JP7432820B2 - 積層体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
[1] クロロプレンゴム加硫物層と、これと隣接するクロロスルホン化ポリオレフィン加硫物層を有する積層体であって、クロロプレンゴム加硫物がケイ素化合物をクロロプレンゴム100重量部に対し30~100重量部含むことを特徴とする積層体。
[2] クロロスルホン化ポリオレフィン加硫物が、過酸化物で架橋されたものであることを特徴とする上記[1]に記載の積層体。
[3] ケイ素化合物を含むクロロプレンゴム未加硫物と、クロロスルホン化ポリエチレン未加硫物を各々シート状に成型した後、これらを重ね合わせた状態で加熱し、加硫することを特徴とする上記[1]または[2]に記載の積層体の製造方法。
<積層体の作製>
クロロプレンゴムおよびクロロスルホン化ポリエチレンと、表1に示す所定の割合の配合剤とを3L加圧型ニーダーにて混錬後、8インチオープンロールにて間隙1.4mmでシート状に成型した。シート状のそれぞれの混合物を20cm×20cmのサイズで切り出し、重ねて、20cm×20cm、厚み2mmの金型に入れ、加熱圧縮成型機を用いて160℃にて20分間150kg/m2にて圧縮成形し、20cm×20cm、厚み2mm積層体を得た。なお、シートを重ねる際、一部に2mm幅PETフィルムを挟むことで接着しないようにして、接着強度測定の際の掴みしろとした。
積層体を25℃にて1日養生した後、25mm幅に打抜き、剥離試験機にて、180度剥離を行い、25℃における剥離強度の測定と剥離状態を観察した。剥離試験機に装着する際にはPETフィルムを剥がし、治具の掴みしろとし、剥離速度は200mm/minとした。
剥離状態は、クロロプレンゴムとクロロスルホン化ポリエチレンの界面が明確に判定できるものを界面剥離、界面が判別できないものをゴム破壊、およびそれらの混在とし、そのどれに該当するかを目視で確認した。ゴム破壊が最も良好で、界面剥離の割合が増えるほど接着状態が劣ると判断した。
表2に示すように、ケイ素化合物としてデキシクレーを用い、クロロプレンゴムおよびクロロスルホン化ポリエチレンの混錬を実施し、積層体を作製した。クロロプレンゴムは東ソー(株)製の硫黄変性クロロプレンゴムであるスカイプレンR-22を、クロロスルホン化ポリエチレンは東ソー(株)製のTOSO-CSM TS-530を用いた。
表2に示すようにケイ素化合物の量を変更した以外は、実施例1と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すようにクロロスルホン化ポリエチレンの加硫系を硫黄系から過酸化物へと変更した以外は、実施例1と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すようにクロロスルホン化ポリエチレンの加硫系を硫黄系から過酸化物へと変更し、クロロスルホン化ポリエチレンにケイ素化合物を配合しなかった以外は、実施例1と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すように使用するケイ素化合物をデキシクレーからシリカに変更し量を変更した以外は実施例1と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すようにクロロスルホン化ポリエチレンにケイ素化合物を配合しなかった以外は、実施例5と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すようにクロロスルホン化ポリエチレンの加硫系を過酸化物に変更した以外は、実施例5と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すようにクロロプレンゴムを硫黄変性からメルカプタン変性に変更した以外は実施例5と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
表2に示すようにクロロプレンゴムを硫黄変性からメルカプタン変性に変更した以外は実施例5と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。強度は大きく、剥離状態はゴム破壊であった。
クロロプレンゴムに配合するデキシクレーの量を20重量部とした以外は実施例1と同様に積層体を作製し、剥離強度と剥離状態を確認した。結果を表3に示す。強度は小さく、剥離状態は界面破壊であった。
表3に示すように、クロロプレンゴムにはケイ素化合物を配合しなかったこと以外は実施例1と同様に積層体を作製し、積層体の剥離強度と剥離状態を確認した。強度は小さく、剥離状態は界面破壊であった。
表3に示すように、クロロプレンゴムにはケイ素化合物を配合せず、クロロスルホン化ポリエチレンに配合するケイ素化合物を80重量部とした以外は実施例1と同様に積層体を作製し、積層体の剥離強度と剥離状態を確認した。強度は小さく、剥離状態は界面破壊であった。
表3に示すように、クロロプレンゴムにはケイ素化合物を配合せず、クロロスルホン化ポリエチレンの加硫系を過酸化物としたこと以外は実施例1と同様に積層体を作製し、積層体の剥離強度と剥離状態を確認した。強度は小さく、剥離状態は界面破壊であった。
表3に示すように、クロロプレンゴムにはケイ素化合物を配合せず、クロロスルホン化ポリエチレンに配合するケイ素化合物をシリカとし量を変更したこと以外は実施例1と同様に積層体を作製し、積層体の剥離強度と剥離状態を確認した。強度は小さく、剥離状態は界面破壊であった。
表3に示すように、クロロプレンゴムにはケイ素化合物を配合せず、クロロスルホン化ポリエチレンに配合するケイ素化合物をシリカとし、クロロスルホン化ポリエチレンの加硫系を過酸化物としたこと以外は実施例1と同様に積層体を作製し、積層体の剥離強度と剥離状態を確認した。強度は小さく、剥離状態は界面破壊であった。
Claims (3)
- クロロプレンゴム加硫物層と、これと隣接するクロロスルホン化ポリオレフィン加硫物層を有する積層体であって、クロロプレンゴム加硫物がケイ素化合物をクロロプレンゴム100重量部に対し30~100重量部含むことを特徴とする積層体。
- クロロスルホン化ポリオレフィン加硫物が、過酸化物で架橋されたものであることを特徴とする請求項1に記載の積層体。
- ケイ素化合物を含むクロロプレンゴム未加硫物と、クロロスルホン化ポリエチレン未加硫物を各々シート状に成型した後、これらを重ね合わせた状態で加熱し、加硫することを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の積層体の製造方法。
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