JP7430603B2 - 三次元造形物の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 111
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 57
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 55
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 47
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 44
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 41
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 29
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 14
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
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- Powder Metallurgy (AREA)
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Description
以下、まず、実施の形態1による三次元造形物の製造方法について、図1および2を用いて説明する。図中、X軸方向は、三次元造形物である管状造形物100の矩形状の断面における横方向に相当し、Y軸方向は、管状造形物100の矩形状の断面における縦方向に相当し、Z軸方向は、管状造形物100の延在する方向、すなわち、延在方向に相当する。X軸方向、Y軸方向、Z軸方向はそれぞれ直交する。
不純物1を含有する金属粉末を用いて三次元造形物である管状造形物100を造形する造形工程(STEP1)と、管状造形物100の内壁4を、露出した不純物1を含めて化学研磨する化学研磨工程(STEP2)からなる。
実施の形態1による三次元造形物の製造方法で特徴的な工程である化学研磨工程の詳細については後述する。
なお、金属粉末として、銅あるいはアルミニウムが挙げられるが、これらの材料のみに限定されるわけではない。
なお、図2の管状造形物100は、上述したように、管状部5の内部構造を示すものではないし、さらに、図5の導波管装置150および図6の導波管装置160の外観を示すものでもない。
これは、管状造形物100の内壁4を研磨するためには、一般的に用いられてきた機械的な研磨、例えば、流体を内部に流しながら研磨する流体研磨では、三次元造形物の複雑な内部構造に対応できないためである。
管状造形物100である導波管装置をアンテナ用に適用する場合は、例えば、予め設定された数値範囲内として、面粗度Raが2μm以上4μm以下の数値範囲が挙げられる。
以下、実施の形態2による管状造形物の内壁加工方法について、図11および図12を用いて説明する。
図11に示すように、管状造形物100である導波管装置の導波管本体3の内壁4を化学研磨する化学研磨工程(STEP21)と、化学研磨工程(STEP21)後に、管状造形物100の内壁4に導電性のめっきを施すめっき工程(STEP22)とを備えたことを特徴とする。
以下、実施の形態3による導波管装置について図13から16を用いて説明する。
実施の形態4による三次元造形物の製造方法について、図17のフローチャートを用いて説明する。
実施の形態1による三次元造形物の製造方法では、処理ステップとして、造形工程(STEP1)と化学研磨工程(STEP2)とを用いたものを説明した。また、実施の形態2による管状造形物の内壁加工法では、処理ステップとして、化学研磨工程(STEP21)とめっき工程(STEP22)とを用いたものを説明した。すなわち、各処理ステップを分けて実施する三次元造形物の製造方法をそれぞれ説明してきたが、実施の形態4による三次元造形物の製造方法では、図17のフローチャートに示すように、造形工程(STEP31)、化学研磨工程(STEP32)、めっき工程(STEP33)の3工程からなるものである。
Claims (14)
- 不純物を含有する金属粉末を用いて三次元造形物を造形する造形工程と、
前記三次元造形物を化学研磨液に浸漬して内壁の平滑化処理を行う平滑化処理工程と、 前記内壁に露出した不純物を薬液で除去する不純物除去工程と、
前記不純物除去工程の後に、前記三次元造形物を水洗する洗浄工程と、
を含むことを特徴とする三次元造形物の製造方法。 - 前記洗浄工程の後に、前記三次元造形物の内壁の面粗度を測定する検査工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記平滑化処理工程から前記洗浄工程までの各工程を1サイクルとし、
前記検査工程において測定される前記三次元造形物の内壁の面粗度が予め設定された数値範囲内に入るまで、前記1サイクルを繰り返すことを特徴とする請求項2に記載の三次元造形物の製造方法。 - 前記面粗度の数値範囲は、前記三次元造形物の内部を伝搬する電磁波の周波数に基づいて決定されることを特徴とする請求項3に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記面粗度の数値範囲は、前記三次元造形物の内部を伝搬する電磁波の挿入損失に基づいて決定されることを特徴とする請求項3に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記面粗度の数値範囲は、2μm以上4μm以下であることを特徴とする請求項3から5のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記造形工程で造形される前記三次元造形物は、一端の断面が矩形を呈する管状造形物であり、前記管状造形物の管状部の一側面側から前記管状部の中心に向かって突出する凸部が、前記管状造形物が延在する方向に沿って複数個配置され、前記各凸部の一側面から先端までの長さが互いに異なり、かつ、前記一側面と対向する側面に前記一側面と同一形状の凸部が配置されることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記造形工程で造形される前記三次元造形物は、一端の断面が矩形を呈する管状造形物であり、前記管状造形物の管状部の一側面側から前記管状部の中心に向かって突出する凸部が、前記管状造形物が延在する方向に沿って周期的に複数個配置され、前記各凸部の一側面から先端までの長さが一定であり、かつ、前記一側面と対向する側面に前記一側面と同一形状の凸部が配置されることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記造形工程で造形される前記三次元造形物は、一端の断面が矩形を呈する管状造形物であり、前記管状造形物の管状部に、前記管状造形物の延在する方向に沿って、前記管状部を分割する仕切り壁が配置されることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記仕切り壁は、前記管状造形物の延在する方向に対して複数個に分割された構成であることを特徴とする請求項9に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記造形工程で造形される前記三次元造形物は、一端の断面が矩形を呈する管状造形物であり、前記管状造形物の管状部が、前記管状造形物の延在する方向とは異なる方向に分岐する構造を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記造形工程で造形される前記三次元造形物は、一端の断面が矩形を呈する管状造形物であり、前記管状造形物の管状部が、前記管状造形物の延在する方向に対して対称な二つの方向に分岐する構造を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記管状造形物は、導波管装置であることを特徴とする請求項7から12のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記三次元造形物の内壁に導電性のめっき層を形成するめっき工程をさらに含む請求項1から6のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020142227A JP7430603B2 (ja) | 2020-08-26 | 2020-08-26 | 三次元造形物の製造方法 |
JP2024012568A JP2024036436A (ja) | 2020-08-26 | 2024-01-31 | 三次元造形物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020142227A JP7430603B2 (ja) | 2020-08-26 | 2020-08-26 | 三次元造形物の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024012568A Division JP2024036436A (ja) | 2020-08-26 | 2024-01-31 | 三次元造形物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022037975A JP2022037975A (ja) | 2022-03-10 |
JP7430603B2 true JP7430603B2 (ja) | 2024-02-13 |
Family
ID=80497653
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020142227A Active JP7430603B2 (ja) | 2020-08-26 | 2020-08-26 | 三次元造形物の製造方法 |
JP2024012568A Pending JP2024036436A (ja) | 2020-08-26 | 2024-01-31 | 三次元造形物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024012568A Pending JP2024036436A (ja) | 2020-08-26 | 2024-01-31 | 三次元造形物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7430603B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008271295A (ja) | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Kyocera Corp | マイクロストリップ線路と積層型導波管線路との接続構造体およびこれを有する配線基板 |
JP2018532044A (ja) | 2015-09-03 | 2018-11-01 | クエステック イノベーションズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | アルミニウム合金 |
US20180366800A1 (en) | 2015-09-25 | 2018-12-20 | Bae Systems Australia Limited | An rf structure and a method of forming an rf structure |
JP2019512049A (ja) | 2016-02-15 | 2019-05-09 | アール・イー・エム・テクノロジーズ・インコーポレーテツド | 付加製造された工作物の化学処理 |
US20190292681A1 (en) | 2016-07-13 | 2019-09-26 | Airbus Defence and Space GmbH | A Method For The Surface Finishing Of Metals And Alloys |
-
2020
- 2020-08-26 JP JP2020142227A patent/JP7430603B2/ja active Active
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2024
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008271295A (ja) | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Kyocera Corp | マイクロストリップ線路と積層型導波管線路との接続構造体およびこれを有する配線基板 |
JP2018532044A (ja) | 2015-09-03 | 2018-11-01 | クエステック イノベーションズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | アルミニウム合金 |
US20180366800A1 (en) | 2015-09-25 | 2018-12-20 | Bae Systems Australia Limited | An rf structure and a method of forming an rf structure |
JP2019512049A (ja) | 2016-02-15 | 2019-05-09 | アール・イー・エム・テクノロジーズ・インコーポレーテツド | 付加製造された工作物の化学処理 |
US20190292681A1 (en) | 2016-07-13 | 2019-09-26 | Airbus Defence and Space GmbH | A Method For The Surface Finishing Of Metals And Alloys |
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JP2024036436A (ja) | 2024-03-15 |
JP2022037975A (ja) | 2022-03-10 |
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