeled off and two pieces of copper foil (product name "F2WS-18", manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) were laminated so that the roughened surface of the copper foil faced the resin film, A copper foil laminate in which copper foil, a cured resin film, and copper foil were laminated in this order was obtained by thermocompression bonding using a hot press at 200° C., 2 MPa, and 1 hour. The copper foils on both sides of the obtained copper foil laminate were removed by etching, and after drying at 130° C. for 30 minutes, a 5 cm x 5 cm test piece was prepared. The dielectric constant and dielectric loss tangent were measured using the E4980A Precision LCR Meter manufactured by Agilent Technologies at a frequency of 2 MHz, and the Vector Network Analyzer 8364B manufactured by Agilent Technologies at a frequency of 10 GHz. carried out. In this example and comparative example, the dielectric constant tends to be a slightly lower value when measured at a frequency of 2 MHz, and the dielectric loss tangent tends to be a slightly lower value when measured at a frequency of 10 GHz. No major changes were observed in the values. Therefore, except for some examples, measurements of dielectric constant and dielectric loss tangent were performed at either a frequency of 2 MHz or a frequency of 10 GHz.

[ビスマレイミド樹脂の合成]
<合成例1>
冷却器、窒素導入管、熱伝対、攪拌機を備えた1Lのフラスコ容器に、ピロメリット酸二無水物(株式会社ダイセル製)60.8質量部、メシチレン(東洋合成工業株式会社製)400.4質量部、及びエタノール(和光純薬工業株式会社製)90.7質量部を投入した。投入後、80℃に昇温し、0.5時間保温し、ダイマージアミン(商品名「PRIAMINE1075」、クローダジャパン株式会社製)201.3質量部を滴下した。滴下後、メタンスルホン酸(和光純薬工業株式会社製)4.3質量部を加えた。その後165℃に昇温し、165℃で1時間脱水閉環反応を行い、反応液中の水とエタノールを除去し、中間体のポリイミド樹脂を得た。続いて、得られたポリイミド樹脂を80℃に冷却し、無水マレイン酸(扶桑化学工業株式会社製)27.3質量部を加え、160℃に昇温し、160℃で2時間脱水閉環反応を行い、反応液中の水を除去し、ビスマレイミド樹脂を得た。
[Synthesis of bismaleimide resin]
<Synthesis example 1>
In a 1 L flask equipped with a condenser, nitrogen inlet tube, thermocouple, and stirrer, 60.8 parts by mass of pyromellitic dianhydride (manufactured by Daicel Corporation) and 400 parts by mass of mesitylene (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) were added. 4 parts by mass, and 90.7 parts by mass of ethanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). After the addition, the temperature was raised to 80° C., kept warm for 0.5 hours, and 201.3 parts by mass of dimer diamine (trade name “PRIAMINE 1075”, manufactured by Croda Japan Co., Ltd.) was added dropwise. After dropping, 4.3 parts by mass of methanesulfonic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. Thereafter, the temperature was raised to 165° C., and a dehydration ring-closing reaction was performed at 165° C. for 1 hour to remove water and ethanol from the reaction solution to obtain an intermediate polyimide resin. Subsequently, the obtained polyimide resin was cooled to 80°C, 27.3 parts by mass of maleic anhydride (manufactured by Fuso Chemical Industries, Ltd.) was added, the temperature was raised to 160°C, and a dehydration ring-closing reaction was carried out at 160°C for 2 hours. The water in the reaction solution was removed to obtain a bismaleimide resin.

得られたビスマレイミド樹脂を分液ロートに入れ、純水1000質量部を投入し、分液ロートを振り混ぜ、静置させた。静置後、水層と有機層が分離した後、有機層のみを回収した。回収した有機層を冷却器、窒素導入管、熱伝対、攪拌機、真空ポンプを備えた1Lのガラス製容器に投入し、88~93℃に昇温し、水を除去した後、150℃に昇温し、大気圧から0.1MPa減圧した状態で1時間溶剤を除去し、(A)成分のビスマレイミド樹脂(A-1)(重量平均分子量16000)を得た。 The obtained bismaleimide resin was placed in a separatory funnel, 1000 parts by mass of pure water was added, the separatory funnel was shaken, and the mixture was allowed to stand still. After standing still, an aqueous layer and an organic layer were separated, and only the organic layer was collected. The collected organic layer was placed in a 1 L glass container equipped with a condenser, nitrogen inlet tube, thermocouple, stirrer, and vacuum pump, heated to 88-93°C, water removed, and then heated to 150°C. The temperature was raised and the solvent was removed for 1 hour under a reduced pressure of 0.1 MPa from atmospheric pressure to obtain a bismaleimide resin (A-1) (weight average molecular weight 16,000) as component (A).

[実施例1]
撹拌機を備えた500mlの四つ口フラスコに、合成例1で得られたマレイミド樹脂(A-1)を80質量部、エポキシ樹脂(商品名「YX-4000」、三菱ケミカル株式会社製)を9質量部、トルエンを100質量部仕込み、60℃で1時間撹拌した。得られた溶液に、活性エステル系硬化剤(商品名「HPC-8000-65T」、DIC株式会社製)を11質量部配合し、60℃で0.5時間攪拌した。さらに、得られた溶液に、硬化促進剤(商品名「2PZCN」、四国化成株式会社製)を2質量部配合し、60℃で3時間攪拌して、接着剤組成物を得た。各成分の配合量、及び、物性評価結果を表1に示す。なお、表1において、(A)~(E)成分の量は質量部を示す。
[Example 1]
In a 500 ml four-neck flask equipped with a stirrer, 80 parts by mass of the maleimide resin (A-1) obtained in Synthesis Example 1 and epoxy resin (trade name "YX-4000", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were added. 9 parts by mass and 100 parts by mass of toluene were added, and the mixture was stirred at 60°C for 1 hour. 11 parts by mass of an active ester curing agent (trade name "HPC-8000-65T", manufactured by DIC Corporation) was added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 60° C. for 0.5 hour. Further, 2 parts by mass of a curing accelerator (trade name "2PZCN", manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) was added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours to obtain an adhesive composition. Table 1 shows the blending amount of each component and the physical property evaluation results. In Table 1, the amounts of components (A) to (E) indicate parts by mass.

[実施例2~12、比較例1~2]
ビスマレイミド樹脂、エポキシ樹脂、活性エステル系硬化剤、及び、硬化促進剤のうちの一種以上の成分の種類及び配合量を、表1又は表2に示す内容に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例2~12、比較例1~2の接着剤組成物を得た。各成分の配合量、及び、物性評価結果を表1及び表2に示す。なお、表1及び表2において、(A)~(E)成分の量は質量部を示す。また、(A)~(E)成分の詳細は以下の通りである。
[Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 2]
Example 1 except that the type and amount of one or more of the components of the bismaleimide resin, epoxy resin, active ester curing agent, and curing accelerator were changed to those shown in Table 1 or Table 2. In the same manner, adhesive compositions of Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 2 were obtained. Tables 1 and 2 show the blending amount of each component and the physical property evaluation results. Note that in Tables 1 and 2, the amounts of components (A) to (E) indicate parts by mass. Further, details of components (A) to (E) are as follows.

(A)成分:ビスマレイミド樹脂
(A-1)合成例1のビスマレイミド樹脂(重量平均分子量16000)
(A) Component: Bismaleimide resin (A-1) Bismaleimide resin of Synthesis Example 1 (weight average molecular weight 16,000)

(B)成分:エポキシ樹脂
(B-1)ビフェニル型エポキシ樹脂:YX-4000(三菱ケミカル株式会社製)
(B-2)ビスフェノールF型エポキシ樹脂:YDF-8170C(新日鉄住金化学株式会社製)
(B) Component: Epoxy resin (B-1) Biphenyl type epoxy resin: YX-4000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(B-2) Bisphenol F type epoxy resin: YDF-8170C (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.)

(C)成分:活性エステル系硬化剤
(C-1)HPC-8000-65T(DIC株式会社製)
(C-2)HPC-8000L-65MT(DIC株式会社製)
(C) Component: Active ester curing agent (C-1) HPC-8000-65T (manufactured by DIC Corporation)
(C-2) HPC-8000L-65MT (manufactured by DIC Corporation)

(D)成分:硬化促進剤
(D-1)1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾール:2PZCN(四国化成株式会社製)
(D-2)2-エチル-4-メチル-イミダゾール:2E4MZ(富士フィルム和光純薬株式会社製)
(D-3)1,2-ジメチルイミダゾール:1,2-DMZ(四国化成株式会社製)
(D-4)ジメチルベンジルアミン:DMBA(富士フィルム和光純薬株式会社製)
(D-5)トリエチルアミン:TEA(富士フィルム和光純薬株式会社製)
(D-6)ジクミルパーオキサイド:DCP(日油株式会社製)
(D-7)テトラブチルホスホニウム-1,2-シクロへキシルジカルボン酸(カチオン種:アニオン種=1:1):TBP-3S(北興化学株式会社製)
(D) Component: Curing accelerator (D-1) 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazole: 2PZCN (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
(D-2) 2-ethyl-4-methyl-imidazole: 2E4MZ (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(D-3) 1,2-dimethylimidazole: 1,2-DMZ (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
(D-4) Dimethylbenzylamine: DMBA (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(D-5) Triethylamine: TEA (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(D-6) Dicumyl peroxide: DCP (manufactured by NOF Corporation)
(D-7) Tetrabutylphosphonium-1,2-cyclohexyldicarboxylic acid (cation species: anion species = 1:1): TBP-3S (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.)

Figure 0007434727000012
Figure 0007434727000012

Figure 0007434727000013
Figure 0007434727000013

表1及び表2に示した結果から明らかなように、本発明の特定のビスマレイミド樹脂とエポキシ樹脂と活性エステル系硬化剤と硬化促進剤とを含有する接着剤組成物(実施例)は、LCPと高い接着強度を示すことが確認された。特に、(D)成分にイミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物を含有させた場合(実施例)、(D)成分にリン系化合物を含有させた場合(比較例1)と比較して、接着強度を飛躍的に向上できることが確認された。さらに、本発明の接着剤組成物(実施例)は、誘電率及び誘電正接も低く、低誘電特性に優れていることが確認された。 As is clear from the results shown in Tables 1 and 2, the adhesive composition (Example) containing the specific bismaleimide resin of the present invention, epoxy resin, active ester curing agent, and curing accelerator, It was confirmed that it exhibited high adhesive strength with LCP. In particular, a comparison was made between the case where component (D) contained an imidazole compound, an amine compound, and a peroxide compound (Example), and the case where component (D) contained a phosphorus compound (Comparative Example 1). It was confirmed that the adhesive strength could be dramatically improved. Furthermore, it was confirmed that the adhesive composition (Example) of the present invention has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and is excellent in low dielectric properties.

本発明により、従来のポリイミドより優れた低誘電特性を有するLCP等の低極性樹脂基材と高い接着性を有し、さらに低誘電特性に優れる接着剤組成物、これを用いて接着した積層体及び接着性シートを得ることができる。上記特性により、本発明の接着剤組成物は、フレキシブルプリント配線板用途、特に高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)が求められるFPC用途において有用である。
The present invention provides an adhesive composition that has high adhesion to a low polarity resin base material such as LCP, which has a low dielectric property superior to that of conventional polyimide, and also has excellent low dielectric properties, and a laminate bonded using the adhesive composition. and an adhesive sheet can be obtained. Due to the above properties, the adhesive composition of the present invention is useful for flexible printed wiring board applications, particularly for FPC applications that require low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in a high frequency region.

Claims (6)

(A)下記一般式(1)で表されるビスマレイミド樹脂と、(B)エポキシ樹脂と、(C)活性エステル系硬化剤と、(D)硬化促進剤と、を含有し、
前記(D)成分が、イミダゾール系化合物、アミン系化合物及び過酸化物系化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含み、
前記(B)成分の含有量が、前記(A)成分、前記(B)成分及び前記(C)成分の総量を100質量部として2.0~15.0質量部であり、
前記(C)成分の含有量が、前記(A)成分、前記(B)成分及び前記(C)成分の総量を100質量部として2.0~20.0質量部である、接着剤組成物。
Figure 0007434727000014

[式(1)中、Rはダイマー酸に由来する2価の炭化水素基を示し、Qは置換又は非置換の炭素数1~100の脂肪族基、置換又は非置換の芳香族基、或いは、置換又は非置換のヘテロ芳香族基を示し、nは0~100の整数を示す。]
(A) contains a bismaleimide resin represented by the following general formula (1), (B) an epoxy resin, (C) an active ester curing agent, and (D) a curing accelerator,
The component (D) contains at least one selected from the group consisting of imidazole compounds, amine compounds, and peroxide compounds,
The content of the component (B) is 2.0 to 15.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A), the component (B), and the component (C),
An adhesive composition in which the content of the component (C) is 2.0 to 20.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A), the component (B), and the component (C). .
Figure 0007434727000014

[In formula (1), R 1 represents a divalent hydrocarbon group derived from a dimer acid, Q is a substituted or unsubstituted aliphatic group having 1 to 100 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group, Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and n represents an integer of 0 to 100. ]
前記(D)成分の含有量が、前記(A)成分、前記(B)成分及び前記(C)成分の総量100質量部に対して0.1~5.0質量部である、請求項1に記載の接着剤組成物。 Claim 1, wherein the content of the component (D) is 0.1 to 5.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A), the component (B), and the component (C). The adhesive composition described in . 樹脂基材と、樹脂基材又は金属基材との接着に用いられる、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1 or 2, which is used for adhesion between a resin base material and a resin base material or a metal base material. 基材と、該基材上に請求項1~3のいずれか一項に記載の接着剤組成物を用いて形成された接着剤層と、を備える積層体。 A laminate comprising a base material and an adhesive layer formed on the base material using the adhesive composition according to any one of claims 1 to 3. 請求項1~3のいずれか一項に記載の接着剤組成物によって接着された、樹脂基材と、樹脂基材又は金属基材とを備える積層体。 A laminate comprising a resin base material and a resin base material or a metal base material adhered by the adhesive composition according to any one of claims 1 to 3. 請求項4又は5に記載の積層体を備える接着シート。
An adhesive sheet comprising the laminate according to claim 4 or 5.
JP2019102440A 2019-05-31 2019-05-31 Adhesive compositions, laminates and adhesive sheets Active JP7434727B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019102440A JP7434727B2 (en) 2019-05-31 2019-05-31 Adhesive compositions, laminates and adhesive sheets
JP2024016867A JP2024050836A (en) 2019-05-31 2024-02-07 Adhesive composition, laminate and adhesive sheet

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019102440A JP7434727B2 (en) 2019-05-31 2019-05-31 Adhesive compositions, laminates and adhesive sheets

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024016867A Division JP2024050836A (en) 2019-05-31 2024-02-07 Adhesive composition, laminate and adhesive sheet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020196789A JP2020196789A (en) 2020-12-10
JP7434727B2 true JP7434727B2 (en) 2024-02-21

Family

ID=73648422

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019102440A Active JP7434727B2 (en) 2019-05-31 2019-05-31 Adhesive compositions, laminates and adhesive sheets
JP2024016867A Pending JP2024050836A (en) 2019-05-31 2024-02-07 Adhesive composition, laminate and adhesive sheet

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024016867A Pending JP2024050836A (en) 2019-05-31 2024-02-07 Adhesive composition, laminate and adhesive sheet

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP7434727B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7467014B2 (en) 2021-03-25 2024-04-15 信越化学工業株式会社 Adhesive composition for flexible printed wiring boards (FPCs), and thermosetting resin films, prepregs, and FPC boards containing said composition
JP7302760B2 (en) * 2021-06-15 2023-07-04 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, resin sheet, multilayer printed wiring board, and semiconductor device

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150353730A1 (en) 2014-06-06 2015-12-10 Elite Material Co., Ltd. Low dielectric resin composition, and resin film, prepreg, printed circuit board made thereby
JP2018044065A (en) 2016-09-14 2018-03-22 タツタ電線株式会社 Flame-retardant resin composition and copper foil with resin
JP2018531317A (en) 2015-08-08 2018-10-25 デジグナー モレキュールズ インク. Anionic curable composition
CN109456672A (en) 2017-09-06 2019-03-12 味之素株式会社 Resin combination
WO2019189466A1 (en) 2018-03-28 2019-10-03 積水化学工業株式会社 Resin material and multilayer printed wiring board
JP2019173009A (en) 2018-03-28 2019-10-10 積水化学工業株式会社 Cured body, resin material and multilayer printed board
JP2019173010A (en) 2018-03-28 2019-10-10 積水化学工業株式会社 Resin material, laminate film and multilayer printed wiring board
JP2020084108A (en) 2018-11-29 2020-06-04 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition, and adhesive film, prepreg, multilayer printed wiring board, and semiconductor device manufactured using the resin composition
JP2020084109A (en) 2018-11-29 2020-06-04 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition, and adhesive film, prepreg, multilayer printed wiring board, and semiconductor device manufactured using the resin composition
JP2020084110A (en) 2018-11-29 2020-06-04 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
WO2020158202A1 (en) 2019-01-31 2020-08-06 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product, and electronic component
JP2020158704A (en) 2019-03-27 2020-10-01 味の素株式会社 Resin composition
JP6805338B2 (en) 2018-03-28 2020-12-23 積水化学工業株式会社 Resin material, laminated structure and multi-layer printed wiring board

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150353730A1 (en) 2014-06-06 2015-12-10 Elite Material Co., Ltd. Low dielectric resin composition, and resin film, prepreg, printed circuit board made thereby
JP2018531317A (en) 2015-08-08 2018-10-25 デジグナー モレキュールズ インク. Anionic curable composition
JP2018044065A (en) 2016-09-14 2018-03-22 タツタ電線株式会社 Flame-retardant resin composition and copper foil with resin
CN109456672A (en) 2017-09-06 2019-03-12 味之素株式会社 Resin combination
JP2019044128A (en) 2017-09-06 2019-03-22 味の素株式会社 Resin composition
JP2019173009A (en) 2018-03-28 2019-10-10 積水化学工業株式会社 Cured body, resin material and multilayer printed board
WO2019189466A1 (en) 2018-03-28 2019-10-03 積水化学工業株式会社 Resin material and multilayer printed wiring board
JP2019173010A (en) 2018-03-28 2019-10-10 積水化学工業株式会社 Resin material, laminate film and multilayer printed wiring board
JP6660513B1 (en) 2018-03-28 2020-03-11 積水化学工業株式会社 Resin material and multilayer printed wiring board
JP6805338B2 (en) 2018-03-28 2020-12-23 積水化学工業株式会社 Resin material, laminated structure and multi-layer printed wiring board
JP2020084108A (en) 2018-11-29 2020-06-04 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition, and adhesive film, prepreg, multilayer printed wiring board, and semiconductor device manufactured using the resin composition
JP2020084109A (en) 2018-11-29 2020-06-04 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition, and adhesive film, prepreg, multilayer printed wiring board, and semiconductor device manufactured using the resin composition
JP2020084110A (en) 2018-11-29 2020-06-04 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
WO2020158202A1 (en) 2019-01-31 2020-08-06 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product, and electronic component
JP2020158704A (en) 2019-03-27 2020-10-01 味の素株式会社 Resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020196789A (en) 2020-12-10
JP2024050836A (en) 2024-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI812720B (en) Low Dielectric Adhesive Composition
TWI609921B (en) Resin composition, and adhesive film, cover lay film and interlayer adhesive formed therefrom
JP6645431B2 (en) Low dielectric adhesive composition
TWI777950B (en) Polyimide, polyimide-based adhesive, film-like adhesive material, adhesive layer, adhesive sheet, copper foil with resin, copper-clad laminate and printed wiring board, and multilayer wiring board and method for producing the same
JP6705456B2 (en) Low dielectric adhesive composition
JP5199669B2 (en) Epoxy resin, curable resin composition, and cured product thereof
JPWO2020071154A1 (en) Resin compositions, films, laminates and semiconductor devices
JP2024050836A (en) Adhesive composition, laminate and adhesive sheet
WO2014064986A1 (en) Coverlay film, flexible printed circuit board using same, and production method therefor
JP6726877B2 (en) Metal foil with resin, laminated board, printed wiring board and multilayer printed wiring board
CN106947079B (en) Modified polyimide, adhesive composition, copper foil with resin, copper-clad laminate, printed wiring board, and multilayer substrate
JP7338479B2 (en) Modified epoxy resin, epoxy resin composition, cured product, and laminate for electric/electronic circuit
KR20220079852A (en) Polyolefin-based adhesive composition
WO2022025123A1 (en) Resin composition, cured material, sheet, laminate, and flexible printed circuit board
JP5660783B2 (en) Sulfone group-containing polyhydroxy polyether resin, resin composition containing the resin, curable resin composition containing the resin, and film obtained therefrom
WO2021205675A1 (en) Bismaleimide-based adhesive composition, cured product, adhesive sheet, and flexible printed wiring board
WO2020012978A1 (en) Adhesive composition, laminate, and adhesive sheet
JP2020012026A (en) Adhesive composition, laminate, and adhesive sheet
JP7120498B1 (en) Adhesive composition, and adhesive sheet, laminate and printed wiring board containing same
TWI837306B (en) Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and printed wirining board
JP2008222906A (en) Adhesive composition for flexible wiring board, cover-lay, adhesive film, flexible copper-clad laminate, flexible wiring board and wiring board with stiffening plate each using the same
WO2022196585A1 (en) Adhesive composition, and adhesive sheet, laminate and printed circuit board containing this
TWI724033B (en) Modified polyimide, adhesive composition, copper foil with resin, copper clad laminate, printed circuit board and multilayer substrate
JP2024035605A (en) Resin materials, cured products, circuit boards with insulating layers, multilayer printed wiring boards, and methods for producing imide compounds
JP2021014544A (en) Resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220415

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230124

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230627

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20230824

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231006

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240122

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7434727

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151