JP7429685B2 - 水素の生成のための方法 - Google Patents
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Description
本発明は液体環状シロキサン水素キャリア化合物に関し、これらは好ましくは次の化合物から選択される。
- 無機塩基。例えば、無機塩基は水酸化カリウム又は水酸化ナトリウムなどのアルカリ又はアルカリ土類金属水酸化物であり得て、水酸化ナトリウムが特に好ましい;
- 例えば、式RR’R” R'”ZYの化合物などのシロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化を行うことができる求核剤を放出することができる化合物。ZはN又はPであり、YはOH、F、Cl、又はBrであり、R、R’、R”、及びR'”は有利にはC1~C15アルキル又はC6~C10アリールから選択され得て、R、R’、R”、R'”は同じか又は異なる;
- 例えば鉄、ルテニウム、レニウム、ロジウム、銅、クロム、イリジウム、亜鉛、及び/又はタングステンなど…に基づく有機金属系錯体などの、シロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化を促進することができる均一系有機金属系触媒;並びに
- 例えば、金属ナノ粒子、[M/AlO(OH)、M=Pd、Au、Rh、Ru、及びCu]、Pd/C、及び/又は好ましくは無機支持体上に固定化された前述の金属の何れかなどの、シロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化を促進することができる不均一系触媒。
- 3価リンに基づく触媒(例えば、1つ又はより多くの3価リン基を持つポリマー担持触媒);
- アミンに基づく触媒(例えば、1つ又はより多くのアミン基を持つポリマー担持触媒)、又はアンモニウム塩、例えばRR’R” R'”NOH。R、R’、R”、R'”はC1~C15アルキル又はC6~C10アリールであり、R、R’、R”、R'”は同じか又は異なる;
- フッ化物イオン源触媒(例えばフッ化テトラブチルアンモニウム);及び
- ヘキサメチルホスホロアミド(「HMPA」)。
・ 一般式SiO2,xH2Oのシリカ化合物、
・ 2以上のnを有する[SiO2]n、又は
・ 前記シリカ化合物の2つ又はより多くの混合物、
から選択される。
・ 0及び2の間に含まれる整数であるxを有する一般式Na2xSiO2+x又はK2xSiO2+xのケイ酸ナトリウム又はカリウム化合物、或いは
・ 0及び4の間に含まれる整数であるxを有する一般式[SiOx(OH)4-x]x-の、又はn=1のときにx=0又は1及びn=2のときにx=1/2又は3/2を有する一般式[SiOx(OH)4-2x]nのケイ酸化合物、或いは
・ ポリマー構造を有するケイ酸塩化合物、例えば構造(Si2O7)6-の二ケイ酸イオン、又は2以上のnを有する一般構造[SiO3 2-]n、[Si4O11 6-]n、又は[Si2O5 2-]nのマクロアニオン、或いは
・ 前記ケイ酸塩化合物の2つ又はより多くの混合物、
から選択される。
・ それを放出するためのエネルギー投入なしに、水素が大量に、高収率でもって、非常に短時間で、かつ非常に低い生成コストによって生成され得た;かつ
・ 実質的な炭素排出なしに、好ましくは炭素排出なしに、エネルギーを貯蔵すること及び水素生成から出される副生成物をリサイクルすることによって、前記シロキサン水素キャリア化合物を作り出すことが可能であった、
ということも発見された。
本発明は、炭素含有反応物を必要とすることなく及び/又は実質的な炭素排出なしに、好ましくは炭素排出なしに、シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物から液体シロキサン水素キャリア化合物を生成するための方法に関する。
本発明は液体シロキサン水素キャリア化合物を再生するための方法にも関し、前記方法は、水素並びにシリカ及び/又はケイ酸塩化合物(B)の生成のためのシロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化のステップと、前記シリカ及び/又はケイ酸塩化合物(B)から液体シロキサン水素キャリア化合物への変換のステップとを含み、前記方法は炭素含有反応物を必要とせず、及び/又は実質的な炭素排出なしに、好ましくは炭素排出なしである。
別の実施形態では、本発明は、直鎖状化学構造を有し、かつ式(I)の1つ又はより多くの単位を含む、液体シロキサン水素キャリア化合物にも関し:
- シロキサン化合物の重量分析上のより良好な重量効率を許容する、より低い分子量。その全体的な分子量と比較して、化合物によって担われる水素の重量の間のより高い比を意味する。
- 例えばSiMe3と比較されたときに、単純かつ何れかの炭素排出なしのSiH3鎖末端のリサイクル。何故なら、H3SiClは再生方法の副生成物であり(ステップ4を参照)、従ってこれは評価され、そのリサイクルのための外からの原材料投入を必要としないからである。
- 液体シロキサン水素キャリア化合物が脱炭素であるときには、如何なる炭素排出もなく、
- シロキサン水素キャリア化合物が炭素を含有するときには、対応する炭素排出は、生成及び/又はリサイクルされるシロキサン水素キャリア化合物のkg当り0.924kgのCO2よりも少なく、好ましくは0.462よりも少なく、より好ましくは0.231よりも少なく、例えば0.1よりも少なく、又は更には0.05kgのCO2よりも少ないであろう。
- 無機塩基。例えば、無機塩基は水酸化カリウム又は水酸化ナトリウムなどのアルカリ又はアルカリ土類金属水酸化物であり得て、水酸化ナトリウムが特に好ましい;
- 例えば式RR’R” R'”ZYの化合物などのシロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化を行うことができる求核剤を放出することができる化合物。ZはN又はPであり、YはOH、F、Cl、又はBrであり、R、R’、R”、及びR'”は有利には、C1~C15アルキル又はC6~C10アリールから選択され得て、R、R’、R”、R'”は同じか又は異なる;
- 例えば鉄、ルテニウム、レニウム、ロジウム、銅、クロム、イリジウム、亜鉛、及び/又はタングステンなど…に基づく有機金属系錯体などの、シロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化を促進することができる均一系有機金属系触媒;並びに
- 例えば、金属ナノ粒子、[M/AlO(OH)、M=Pd、Au、Rh、Ru、及びCu]、Pd/C、及び/又は好ましくは無機支持体上に固定化された前述の金属の何れかなどの、シロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化を促進することができる不均一系触媒。
- 3価リンに基づく触媒(例えば、1つ又はより多くの3価リン基を持つポリマー担持触媒);
- アミンに基づく触媒(例えば、1つ又はより多くのアミン基を持つポリマー担持触媒)、又はアンモニウム塩、例えばRR’R” R'”NOH。R、R’、R”、R'”はC1~C15アルキル又はC6~C10アリールであり、R、R’、R”、R'”は同じか又は異なる;
- フッ化物イオン源触媒(例えばフッ化テトラブチルアンモニウム);及び
- ヘキサメチルホスホロアミド(「HMPA」)。
本発明は、炭素含有反応物を要求することなしに及び/又は実質的な炭素排出なしに、好ましくは炭素排出なしに、シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物から液体シロキサン水素キャリア化合物を生成するための方法に関する。
本発明は液体シロキサン水素キャリア化合物を再生するための方法にも関し、前記方法は、水素並びにシリカ及び/又はケイ酸塩化合物(B)の生成のためのシロキサン水素キャリア化合物の加水分解的酸化のステップと、前記シリカ及び/又はケイ酸塩化合物(B)から液体シロキサン水素キャリア化合物への変換のステップとを含み、前記方法は炭素含有反応物を必要とせず、及び/又は実質的な炭素排出なしに、好ましくは炭素排出なしである。
本発明は水の存在下におけるシロキサンの加水分解的酸化による水素の生成のための方法にも関し、シロキサンは液体シロキサン水素キャリア化合物であり、既に本明細書において上記定義されている液体シロキサン、好ましくは本明細書において上記定義されている環状シロキサンから選択される。
- 式(I)のシロキサン水素キャリア化合物、
- 対応するケイ酸塩型の副生成物、
- 水素、
- 水、
- 水素放出開始剤(単数又は複数)、並びに
- 任意の触媒、及び
- 任意の溶媒
が、前記反応混合物の少なくとも90重量パーセント、好ましくは少なくとも95重量パーセント、例えば少なくとも99重量パーセントに相当することを特徴とする。
- 反応混合物入口。前記混合物は式(I)のシロキサン水素キャリア化合物及び任意の溶媒を含む;
- 水素出口;
- 任意に、副生成物捕集部;並びに
- 任意に、上記記載されている通り、ポリマー担持触媒によってコーティングされた、前記混合物と接触することを意図される表面
を含む反応チャンバーを含む。
本明細書において説明されている通り、本発明の目的は、水素生成から出される副生成物をリサイクルすることによって、環境に優しく及び/又は実質的な炭素排出なしに、好ましくは炭素排出なしに、水素キャリア化合物を生成すること及び水素キャリア化合物を再生することでもある。
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物を提供すること、
- 反応経路Xでは、
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物をハロゲン化ステップに付して四ハロゲン化ケイ素を生成すること、
・ 四ハロゲン化ケイ素を還元ステップに付してハロシランを生成すること、及び
・ ハロシランを加水分解ステップに付して液体シロキサン水素キャリア化合物を生成すること;
- 反応経路Yでは、
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物を還元ステップに付してケイ素を生成すること、
・ ケイ素をヒドロハロゲン化ステップに付してハロシランを生成すること、及び
・ ハロシランを加水分解ステップに付して液体シロキサン水素キャリア化合物を生成すること;
- 反応経路Zでは、
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物をハロゲン化ステップに付して四ハロゲン化ケイ素を生成すること、
・ 四ハロゲン化ケイ素を還元ステップに付してケイ素を生成すること、
・ ケイ素をヒドロハロゲン化ステップに付してハロシランを生成すること、及び
・ ハロシランを加水分解ステップに付して液体シロキサン水素キャリア化合物を生成すること。
本発明の或る実施形態では、即ち、ケイ酸塩がシロキサン生成/再生方法の出発材料として選択されるときには、有利には、ケイ酸塩の追加の処理(例えば、溶媒蒸発、酸による化学処理、熱分解…)がシリカ(SiO2)を得るために用いられ得る。後者はシロキサン生成方法の原材料として用いられる。
- 反応経路X及びZでは、
・ 四ハロゲン化ケイ素の生成のためのシリカ、及び/又はケイ酸塩化合物のハロゲン化はステップ2(a)に対応する;それが四ハロゲン化ケイ素の生成を好む限りは、何れかの好適なハロゲン化物源がステップ2(a)に用いられ得る;
- 反応経路Yでは、
・ ステップ2(c)はケイ素を生成するためのシリカ化合物、及び/又はケイ酸塩化合物の1ステップ還元に対応する;
・ ステップ2(b)及び3(c)はケイ素を生成するためのシリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物の2ステップ還元に対応する;
- 反応経路Zでは、
・ ステップ3(a’)及び/又はステップ3(b)はケイ素を生成するための四ハロゲン化ケイ素の還元に対応する;
- 反応経路Xでは、
・ ステップ3(a)はハロシランを生成するための四ハロゲン化ケイ素の還元に対応する;
- 反応経路Y及びZでは、
・ ステップ4はハロシランを生成するためのケイ素のヒドロハロゲン化方法に対応する;
- 反応経路X、Y、及び/又はZでは、
・ ステップ5は液体シロキサン水素キャリア化合物を生成するためのハロシランの加水分解に対応する。
- 図2のステップ3(b)では、Naが還元剤として用いられるケースでは(ステップ3(b))、形成された4当量のNaFはリサイクルされて、ここでは開示されない方法において、4Na及び4HFを再生する。
- 図2のステップ3(c)では、SiO経路の水素ガス還元が使用されるケースでは(ステップ3(c))、2当量のSiが形成される。有利には、後者の1当量は方法へのSiの何れかの投入を回避するために、ステップ2(b)に再注入され得て、別の当量(「余剰な」含量)は有利には方法の次段のステップ4において消費される。
- 図2では、生成方法のステップ4は、ここでは完全には開示されない多段階方法である。
- 反応経路Xでは、
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物(B)をハロゲン化ステップに付して四ハロゲン化ケイ素を生成すること、
・ 四ハロゲン化ケイ素を還元ステップに付してハロシランを生成すること、及び
・ ハロシランを加水分解ステップに付して、液体シロキサン水素キャリア化合物(単数又は複数)、好ましくは同じ液体シロキサン水素キャリア化合物(単数又は複数)を再生すること;
- 反応経路Yでは、
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物(B)を還元ステップに付してケイ素を生成すること、
・ ケイ素をヒドロハロゲン化ステップに付してハロシランを生成すること、及び
・ ハロシランを加水分解ステップに付して、液体シロキサン水素キャリア化合物(単数又は複数)、好ましくは同じ液体シロキサン水素キャリア化合物(単数又は複数)を再生すること;
- 反応経路Zでは、
・ シリカ化合物及び/又はケイ酸塩化合物(B)をハロゲン化ステップに付して四ハロゲン化ケイ素を生成すること、
・ 四ハロゲン化ケイ素を還元ステップに付してケイ素を生成すること、
・ ケイ素をヒドロハロゲン化ステップに付してハロシランを生成すること、及び
・ ハロシランを加水分解ステップに付して、液体シロキサン水素キャリア化合物(単数又は複数)、好ましくは同じ液体シロキサン水素キャリア化合物(単数又は複数)を再生すること。
- 図3のステップ3(b)では、Naが還元剤として用いられるケースでは、形成された4当量のNaFはリサイクルされて、ここでは開示されない方法において4当量のNa及び4当量のHFを再生する。
- 図3のステップ3(c)では、SiO経路の水素ガス還元が使用されるケースでは(ステップ3(c))、2当量のSiが形成される。後者の1当量は方法へのSiの何れかの投入を回避するためにステップ2(b)に再注入され、別の当量(「余剰な」含量)は有利には方法の次段のステップ4において消費される。
本発明の或る実施形態では、四ハロゲン化ケイ素化合物の生成のためのハロゲン化物源によるシリカ/ケイ酸塩化合物(B)のハロゲン化のための方法が提供される。何れかのハロゲン化物源が有利に用いられ得る。ハロゲン化水素は好ましいハロゲン化物源である;有利には、前記ハロゲン化水素は水溶液又はガス、例えばフッ化水素(HF)であり得る。例えば、フッ化水素がハロゲン化ステップに用いられるときには、四フッ化ケイ素及び副生成物としての水が形成される;水は、方法の更なるステップに再利用されるために、又は電解され水素及び酸素ガスを形成するために捕集され得て、前者は例えば直接的に方法の次段のステップにおいて消費される。
本発明の或る実施形態では、SiOの生成のための元素状ケイ素の存在下におけるシリカ/ケイ酸塩化合物(B)の還元のための方法が提供される。何れかの元素状ケイ素源が有利に用いられ得る。冶金グレードケイ素は好ましい元素状ケイ素源である。元素状ケイ素が還元ステップに用いられるので、2当量のSiOが転換されたケイ酸塩当り形成される;形成されたSiOは例えば直接的に方法のステップ3(c)において消費される。
本発明の或る実施形態では、元素状ケイ素の生成のための水素ガスの存在下における、シリカ/ケイ酸塩化合物(B)の還元のための方法が提供される。生成される元素状ケイ素は冶金又は太陽電池グレード何れかであり得る。他のガス(単数又は複数)、例えばアルゴン又は窒素などの不活性ガスが水素に加えて任意に使用され得る。水素によるシリカ/ケイ酸塩化合物の還元の反応は吸熱的であるので、熱源が要求される;何れかの熱源、例えばアーク放電テクノロジー、誘導加熱、マイクロウェーブ、ホットフィラメント、プラズマテクノロジーが選択され得る。プラズマが特に好ましい;例えば、有利には、対応するプラズマテクノロジーはプラズマジェットを生ずることを許すプラズマトーチを含み得る。好ましくは、プラズマジェットは、(例えばアルゴンなどの)追加のガス(単数又は複数)あり又はなしに、電極を通過する水素ガスから作られる。ケイ素及び水を形成するために2000及び20000°Kの間に含まれる温度において、気相中で水素と反応することに先行して、シリカが真空下で水素プラズマジェット中に導入され得る。それから、ケイ素は凝縮され、固体として回収される。
本発明の或る実施形態では、元素状ケイ素[ステップ3(a’)]及び/又はハロシラン(単数又は複数)[ステップ3(a)]、例えばシラン(SiH4)、モノハロシラン(H3SiX)及び/又はジハロシラン(H2SiX2)及び/又はトリハロシラン(HSiX3)及び/又はテトラハロシラン(SiX4)の生成のための、水素ガス(例えば、前段のステップから捕集された水の電解によって形成された水素;又は方法の別のステップから;又は外部の方法から捕集された致命的な水素から回収された水素)による四ハロゲン化ケイ素化合物の還元のための方法が提供される。四フッ化ケイ素(SiF4)が四ハロゲン化ケイ素源として用いられるケースでは、水素ガスを使用する還元ステップは元素状ケイ素に至り、かつ副生成物としてフッ化水素(HF)を放出し得る[ステップ3(a’)]。モノフルオロシラン及び/又はジフルオロシラン及び/又はトリフルオロシラン及び/又はテトラフルオロシランに至る部分的還元も起こり得て、フッ化水素(HF)を副生成物として放出し得る[ステップ3(a)]。有利には、前記形成されたHFは上のハロゲン化ステップ[ステップ2(a)]に再注入され得て、生成/再生方法のステップ(2)及び(3)の平衡化した物質収支に至る。
本発明の或る実施形態では、元素状ケイ素の生成のための金属系還元体による四ハロゲン化ケイ素化合物の還元のための方法が提供される。有利には、アルカリ金属、例えばナトリウムが金属系還元体として選択され得る。ナトリウムなどのアルカリ金属を使用する還元ステップは、元素状ケイ素に至りかつフッ化ナトリウム(NaF)を放出し得て、後者は有利にはマルチステップ方法においてリサイクルされ、Na及びHFを再生する。有利には、前記再生されたNaは還元体としてここで言及されたステップ3(b)に再利用され得、平衡化した物質収支に至る。有利には、前記再生されたHFは例えば方法のステップ2(a)に再利用され得て、平衡化した物質収支に至る。
本発明の或る実施形態では、元素状ケイ素の生成のための水素ガスによるSiOの還元のための方法が提供される。有利には、生成された元素状ケイ素の一部は方法への元素状ケイ素の何れかの投入を回避するために、ステップ2(b)に再注入され得て、生成された元素状ケイ素の別の一部(「余剰」な)は、直接的に方法の次段のヒドロハロゲン化ステップ4において消費される。
本発明の或る実施形態では、ハロシラン、例えばモノハロシラン(H3SiX)、ジハロシラン(H2SiX2)、トリハロシラン(HSiX3)、及び/又はテトラハロシラン(SiX4)、又はこれらの化合物の混合物(Xはハロゲン化物である)の生成のための、元素状ケイ素のヒドロハロゲン化のための方法が提供される。ヒドロハロゲン化ステップに用いられる元素状ケイ素は好ましくは方法の前段のステップに由来する。塩化水素(HCl)は元素状ケイ素からジクロロシラン(H2SiCl2)、及び/又はトリクロロシラン(HSiCl3)及び/又はテトラクロロシラン(SiCl4)への前記ヒドロハロゲン化のための好ましいハロゲン化水素源である;有利には、前記塩化水素は水溶液又はガスであり得る。塩化水素が用いられるケースでは、ケイ素塩化水素化反応の主生成物であるHSiCl3を触媒による不均化反応によって、H3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、及びSiCl4の混合物へと再分配するための方法が設計され得る。有利には、SiCl4は元素状ケイ素の存在下における水素ガスによる還元によって、H2SiCl2、HSiCl3、及びSiCl4の混合物へとリサイクルされ得る。SiCl4還元ステップに用いられる元素状ケイ素は好ましくは方法の前段のステップに由来する。有利には、SiCl4還元ステップに用いられる水素ガスは、方法の別のステップの、例えば上記の元素状ケイ素ヒドロハロゲン化ステップからの副生成物であり得る。種々のその後の分離及び精製ステップは、純粋なH2SiCl2を単離してもよく、これは直接的に方法の次段のステップ(5)において消費され得る。
本発明の或る実施形態では、シロキサン水素キャリア化合物を生成/再生するために、水によるハロシランの制御された加水分解のための方法が提供される。H2SiCl2がハロシラン源として前記制御された加水分解に用いられるケースでは、HClが副生成物として形成される。有利には、形成されたHClは方法のステップ4に再注入され得る。H2SiF2がハロシラン源として前記制御された加水分解に用いられるケースでは、HFが副生成物として形成される。有利には、形成されたHFは方法のステップ2(a)に再注入され得る。有利には、前記加水分解は鎖終結剤、好ましくは炭素を排出しない鎖終結剤、例えばH3SiCl…などの存在下において行われ得る。有利には、最終処理ステップ、例えば無機塩基を含有するか又は含有しない水による洗浄、ガスストリッピング、乾燥ステップなど…が行われ得る。
- 水素キャリアは、必要とされるときには分子二水素(H2)として、直ちに放出可能な水素原子を含有する固体状又は液体状何れかの材料である。
60mLのPETプリフォームを、水素ガス排気のための出口ノズルとステンレスストップコックを装備したステンレス針が反応物注入のためにクリンプされる雌ねじとを備えた耐圧ボールロック式カプラーに(ねじ込みによって)接続した。水素放出のキネティクスを監視するために、水素ガス出口ノズルを流量計に接続した。水素ガスは、追加の体積測定装置として用いられる水を満たした倒置された2L目盛付きメスシリンダー中に捕集した。メスシリンダー中に放出される水素ガスの流れはニードルバルブによって制御した。
60mLのPETプリフォームに1.007g(16.75mmol、1.0equiv.)のポリ(ヒドロメチルシロキサン)を仕込み、2mLのNaOH(水中に20wt%)(12.2mmol、0.73equiv.)を、激しい撹拌下の反応媒体上に注入針から5mLシリンジによって手早く追加した。ストップコックを閉じ、400mL(>99%収率)の水素ガスを20秒の期間に渡ってメスシリンダー中に捕集した。
60mLのPETプリフォームに1.003g(21.75mmol、1.0equiv.)の直鎖状固体ポリ(ジヒドロシロキサン)を仕込み、5mLのNaOH(水中に20wt%)(30.5mmol、1.40equiv.)を、激しい撹拌下の反応媒体上に注入針から5mLシリンジによって手早く追加した。ストップコックを閉じ、750mL(>99%収率)の水素ガスを95秒の期間に渡ってメスシリンダー中に捕集した。
60mLのPETプリフォームに1.005g(21.80mmol、1.0equiv.)の環状液体ポリ(ジヒドロシロキサン)を仕込み、5mLのNaOH(水中に20wt%)(30.5mmol、1.40equiv.)を、激しい撹拌下の反応媒体上に、注入針から5mLシリンジによって手早く追加した。ストップコックを閉じ、1040mL(>99%収率)の水素ガスを50秒の期間に渡ってメスシリンダー中に捕集した。
Claims (13)
- 前記式(I)において、nが2以上の整数である請求項1に記載の水素の生成のための方法。
- 前記式(I)において、nが3以上かつ500以下の整数である請求項2に記載の水素の生成のための方法。
- 前記式(I)において、nが4以上でかつ32以下の整数である請求項3に記載の水素の生成のための方法。
- 前記液体環状シロキサン水素キャリア化合物が、トリ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、テトラ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ペンタ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ヘキサ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ヘプタ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、オクタ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ノナ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、デカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ウンデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ドデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、トリデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、テトラデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ペンデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ヘキサデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、ヘプタデカ(ビス(ヒドロ)シクロシロキサン)、及び/又はそれらの2つ又はより多くの混合物から選択される請求項1~3の何れか1項に記載の水素の生成のための方法。
- 前記液体環状シロキサン水素キャリア化合物が、0.1及び10000mPa.sの間の絶対粘度を20℃の温度及び1.01325×105Paの圧力において有する請求項1~5の何れか1項に記載の水素の生成のための方法。
- 前記液体環状シロキサン水素キャリア化合物が0.2及び50mPa.sの間の絶対粘度を有する請求項6に記載の水素の生成のための方法。
- 前記液体環状シロキサン水素キャリア化合物が130から800g/molの分子量を有する請求項1~7の何れか1項に記載の水素の生成のための方法。
- 前記液体環状シロキサン水素キャリア化合物が、1及び2の間の屈折率を、20℃の温度においてかつ589nmの波長において有する請求項1~8の何れか1項に記載の水素の生成のための方法。
- 前記液体環状シロキサン水素キャリア化合物の2つ又はより多くの混合物からの請求項1~9の何れか1項に記載の水素の生成のための方法。
- 水/[SiOH2]単位モル比が0.1以上である請求項11に記載の水素の生成のための方法。
- 水素放出開始剤/[SiOH2]単位モル比が0.01以上である、少なくとも1つの水素放出開始剤の存在下における請求項11~12の何れか1項に記載の水素の生成のための方法。
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