JP7411089B2 - 独立した電圧及びタイミング制御並びに電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステム - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
[0001] 本願は、２０１９年１２月３１日出願の「DUAL PULSED POWER SYSTEM WITH INDEPENDENT VOLTAGE AND TIMING CONTROL AND REDUCED POWER CONSUMPTION」という名称の米国出願第６２／９５５，６２０号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

[0002] 本開示は、例えばリソグラフィ装置及びシステムにおいて使用するためのレーザ源を制御するためのシステム及び方法に関する。

[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、形成されるＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又はいくつかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（例えばレジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。

[0004] レーザ源は、パターニングデバイスを照明するための放射を発生させるためのリソグラフィ装置と共に使用可能である。レーザ源は、リソグラフィ装置において使用するためのレーザビームを発生及び増幅させるために使用される、２つの分離レーザ放電チャンバを駆動させるための、デュアルパルスパワートレインを含むことができる。レーザ源及びそのデュアルパワートレインを制御するための、システム及び方法が求められている。

[0005] 本開示は、独立電圧及びタイミング制御、並びに、場合によっては電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステムなどの、レーザ源及びそのパワートレインを制御するための、システム、装置、方法、及びコンピュータプログラム製品の様々な態様を説明する。いくつかの態様において、本開示は各パワートレインについて独立電圧制御を提供する。いくつかの態様において、本開示は、（ｉ）単一パルスパワートレイン動作、（ｉｉ）独立電圧動作を伴う同期したデュアル出力、又は（ｉｉｉ）独立電圧動作を伴うインターリーブしたデュアル出力という、３つの動作モードを可能にするための、各パルスパワートレインの独立制御を提供する。いくつかの態様において、本開示は、一方のパワートレインがサービスを提供し、他方のパワートレインは依然として動作中であるようにするために、「ソフトランディング」又は「リンプアロング」機能又は能力を可能にするための、単一チャネル動作を提供する。いくつかの態様において、本開示は、電力消費削減及び寿命減少の低下を可能にするための単一チャネル動作を提供する。

[0006] いくつかの態様において、本開示はレーザ制御システムを説明する。レーザ制御システムは、第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を含む、第１のパルスパワートレインを含むことができる。第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。レーザ制御システムは、第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を含む、第２のパルスパワートレインを更に含むことができる。第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。

[0007] いくつかの態様において、本開示は装置を説明する。装置は、第１のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を含む、第１のパルスパワートレインを含むことができる。第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。装置は、第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を含む、第２のパルスパワートレインを更に含むことができる。第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。

[0008] いくつかの態様において、本開示は装置を製造するための方法を説明する。方法は、第１のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を含む第１のパルスパワートレインを提供することを、含むことができる。第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。方法は、第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を含む第２のパルスパワートレインを提供することを、更に含むことができる。第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。方法は、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインを含むレーザ制御システムを形成することを、更に含むことができる。

[0009] 添付の図面を参照して、さらなる特徴、並びに様々な態様の構造及び動作を以下に詳細に説明する。本開示は、本明細書に記載される特定の態様に限定されないことに留意されたい。このような態様は、説明のみを目的として本明細書に提示されている。当業者には、本明細書に含まれる教示に基づいて、追加の実施形態が明らかであろう。

[0010] 本明細書に組み込まれ、その一部を形成する添付の図面は、本発明を図示し説明とともに、更に本開示の態様の原理を説明し、当業者が本開示の態様を作成して使用できるようにする働きをする。

[0011]本開示のいくつかの態様に従った、例示の反射型リソグラフィ装置を示す概略図である。 [0012]本開示のいくつかの態様に従った、例示の透過型リソグラフィ装置を示す概略図である。 [0013]本開示のいくつかの態様に従った、図１Ａに示される反射型リソグラフィ装置をより詳細に示す概略図である。 [0014]本開示のいくつかの態様に従った、例示のリソグラフィセルを示す概略図である。 [0015]本開示のいくつかの態様に従った、例示のレーザ制御システムを含む例示のレーザ源を示す概略図である。 [0016]本開示のいくつかの態様に従った、別の例示のレーザ制御システムを含む別の例示のレーザ源を示す概略図である。 [0017]本開示のいくつかの態様に従った、更に別の例示のレーザ制御システムを含む更に別の例示のレーザ源を示す概略図である。 [0018]本開示のいくつかの態様又はその一部に従った、装置を製造するための方法の一例を示すフローチャートである。 [0019]本開示のいくつかの態様又はその一部を実装するための、例示のコンピュータシステムを示す図である。

[0020] 本発明の特徴及び利点は、同様の参照符号は全体を通して対応する要素を識別する図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むことで更に明白になるであろう。図面では、他に示されない限り、一般に、同様の参照番号が同一の、機能が類似した、及び／又は構造が類似する要素を示す。さらに、一般に、参照番号の左端の桁は、参照番号が最初に表示される図面を識別する。他に示されない限り、本開示を通じて提供される図面は縮尺通りの図面として解釈されるべきではない。

[0021] 本明細書は、本開示の特徴を組み込んだ１つ以上の実施形態を開示する。開示された１つ又は複数の実施形態は、単に本開示を説明するだけである。本開示の範囲は、開示された１つ又は複数の実施形態に限定されない。本開示の幅及び範囲は、本明細書に添付された特許請求の範囲及びそれらの均等物によって定義される。

[0022] 記載された実施形態、及び本明細書で「一実施形態」、「ある実施形態」、「例示的実施形態」などに言及した場合、それは記載された実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含むことができるが、それぞれの実施形態が必ずしも特定の特徴、構造、又は特性を含まないことがあることを示す。更に、このようなフレーズは、必ずしも同じ実施形態に言及するものではない。更に、ある実施形態に関連して特定の特徴、構造、又は特性について記載している場合、明示的に記載されているか、記載されていないかにかかわらず、このような特徴、構造、又は特性を他の実施形態との関連で実行することが当業者の知識の範囲内にあることが理解される。

[0023] 「下（beneath）」、「下（below）」、「下（lower）」、「上（above）」、「上（on）」、「上（upper）」などのような空間的に相対的な用語は、図に示すように、ある要素又は機能と別の１つ又は複数の要素又は１つ又は複数の機能との関係を説明するのを容易にするために、本明細書で使用され得る。空間的に相対的な用語は、図に示されている方向に加えて、使用中又は動作中のデバイスの様々な方向を包含することを意図している。装置は、他の方法で方向付けられてもよく（９０度又は他の方向に回転されてもよい）、本明細書で使用される空間的に相対的な記述語は、同様にそれに応じて解釈され得る。

[0024] 本明細書で使用される「約」という語は、特定の技術に基づいて変化し得る所与の量の値を示す。特定の技術に基づいて、「約」という語は、例えばその値の１０～３０％（例えば、その値の±１０％、±２０％、又は±３０％）の範囲内で変化する所与の量の値を示す可能性がある。

[0025] 概要
[0026] 深紫外線（ＤＵＶ）リソグラフィ装置における従来のパルスパワーシステムは、レーザ放電チャンバを駆動させるためのデュアルパワートレインを有する。設計により、各パルスパワートレインは、典型的には、同じ動作電圧に制御され、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）及び主発振器パワーリング増幅器（ＭＯＰＲＡ）レーザ動作を可能にするために、同期的にトリガされる。

[0027] パルスパワーシステムは、高電圧電力供給、共振充電供給、主発振器（ＭＯ）整流子、ＭＯコンプレッションヘッド、パワー増幅器（ＰＡ）又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）整流子、ＰＡ又はＰＲＡコンプレッションヘッド、ＭＯレーザ充電チャンバ、及び、ＰＡ又はＰＲＡレーザ充電チャンバを含むことができる。補助コンポーネントは、電圧及びタイミング制御をパルスパワーシステムに提供するように構成されたレーザ制御システム、及び、パルスパワーシステムへの交流（ＡＣ）及び直流（ＤＣ）電力を管理するように構成された入力ステージサブラック及びパワー分配システムを、含むことができる。

[0028] 加えて、パルスパワーシステムは、マスタ／スレーブブロワモータコントローラによって駆動される、各レーザ放電チャンバのためのブロワシステムを含むことができる。通常の動作において、これらのブロワシステムはどちらも、ターゲットブロワ速度で通電され動作する。ブロワシステムは、マスタ及びスレーブの両方の出力を含むＭＯブロワモータコントローラ（ＢＭＣ）、ＭＯマスタブロワモータ、ＭＯスレーブブロワモータ、ＰＡ又はＰＲＡマスタブロワモータ、及びＰＡ又はＰＲＡスレーブブロワモータを含むことができる。パルスパワーシステムは、動作及びアイドル状態の間、最適なチャンバ温度を維持するのを助けるために利用される、各レーザ放電チャンバのためのヒータ及び冷却サブシステムを含むこともできる。

[0029] ＭＯ及びＰＡ又はＰＲＡレーザ放電チャンバを同じ電圧で駆動することは、タイミング制御及び同期化において有益であり得るが、いくつかの欠点を有し得る。例えば、ＭＯ及びＰＡ又はＰＲＡレーザ放電チャンバは、それらの特定の適用例のために（例えば、それぞれ主発振器、パワー増幅器、又はパワーリング増幅器として）動作するように設計される。各適用例についての動作条件は、各レーザ放電チャンバのパルスパワーシステムの電圧及び関連付けられたタイミングを独立に制御することが可能であることから、利益を得ることができる。しかしながら、従来のタイミング制御システムは、デュアルチャンバシステムの独立したタイミング制御についてのみ可能である。各レーザ充電チャンバのパルスパワーシステムのための電圧制御を分離することで、システム、サブシステム、及びそれらに含まれるか又はそれらに関連付けられたコンポーネントの、性能、信頼性、及び寿命に利益をもたらすことができる。分離された電圧制御は、単一チャネル動作、インターリーブされた発射、同期化された発射、及び／又は、同時発射を必要とする、レーザ源設計にも利益を与えることができる。

[0030] 電流パルスパワーシステムは、各パルスパワートレインの充電及び放電並びに接近したタイミング差（例えば、約５．０ナノ秒未満）を必要とする。結果として、単一チャネル動作又はインターリーブ動作のどちらも、電流パルスパワーシステムのオプションではない。加えて、電流パルスパワーシステムは、一方のパルスパワートレインが通電されるか動作中である間に、他方のパルスパワートレインの独立した動作又はサービスを可能にしない。更に、電流パルスパワーシステムは、一方のパルスパワートレインは失敗であるが他方のパルスパワートレインは依然として動作可能である場合、ソフトランディングを可能にしない。更にまた、デュアルチャンバ放電動作の間、電流パルスパワーシステムは、ＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡ動作をサポートするために、各レーザ放電チャンバのためのブロワシステムが動作中であることを必要とする。典型的には、ブロワシステムは通電され、同時に動作するように命じられる。チャンバ温度制御サブシステムは、独立に、但し同時にも動作する。同様に、単一チャンバ動作の間、電流パルスパワーシステムは、アイドルチャンバを動作させるためにパワーを消費し、電力消費増加、冷却動作（例えば、空冷、水冷）増加、加熱動作増加、動作コスト増加、システム、サブシステム、及びコンポーネント寿命の低下、並びに、システム、サブシステム、及びコンポーネントの信頼性の低下を推進する。

[0031] これらの従来のシステムとは対照的に、本開示は、デュアルチャンバレーザ源における各レーザ放電チャンバの電圧を独立に制御するための方法を提供する。本明細書で説明するいくつかの態様において、本開示は、デュアルパルスパワートレインを含むレーザ源を制御することを提供する。本明細書で説明するいくつかの態様において、本開示は、独立した電圧及びタイミング制御、並びに場合によっては電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステムを提供する。

[0032] 本明細書で説明するいくつかの態様において、例示のレーザ制御システムは、第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路（例えば、第１の独立充電及び電圧調節回路）を含む、第１のパルスパワートレインを含むことができる。第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。例示のレーザ制御システムは、第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路（例えば、第２の独立充電及び電圧調節回路）を含む、第２のパルスパワートレインを、更に含むことができる。
第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成可能である。

[0033] いくつかの態様において、２つのパルスパワードライブトレインの独立した電圧制御は、各ＲＣＳ出力が独立した充電及び電圧調節回路に結合されるようにＲＣＳ設計を変更することによって実装可能である。各共振充電回路は、（ｉ）リザーバキャパシタ（例えば、図４に示される例示のレーザ制御システム４０２）を共有すること、又は、（ｉｉ）分離リザーバキャパシタ（例えば、図５に示される例示のレーザ制御システム５０２、図６に示される例示のレーザ制御システム６０２）を有することの、いずれかが可能である。更に、各リザーバキャパシタは、（ｉｉｉ）共通の高電圧電力供給（ＨＶＰＳ）（例えば、図４に示される例示のレーザ制御システム４０２、図５に示される例示のレーザ制御システム５０２）又は（ｉｖ）その独自のＨＶＰＳ（例えば、図６に示される例示のレーザ制御システム６０２内などの、各リザーバキャパシタについて１つのＨＶＰＳ）の、いずれかによって充電可能である。例えば本開示は、（ａ）単一ＲＣＳ、単一リザーバキャパシタ、及び単一ＨＶＰＳ（例えば、図４に示される例示のレーザ制御システム４０２）、（ｂ）デュアルＲＣＳ、デュアルリザーバキャパシタ、及び単一ＨＶＰＳ（例えば、図５に示される例示のレーザ制御システム５０２）、又は（ｃ）デュアルＲＣＳ、デュアルリザーバキャパシタ、及びデュアルＨＶＰＳ（例えば、図６に示される例示のレーザ制御システム６０２）の、いずれかと共に、デュアル独立充電及び電圧調節回路を有する、レーザ制御システム（例えば、独立電圧パルスパワーシステム）を提供する。

[0034] いくつかの態様において、レーザ充電チャンバから更にアップストリームのパルスパワーシステムを分離することは、パルスパワートレインを独立に動作及びサービス供給することが可能である際に、潜在的な利益を増加させる。いくつかの態様において、２つのパルスパワートレインについて共振充電回路を分離することで、各パルスパワートレインの独立したエネルギー回収を可能にすることになる。いくつかの態様において、２つのパルスパワートレインの放電を緊密に同期させるための要件を消去し、単一チャネル動作、スタッタ動作、又はインターリーブ動作、並びにＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡ動作の連続使用を可能にすることができる。

[0035] いくつかの態様において、ＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡ動作のための潜在的なタイミング同期化に対処するために、本明細書で開示するパルスパワーシステムは、タイミングジッタの＋／－２．０ナノ秒を可能にするように、各パルスパワートレインについての厳重なタイミング制御及びジッタを提供することができる。タイミングジッタバジェットは、共振チャージャ電圧の再現性、整流子及びコンプレッションヘッド内のスイッチング及びパルスコンプレッション回路のタイミングにおける変動、及び、レーザ放電チャンバの放電に起因するタイミングにおける変動などの、パルスパワートレイン内のいくつかのコンポーネントに依存する。いくつかの態様において、ＭＯＰＡ又はＭＯＰＲＡ動作に対して独立電圧動作が求められる場合、ＲＣＳ電圧再現性を向上させることができる。例えば、電圧に応じたタイミング変動は、約２．０ナノ秒／ボルトであり得、共振充電における電圧再現性を約０．１パーセントより少ない（＋／－０．０５パーセント）か、又は理想的には０．０５パーセント未満（＋／－０．０２５パーセント）となるように推進する。いくつかの態様において、ＲＣＳ共通モード再現性は、電圧調節回路を使用して＋／－０．１パーセントに限定することができる。いくつかの態様において、電圧再現性の向上を可能にするために追加の微調節回路を実装することによって、電圧再現性における更なる向上が達成可能である。例示的な例において、１つのこうした実現は、電圧調節回路が完了した後に使用されるブリードダウン回路の使用であり得る。

[0036] いくつかの態様において、２つのレーザ放電チャンバのためのブロワシステムを分離することで、各レーザ放電チャンバに独立動作を提供することができる。デュアルチャンバ動作において、ブロワシステムは、同時に動作するように引き続き通電及び制御可能である。単一チャンバ動作において、デュアルチャンバ動作で通常使用される電力消費を削減するか又はなくすために、１つのブロワシステムをアイドル状態にすることができる。

[0037] いくつかの態様において、２つのレーザ放電チャンバのための温度制御システムを分離することで、各レーザ放電チャンバに独立動作を提供することができる。デュアルチャンバ動作において、温度制御システムは、同時に動作するように引き続き通電及び制御可能である。単一チャンバ動作において、デュアルチャンバ動作で通常使用される電力消費及び始動を削減するか又はなくすために、１つの温度制御システムをアイドル状態にすることができる。

[0038] いくつかの態様において、本明細書で開示するレーザ源は、単一のレーザではなく２つの独立レーザを利用することができる。

[0039] 本明細書で開示するシステム、装置方法、コンピュータプログラム製品、及び製造技法に対して、多くの利点及び特典が存在する。例えば本開示は、各パワートレインについて独立電圧制御を提供する。更に本開示は、（ｉ）単一パルスパワートレイン動作、（ｉｉ）独立電圧動作を伴う同期したデュアル出力、又は（ｉｉｉ）独立電圧動作を伴うインターリーブしたデュアル出力という、３つの動作モードを可能にするために、各パルスパワートレインの独立制御を提供する。更にまた、本開示は、一方のパワートレインがサービスを提供し、他方のパワートレインは依然として動作中であるようにするために、「ソフトランディング」又は「リンプアロング」機能又は能力を可能にするための、単一チャネル動作を提供する。加えて本開示は、電力消費削減及び寿命減少の低下を可能にするための単一チャネル動作を提供する。結果として、本開示のこれら及び他の態様は、動作のコストの削減、計画された及び未計画のダウンタイムの削減、並びに、より軽量のシステムを介した保守性の向上を提供する。加えて、単一チャンバ動作並びに他の動作モードの間、本開示のこれら及び他の態様は、電力消費削減、冷却動作（例えば、空冷、水冷）の減少、加熱動作の減少、動作コストの減少、システム、サブシステム、及びコンポーネント寿命の増加、並びに、システム、サブシステム、及びコンポーネントの信頼性の増加を提供する。

[0040] しかしながら、こうした態様をより詳細に説明する前に、本開示の態様が実装可能な例示の環境を提示することが有益である。

[0041] 例示のリソグラフィシステム
[0042] 図１Ａ及び図１Ｂは、それぞれ、本開示の態様が実装可能なリソグラフィ装置１００及びリソグラフィ装置１００’の概略図である。図１Ａ及び図１Ｂに示されるように、リソグラフィ装置１００及び１００’は、ＸＺ面に垂直な視点から示され（例えば、側面図）、パターニングデバイスＭＡ及び基板ＷはＸＹ面に垂直な追加の視点から提示される（例えば、Ｘ軸は右を指し、Ｙ軸は上方を指す）。

[0043] リソグラフィ装置１００及びリソグラフィ装置１００’は各々、放射ビームＢ（例えば、深紫外線（ＤＵＶ）放射ビーム又は極端紫外線（ＥＵＶ）放射ビーム）を調整するように構成された、照明システムＩＬ（例えば、イルミネータ）、パターニングデバイスＭＡ（例えば、マスク、レチクル、又は動的パターニングデバイス）を支持するように構成され、パターニングデバイスＭＡを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された、支持構造ＭＴ（例えば、マスクテーブル）、及び、基板Ｗ（例えば、レジストコートウェーハ）を保持するように構成され、基板Ｗを正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された、基板テーブルＷＴ（ウェーハテーブル）などの基板ホルダ、を含む。リソグラフィ装置１００及び１００’は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（１つ以上のダイを含む部分）上に投影するように構成された、投影システムＰＳも有する。リソグラフィ装置１００において、パターニングデバイスＭＡ及び投影システムＰＳは反射型である。リソグラフィ装置１００’において、パターニングデバイスＭＡ及び投影システムＰＳは透過型である。

[0044] 照明システムＩＬは、放射ビームＢを誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。

[0045] 支持構造ＭＴは、参照フレームに関するパターニングデバイスＭＡの配向、リソグラフィ装置１００及び１００’のうちの少なくとも１つの設計、並びに、パターニングデバイスＭＡが真空環境内で保持されるか否かなどの他の条件に依存する様式で、パターニングデバイスＭＡを保持する。支持構造ＭＴは、機械的、真空、静電、又は他の、クランプ技法を使用して、パターニングデバイスＭＡを保持することができる。支持構造ＭＴは、例えば、必要に応じて固定式又は可動式が可能なフレーム又はテーブルであり得る。センサを使用することによって、支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡが例えば投影システムＰＳに対して所望の位置にあることを保証することができる。

[0046] 本明細書において使用する「パターニングデバイス」ＭＡという用語は、基板Ｗのターゲット部分Ｃにパターンを生成するように、放射ビームＢの断面にパターンを付与するために使用できるあらゆるデバイスを指すものとしてと広く解釈されるべきである。放射ビームＢに付与されたパターンは、集積回路などのターゲット部分Ｃに形成されるデバイス内の特定の機能層に対応していてもよい。

[0047] パターニングデバイスＭＡは、（図１Ｂのリソグラフィ装置１００’におけるような）透過型、又は（図１Ａのリソグラフィ装置１００におけるような）反射型とすることができる。パターニングデバイスＭＡの例は、レチクル、マスク、プログラマブルミラーアレイ、又はプログラマブルＬＣＤパネルを含む。マスクは、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフト、又はハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスク型、並びに、様々なハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例は、各々が、入来放射を様々な方向に反射するように個々に傾斜可能な、小型ミラーのマトリクス配置を採用する。傾斜したミラーは放射ビームＢ内にパターンを付与し、放射ビームＢは小型ミラーのマトリクスによって反射される。

[0048] 本明細書において使用する「投影システム」ＰＳという用語は、用いられる露光放射線に、又は、液浸液の使用もしくは真空の使用などの他の要素に適切な屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はそれらのあらゆる組み合わせを含むあらゆるタイプの投影システムを含んでいてもよい。その他のガスは放射線又は電子を吸収し過ぎる可能性があるため、ＥＵＶ又は電子ビーム放射線には真空環境を使用することがある。したがって、真空環境は、真空壁及び真空ポンプを用いてビーム経路全体に提供してもよい。

[0049] リソグラフィ装置１００及び／又はリソグラフィ装置１００’は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブルＷＴ（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプとすることができる。こうした「マルチステージ」機械では、追加の基板テーブルＷＴが並列に使用可能であるか、又は、１つ以上の他の基板テーブルＷＴが露光に使用されている間に、準備ステップが１つ以上のテーブル上で実施可能である。いくつかの状況において、追加のテーブルは基板テーブルＷＴではない可能性がある。

[0050] リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えば投影システムと基板の間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で使用することができる。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。

[0051] 図１Ａ及び図１Ｂを参照すると、照明システムＩＬは放射源ＳＯから放射ビームＢを受け取る。放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置１００又は１００’は、例えば放射源ＳＯがエキシマレーザであるとき、別の物理エンティティであり得る。このような場合、放射源ＳＯはリソグラフィ装置１００又は１００’の一部を形成するものとはみなされず、放射ビームＢは、例えば、適切な誘導ミラー及び／又はビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤ（例えば、図１Ｂに示される）の助けを借りて、放射源ＳＯから照明システムＩＬへと渡る。他の場合、例えば放射源ＳＯが水銀ランプであるとき、放射源ＳＯはリソグラフィ装置１００又は１００’の不可欠部分とすることができる。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要であれば、ビームデリバリシステムＢＤと共に、放射システムと呼ぶことができる。

[0052] 照明システムＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するための（例えば、図１Ｂに示される）アジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側及び／又は内側半径範囲（通常、それぞれ「σ-outer」及び「σ-inner」と呼ばれる）が調整可能である。加えて、照明システムＩＬは、インテグレータＩＮ及び放射コレクタＣＯ（例えば、コンデンサ又はコレクタ系）などの、様々な他のコンポーネント（例えば、図１Ｂに示される）を含むことができる。照明システムＩＬを使用して、放射ビームＢがその断面内に所望の均一性及び強度分布を有するように放射ビームＢを調節することができる。

[0053] 図１Ａを参照すると、放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡ（例えば、マスク）上に入射し、パターニングデバイスＭＡは支持構造ＭＴ（例えば、マスクテーブル）上に保持され、パターニングデバイスＭＡによってパターン付与される。リソグラフィ装置１００において、放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡから反射される。パターニングデバイスＭＡから反射された後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは放射ビームＢを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。第２のポジショナＰＷ及び位置センサＩＦＤ２（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）の助けを借りて、基板テーブルＷＴは（例えば、放射ビームＢの経路内で異なるターゲット部分Ｃを位置決めするように）正確に移動可能である。同様に、第１のポジショナＰＭ及び別の位置センサＩＦＤ１（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）を使用して、放射ビームＢの経路に関してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めすることができる。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１及びＭ２並びに基板アライメントマークＰ１及びＰ２を使用して位置合わせ可能である。

[0054] 図１Ｂを参照すると、放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡ上に入射し、パターニングデバイスＭＡは支持構造ＭＴ上に保持され、パターニングデバイスＭＡによってパターン付与される。放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡを横断して、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳはビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。投影システムは、照明システム瞳ＩＰＵに対する瞳共役ＰＰＵを有する。放射の一部は、照明システム瞳ＩＰＵにおける強度分布から発生し、マスクパターンにおける回折による影響を受けずにマスクパターンを横断して、照明システム瞳ＩＰＵにおいて強度分布の像を作り出す。

[0055] 投影システムＰＳはマスクパターンＭＰの像ＭＰ’を基板Ｗ上のコーティングされたレジスト層上に投影し、像ＭＰ’は、強度分布からの放射によってマスクパターンＭＰから生成された回折ビームによって形成される。例えば、マスクパターンＭＰは、線及び空間のアレイを含むことができる。アレイにあり、ゼロ次回折とは異なる放射の回折は、線に垂直な方向での方向の変化を伴う、迂回回折ビームを発生させる。非回折ビーム（例えば、いわゆるゼロ次回折ビーム）は、伝搬方向におけるいずれの変化もなしに、パターンを横断する。ゼロ次回折ビームは、投影システムＰＳの瞳共役ＰＰＵのアップストリームにある、投影システムＰＳの上部レンズ又は上部レンズグループを横断して、瞳共役ＰＰＵに達する。瞳共役ＰＰＵの面内の、及びゼロ次回折ビームに関連付けられた強度分布の部分は、照明システムＩＬの照明システム瞳ＩＰＵ内の強度分布の像である。例えば、アパーチャデバイスＰＤは、投影システムＰＳの瞳共役ＰＰＵを含む面に、又は実質的にその面に、配設される。

[0056] 投影システムＰＳは、レンズ又はレンズグループＬを用いて、ゼロ次回折ビームのみならず、１次、又は１次及びより高次の回折ビーム（図示せず）も、キャプチャするように配置される。いくつかの態様において、線に対して垂直な方向に延在する線パターンを結像するためのダイポール照明を使用して、ダイポール照明の解像度強化効果を利用することができる。例えば、１次回折ビームは、可能最高解像度及びプロセスウィンドウ（例えば、許容露光ドーズ偏差と組み合わせた使用可能焦点深度）においてマスクパターンＭＰの像を作成するために、基板Ｗのレベルで対応するゼロ次回折ビームに干渉する。いくつかの態様において、非点収差は、照明システム瞳ＩＰＵの反対側のクアドラントにおいて放射ポール（図示せず）を提供することによって減少させることができる。更にいくつかの態様において、非点収差は、反対側のクアドラントにおける放射ポールに関連付けられた投影システムの瞳共役ＰＰＵ内のゼロ次ビームをブロックすることによって、減少させることができる。

[0057] 第２のポジショナＰＷ及び位置センサＩＦＤ（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）の助けを借りて、基板テーブルＷＴを（例えば、放射ビームＢの経路内で異なるターゲット部分Ｃを位置決めするように）正確に移動可能である。同様に、第１のポジショナＰＭ及び別の位置センサ（図１Ｂには図示せず）を使用して、（例えば、マスクライブラリからの機械的取り出し後、又はスキャン中に）放射ビームＢの経路に関してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めすることができる。

[0058] 一般に、支持構造ＭＴの移動は、第１のポジショナＰＭの一部を形成する、ロングストロークポジショナ（粗動位置決め）及びショートストロークポジショナ（微細位置決め）の助けを借りて実現可能である。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成する、ロングストロークポジショナ及びショートストロークポジショナを使用して実現可能である。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定することが可能である。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせ可能である。（図示された）基板アライメントマークは、専用ターゲット部分を占有しているが、ターゲット部分（例えば、スクライブラインアライメントマーク）間の空間に配置可能である。同様に、複数のダイがパターニングデバイスＭＡ上に提供されている状況において、マスクアライメントマークはダイ間に配置可能である。

[0059] 支持構造ＭＴ及びパターニングデバイスＭＡは、真空内ロボットＩＶＲを使用して、真空チャンバ内及び外のマスクなどの、パターニングデバイスを移動させることが可能な、真空チャンバＶ内にあることが可能である。代替として、支持構造ＭＴ及びパターニングデバイスＭＡが真空チャンバの外側にあるとき、真空内ロボットＩＶＲと同様に、真空外ロボットを様々な伝送動作に使用することができる。いくつかの場合、転送ステーションの固定された運動マウントへの任意のペイロード（例えば、マスク）の円滑な転送について、真空内及び真空外の両方のロボットを較正する必要がある。

[0060] リソグラフィ装置１００及び１００’は、以下のモードのうちの少なくとも１つで使用することができる。

[0061] １．ステップモードでは、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームＢに付与されたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。

[0062] ２．スキャンモードでは、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームＢに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。

[0063] ３．別のモードでは、支持構造ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。パルス放射源ＳＯが採用可能であり、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの各移動後、又はスキャン中の連続する放射パルス間に、必要であれば更新される。この動作モードは、プログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスＭＡを利用する、マスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。

[0064] 記載された使用モード又は完全に異なる使用モードの組み合わせ及び／又はバリエーションも使用することができる。

[0065] 更なる態様において、リソグラフィ装置１００は、ＥＵＶリソグラフィのためのＥＵＶ放射のビームを発生させるように構成された、ＥＵＶ源を含む。一般に、ＥＵＶ源は放射システム内に構成され、対応する照明システムがＥＵＶ源のＥＵＶ放射ビームを調節するように構成される。

[0066] 図２は、放射源ＳＯ（例えば、ソースコレクタ装置）、照明システムＩＬ、及び投影システムＰＳを含む、リソグラフィ装置１００をより詳細に示す。図２に示されるように、リソグラフィ装置１００は、ＸＺ面に垂直な視点（例えば、側面図）から示される（例えば、Ｘ軸は右を指し、Ｚ軸は上方を指す）。

[0067] 放射源ＳＯは、閉鎖構造２２０内で真空環境が維持できるように構築及び配置される。放射源ＳＯは、ソースチャンバ２１１及びコレクタチャンバ２１２を含み、ＥＵＶ放射を生成及び伝送するように構成される。ＥＵＶ放射は、電磁スペクトルのＥＵＶレンジ内の放射を放出するためにＥＵＶ放射放出プラズマ２１０が作成される、ガス又は蒸気、例えばキセノン（Ｘｅ）ガス、リチウム（Ｌｉ）蒸気、又はスズ（Ｓｎ）蒸気によって、生成可能である。ＥＵＶ放射放出プラズマ２１０は、少なくとも部分的にイオン化され、例えば、放電又はレーザビームによって作成可能である。例えば、Ｘｅガス、Ｌｉ蒸気、Ｓｎ蒸気、又は任意の他の適切なガス又は蒸気の、約１０．０パスカル（Ｐａ）の部分圧力を、放射の効率的な発生に使用可能である。いくつかの態様において、ＥＵＶ放射を生成するために、励起スズのプラズマが提供される。

[0068] ＥＵＶ放射放出プラズマ２１０によって放出される放射は、ソースチャンバ２１１から、ソースチャンバ２１１内の開口内又は開口の後ろに位置決めされる、任意選択のガスバリア又は汚染物質トラップ２３０（場合によっては、汚染物質バリア又はフォイルトラップとも呼ばれる）を介して、コレクタチャンバ２１２内に渡される。汚染物質トラップ２３０はチャネル構造を含むことができる。汚染物質トラップ２３０は、ガスバリア、又は、ガスバリア及びチャネル構造の組み合わせも含むことができる。本明細書に更に示される汚染物質トラップ２３０は、少なくともチャネル構造を含む。

[0069] コレクタチャンバ２１２は、いわゆる斜入射型コレクタとすることができる、放射コレクタＣＯ（例えば、コンデンサ又はコレクタ系）を含むことができる。放射コレクタＣＯは、アップストリーム放射コレクタ側２５１及びダウンストリーム放射コレクタ側２５２を有する。放射コレクタＣＯを横断する放射は、仮想光源点ＩＦ内で合焦するように格子スペクトルフィルタ２４０で反射され得る。仮想光源点ＩＦは、一般に中間焦点と呼ばれ、ソースコレクタ装置は、仮想光源点ＩＦが閉鎖構造２２０における開口２１９に又は開口２１９近くに位置するように、配置される。仮想光源点ＩＦはＥＵＶ放射放出プラズマ２１０の像である。格子スペクトルフィルタ２４０は、特に、赤外（ＩＲ）放射を抑制するために使用される。

[0070] その後、放射は、パターニングデバイスＭＡにおいて放射ビーム２２１の望ましい角度分布を、並びに、パターニングデバイスＭＡにおいて放射強度の望ましい均一性を、提供するように配置された、ファセットフィールドミラーデバイス２２２及びファセット瞳ミラーデバイス２２４を含むことが可能な、照明システムＩＬを横断する。支持構造ＭＴによって保持されるパターニングデバイスＭＡにおける放射ビーム２２１の反射時に、パターン付与されたビーム２２６が形成され、パターン付与されたビーム２２６は、ウェーハステージ又は基板テーブルＷＴによって保持される基板Ｗ上に、反射要素２２８、２２９を介して投影システムＰＳによって結像される。

[0071] 照明システムＩＬ及び投影システムＰＳ内に、図示されたより多くの要素が存在可能である。任意選択として、格子スペクトルフィルタ２４０は、リソグラフィ装置のタイプに応じて存在可能である。更に、図２に示されるより多くのミラーが存在可能である。例えば、図２に示されるよりも、１つから６つの追加の反射要素が投影システムＰＳ内に存在可能である。

[0072] 図２に示されるように、放射コレクタＣＯは、コレクタ（又はコレクタミラー）の単なる一例のように、斜入射型コレクタ２５３、２５４、及び２５５を伴う入れ子型コレクタとして示される。斜入射型コレクタ２５３、２５４、及び２５５は、光軸Ｏの周りに軸方向に対称に配設され、このタイプの放射コレクタＣＯは、好ましくは放電生成プラズマ（ＤＰＰ）源と組み合わせて使用される。

[0073] 例示のリソグラフィセル
[0074] 図３は、リソセル又はクラスタとも呼ばれることのある、リソグラフィセル３００を示す。図３に示されるように、リソグラフィセル３００はＸＹ面に垂直な視点（例えば、上面図）から示される（例えば、Ｘ軸は右を指し、Ｙ軸は上方を指す）。

[0075] リソグラフィ装置１００又は１００’は、リソセル３００の一部を形成することができる。リソグラフィセル３００は、基板上で露光前及び露光後プロセスを実行するための１つ以上の装置を含むこともできる。例えば、これらの装置は、レジスト層を堆積させるためのスピンコータＳＣ、露光レジストを現像するためのデベロッパＤＥ、冷却プレートＣＨ、及びベークプレートＢＫを含むことができる。基板ハンドラＲＯ（例えば、ロボット）は、入力／出力ポートＩ／Ｏ１及びＩ／Ｏ２から基板を持ち上げ、それらを異なるプロセス装置間で移動させ、それらをリソグラフィ装置１００又は１００’のローディングベイＬＢへと送達する。これらのデバイスは、しばしばまとめてトラックと呼ばれ、それ自体によって制御されるトラック制御ユニットＴＣＵの制御の下にあり、監視制御システムＳＣＳはリソグラフィ制御ユニットＬＡＣＵを介してリソグラフィ装置も制御する。したがって、様々な装置が、スループット及び処理効率を最大にするように動作可能である。

[0076] 例示のレーザ制御システムを含む例示のレーザ源
[0077] 単一ＲＣＳ、単一リザーバキャパシタ、及び単一ＨＶＰＳを有する、例示のレーザ制御システム
[0078] 図４は、本開示のいくつかの態様に従った、例示のレーザ制御システム４０２（例えば、独立電圧パルスパワーシステム）を含む、例示のレーザ源４００の概略図である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、単一ＲＣＳ（例えば、共通ＲＣＳ４２０）、単一リザーバキャパシタ（例えば、共通リザーバキャパシタ、４２６）、及び単一ＨＶＰＳ（例えば、共通ＨＶＰＳ４４６）と共に、デュアル独立充電及び電圧調節回路（例えば、第１の独立回路４２２及び第２の独立回路４２４）を含むことができる。いくつかの態様において、例示のレーザ源４００は、リソグラフィ装置１００、又は１００’の放射源ＳＯの一部として、又は放射源ＳＯに加えて、使用可能である。追加又は代替として、例示のレーザ源４００はＤＵＶリソグラフィ内で使用されるべきＤＵＶ放射を発生させることができる。

[0079] 図４に示されるように、例示のレーザ源４００は、独立電圧及びタイミング制御を、場合によっては電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステムを含む、デュアルチャンバレーザ源とすることができる。例えば、例示のレーザ源４００は、第１のレーザビーム４０６を発生させるように構成された第１のレーザ放電チャンバ４０４と、第１のレーザビーム４０６を受け取り、第２のレーザビーム４１０を発生させるために第１のレーザビーム４０６を増幅させるように構成された、第２のレーザ放電チャンバ４０８とを含むことができる。例示のレーザ源４００は、第２のレーザビーム４１０、又はその修正バージョンを、リソグラフィ装置（例えば、リソグラフィ装置１００又は１１０’）に出力することができる。例示のレーザ源４００を参照しながら考察するいくつかの態様は、２つのレーザ放電チャンバを含むが、本開示の態様は、単一のレーザ放電チャンバ又は複数のレーザ放電チャンバを含む、レーザ源に適用可能である。

[0080] いくつかの態様において、第２のレーザ放電チャンバ４０８は、第１のレーザ放電チャンバ４０４から光を受け取って増幅するように構成可能である。いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ４０４は、主発振器（ＭＯ）の一部として実装可能であり、第２のレーザ放電チャンバ４０８は、パワー増幅器（ＰＡ）又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）の一部として実装可能である。例えば、例示のレーザ源４００はＭＯ及びＰＡを含むＭＯＰＡレーザ源とすることができ、ＭＯは第１のレーザ放電チャンバ４０４を含み、ＰＡは第２のレーザ放電チャンバ４０８を含む。別の例において、例示のレーザ源４００はＭＯ及びＰＲＡを含むＭＯＰＲＡレーザ源とすることができ、ＭＯは第１のレーザ放電チャンバ４０４を含み、ＰＲＡは第２のレーザ放電チャンバ４０８を含む。

[0081] いくつかの態様において、例示のレーザ源４００は１つ以上のコンプレッションヘッドを含むことができる。例えば、例示のレーザ源４００は、第１のレーザ放電チャンバ４０４に結合された第１のコンプレッションヘッド４１２を含むことが可能であり、例示のレーザ源４００は、第２のレーザ放電チャンバ４０８に結合された第２のコンプレッションヘッド４１４を含むことが更に可能である。

[0082] いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８はガスの混合を含むことができる。例えば、例示のレーザ源４００がエキシマレーザ源である態様において、第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８は、ハロゲン（例えば、フッ素）並びに、レーザビームを生成及び増幅する際に使用される他のガス（例えば、アルゴン、ネオン、及び他の適切なガス）を含むことができる。いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８は、同じガスの混合又は異なるガスの混合を含むことができる。例えば、第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８は、どちらもクリプトンガスを含むことができる。

[0083] いくつかの態様において、例示のレーザ源４００は、１つ以上のガス源（例えば、ガスボトル）、及び１つ以上のガス源を独立に制御するように構成された１つ以上のガス制御システムを含むか、又はこれらに結合されることが可能である。例えば、第１のガス源は、第１のレーザビーム４０６を発生させるために使用される第１のガス混合を提供するために、第１のレーザ放電チャンバ４０４に結合可能である。加えて、第２のガス源は、第２のレーザビーム４１０を発生させるために使用される第２のガス混合を提供するために、第２のレーザ放電チャンバ４０８に結合可能である。いくつかの態様において、第２のガス源は実質的に第１のガス源と同様であり得、第２のガス混合は、第１のガス混合と同一又はほぼ同一であり得る。１つの例示的な例示の態様において、第１のガス源は、フッ素、アルゴン、及びネオンを含むが限定されない、ガスの混合を含むことができる。いくつかの例において、第１のガス源及び第２のガス源は、１つ以上のガス制御システムによって制御される１つ以上の弁を介して、第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８にそれぞれ結合可能である。

[0084] いくつかの態様において、例示のレーザ源４００は、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度及び第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度を、独立に制御するように構成された、１つ以上の温度アクチュエータを含む１つ以上の温度制御システムを含むことができる。いくつかの態様において、１つ以上の温度制御システムは、第１のレーザ放電チャンバ４０４内又はその近くに配設され、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度を検出するように構成された、１つ以上の温度センサと、第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度とは独立の第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度を制御するように構成された、第１の温度アクチュエータとを含む、第１の温度制御システムを含むことができる。いくつかの態様において、１つ以上の温度制御システムは、第２のレーザ放電チャンバ４０８内又はその近くに配設され、第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度を検出するように構成された、１つ以上の温度センサと、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度とは独立の第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度を制御するように構成された、第２の温度アクチュエータとを含む、第２の温度制御システムを、更に含むことができる。いくつかの態様において、第１の温度制御システム及び第２の温度制御システムは、それぞれ、第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８について、独立した動作を提供することができる。

[0085] いくつかの態様において、１つ以上の温度アクチュエータは、対応するレーザ放電チャンバ内のガスに熱を加えるように構成された１つ以上のコイルを含むが、限定されない、１つ以上の加熱システムを含むことができる。１つ以上のコイルは、１つ以上の印加電圧の二乗に比例する熱を発生させるように構成された、１つ以上の負荷抵抗として実装可能である。いくつかの態様において、１つ以上の温度アクチュエータは、対応するレーザ放電チャンバ内のガスから熱を除去するように構成された１つ以上の流体チャネルを含むが、限定されない、１つ以上の冷却システムを更に含むことができる。１つ以上の流体チャネルは、１つ以上の送水管の流体流量を制御することによって、熱を除去するように構成された、１つ以上の弁に結合された１つ以上の送水管として実装可能である。

[0086] いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ４０４は、第１の加熱システム及び第１の冷却システムを含む、第１の温度アクチュエータを含むことができる。第１の温度アクチュエータは、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガスの温度を制御するように構成可能である。いくつかの態様において、第２のレーザ放電チャンバ４０８は、第２の加熱システム及び第２の冷却システムを含む、第２の温度アクチュエータを含むことができる。第２の温度アクチュエータは、第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガスの温度を制御するように構成可能である。

[0087] いくつかの態様において、第１の温度アクチュエータは、第１の加熱システム及び第１の冷却システムを使用して、第１のレーザ放電チャンバ４０４内の（例えば、第１のレーザ放電チャンバ４０４内又は近くに配設された１つ以上の温度センサによって）検出されたガス温度と、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度について設定された（例えば、ユーザによって入力されるか、又は、第１の温度制御システムによって決定された）１つ以上の温度設定ポイントとに基づいて、及び、第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度とは独立に、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度を制御するように構成可能である。いくつかの態様において、第２の温度アクチュエータは、第２の加熱システム及び第２の冷却システムを使用して、第２のレーザ放電チャンバ４０８内の（例えば、第２のレーザ放電チャンバ４０８内又は近くに配設された１つ以上の温度センサによって）検出されたガス温度と、第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度について設定された（例えば、ユーザによって入力されるか、又は、第２の温度制御システムによって決定された）１つ以上の温度設定ポイントとに基づいて、及び、第１のレーザ放電チャンバ４０４内のガス温度とは独立に、第２のレーザ放電チャンバ４０８内のガス温度を制御するように構成可能である。

[0088] いくつかの態様において、例示のレーザ源４００は、第１のレーザ放電チャンバ４０４に結合されたか又は関連付けられた第１のパルスパワートレイン、及び、第２のレーザ放電チャンバ４０８に結合されたか又は関連付けられた第２のパルスパワートレインの、電圧及びタイミングを独立に制御するように構成された、例示のレーザ制御システム４０２を含むことが可能である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第１のパルスパワートレイン、第２のパルスパワートレイン、又はその両方の、電力消費を削減するように構成可能である。

[0089] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、例示のレーザ源４００について３つの異なる構成、（ｉ）ＭＯＰＡ、（ｉｉ）ＭＯＰＲＡ、及び（ｉｉｉ）２つの独立レーザを提供することができる。例えば、例示のレーザ制御システム４０２が例示のレーザ源４００にＭＯＰＡ構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ４０４はＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバ４０８はＰＡレーザ放電チャンバであり得る。別の例において、例示のレーザ制御システム４０２が例示のレーザ源４００にＭＯＰＲＡ構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ４０４はＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバ４０８はＰＲＡレーザ放電チャンバであり得る。更に別の例において、例示のレーザ制御システム４０２が例示のレーザ源４００に「２つの独立レーザ」構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ４０４は、第１のＲＣＳ出力電圧４８０に基づいて（例えば、第１の整流子出力電圧４８２に基づいて）第１の光子セットを発生させるように構成された、第１のレーザデバイスを含むことが可能であり、及び、第２のレーザ放電チャンバ４０８は、第２のＲＣＳ出力電圧４８４に基づいて（例えば、第２の整流子出力電圧４８６に基づいて）第２の光子セットを発生させるように構成された、第２のレーザデバイスを含むことが可能である。

[0090] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、共通ＲＣＳ４２０、第１の整流子４３４（例えば、ＭＯ整流子）、第２の整流子４３８（例えば、ＰＲ整流子又はＰＲＡ整流子）、電圧コントローラ４４０（例えば、ＦＣＰ／ＦＣＣ）、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２（例えば、ＴＥＭ）、及び共通ＨＶＰＳ４４６を含むことができる。いくつかの態様において、共通ＲＣＳ４２０は、第１の独立回路４２２、第２の独立回路４２４、及び共通リザーバキャパシタ４２６を含むことができる。いくつかの態様において、第１の独立回路４２２は、第１の独立充電及び電圧調節回路を含むことが可能であり、第２の独立回路４２４は第２の独立充電及び電圧調節回路を含むことが可能である。

[0091] いくつかの態様において、共通リザーバキャパシタ４２６は、第１の独立回路４２２及び第２の独立回路４２４に電気的に結合されるように構成可能である。いくつかの態様において、第１の独立回路４２２及び第２の独立回路４２４は、共通ＨＶＰＳ４４６によって充電可能な共通リザーバキャパシタ４２６を共有することができる。例えば、共通ＨＶＰＳ４４６は、高電圧信号４８８を共通リザーバキャパシタ４２６に伝送するように構成可能である。共通リザーバキャパシタ４２６は、共通ＨＶＰＳ４４６から高電圧信号４８８を受信し、高電圧信号４８８に基づいて第１の独立回路４２２及び第２の独立回路４２４を充電するように、構成可能である。

[0092] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第１の独立回路４２２を含む第１のパルスパワートレインを含むことができる。第１の独立回路４２２は、第２のレーザ放電チャンバ４０８から独立した第１のレーザ放電チャンバ４０４を駆動するように構成された、第１のＲＣＳ出力電圧４８０を発生させるように構成可能である。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ出力電圧４８０は、第１の整流子４３４、第１の整流子出力電圧４８２、及び第１のコンプレッションヘッド４１２を介して、第１のレーザ放電チャンバ４０４を駆動するように構成可能である。例えば、第１の独立回路４２２は、第１のＲＣＳ出力電圧４８０を第１の整流子４３４に伝送するように構成可能である。その後、第１の整流子４３４は、第１の独立回路４２２から第１のＲＣＳ出力電圧４８０を受け取り、第１のＲＣＳ出力電圧４８０に基づいて第１の整流子出力電圧４８２を発生させ、第１のレーザ放電チャンバ４０４を駆動させる際に使用するために第１の整流子出力電圧４８２を第１のコンプレッションヘッド４１２に伝送するように構成可能である。

[0093] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第２の独立回路４２４を含む第２のパルスパワートレインを更に含むことができる。第２の独立回路４２４は、第１のレーザ放電チャンバ４０４から独立した第２のレーザ放電チャンバ４０８を駆動するように構成された、第１のＲＣＳ出力電圧４８０から独立した、第２のＲＣＳ出力電圧４８４を発生させるように構成可能である。いくつかの態様において、第２のＲＣＳ出力電圧４８４は、第２の整流子４３８、第２の整流子出力電圧４８６、及び第２のコンプレッションヘッド４１４を介して、第２のレーザ放電チャンバ４０８を駆動するように構成可能である。例えば、第２の独立回路４２４は、第２のＲＣＳ出力電圧４８４を第２の整流子４３８に伝送するように構成可能である。その後、第２の整流子４３８は、第２の独立回路４２４から第２のＲＣＳ出力電圧４８４を受け取り、第２のＲＣＳ出力電圧４８４に基づいて第２の整流子出力電圧４８６を発生させ、第２のレーザ放電チャンバ４０８を駆動させる際に使用するために第２の整流子出力電圧４８６を第２のコンプレッションヘッド４１４に伝送するように構成可能である。

[0094] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、（例えば、共通ＨＶＰＳ４４６内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース４６０、（例えば、第２の整流子４３８内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース４６２、（例えば、共通ＲＣＳ４２０内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース４６４、（例えば、第１の整流子４３４内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース４６６、及び、（例えば、共通ＲＣＳ４２０内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース４６８などの、複数の通信インターフェースを含むことができる。いくつかの態様において、共通ＲＣＳ４２０は、第１の独立回路４２２に電気的に結合されるように構成された第１の通信インターフェース（例えば、通信インターフェース４６４又は通信インターフェース４６８のうちの一方）、及び、第２の独立回路４２４に電気的に結合されるように構成された第２の通信インターフェース（例えば、通信インターフェース４６４又は通信インターフェース４６８のうちの他方）を、更に含むことができる。いくつかの態様において、複数の通信インターフェース（例えば、通信インターフェース４６０、通信インターフェース４６２、通信インターフェース４６４、通信インターフェース４６６、及び通信インターフェース４６８）は、複数のデジタル通信インターフェース、複数のコントローラエリアネットワーク（ＣＡＮ）ノード、複数のイーサネットノード、複数のシリアル又はパラレル通信ケーブルノード、複数の汎用インターフェースバス（ＧＰＩＢ）ノード、又は、複数の任意の他の適切な通信インターフェースであり得るか、又はこれらを含み得る。

[0095] いくつかの態様において、電圧コントローラ４４０は、共通ＲＣＳ４２０に、及びより具体的には、第１の独立回路４２２及び第２の独立回路４２４に、それぞれ通信インターフェース４６４及び通信インターフェース４６８を介して、電気的に結合可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ４４０は、（例えば、第１のＲＣＳ出力電圧４８０の電圧を制御することによって）第１のパルスパワートレインの電圧を、及び、（例えば、第２のＲＣＳ出力電圧４８４の電圧を制御することによって）第２のパルスパワートレインの電圧を、独立に制御するように構成可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ４４０は、第１のＲＣＳ出力電圧４８０の電圧を独立に制御するために、第１の電圧制御信号を発生させ、通信インターフェース４６４に伝送するように構成可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ４４０は、第２のＲＣＳ出力電圧４８４の電圧を独立に制御するために、第２の電圧制御信号を発生させ、通信インターフェース４６８に伝送するように構成可能である。

[0096] いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２は、それぞれ通信インターフェース４６６及び通信インターフェース４６２を介して、第１の整流子４３４及び第２の整流子４３８に電気的に結合可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２は、（例えば、第１の整流子出力電圧４８２のタイミングを制御することによって）第１のパルスパワートレインの放電のタイミングを、及び、（例えば、第２の整流子出力電圧４８６のタイミングを制御することによって）第２のパルスパワートレインの放電のタイミングを、独立に制御するように構成可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２は、第１の整流子出力電圧４８２のタイミングを独立に制御するために、第１のタイミング制御信号を発生させ、通信インターフェース４６６に伝送するように、構成可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２は、第２の整流子出力電圧４８６のタイミングを独立に制御するために、第２のタイミング制御信号を発生させ、通信インターフェース４６２に伝送するように、構成可能である。

[0097] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、例示のレーザ源４００に、（ｉ）第１のパルスパワートレイン又は第２のパルスパワートレインのいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについての（同時デュアルパルスパワートレイン動作を含むが限定されない）同期したデュアルパルスパワートレイン動作、及び、（ｉｉｉ）第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについての（スタッタデュアルパルスパワートレイン動作を含むが限定されない）インターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作という、３つの異なる動作モードを提供することができる。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、（ｉ）第１のレーザ放電チャンバ４０４又は第２のレーザ放電チャンバ４０８のいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８からの（同時デュアル出力を含むが限定されない）同期したデュアル出力、又は、（ｉｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ４０４及び第２のレーザ放電チャンバ４０８からの（スタッタデュアル出力を含むが限定されない）インターリーブしたデュアル出力という、３つの動作モードを可能にするために、各パルスパワートレインの独立制御（例えば、独立電圧制御、独立タイミング制御、独立ガス制御、独立ブロワ制御、独立温度制御、又はそれらの組み合わせ）を提供することができる。

[0098] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第１のパルスパワートレインの電圧及びタイミング、並びに、第２のパルスパワートレインの電圧及びタイミングを、独立に制御するように構成可能である。例えば、例示のレーザ制御システム４０２は、（例えば、電圧コントローラ４４０及び通信インターフェース４６４を使用して）第１のパルスパワートレインの第１の電圧を、及び、（例えば、電圧コントローラ４４０及び通信インターフェース４６８を使用して）第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように構成可能である。例示のレーザ制御システム４０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２及び通信インターフェース４６６を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを、及び、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２及び通信インターフェース４６２を使用して）第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを、独立に制御するように更に構成可能である。

[0099] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第１のパルスパワートレインの電圧及び第２のパルスパワートレインの電圧を独立に制御するように、並びに、第１のパルスパワートレインのタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインのタイミングを更に制御するように、構成可能である。例えば、例示のレーザ制御システム４０２は、（例えば、電圧コントローラ４４０及び通信インターフェース４６４を使用して）第１のパルスパワートレインの第１の電圧を、及び、（例えば、電圧コントローラ４４０及び通信インターフェース４６８を使用して）第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように構成可能である。例示のレーザ制御システム４０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２及び通信インターフェース４６６を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを制御するように、更に構成可能である。例示のレーザ制御システム４０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ４４２及び通信インターフェース４６２を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、更に構成可能である。１つの例示的な例において、例示のレーザ制御システム４０２は、第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに関した遅延（例えば、離散的持続時間）に基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、構成可能である。いくつかの態様において、遅延は、第１のレーザ放電チャンバ４０４と第２のレーザ放電チャンバ４０８との間の光伝搬時間に（例えば、等価、倍数、分数に）に基づくものとすることができる。いくつかの態様において、遅延は制御可能なパラメータであり得る。いくつかの態様において、遅延は、第２のレーザ放電チャンバ４０８によって生成される光の望ましい帯域幅に基づくものとすることができる。いくつかの態様において、遅延は、約１．０フェムト秒、１．０ピコ秒、１．０ナノ秒、０．１ミリ秒、１．０ミリ秒、１秒、又は１０秒よりも大きいことが可能である。

[0100] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第１の動作モードを用いて、第１のパルスパワートレインと同時であるように第２のパルスパワートレインをトリガするように構成可能である。第１の動作モードは、例えば、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについて同期したデュアルパルスパワートレイン動作、又は任意の他の適切な動作、あるいは動作の組み合わせを提供するように構成可能である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム４０２は、第２の動作モードを用いて、第２のパルスパワートレインに関して遅延するように第１のパルスパワートレインをトリガするように構成可能である。第２の動作モードは、例えば、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについてインターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作、又は任意の他の適切な動作、あるいは動作の組み合わせを提供するように構成可能である。

[0101] デュアルＲＣＳ、デュアルリザーバキャパシタ、及び単一ＨＶＰＳを有する、例示のレーザ制御システム
[0102] 図５は、本開示のいくつかの態様に従った、例示のレーザ制御システム５０２（例えば、独立電圧パルスパワーシステム）を含む、例示のレーザ源５００の概略図である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、デュアルＲＣＳ（例えば、第１のＲＣＳ５２０及び第２のＲＣＳ５２１）、デュアルリザーバキャパシタ（例えば、第１のリザーバキャパシタ５２６及び第２のリザーバキャパシタ５２７）、及び単一ＨＶＰＳ（例えば、共通ＨＶＰＳ５４６）と共に、デュアル独立充電及び電圧調節回路（例えば、第１の独立回路５２２及び第２の独立回路５２４）を含むことができる。いくつかの態様において、例示のレーザ源５００は、リソグラフィ装置１００又は１００’の放射源ＳＯの一部として、又は放射源ＳＯに加えて、使用可能である。追加又は代替として、例示のレーザ源５００はＤＵＶリソグラフィ内で使用されるべきＤＵＶ放射を発生させることができる。

[0103] 図５に示されるように、例示のレーザ源５００は、独立電圧及びタイミング制御を、場合によっては電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステムを含む、デュアルチャンバレーザ源とすることができる。例えば、例示のレーザ源５００は、第１のレーザビーム５０６を発生させるように構成された第１のレーザ放電チャンバ５０４と、第１のレーザビーム５０６を受け取り、第２のレーザビーム５１０を発生させるために第１のレーザビーム５０６を増幅させるように構成された、第２のレーザ放電チャンバ５０８とを含むことができる。例示のレーザ源５００は、第２のレーザビーム５１０、又はその修正バージョンを、リソグラフィ装置（例えば、リソグラフィ装置１００又は１１０’）に出力することができる。例示のレーザ源５００を参照しながら考察するいくつかの態様は、２つのレーザ放電チャンバを含むが、本開示の態様は、単一のレーザ放電チャンバ又は複数のレーザ放電チャンバを含む、レーザ源に適用可能である。

[0104] いくつかの態様において、第２のレーザ放電チャンバ５０８は、第１のレーザ放電チャンバ５０４から光を受け取って増幅するように構成可能である。いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ５０４は、主発振器（ＭＯ）の一部として実装可能であり、第２のレーザ放電チャンバ５０８は、パワー増幅器（ＰＡ）又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）の一部として実装可能である。例えば、例示のレーザ源５００は、ＭＯ及びＰＡを含むＭＯＰＡレーザ源とすることができ、ＭＯは第１のレーザ放電チャンバ５０４を含み、ＰＡは第２のレーザ放電チャンバ５０８を含む。別の例において、例示のレーザ源５００は、ＭＯ及びＰＲＡを含むＭＯＰＲＡレーザ源とすることができ、ＭＯは第１のレーザ放電チャンバ５０４を含み、ＰＲＡは第２のレーザ放電チャンバ５０８を含む。いくつかの態様において、例示のレーザ源５００は、１つ以上のコンプレッションヘッドを含むことができる。例えば、例示のレーザ源５００は、第１のレーザ放電チャンバ５０４に結合された第１のコンプレッションヘッド５１２を含むことができ、例示のレーザ源５００は更に、第２のレーザ放電チャンバ５０８に結合された第２のコンプレッションヘッド５１４を含むことができる。いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ５０４及び第２のレーザ放電チャンバ５０８は、図４を参照して説明した例示のレーザ源４００を参照して上記で考察した、任意の態様、構造、特徴、構成要素、又はシステムを含むか、又はこれらに結合することができる。

[0105] いくつかの態様において、例示のレーザ源５００は、第１のレーザ放電チャンバ５０４に結合されたか又は関連付けられた第１のパルスパワートレイン、及び、第２のレーザ放電チャンバ５０８に結合されたか又は関連付けられた第２のパルスパワートレインの、電圧及びタイミングを独立に制御するように構成された、例示のレーザ制御システム５０２を含むことが可能である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１のパルスパワートレイン、第２のパルスパワートレイン、又はその両方の、電力消費を削減するように構成可能である。

[0106] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、例示のレーザ源５００について３つの異なる構成、（ｉ）ＭＯＰＡ、（ｉｉ）ＭＯＰＲＡ、及び（ｉｉｉ）２つの独立レーザを提供することができる。例えば、例示のレーザ制御システム５０２が例示のレーザ源５００にＭＯＰＡ構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ５０４はＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバ５０８はＰＡレーザ放電チャンバであり得る。別の例において、例示のレーザ制御システム５０２が例示のレーザ源５００にＭＯＰＲＡ構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ５０４はＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバ５０８はＰＲＡレーザ放電チャンバであり得る。更に別の例において、例示のレーザ制御システム５０２が例示のレーザ源５００に「２つの独立レーザ」構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ５０４は、第１のＲＣＳ出力電圧５８０に基づいて（例えば、第１の整流子出力電圧５８２に基づいて）第１の光子セットを発生させるように構成された、第１のレーザデバイスを含むことが可能であり、及び、第２のレーザ放電チャンバ５０８は、第２のＲＣＳ出力電圧５８４に基づいて（例えば、第２の整流子出力電圧５８６に基づいて）第２の光子セットを発生させるように構成された、第２のレーザデバイスを含むことが可能である。

[0107] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１のＲＣＳ５２０、第２のＲＣＳ５２１、第１の整流子５３４（例えば、ＭＯ整流子）、第２の整流子５３８（例えば、ＰＲ整流子又はＰＲＡ整流子）、電圧コントローラ５４０（例えば、ＦＣＰ／ＦＣＣ）、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２（例えば、ＴＥＭ）、及び共通ＨＶＰＳ５４６を含むことができる。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ５２０は、第１の独立回路５２２、及び第１のリザーバキャパシタ５２６を含むことができ、第２のＲＣＳ５２１は、第２の独立回路５２４、及び第２のリザーバキャパシタ５２７を含むことができる。いくつかの態様において、第１の独立回路５２２は第１の独立充電及び電圧調節回路を含むことが可能であり、第２の独立回路５２４は第２の独立充電及び電圧調節回路を含むことが可能である。

[0108] いくつかの態様において、第１のリザーバキャパシタ５２６は、第１の独立回路５２２に電気的に結合されるように構成可能であり、第２のリザーバキャパシタ５２７は、第２の独立回路５２４に電気的に結合されるように構成可能である。いくつかの態様において、第１のリザーバキャパシタ５２６及び第２のリザーバキャパシタ５２７は、共通ＨＶＰＳ５４６によって充電可能である。例えば、共通ＨＶＰＳ５４６は、高電圧信号５８８を第１のリザーバキャパシタ５２６及び第２のリザーバキャパシタ５２７に伝送するように構成可能である。第１のリザーバキャパシタ５２６は、共通ＨＶＰＳ５４６から高電圧信号５８８を受信し、高電圧信号５８８に基づいて第１の独立回路５２２を充電するように、構成可能であり、第２のリザーバキャパシタ５２７は、共通ＨＶＰＳ５４６から高電圧信号５８８を受信し、高電圧信号５８８に基づいて第２の独立回路５２４を充電するように、構成可能である。

[0109] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１の独立回路５２２を含む第１のパルスパワートレインを含むことが可能である。第１の独立回路５２２は、第２のレーザ放電チャンバ５０８から独立した第１のレーザ放電チャンバ５０４を駆動するように構成された第１のＲＣＳ出力電圧５８０を発生させるように構成可能である。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ出力電圧５８０は、第１の整流子５３４、第１の整流子出力電圧５８２、及び第１のコンプレッションヘッド５１２を介して、第１のレーザ放電チャンバ５０４を駆動するように構成可能である。例えば、第１の独立回路５２２は、第１のＲＣＳ出力電圧５８０を第１の整流子５３４に伝送するように構成可能である。その後、第１の整流子５３４は、第１の独立回路５２２から第１のＲＣＳ出力電圧５８０を受け取り、第１のＲＣＳ出力電圧５８０に基づいて第１の整流子出力電圧５８２を発生させ、第１のレーザ放電チャンバ５０４を駆動する際に使用するために第１の整流子出力電圧５８２を第１のコンプレッションヘッド５１２に伝送するように、構成可能である。

[0110] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第２の独立回路５２４を含む第２のパルスパワートレインを更に含むことが可能である。第２の独立回路５２４は、第１のレーザ放電チャンバ５０４から独立した第２のレーザ放電チャンバ５０８を駆動するように構成された第１のＲＣＳ出力電圧５８０から独立した第２のＲＣＳ出力電圧５８４を発生させるように構成可能である。いくつかの態様において、第２のＲＣＳ出力電圧５８４は、第２の整流子５３８、第２の整流子出力電圧５８６、及び第２のコンプレッションヘッド５１４を介して、第２のレーザ放電チャンバ５０８を駆動するように構成可能である。例えば、第２の独立回路５２４は、第２のＲＣＳ出力電圧５８４を第２の整流子５３８に伝送するように構成可能である。その後、第２の整流子５３８は、第２の独立回路５２４から第２のＲＣＳ出力電圧５８４を受け取り、第２のＲＣＳ出力電圧５８４に基づいて第２の整流子出力電圧５８６を発生させ、第２のレーザ放電チャンバ５０８を駆動する際に使用するために、第２の整流子出力電圧５８６を第２のコンプレッションヘッド５１４に伝送するように構成可能である。

[0111] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、（例えば、共通ＨＶＰＳ５４６内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース５６０、（例えば、第２の整流子５３８内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース５６２、（例えば、第２のＲＣＳ５２１内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース５６８、（例えば、第１のＲＣＳ５２０内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース５６４、及び、（例えば、第１の整流子５３４内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース５６６などの、複数の通信インターフェースを含むことができる。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ５２０は、第１の独立回路５２２に電気的に結合されるように構成された通信インターフェース５６４を含むことができる。いくつかの態様において、第２のＲＣＳ５２１は、第２の独立回路５２４に電気的に結合されるように構成された通信インターフェース５６８を含むことができる。いくつかの態様において、複数の通信インターフェース（例えば、通信インターフェース５６０、通信インターフェース５６２、通信インターフェース５６４、通信インターフェース５６６、及び通信インターフェース５６８）は、複数のデジタル通信インターフェース、複数のＣＡＮノード、複数のイーサネットノード、複数のシリアル又はパラレル通信ケーブルノード、複数のＧＰＩＢノード、又は、複数の任意の他の適切な通信インターフェースであり得るか、又はこれらを含み得る。

[0112] いくつかの態様において、電圧コントローラ５４０は、第１のＲＣＳ５２０及び第２のＲＣＳ５２１に、それぞれ通信インターフェース５６４及び通信インターフェース５６８を介して、電気的に結合可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ５４０は、（例えば、第１のＲＣＳ出力電圧５８０の電圧を制御することによって）第１のパルスパワートレインの電圧を、及び、（例えば、第２のＲＣＳ出力電圧５８４の電圧を制御することによって）第２のパルスパワートレインの電圧を、独立に制御するように構成可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ５４０は、第１のＲＣＳ出力電圧５８０の電圧を独立に制御するために、第１の電圧制御信号を発生させ、通信インターフェース５６４に伝送するように構成可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ５４０は、第２のＲＣＳ出力電圧５８４の電圧を独立に制御するために、第２の電圧制御信号を発生させ、通信インターフェース５６８に伝送するように構成可能である。

[0113] いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２は、それぞれ通信インターフェース５６６及び通信インターフェース５６２を介して、第１の整流子５３４及び第２の整流子５３８に電気的に結合可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２は、（例えば、第１の整流子出力電圧５８２のタイミングを制御することによって）第１のパルスパワートレインの放電のタイミングを、及び、（例えば、第２の整流子出力電圧５８６のタイミングを制御することによって）第２のパルスパワートレインの放電のタイミングを、独立に制御するように構成可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２は、第１の整流子出力電圧５８２のタイミングを独立に制御するために、第１のタイミング制御信号を発生させ、通信インターフェース５６６に伝送するように、構成可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２は、第２の整流子出力電圧５８６のタイミングを独立に制御するために、第２のタイミング制御信号を発生させ、通信インターフェース５６２に伝送するように、構成可能である。

[0114] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、例示のレーザ源５００に、（ｉ）第１のパルスパワートレイン又は第２のパルスパワートレインのいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについての（同時デュアルパルスパワートレイン動作を含むが限定されない）同期したデュアルパルスパワートレイン動作、及び、（ｉｉｉ）第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについての（スタッタデュアルパルスパワートレイン動作を含むが限定されない）インターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作という、３つの異なる動作モードを提供することができる。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、（ｉ）第１のレーザ放電チャンバ５０４又は第２のレーザ放電チャンバ５０８のいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ５０４及び第２のレーザ放電チャンバ５０８からの（同時デュアル出力を含むが限定されない）同期したデュアル出力、又は、（ｉｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ５０４及び第２のレーザ放電チャンバ５０８からの（スタッタデュアル出力を含むが限定されない）インターリーブしたデュアル出力という、３つの動作モードを可能にするために、各パルスパワートレインの独立制御（例えば、独立電圧制御、独立タイミング制御、独立ガス制御、独立ブロワ制御、独立温度制御、又はそれらの組み合わせ）を提供することができる。

[0115] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１のパルスパワートレインの電圧及びタイミング、並びに、第２のパルスパワートレインの電圧及びタイミングを、独立に制御するように構成可能である。例えば、例示のレーザ制御システム５０２は、（例えば、電圧コントローラ５４０及び通信インターフェース５６４を使用して）第１のパルスパワートレインの第１の電圧を、及び、（例えば、電圧コントローラ５４０及び通信インターフェース５６８を使用して）第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように構成可能である。例示のレーザ制御システム５０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２及び通信インターフェース５６６を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを、及び、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２及び通信インターフェース５６２を使用して）第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを、独立に制御するように更に構成可能である。

[0116] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１のパルスパワートレインの電圧及び第２のパルスパワートレインの電圧を独立に制御するように、並びに、第１のパルスパワートレインのタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインのタイミングを更に制御するように、構成可能である。例えば、例示のレーザ制御システム５０２は、（例えば、電圧コントローラ５４０及び通信インターフェース５６４を使用して）第１のパルスパワートレインの第１の電圧を、及び、（例えば、電圧コントローラ５４０及び通信インターフェース５６８を使用して）第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように構成可能である。例示のレーザ制御システム５０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２及び通信インターフェース５６６を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを制御するように、更に構成可能である。例示のレーザ制御システム５０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ５４２及び通信インターフェース５６２を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、更に構成可能である。１つの例示的な例において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに関した遅延（例えば、離散的持続時間）に基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、構成可能である。いくつかの態様において、遅延は、第１のレーザ放電チャンバ５０４と第２のレーザ放電チャンバ５０８との間の光伝搬時間に（例えば、等価、倍数、分数に）基づくものとすることができる。いくつかの態様において、遅延は制御可能なパラメータであり得る。いくつかの態様において、遅延は、第２のレーザ放電チャンバ５０８によって生成される光の望ましい帯域幅に基づくものとすることができる。いくつかの態様において、遅延は、約１．０フェムト秒、１．０ピコ秒、１．０ナノ秒、０．１ミリ秒、１．０ミリ秒、１秒、又は１０秒よりも大きいことが可能である。

[0117] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第１の動作モードを用いて、第１のパルスパワートレインと同時であるように第２のパルスパワートレインをトリガするように構成可能である。第１の動作モードは、例えば、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについて同期したデュアルパルスパワートレイン動作、又は任意の他の適切な動作、あるいは動作の組み合わせを提供するように構成可能である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム５０２は、第２の動作モードを用いて、第２のパルスパワートレインに関して遅延するように第１のパルスパワートレインをトリガするように構成可能である。第２の動作モードは、例えば、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについてインターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作、又は任意の他の適切な動作、あるいは動作の組み合わせを提供するように構成可能である。

[0118] デュアルＲＣＳ、デュアルリザーバキャパシタ、及びデュアルＨＶＰＳを有する、例示のレーザ制御システム
[0119] 図６は、本開示のいくつかの態様に従った、例示のレーザ制御システム６０２（例えば、独立電圧パルスパワーシステム）を含む、例示のレーザ源６００の概略図である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、デュアルＲＣＳ（例えば、第１のＲＣＳ６２０及び第２のＲＣＳ６２１）、デュアルリザーバキャパシタ（例えば、第１のリザーバキャパシタ６２６及び第２のリザーバキャパシタ６２７）、及びデュアルＨＶＰＳ（例えば、第１のＨＶＰＳ６４６及び第２のＨＶＰＳ６４７）と共に、デュアル独立充電及び電圧調節回路（例えば、第１の独立回路６２２及び第２の独立回路６２４）を含むことができる。いくつかの態様において、例示のレーザ源６００は、リソグラフィ装置１００又は１００’の放射源ＳＯの一部として、又は放射源ＳＯに加えて、使用可能である。追加又は代替として、例示のレーザ源６００はＤＵＶリソグラフィ内で使用されるべきＤＵＶ放射を発生させることができる。

[0120] 図６に示されるように、例示のレーザ源６００は、独立電圧及びタイミング制御を、場合によっては電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステムを含む、デュアルチャンバレーザ源とすることができる。例えば、例示のレーザ源６００は、第１のレーザビーム６０６を発生させるように構成された第１のレーザ放電チャンバ６０４と、第１のレーザビーム６０６を受け取り、第２のレーザビーム６１０を発生させるために第１のレーザビーム６０６を増幅させるように構成された、第２のレーザ放電チャンバ６０８とを含むことができる。例示のレーザ源６００は、第２のレーザビーム６１０、又はその修正バージョンを、リソグラフィ装置（例えば、リソグラフィ装置１００又は１１０’）に出力することができる。例示のレーザ源６００を参照しながら考察するいくつかの態様は、２つのレーザ放電チャンバを含むが、本開示の態様は、単一のレーザ放電チャンバ又は複数のレーザ放電チャンバを含む、レーザ源に適用可能である。

[0121] いくつかの態様において、第２のレーザ放電チャンバ６０８は、第１のレーザ放電チャンバ６０４から光を受け取って増幅するように構成可能である。いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ６０４は、主発振器（ＭＯ）の一部として実装可能であり、第２のレーザ放電チャンバ６０８は、パワー増幅器（ＰＡ）又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）の一部として実装可能である。例えば、例示のレーザ源６００は、ＭＯ及びＰＡを含むＭＯＰＡレーザ源とすることができ、ＭＯは第１のレーザ放電チャンバ６０４を含み、ＰＡは第２のレーザ放電チャンバ６０８を含む。別の例において、例示のレーザ源６００は、ＭＯ及びＰＲＡを含むＭＯＰＲＡレーザ源とすることができ、ＭＯは第１のレーザ放電チャンバ６０４を含み、ＰＲＡは第２のレーザ放電チャンバ６０８を含む。いくつかの態様において、例示のレーザ源６００は、１つ以上のコンプレッションヘッドを含むことができる。例えば、例示のレーザ源６００は、第１のレーザ放電チャンバ６０４に結合された第１のコンプレッションヘッド６１２を含むことができ、例示のレーザ源６００は更に、第２のレーザ放電チャンバ６０８に結合された第２のコンプレッションヘッド６１４を含むことができる。いくつかの態様において、第１のレーザ放電チャンバ６０４及び第２のレーザ放電チャンバ６０８は、図４を参照して説明した例示のレーザ源４００を参照して上記で考察した、任意の態様、構造、特徴、構成要素、又はシステムを含むか、又はこれらに結合することができる。

[0122] いくつかの態様において、例示のレーザ源６００は、第１のレーザ放電チャンバ６０４に結合されたか又は関連付けられた第１のパルスパワートレイン、及び、第２のレーザ放電チャンバ６０８に結合されたか又は関連付けられた第２のパルスパワートレインの、電圧及びタイミングを独立に制御するように構成された、例示のレーザ制御システム６０２を含むことが可能である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１のパルスパワートレイン、第２のパルスパワートレイン、又はその両方の、電力消費を削減するように構成可能である。

[0123] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、例示のレーザ源６００について３つの異なる構成、（ｉ）ＭＯＰＡ、（ｉｉ）ＭＯＰＲＡ、及び（ｉｉｉ）２つの独立レーザを提供することができる。例えば、例示のレーザ制御システム６０２が例示のレーザ源６００にＭＯＰＡ構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ６０４はＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバ６０８はＰＡレーザ放電チャンバであり得る。別の例において、例示のレーザ制御システム６０２が例示のレーザ源６００にＭＯＰＲＡ構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ６０４はＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバ６０８はＰＲＡレーザ放電チャンバであり得る。更に別の例において、例示のレーザ制御システム６０２が例示のレーザ源６００に「２つの独立レーザ」構成を提供するように構成されるとき、第１のレーザ放電チャンバ６０４は、第１のＲＣＳ出力電圧６８０に基づいて（例えば、第１の整流子出力電圧６８２に基づいて）第１の光子セットを発生させるように構成された、第１のレーザデバイスを含むことが可能であり、及び、第２のレーザ放電チャンバ６０８は、第２のＲＣＳ出力電圧６８４に基づいて（例えば、第２の整流子出力電圧６８６に基づいて）第２の光子セットを発生させるように構成された、第２のレーザデバイスを含むことが可能である。

[0124] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１のＲＣＳ６２０、第２のＲＣＳ６２１、第１の整流子６３４（例えば、ＭＯ整流子）、第２の整流子６３８（例えば、ＰＲ整流子又はＰＲＡ整流子）、電圧コントローラ６４０（例えば、ＦＣＰ／ＦＣＣ）、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２（例えば、ＴＥＭ）、第１のＨＶＰＳ６４６、及び第２のＨＶＰＳ６４７を含むことができる。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ６２０は、第１の独立回路６２２、及び第１のリザーバキャパシタ６２６を含むことができ、第２のＲＣＳ６２１は、第２の独立回路６２４、及び第２のリザーバキャパシタ６２７を含むことができる。いくつかの態様において、第１の独立回路６２２は第１の独立充電及び電圧調節回路を含むことが可能であり、第２の独立回路６２４は第２の独立充電及び電圧調節回路を含むことが可能である。

[0125] いくつかの態様において、第１のリザーバキャパシタ６２６は、第１の独立回路６２２に電気的に結合されるように構成可能であり、第２のリザーバキャパシタ６２７は、第２の独立回路６２４に電気的に結合されるように構成可能である。いくつかの態様において、第１のリザーバキャパシタ６２６は、第１のＨＶＰＳ６４６によって充電可能であり、第２のリザーバキャパシタ６２７は、第２のＨＶＰＳ６４７によって充電可能である。例えば、第１のＨＶＰＳ６４６は、第１の高電圧信号６８８を第１のリザーバキャパシタ６２６に伝送するように構成可能であり、第２のＨＶＰＳ６４７は、第２の高電圧信号６８９を第２のリザーバキャパシタ６２７に伝送するように構成可能である。第１のリザーバキャパシタ６２６は、第１のＨＶＰＳ６４６から第１の高電圧信号６８８を受信し、第１の高電圧信号６８８に基づいて第１の独立回路６２２を充電するように構成可能であり、第２のリザーバキャパシタ６２７は、第２のＨＶＰＳ６４７から第２の高電圧信号６８９を受信し、第２の高電圧信号６８９に基づいて第２の独立回路６２４を充電するように構成可能である。

[0126] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１の独立回路６２２を含む第１のパルスパワートレインを含むことが可能である。第１の独立回路６２２は、第２のレーザ放電チャンバ６０８から独立した第１のレーザ放電チャンバ６０４を駆動するように構成された第１のＲＣＳ出力電圧６８０を発生させるように構成可能である。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ出力電圧６８０は、第１の整流子６３４、第１の整流子出力電圧６８２、及び第１のコンプレッションヘッド６１２を介して、第１のレーザ放電チャンバ６０４を駆動するように構成可能である。例えば、第１の独立回路６２２は、第１のＲＣＳ出力電圧６８０を第１の整流子６３４に伝送するように構成可能である。その後、第１の整流子６３４は、第１の独立回路６２２から第１のＲＣＳ出力電圧６８０を受け取り、第１のＲＣＳ出力電圧６８０に基づいて第１の整流子出力電圧６８２を発生させ、第１のレーザ放電チャンバ６０４を駆動する際に使用するために第１の整流子出力電圧６８２を第１のコンプレッションヘッド６１２に伝送するように、構成可能である。

[0127] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第２の独立回路６２４を含む第２のパルスパワートレインを更に含むことが可能である。第２の独立回路６２４は、第１のレーザ放電チャンバ６０４から独立した第２のレーザ放電チャンバ６０８を駆動するように構成された第１のＲＣＳ出力電圧６８０から独立した第２のＲＣＳ出力電圧６８４を発生させるように構成可能である。いくつかの態様において、第２のＲＣＳ出力電圧６８４は、第２の整流子６３８、第２の整流子出力電圧６８６、及び第２のコンプレッションヘッド６１４を介して、第２のレーザ放電チャンバ６０８を駆動するように構成可能である。例えば、第２の独立回路６２４は、第２のＲＣＳ出力電圧６８４を第２の整流子６３８に伝送するように構成可能である。その後、第２の整流子６３８は、第２の独立回路６２４から第２のＲＣＳ出力電圧６８４を受け取り、第２のＲＣＳ出力電圧６８４に基づいて第２の整流子出力電圧６８６を発生させ、第２のレーザ放電チャンバ６０８を駆動する際に使用するために、第２の整流子出力電圧６８６を第２のコンプレッションヘッド６１４に伝送するように構成可能である。

[0128] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、（例えば、第１のＨＶＰＳ６４６内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース６６０、（例えば、第２のＨＶＰＳ６４７内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース６６１、（例えば、第２の整流子６３８内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース６６２、（例えば、第２のＲＣＳ６２１内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース６６８、（例えば、第１のＲＣＳ６２０内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース６６４、及び、（例えば、第１の整流子６３４内に配設、結合、又は関連付けられた）通信インターフェース６６６などの、複数の通信インターフェースを含むことができる。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ６２０は、第１の独立回路６２２に電気的に結合されるように構成された通信インターフェース６６４を含むことができる。いくつかの態様において、第２のＲＣＳ６２１は、第２の独立回路６２４に電気的に結合されるように構成された通信インターフェース６６８を含むことができる。いくつかの態様において、複数の通信インターフェース（例えば、通信インターフェース６６０、通信インターフェース６６１、通信インターフェース６６２、通信インターフェース６６４、通信インターフェース６６６、及び通信インターフェース６６８）は、複数のデジタル通信インターフェース、複数のＣＡＮノード、複数のイーサネットノード、複数のシリアル又はパラレル通信ケーブルノード、複数のＧＰＩＢノード、又は、複数の任意の他の適切な通信インターフェースであり得るか、又はこれらを含み得る。

[0129] いくつかの態様において、電圧コントローラ６４０は、第１のＲＣＳ６２０及び第２のＲＣＳ６２１に、それぞれ通信インターフェース６６４及び通信インターフェース６６８を介して、電気的に結合可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ６４０は、（例えば、第１のＲＣＳ出力電圧６８０の電圧を制御することによって）第１のパルスパワートレインの電圧を、及び、（例えば、第２のＲＣＳ出力電圧６８４の電圧を制御することによって）第２のパルスパワートレインの電圧を、独立に制御するように構成可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ６４０は、第１のＲＣＳ出力電圧６８０の電圧を独立に制御するために、第１の電圧制御信号を発生させ、通信インターフェース６６４に伝送するように構成可能である。いくつかの態様において、電圧コントローラ６４０は、第２のＲＣＳ出力電圧６８４の電圧を独立に制御するために、第２の電圧制御信号を発生させ、通信インターフェース６６８に伝送するように構成可能である。

[0130] いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２は、それぞれ通信インターフェース６６６及び通信インターフェース６６２を介して、第１の整流子６３４及び第２の整流子６３８に電気的に結合可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２は、（例えば、第１の整流子出力電圧６８２のタイミングを制御することによって）第１のパルスパワートレインの放電のタイミングを、及び、（例えば、第２の整流子出力電圧６８６のタイミングを制御することによって）第２のパルスパワートレインの放電のタイミングを、独立に制御するように構成可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２は、第１の整流子出力電圧６８２のタイミングを独立に制御するために、第１のタイミング制御信号を発生させ、通信インターフェース６６６に伝送するように、構成可能である。いくつかの態様において、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２は、第２の整流子出力電圧６８６のタイミングを独立に制御するために、第２のタイミング制御信号を発生させ、通信インターフェース６６２に伝送するように、構成可能である。

[0131] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、例示のレーザ源６００に、（ｉ）第１のパルスパワートレイン又は第２のパルスパワートレインのいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについての（同時デュアルパルスパワートレイン動作を含むが限定されない）同期したデュアルパルスパワートレイン動作、及び、（ｉｉｉ）第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについての（スタッタデュアルパルスパワートレイン動作を含むが限定されない）インターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作という、３つの異なる動作モードを提供することができる。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、（ｉ）第１のレーザ放電チャンバ６０４又は第２のレーザ放電チャンバ６０８のいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ６０４及び第２のレーザ放電チャンバ６０８からの（同時デュアル出力を含むが限定されない）同期したデュアル出力、又は、（ｉｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ６０４及び第２のレーザ放電チャンバ６０８からの（スタッタデュアル出力を含むが限定されない）インターリーブしたデュアル出力という、３つの動作モードを可能にするために、各パルスパワートレインの独立制御（例えば、独立電圧制御、独立タイミング制御、独立ガス制御、独立ブロワ制御、独立温度制御、又はそれらの組み合わせ）を提供することができる。

[0132] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１のパルスパワートレインの電圧及びタイミング、並びに、第２のパルスパワートレインの電圧及びタイミングを、独立に制御するように構成可能である。例えば、例示のレーザ制御システム６０２は、（例えば、電圧コントローラ６４０及び通信インターフェース６６４を使用して）第１のパルスパワートレインの第１の電圧を、及び、（例えば、電圧コントローラ６４０及び通信インターフェース６６８を使用して）第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように構成可能である。例示のレーザ制御システム６０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２及び通信インターフェース６６６を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを、及び、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２及び通信インターフェース６６２を使用して）第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを、独立に制御するように更に構成可能である。

[0133] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１のパルスパワートレインの電圧及び第２のパルスパワートレインの電圧を独立に制御するように、並びに、第１のパルスパワートレインのタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインのタイミングを更に制御するように、構成可能である。例えば、例示のレーザ制御システム６０２は、（例えば、電圧コントローラ６４０及び通信インターフェース６６４を使用して）第１のパルスパワートレインの第１の電圧を、及び、（例えば、電圧コントローラ６４０及び通信インターフェース６６８を使用して）第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように構成可能である。例示のレーザ制御システム６０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２及び通信インターフェース６６６を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを制御するように、更に構成可能である。例示のレーザ制御システム６０２は、（例えば、レーザ放電チャンバタイミングコントローラ６４２及び通信インターフェース６６２を使用して）第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、更に構成可能である。１つの例示的な例において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに関した遅延（例えば、離散的持続時間）に基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、構成可能である。いくつかの態様において、遅延は、第１のレーザ放電チャンバ６０４と第２のレーザ放電チャンバ６０８との間の光伝搬時間に（例えば、等価、倍数、分数に）基づくものとすることができる。いくつかの態様において、遅延は制御可能なパラメータであり得る。いくつかの態様において、遅延は、第２のレーザ放電チャンバ６０８によって生成される光の望ましい帯域幅に基づくものとすることができる。いくつかの態様において、遅延は、約１．０フェムト秒、１．０ピコ秒、１．０ナノ秒、０．１ミリ秒、１．０ミリ秒、１秒、又は１０秒よりも大きいことが可能である。

[0134] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第１の動作モードを用いて、第１のパルスパワートレインと同時であるように第２のパルスパワートレインをトリガするように構成可能である。第１の動作モードは、例えば、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについて同期したデュアルパルスパワートレイン動作、又は任意の他の適切な動作、あるいは動作の組み合わせを提供するように構成可能である。いくつかの態様において、例示のレーザ制御システム６０２は、第２の動作モードを用いて、第２のパルスパワートレインに関して遅延するように第１のパルスパワートレインをトリガするように構成可能である。第２の動作モードは、例えば、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについてインターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作、又は任意の他の適切な動作、あるいは動作の組み合わせを提供するように構成可能である。

[0135] 装置を製造するための例示のプロセス
[0136] 図７は、本開示のいくつかの態様又はその一部に従った、装置を製造するための例示の方法７００を示すフローチャートである。いくつかの態様において、装置は、レーザ源、レーザ制御システム、又は、独立した電圧及びタイミング制御、及び場合によっては電力消費の削減を伴うデュアルパルスパワーシステムであり得るか、あるいはこれらを含み得る。例示の方法７００を参照しながら説明する動作は、上記図１から図６及び下記図８を参照しながら説明するような、本明細書で説明するシステム、装置、方法、コンピュータプログラム製品、構成要素、技法、又はそれらの組み合わせのうちのいずれかによって、又はそれらに従って、実行可能である。

[0137] 動作７０２において、方法は、第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧（例えば、第１のＲＣＳ出力電圧４８０、５８０、又は６８０）を発生させるように構成された、第１の独立回路（例えば、第１の独立回路４２２、５２２、又は６２２）を含む、第１のパルスパワートレインを提供することを含むことができる。いくつかの態様において、第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバ（例えば、第１のレーザ放電チャンバ４０４、５０４、又は６０４）を駆動するように構成可能である。いくつかの態様において、第１のパルスパワートレインを提供することは、上記図１から図６及び下記図８を参照しながら説明する任意の態様又は態様の組み合わせに従って、第１のパルスパワートレインを提供することを含むことができる。

[0138] 動作７０４において、方法は、第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧（例えば、第２のＲＣＳ出力電圧４８４、５８４、又は６８４）を発生させるように構成された、第２の独立回路（例えば、第２の独立回路４２４、５２４、又は６２４）を含む、第２のパルスパワートレインを提供することを含むことができる。いくつかの態様において、第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバ（例えば、第２のレーザ放電チャンバ４０８、５０８、又は６０８）を駆動するように構成可能である。いくつかの態様において、第２のパルスパワートレインを提供することは、上記図１から図６及び下記図８を参照しながら説明する任意の態様又は態様の組み合わせに従って、第２のパルスパワートレインを提供することを含むことができる。

[0139] 動作７０６において、方法は、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインを含む、レーザ制御システム（例えば、例示のレーザ制御システム４０２、例示のレーザ制御システム５０２、又は例示のレーザ制御システム６０２を含むが限定されない、デュアルパルスパワーシステム又は独立電圧パルスパワーシステム）を形成することを、含むことができる。いくつかの態様において、レーザ制御システムは、下記のいずれかと共に、デュアル独立充電及び電圧調節回路を有することが可能である。
[0140] （ａ）単一ＲＣＳ、単一リザーバキャパシタ、及び単一ＨＶＰＳ（例えば、図４に示された例示のレーザ制御システム４０２）、
[0141] （ｂ）デュアルＲＣＳ、デュアルリザーバキャパシタ、及び単一ＨＶＰＳ（例えば、図５に示された例示のレーザ制御システム５０２）、又は、
[0142] （ｃ）デュアルＲＣＳ、デュアルリザーバキャパシタ、及びデュアルＨＶＰＳ（例えば、図６に示された例示のレーザ制御システム６０２）。

[0143] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システムは、（ｉ）第１のレーザ放電チャンバはＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバはＰＡレーザ放電チャンバであり得る、ＭＯＰＡ構成、（ｉｉ）第１のレーザ放電チャンバはＭＯレーザ放電チャンバであり得、第２のレーザ放電チャンバはＰＲＡレーザ放電チャンバであり得る、ＭＯＰＲＡ構成、又は、（ｉｉｉ）第１のレーザ放電チャンバは、第１のＲＣＳ出力電圧に基づいて第１の光子セットを発生させるように構成された、第１のレーザデバイスを含むことが可能であり、第２のレーザ放電チャンバは、第２のＲＣＳ出力電圧に基づいて第２の光子セットを発生させるように構成された、第２のレーザデバイスを含むことが可能である、「２つの独立レーザ」構成の、３つの構成を提供することができる。

[0144] いくつかの態様において、例示のレーザ制御システムは、（ｉ）第１のレーザ放電チャンバ又は第２のレーザ放電チャンバのいずれかの単一のパルスパワートレイン動作、（ｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ及び第２のレーザ放電チャンバからの同期したデュアル出力、又は（ｉｉｉ）独立電圧動作を伴う第１のレーザ放電チャンバ及び第２のレーザ放電チャンバからのインターリーブしたデュアル出力という、３つの動作モードを可能にするために、各パルスパワートレインの独立制御（例えば、独立電圧制御、独立タイミング制御、独立ガス制御、独立ブロワ制御、独立温度制御、又はそれらの組み合わせ）を提供することができる。

[0145] いくつかの態様において、レーザ制御システムを形成することは、上記図１から図６及び下記図８を参照しながら説明する任意の態様又は態様の組み合わせに従って、レーザ制御システムを形成することを含むことができる。

[0146] 例示のコンピューティングシステム
[0147] 本開示の態様は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらの任意の組み合わせにおいて実装可能である。本開示の態様は、１つ以上のプロセッサによって読み取り及び実行可能な、機械可読媒体上に記憶された命令としても実装可能である。機械可読媒体は、機械（例えば、コンピューティングデバイス）によって読み取り可能な形で情報を記憶又は伝送するための任意の機構を含むことができる。例えば、機械可読媒体は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響、又は他の形の伝搬信号、及びその他を、含むことができる。更に、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、及び／又は命令は、特定のアクションを実行するものとして、本明細書で説明され得る。しかしながら、こうした説明は単なる便宜的なものであり、こうしたアクションは実際には、コンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又は他のデバイスが、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、及び／又は命令を実行する結果として生じることを理解されたい。

[0148] 様々な態様は、例えば、図８に示される例示のコンピューティングシステム８００などの、１つ以上のコンピューティングシステムを使用して実装可能である。例示のコンピューティングシステム８００は、図４を参照しながら説明する例示のレーザ制御システム４０２、図５を参照しながら説明する例示のレーザ制御システム５０２、図６を参照しながら説明する例示のレーザ制御システム６０２、任意の他の適切なシステム、サブシステム、又はコンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの、本明細書で説明する機能を実行することが可能な、専用コンピュータとすることができる。例示のコンピューティングシステム８００は、プロセッサ８０４などの１つ以上のプロセッサ（中央処理ユニット又はＣＰＵとも呼ばれる）を含むことができる。プロセッサ８０４は、通信インフラストラクチャ８０６（例えば、バス）に接続される。例示のコンピューティングシステム８００は、ユーザ入力／出力インターフェース８０２を介して通信インフラストラクチャ８０６と通信する、モニタ、キーボード、ポインティングディバイスなどの、ユーザ入力／出力デバイス８０３も含むことができる。例示のコンピューティングシステム８００は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）などの、メインメモリ８０８（例えば、１つ以上の１次記憶デバイス）を含むこともできる。メインメモリ８０８は、１つ以上のレベルのキャッシュを含むことができる。メインメモリ８０８は、制御論理（例えば、コンピュータソフトウェア）及び／又はデータを内部に記憶している。

[0149] 例示のコンピューティングシステム８００は、２次メモリ８１０（例えば、１つ以上の２次記憶デバイス）も含むことができる。２次メモリ８１０は、例えば、ハードディスクドライブ８１２及び／又は取り外し可能記憶ドライブ８１４を含むことができる。取り外し可能記憶ドライブ８１４は、フロッピーディスクドライブ、磁気テープドライブ、コンパクトディスクドライブ、光記憶デバイス、テープバックアップデバイス、及び／又は任意の他の記憶デバイス／ドライブとすることができる。

[0150] 取り外し可能記憶ドライブ８１４は、取り外し可能記憶ユニット８１８と対話可能である。取り外し可能記憶ユニット８１８は、コンピュータソフトウェア（制御論理）及び／又はデータを記憶したコンピュータ使用可能又は可読記憶デバイスを含む。取り外し可能記憶ユニット８１８は、フロッピーディスク、磁気テープ、コンパクトディスク、ＤＶＤ、光記憶ディスク、及び／又は任意の他のコンピュータデータ記憶デバイスとすることができる。取り外し可能記憶ドライブ８１４は、取り外し可能記憶ユニット８１８から読み取り、及び／又は取り外し可能記憶ユニット８１８へ書き込む。

[0151] いくつかの態様によれば、２次メモリ８１０は、コンピュータプログラム及び／又は他の命令及び／又はデータに例示のコンピューティングシステム８００がアクセスできるようにするための、他の手段、助け、又は他の手法を含むことができる。こうした手段、助け、又は他の手法は、例えば、取り外し可能記憶ユニット８２２及びインターフェース８２０を含むことができる。取り外し可能記憶ユニット８２２及びインターフェース８２０の例は、プログラムカートリッジ及び（ビデオゲームデバイスに見られるような）カートリッジインターフェース、取り外し可能メモリチップ（ＥＰＲＯＭ又はＰＲＯＭなど）及び関連ソケット、メモリスティック及びＵＳＢポート、メモリカード及び関連するメモリカードスロット、及び／又は、任意の他の取り外し可能記憶ユニット及び関連インターフェースを、含むことができる。

[0152] 例示のコンピューティングシステム８００は、通信インターフェース８２４（例えば、１つ以上のネットワークインターフェース）を更に含むことができる。通信インターフェース８２４は、例示のコンピューティングシステム８００が、リモートデバイス、リモートネットワーク、リモートエンティティなどの任意の組み合わせ（個別に及びまとめて、リモートデバイス８２８と呼ばれる）と通信及び対話できるようにする。例えば、通信インターフェース８２４は、例示のコンピューティングシステム８００が、ワイヤード及び／又はワイヤレスであり得、ＬＡＮ、ＷＡＮ、インターネットなどの任意の組み合わせを含み得る、通信経路８２６を介して、リモートデバイス８２８と通信できるようにする。制御論理、データ、又はその両方は、通信経路８２６を介して例示のコンピューティングシステム８００に、及び例示のコンピューティングシステム８００から、伝送可能である。

[0153] 本開示の前述の態様における動作は、多種多様な構成及びアーキテクチャにおいて実装可能である。したがって、前述の態様における動作のいくつか又はすべては、ハードウェア、ソフトウェア、又はその両方において実行可能である。いくつかの態様において、有形の非一時的装置又は製品は、本明細書ではコンピュータプログラム製品又はプログラム記憶デバイスとも呼ばれる、制御論理（ソフトウェア）を記憶した、有形の非一時的コンピュータ使用可能又は可読媒体を含む。これは、例示のコンピューティングシステム８００、メインメモリ８０８、２次メモリ８１０、及び取り外し可能記憶ユニット８１８及び８２２、並びに、前述の任意の組み合わせを具体化する有形の製品を含むが、限定されない。こうした制御論理は、１つ以上のデータ処理デバイス（例示のコンピューティングシステム８００など）によって実行されるとき、こうしたデータ処理デバイスを本明細書で説明したように動作させる。

[0154] 当業者であれば、本開示に含まれる教示に基づいて、図８に示された以外のデータ処理デバイス、コンピュータシステム、及び／又はコンピュータアーキテクチャを使用して、本開示の態様をどのように作成及び使用するかが明らかとなろう。特に、本開示の態様は、本明細書で説明する以外のソフトウェア、ハードウェア、及び／又はオペレーティングシステムの実装を用いて動作可能である。

[0155] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板プロセスツールに適用することができる。更に基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。

[0156] 本明細書中の言い回し又は専門用語は説明を目的とするものであって限定を目的とするものではないことが理解されるべきであり、従って、本明細書の専門用語又は言い回しは、本明細書中の教示に照らして当業者によって解釈されるべきである。

[0157] 本明細書で使用される「基板」という用語は、その上に材料層が追加される材料を記述する。一部の態様では、基板自体にパターンが付与されると共に、その上に追加された材料にもパターンが付与されるか、又はパターン付与されないままである場合がある。

[0158] 本明細書に開示される例は、この開示の実施形態を説明するものであるが限定的ではない。本技術分野で通常見られ、当業者に自明と思われる各種の条件及びパラメータのその他の適切な変更形態及び適応形態も本開示の趣旨及び範囲内にある。

[0159] 本文では、ＩＣの製造における装置及び／又はシステムの使用について特に言及しているが、そのような装置及び／又はシステムは他の多くの可能な用途を有することを明確に理解されるべきである。例えば、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、ＬＣＤパネル、薄膜磁気ヘッドなどに使用できる。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「レチクル」、「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ「マスク」、「基板」、及び「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義（置き換えられる）と見なしてよいことが当業者には認識される。

[0160] 本開示の特定の態様が上に記載されているが、態様は、記載されている以外の方法で実施され得ることが理解されるであろう。この説明は、本開示の実施形態を限定することを意図するものではない。

[0161] 特許請求の範囲を解釈するには、「背景技術」、「発明の概要」及び「要約書」の項ではなく、「発明を実施するための形態」の項を使用するよう意図されていることを理解されたい。「発明の概要」及び「要約書」の項は、本発明者が想定するような１つ以上の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって本発明の実施形態及び添付の特許請求の範囲をいかなる意味でも限定しないものとする。

[0162] 本開示のいくつかの態様を、指定の機能及びそれらの関係の実装を示す機能ビルディングブロックの助けを借りて、上記で説明してきた。これらの機能ビルディングブロックの境界は、本明細書では説明の利便性のために任意に定義されている。指定の機能及びそれらの関係が適切に実行される限り、代替の境界が定義可能である。

[0163] 本開示の特定の態様の前述の説明は、他者が当技術分野の範囲内の知識を適用することによって、不必要な実験なしに、本開示の一般概念から逸脱することなく、こうした特定の態様を様々に応用するために容易に改変及び／又は適合可能な、本態様の一般的性質を完全に明らかにするものである。したがって、こうした適合及び改変は、本明細書に提示した教示及びガイダンスに基づいて、開示された態様の等価物の意味及び範囲内であることが意図される。

[0164] 本発明の他の態様は、以下の番号が付けられた条項に記載されている。
１．第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を備える、第１のパルスパワートレインであって、第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、第１のパルスパワートレインと、
第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を備える、第２のパルスパワートレインであって、第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、第２のパルスパワートレインと、
を備える、レーザ制御システム。
２．レーザ制御システムは、
第１のパルスパワートレインの第１の電圧及び第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように、及び、
第１のパルスパワートレインの第１のタイミング及び第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを、独立に制御するように、
構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
３．レーザ制御システムは、
第１のパルスパワートレインの第１の電圧及び第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように、
第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを制御するように、及び、
第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、
構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
４．レーザ制御システムは、
第１のパルスパワートレインの第１のタイミングに関した遅延に基づいて、第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、
構成される、条項３に記載のレーザ制御システム。
５．遅延は、第１のレーザ放電チャンバと第２のレーザ放電チャンバとの間の光伝搬時間に基づく、条項４に記載のレーザ制御システム。
６．遅延は制御可能なパラメータである、条項４に記載のレーザ制御システム。
７．遅延は、第２の放電光チャンバによって生成される光の望ましい帯域幅に基づく、条項４に記載のレーザ制御システム。
８．レーザ制御システムは、
第１の動作モードを用いて、第１のパルスパワートレインと同時であるように第２のパルスパワートレインをトリガするように、及び、
第２の動作モードを用いて、第２のパルスパワートレインに関して遅延するように第１のパルスパワートレインをトリガするように、
構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
９．第１の独立回路、第２の独立回路、及び、第１の独立回路及び第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された共通リザーバキャパシタを備える、共通ＲＣＳと、
共通リザーバキャパシタに高電圧信号を伝送するように構成された、高電圧電力源（ＨＶＰＳ）と、
を更に備える、条項１に記載のレーザ制御システム。
１０．第１の独立回路、及び、第１の独立回路に電気的に結合されるように構成された第１のリザーバキャパシタを備える、第１のＲＣＳと、
第２の独立回路、及び、第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された第２のリザーバキャパシタを備える、第２のＲＣＳと、
高電圧電力源（ＨＶＰＳ）であって、
第１の高電圧信号を第１のリザーバキャパシタに伝送するように、及び、
第２の高電圧信号を第２のリザーバキャパシタに伝送するように、
構成された、高電圧電力源（ＨＶＰＳ）と、
を更に備える、条項１に記載のレーザ制御システム。
１１．第１の独立回路、及び、第１の独立回路に電気的に結合されるように構成された第１のリザーバキャパシタを備える、第１のＲＣＳと、
第２の独立回路、及び、第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された第２のリザーバキャパシタを備える、第２のＲＣＳと、
第１の高電圧信号を第１のリザーバキャパシタに伝送するように構成された、第１の高電圧電力源（ＨＶＰＳ）と、
第２の高電圧信号を第２のリザーバキャパシタに伝送するように構成された、第２のＨＶＰＳと、
を更に備える、条項１に記載のレーザ制御システム。
１２．第１の独立回路に電気的に結合されるように構成された、第１の通信インターフェースと、
第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された、第２の通信インターフェースと、
を更に備える、条項１に記載のレーザ制御システム。
１３．第２のレーザ放電チャンバは、第１のレーザ放電チャンバから光を受け取って増幅するように構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
１４．第１のレーザ放電チャンバは主発振器（ＭＯ）レーザ放電チャンバであり、第２のレーザ放電チャンバは、パワー増幅器（ＰＡ）放電チャンバ又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）放電チャンバである、条項１に記載のレーザ制御システム。
１５．第１のレーザ放電チャンバは、第１のＲＣＳ出力電圧に基づいて第１の光子セットを発生させるように構成された第１のレーザデバイスを備え、第２のレーザ放電チャンバは、第２のＲＣＳ出力電圧に基づいて第２の光子セットを発生させるように構成された第２のレーザデバイスを備える、条項１に記載のレーザ制御システム。
１６．レーザ制御システムは、第１のパルスパワートレイン又は第２のパルスパワートレインの単一パルスパワートレイン動作を提供するように構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
１７．レーザ制御システムは、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについて同期したデュアルパルスパワートレイン動作を提供するように構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
１８．レーザ制御システムは、第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインについてインターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作を提供するように構成される、条項１に記載のレーザ制御システム。
１９．第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を備える、第１のパルスパワートレインであって、第１のＲＣＳ出力電圧は第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、第１のパルスパワートレインと、
第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を備える、第２のパルスパワートレインであって、第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、第２のパルスパワートレインと、
を備える、装置。
２０．装置を製造するための方法であって、
第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を備える第１のパルスパワートレインを提供することであって、第１のＲＣＳ出力電圧は第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、提供すること、
第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を備える第２のパルスパワートレインを提供することであって、第２のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、提供すること、及び、
第１のパルスパワートレイン及び第２のパルスパワートレインを備えるレーザ制御システムを形成すること、
を含む、方法。

[0165] 本開示の幅及び範囲は、上記の例示的な態様又は実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、以下の特許請求の範囲及びそれらの均等物に従ってのみ定義されるべきである。

Claims (15)

1. 第１の共振充電供給（ＲＣＳ）出力電圧を発生させるように構成された第１の独立回路を備える、第１のパルスパワートレインであって、前記第１のＲＣＳ出力電圧は、第１のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、第１のパルスパワートレインと、
   前記第１のＲＣＳ出力電圧から独立した第２のＲＣＳ出力電圧を発生させるように構成された第２の独立回路を備える、第２のパルスパワートレインであって、前記第２のＲＣＳ出力電圧は、前記第１のレーザ放電チャンバから独立した第２のレーザ放電チャンバを駆動するように構成される、第２のパルスパワートレインと、
   前記第１の独立回路、及び、前記第１の独立回路に電気的に結合されるように構成された第１のリザーバキャパシタを備える、第１のＲＣＳと、
   前記第２の独立回路、及び、前記第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された第２のリザーバキャパシタを備える、第２のＲＣＳと、
   高電圧電力源（ＨＶＰＳ）であって、
   第１の高電圧信号を前記第１のリザーバキャパシタに伝送するように、及び、
   第２の高電圧信号を前記第２のリザーバキャパシタに伝送するように、
   構成された、高電圧電力源（ＨＶＰＳ）と、を備える、レーザ制御システム。
2. 前記レーザ制御システムは、
   前記第１のパルスパワートレインの第１の電圧及び前記第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように、及び、
   前記第１のパルスパワートレインの第１のタイミング及び前記第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを、独立に制御するように、構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。
3. 前記レーザ制御システムは、
   前記第１のパルスパワートレインの第１の電圧及び前記第２のパルスパワートレインの第２の電圧を、独立に制御するように、
   前記第１のパルスパワートレインの第１のタイミングを制御するように、及び、
   前記第１のパルスパワートレインの前記第１のタイミングに基づいて、前記第２のパルスパワートレインの第２のタイミングを制御するように、構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。
4. 前記レーザ制御システムは、
   前記第１のパルスパワートレインの前記第１のタイミングに関した遅延に基づいて、前記第２のパルスパワートレインの前記第２のタイミングを制御するように、構成される、請求項３に記載のレーザ制御システム。
5. 前記遅延は、前記第１のレーザ放電チャンバと前記第２のレーザ放電チャンバとの間の光伝搬時間に基づく、請求項４に記載のレーザ制御システム。
6. 前記レーザ制御システムは、
   第１の動作モードを用いて、前記第１のパルスパワートレインと同時であるように前記第２のパルスパワートレインをトリガするように、及び、
   第２の動作モードを用いて、前記第２のパルスパワートレインに関して遅延するように前記第１のパルスパワートレインをトリガするように、構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。
7. 前記第１の独立回路、前記第２の独立回路、及び、前記第１の独立回路及び前記第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された共通リザーバキャパシタを備える、共通ＲＣＳと、
   前記共通リザーバキャパシタに高電圧信号を伝送するように構成された、高電圧電力源（ＨＶＰＳ）と、を更に備える、請求項１に記載のレーザ制御システム。
8. 前記第１の独立回路、及び、前記第１の独立回路に電気的に結合されるように構成された第１のリザーバキャパシタを備える、第１のＲＣＳと、
   前記第２の独立回路、及び、前記第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された第２のリザーバキャパシタを備える、第２のＲＣＳと、
   第１の高電圧信号を前記第１のリザーバキャパシタに伝送するように構成された、第１の高電圧電力源（ＨＶＰＳ）と、
   第２の高電圧信号を前記第２のリザーバキャパシタに伝送するように構成された、第２のＨＶＰＳと、を更に備える、請求項１に記載のレーザ制御システム。
9. 前記第１の独立回路に電気的に結合されるように構成された、第１の通信インターフェースと、
   前記第２の独立回路に電気的に結合されるように構成された、第２の通信インターフェースと、を更に備える、請求項１に記載のレーザ制御システム。
10. 前記第２のレーザ放電チャンバは、前記第１のレーザ放電チャンバから光を受け取って増幅するように構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。
11. 前記第１のレーザ放電チャンバは主発振器（ＭＯ）レーザ放電チャンバであり、前記第２のレーザ放電チャンバは、パワー増幅器（ＰＡ）放電チャンバ又はパワーリング増幅器（ＰＲＡ）放電チャンバである、請求項１に記載のレーザ制御システム。
12. 前記第１のレーザ放電チャンバは、前記第１のＲＣＳ出力電圧に基づいて第１の光子セットを発生させるように構成された第１のレーザデバイスを備え、前記第２のレーザ放電チャンバは、前記第２のＲＣＳ出力電圧に基づいて第２の光子セットを発生させるように構成された第２のレーザデバイスを備える、請求項１に記載のレーザ制御システム。
13. 前記レーザ制御システムは、前記第１のパルスパワートレイン又は前記第２のパルスパワートレインの単一パルスパワートレイン動作を提供するように構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。
14. 前記レーザ制御システムは、前記第１のパルスパワートレイン及び前記第２のパルスパワートレインについて同期したデュアルパルスパワートレイン動作を提供するように構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。
15. 前記レーザ制御システムは、前記第１のパルスパワートレイン及び前記第２のパルスパワートレインについてインターリーブしたデュアルパルスパワートレイン動作を提供するように構成される、請求項１に記載のレーザ制御システム。

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