JP7393534B2 - レーザ源におけるスマートガス温度制御 - Google Patents
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Description
[0001] 本願は、2019年10月25日出願のSMART GAS TEMPERATURE CONTROL IN A LASER SOURCEという名称の米国出願第62/925,811号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
[0044] 図1及び図2は、それぞれ本発明の実施形態が実装され得るリソグラフィ装置100及びリソグラフィ装置100’の概略図である。リソグラフィ装置100及びリソグラフィ装置100’はそれぞれ以下の、放射ビームB(例えば深紫外放射(DUV))を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク、レチクル、又は動的パターニングデバイス)MAを支持するように構成されるとともに、パターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成されるとともに、基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続されたテーブル(例えばウェーハテーブル)WTなどの基板ホルダと、を備える。リソグラフィ装置100及び100’は、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つ以上のダイを含む)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システムPSも有する。リソグラフィ装置100では、パターニングデバイスMA及び投影システムPSは反射型である。リソグラフィ装置100’では、パターニングデバイスMA及び投影システムPSは透過型である。
[0067] 図3は、リソセル又はクラスタと呼ばれることもあるリソグラフィセル300を示している。リソグラフィ装置100又は100’はリソグラフィセル300の一部を構成することがある。また、リソグラフィセル300は、基板に露光前プロセス及び露光後プロセスを実行する1つ以上の装置を含んでよい。従来から、これらにはレジスト層を堆積させるためのスピンコータSC、露光したレジストを現像するためのデベロッパDE、冷却プレートCH、及びベークプレートBKが含まれる。基板ハンドラ、すなわちロボットROが、入出力ポートI/O1、I/O2から基板を取り出し、それらを様々なプロセス装置間で移動させ、リソグラフィ装置100又は100’のローディングベイLBに引き渡す。これらのデバイスは、まとめてトラックと呼ばれることも多く、トラック制御ユニットTCUの制御下にある。TCU自体は監視制御システムSCSによって制御され、SCSはリソグラフィ制御ユニットLACUを介してリソグラフィ装置も制御する。したがって、これらの様々な装置はスループット及び処理効率を最大化するように動作させることができる。
[0069] 図4Aは、本開示のいくつかの実施形態に係る、温度制御システム430を有するレーザ源400の概略を示す図である。いくつかの実施形態において、レーザ源400は、リソグラフィ装置100又は100’のソースSOの一部として、又はこれに加えて、使用可能である。追加又は代替として、レーザ源400は、リソグラフィ装置100又は100’あるいは他のDUVリソグラフィ装置において使用されるべきDUV放射を発生させる際に使用可能である。
冷却システム407の1つ以上の弁に関連付けられた監視された位置データ(例えば、弁開口451)が上限弁位置閾値457より高いと決定した場合、制御システム410は加熱システム405にオフにするように命じることができる。
1.第1のレーザビームを発生させるように構成された第1のレーザチャンバと、
第1のレーザビームを受け取るように、及び、第2のレーザビームを発生させるために第1のレーザビームを増幅するように構成された第2のレーザチャンバと、
第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信するように、及び、受信したデータに基づいて第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を決定するように、構成された温度制御システムと、
を備え、
閾値は、第1及び第2の温度を制御する際に第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、
レーザ源。
2.第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、冷却システム及び加熱システムを含む、条項1に記載のレーザ源。
3.第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、対応する冷却システムに関連付けられたデータを含み、閾値は加熱システムに関連付けられた閾値を含む、条項2に記載のレーザ源。
4.冷却システムの各々は水冷却システムを含み、
対応する冷却システムに関連付けられたデータは、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含み、
加熱システムに関連付けられた閾値は、加熱システムをオンにするための下限閾値と、加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む、
条項3に記載のレーザ源。
5.温度制御システムは、
第1の時間期間中の、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを監視するように、
第1の時間期間中の、レーザ源の状況を決定するように、及び、
レーザ源の状況がレーザ源がオン状態になかったことを示すとき、水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定するように、
構成される、条項4に記載のレーザ源。
6.温度制御システムは、
第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定するように更に構成され、外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定され、
温度制御システムは、
第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定するように、
低域移動平均フィルタをエンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定するように、及び、
フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、下限及び上限閾値を決定するように、
更に構成される、条項5に記載のレーザ源。
7.温度制御システムは、フィルタ処理エンベロープデータの下限値に等しいか又はそれよりも小さくなるように、上限閾値を決定するように構成される、条項6に記載のレーザ源。
8.温度制御システムは、フィルタ処理エンベロープデータの上限値に等しいか又はそれよりも大きくなるように、上限閾値を決定するように構成される、条項6に記載のレーザ源。
9.温度制御システムは、第1及び第2のレーザチャンバがそれぞれ第1及び第2のレーザビームを発生させないことに応答して、加熱システムがオンになるように、下限閾値を決定するように構成される、条項6に記載のレーザ源。
10.第1の温度アクチュエータは、第1のレーザチャンバに関連付けられた第1の冷却システム及び第1の加熱システムを含み、
第2の温度アクチュエータは、第2のレーザチャンバに関連付けられた第2の冷却システム及び第2の加熱システムを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、それぞれ、第1及び第2の冷却システムに関連付けられたデータを含み、
閾値は、第1の加熱システムに関連付けられた第1の閾値と、第2の加熱システムに関連付けられた第2の閾値とを含み、第1の閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、第2の閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
条項1に記載のレーザ源。
11.温度制御システムは、
第1のレーザチャンバに関連付けられたチャンバショットカウントを決定するように、
チャンバショットカウントが第1のカウント閾値より大きい旨の決定に応答して、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を、第1及び第2の温度アクチュエータに通信するように、
チャンバショットカウントが第2のカウント閾値より大きく、第1のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、
変調された閾値を決定するために、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を変調するように構成され、変調された閾値は所望のデューティサイクルを達成し、
変調された閾値を第1の温度アクチュエータに通信するように、及び、
チャンバショットカウントが第2のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられたデフォルト閾値を使用するために、第1及び第2の温度アクチュエータと通信するように、
構成される、条項1に記載のレーザ源。
12.閾値を決定するために、温度制御システムは、
受信したデータに基づいて、第1の温度アクチュエータに関連付けられた第1の下限閾値及び第1の上限閾値を決定するように構成され、第1の下限閾値及び第1の上限閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、
受信したデータに基づいて、第2の温度アクチュエータに関連付けられた第2の下限閾値及び第2の上限閾値を決定するように構成され、第2の下限閾値及び第2の上限閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
条項1に記載のレーザ源。
13.放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
放射ビームに付与されたパターンを基板上に投影するように構成された投影システムと、
を含む、リソグラフィ装置であって、
照明システムはレーザ源を含み、
レーザ源は、
第1のレーザビームを発生させるように構成された第1のレーザチャンバと、
第1のレーザビームを受け取り、第2のレーザビームを発生させるために第1のレーザビームを増幅するように構成された第2のレーザチャンバと、
第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信するように、及び、受信したデータに基づいて第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を決定するように構成された温度制御システムであって、閾値は、第1及び第2の温度を制御する際に第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、温度制御システムと、
を含む、
リソグラフィ装置。
14.第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、水冷却システム及び加熱システムを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含み、
閾値は、加熱システムをオンにするための下限閾値と、加熱システムをオフにするための上限閾値を含む、
条項13に記載のリソグラフィ装置。
15.温度制御システムは、レーザチャンバの各々について、
第1の時間期間中の、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを監視するように、
第1の時間期間中の、レーザ源の状況を決定するように、
レーザ源の状況がレーザ源がオン状態になかったことを示すとき、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定するように、及び、
第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定するように、
構成され、外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定される、
条項14に記載のリソグラフィ装置。
16.温度制御システムは、レーザチャンバの各々について、
第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定するように、
低域移動平均フィルタをエンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定するように、及び、
フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、下限及び上限閾値を決定するように、
更に構成される、条項15に記載のリソグラフィ装置。
17.温度制御システムは、レーザチャンバの各々について、
レーザ源がオフになること又はスタンバイ状態に遷移することに応答して、加熱システムがオンになるように、下限閾値を決定するように、及び、
上限閾値を、フィルタ処理エンベロープデータの下限値に等しいか又は小さいように決定するように、
構成される、条項15に記載のリソグラフィ装置。
18.温度制御システムは、
第1のレーザチャンバに関連付けられたチャンバショットカウントを決定するように、
チャンバショットカウントが第1のカウント閾値より大きい旨の決定に応答して、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を、第1及び第2の温度アクチュエータに通信するように、
チャンバショットカウントが第2のカウント閾値より大きく、第1のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、
変調された閾値を決定するために、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を変調するように構成され、変調された閾値は所望のデューティサイクルを達成し、
変調された閾値を第1の温度アクチュエータに通信するように、及び、
チャンバショットカウントが第2のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられたデフォルト閾値を使用するために、第1及び第2の温度アクチュエータと通信するように、
構成される、条項13に記載のリソグラフィ装置。
19.第1の温度アクチュエータは、第1のレーザチャンバに関連付けられた第1の冷却システム及び第1の加熱システムを含み、
第2の温度アクチュエータは、第2のレーザチャンバに関連付けられた第2の冷却システム及び第2の加熱システムを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、それぞれ、第1及び第2の冷却システムに関連付けられたデータを含み、
閾値は、第1の加熱システムに関連付けられた第1の閾値と、第2の加熱システムに関連付けられた第2の閾値とを含み、第1の閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、第2の閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
条項13に記載のリソグラフィ装置。
20.第1のレーザチャンバにおいて、第1のレーザビームを発生させること、
第2のレーザチャンバにおいて、第2のレーザビームを発生させるために第1のレーザビームを増幅させること、
第1の温度アクチュエータを使用して、第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御すること、
第2の温度アクチュエータを使用して、第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御すること、
温度制御システムにおいて、第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信すること、及び、
温度制御システムにおいて、受信したデータに基づいて第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を決定することであって、閾値は、第1及び第2の温度を制御する際に第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、閾値を決定すること、
を含む、方法。
21.第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、水冷却システム及び加熱システムを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含み、
閾値は、加熱システムをオンにするための下限閾値と、加熱システムをオフにするための上限閾値とを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信することは、第1の時間期間中の、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを監視することを含み、
閾値を決定することは、
第1の時間期間中の、レーザ源の状況を決定すること、
レーザ源の状況がレーザ源がオン状態になかったことを示すとき、水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定すること、及び、
第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定することであって、外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定される、第2のフィルタ処理データを決定すること、
を含む、
条項20に記載の方法。
22.閾値を決定することは、
第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定すること、
低域移動平均フィルタをエンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定すること、及び、
フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、下限及び上限閾値を決定すること、
を更に含む、条項21に記載の方法。
23.第1の温度アクチュエータは、第1のレーザチャンバに関連付けられた第1の冷却システム及び第1の加熱システムを含み、
第2の温度アクチュエータは、第2のレーザチャンバに関連付けられた第2の冷却システム及び第2の加熱システムを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、それぞれ、第1及び第2の冷却システムに関連付けられたデータを含み、
閾値を決定することは、
第1の加熱システムに関連付けられた第1の閾値を決定すること、及び、
第2の加熱システムに関連付けられた第2の閾値を決定すること、
を含み、
第1の閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、第2の閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
条項20に記載の方法。
24.プロセッサによって実行されたときにプロセッサに動作を実行させる命令を記憶する、非一時的コンピュータ可読媒体であって、動作は、
第1の時間期間中の、レーザ源の水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを受信すること、
第1の時間期間中の、レーザ源の状況を決定すること、
レーザ源の状況が、レーザ源がオン状態になかったことを示すとき、水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを発生させること、
第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを発生させること、
第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定すること、
低域フィルタをエンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定すること、及び、
フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、レーザ源の加熱システムに関連付けられた第1及び第2の閾値を決定すること、
を含み、
第1及び第2の閾値は、少なくとも1つのレーザチャンバ内のガス温度を制御するために使用される、
非一時的コンピュータ可読媒体。
25.第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信するように、及び、受信したデータに基づいて、第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられた閾値を決定するように構成された温度制御システムであって、閾値は、第1及び第2の温度を制御する際に第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、温度制御システムと、
を含む、装置。
26.第1のレーザチャンバは、第1のレーザビームを発生させるように構成され、
第2のレーザチャンバは、第2のレーザビームを発生させるように構成され、第2のレーザチャンバは、第1のレーザビームを受け取るように、及び、第2のレーザビームを発生させるために第1のレーザビームを増幅するように構成される、
条項25に記載の装置。
27.第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、冷却システム及び加熱システムを含む、条項25に記載の装置。
28.第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは対応する冷却システムに関連付けられたデータを含み、閾値は加熱システムに関連付けられた閾値を含む、条項27に記載の装置。
29.冷却システムの各々は水冷却システムを含み、
対応する冷却システムに関連付けられたデータは、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含み、
加熱システムに関連付けられた閾値は、加熱システムをオンにするための下限閾値と、加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む、
条項28に記載の装置。
30.温度制御システムは、
第1の時間期間中の、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを監視するように、
第1の時間期間中の、レーザ源の状況を決定するように、及び、
装置の状況が装置がオン状態になかったことを示すとき、水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定するように、
構成される、条項29に記載の装置。
31.温度制御システムは、
第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定するように更に構成され、外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定され、
温度制御システムは、
第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定するように、
低域移動平均フィルタをエンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定するように、及び、
フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、下限及び上限閾値を決定するように、
更に構成される、条項30に記載の装置。
32.第1の温度アクチュエータは、第1のチャンバに関連付けられた第1の冷却システム及び第1の加熱システムを含み、
第2の温度アクチュエータは、第2のチャンバに関連付けられた第2の冷却システム及び第2の加熱システムを含み、
第1及び第2の温度アクチュエータからのデータは、それぞれ、第1及び第2の冷却システムに関連付けられたデータを含み、
閾値は、第1の加熱システムに関連付けられた第1の閾値と、第2の加熱システムに関連付けられた第2の閾値とを含み、第1の閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、第2の閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
条項25に記載の装置。
33.第1のレーザビームを発生させるように構成された第1のレーザチャンバと、
第1のレーザビームを受け取り、第2のレーザビームを発生させるために第1のレーザビームを増幅するように構成された第2のレーザチャンバと、
第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
温度制御システムと、
を含む、レーザ源であって、
温度制御システムは、
第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信するように構成され、
受信したデータに基づいて、第1の温度アクチュエータに関連付けられた第1の下限閾値及び第1の上限閾値を決定するように構成され、第1の下限閾値及び第1の上限閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、
受信したデータに基づいて、第2の温度アクチュエータに関連付けられた第2の下限閾値及び第2の上限閾値を決定するように構成され、第2の下限閾値及び第2の上限閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
レーザ源。
34.第1のチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2のチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
温度制御システムと、
を含む、装置であって、
温度制御システムは、
第1及び第2の温度アクチュエータからデータを受信するように構成され、
受信したデータに基づいて、第1の温度アクチュエータに関連付けられた第1の閾値を決定するように構成され、第1の閾値は、第1の温度を制御する際に第1の温度アクチュエータによって使用され、
受信したデータに基づいて、第2の温度アクチュエータに関連付けられた第2の閾値を決定するように構成され、第2の閾値は、第2の温度を制御する際に第2の温度アクチュエータによって使用される、
装置。
35.第1のチャンバは、第1のレーザビームを発生させるように構成された第1のレーザチャンバを含み、
第2のチャンバは、第1のレーザビームを受け取るように、及び、第2のレーザビームを発生させるために第1のレーザビームを増幅するように構成された第2のレーザチャンバを含む、
条項34に記載の装置。
Claims (15)
- 第1のレーザビームを発生させるように構成された第1のレーザチャンバと、
前記第1のレーザビームを受け取るように、及び、第2のレーザビームを発生させるために前記第1のレーザビームを増幅するように構成された第2のレーザチャンバと、
前記第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
前記第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
温度制御システムと、
を備え、
前記第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、水冷却システム及び加熱システムを含み、
前記温度制御システムは、前記第1及び第2の温度アクチュエータから、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含むデータを受信して、前記データに基づいて前記加熱システムをオンにするための下限閾値と、前記加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む閾値を決定するように構成され、
前記閾値は、前記第1及び第2の温度を制御する際に前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、
レーザ源。 - 前記温度制御システムは、
第1の時間期間中の、前記対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データを監視するように、
前記第1の時間期間中の、前記レーザ源の状況を決定するように、及び、
前記レーザ源の前記状況が前記レーザ源がオン状態になかったことを示すとき、前記水冷却システムの前記1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定するように、
構成される、請求項1に記載のレーザ源。 - 前記温度制御システムは、
前記第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定するように更に構成され、前記外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定され、
前記温度制御システムは、
前記第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定するように、
低域移動平均フィルタを前記エンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定するように、及び、
前記フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、前記下限及び上限閾値を決定するように、
更に構成される、請求項2に記載のレーザ源。 - 前記温度制御システムは、前記第1及び第2のレーザチャンバがそれぞれ前記第1及び第2のレーザビームを発生させないことに応答して、前記加熱システムがオンになるように、前記下限閾値を決定するように構成される、請求項3に記載のレーザ源。
- 前記温度制御システムは、
前記第1のレーザチャンバに関連付けられたチャンバショットカウントを決定するように、
前記チャンバショットカウントが第1のカウント閾値より大きい旨の決定に応答して、前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される前記閾値を、前記第1及び第2の温度アクチュエータに通信するように、
前記チャンバショットカウントが第2のカウント閾値より大きく、前記第1のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、
変調された閾値を決定するために、前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される前記閾値を変調するように構成され、前記変調された閾値は所望のデューティサイクルを達成し、
前記変調された閾値を前記第1の温度アクチュエータに通信するように、及び、
前記チャンバショットカウントが前記第2のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、前記第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられたデフォルト閾値を使用するために、前記第1及び第2の温度アクチュエータと通信するように、
構成される、請求項1に記載のレーザ源。 - 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームに付与されたパターンを基板上に投影するように構成された投影システムと、
を含む、リソグラフィ装置であって、
前記照明システムはレーザ源を含み、
前記レーザ源は、
第1のレーザビームを発生させるように構成された第1のレーザチャンバと、
前記第1のレーザビームを受け取り、第2のレーザビームを発生させるために前記第1のレーザビームを増幅するように構成された第2のレーザチャンバと、
前記第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
前記第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
温度制御システムと、
を含み、
前記第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、水冷却システム及び加熱システムを含み、
前記温度制御システムは、前記第1及び第2の温度アクチュエータから、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含むデータを受信して、前記データに基づいて前記加熱システムをオンにするための下限閾値と、前記加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む閾値を決定するように構成され、
前記閾値は、前記第1及び第2の温度を制御する際に前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、
リソグラフィ装置。 - 前記温度制御システムは、前記レーザチャンバの各々について、
第1の時間期間中の、前記対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データを監視するように、
前記第1の時間期間中の、前記レーザ源の状況を決定するように、
前記レーザ源の前記状況が前記レーザ源がオン状態になかったことを示すとき、前記対応する水冷却システムの前記1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定するように、及び、
前記第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定するように、
構成され、前記外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定される、
請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記温度制御システムは、前記レーザチャンバの各々について、
前記第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定するように、
低域移動平均フィルタを前記エンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定するように、及び、
前記フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、前記下限及び上限閾値を決定するように、
更に構成される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記温度制御システムは、
前記第1のレーザチャンバに関連付けられたチャンバショットカウントを決定するように、
前記チャンバショットカウントが第1のカウント閾値より大きい旨の決定に応答して、前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される前記閾値を、前記第1及び第2の温度アクチュエータに通信するように、
前記チャンバショットカウントが第2のカウント閾値より大きく、前記第1のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、
変調された閾値を決定するために、前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される前記閾値を変調するように構成され、前記変調された閾値は所望のデューティサイクルを達成し、
前記変調された閾値を前記第1の温度アクチュエータに通信するように、及び、
前記チャンバショットカウントが前記第2のカウント閾値より小さいか又は等しい旨の決定に応答して、前記第1及び第2の温度アクチュエータに関連付けられたデフォルト閾値を使用するために、前記第1及び第2の温度アクチュエータと通信するように、
構成される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 第1のレーザチャンバにおいて、第1のレーザビームを発生させることと、
第2のレーザチャンバにおいて、第2のレーザビームを発生させるために前記第1のレーザビームを増幅させることと、
第1の水冷却システム及び第1の加熱システムを含む第1の温度アクチュエータを使用して、前記第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御することと、
第2の水冷却システム及び第2の加熱システムを含む第2の温度アクチュエータを使用して、前記第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御することと、
温度制御システムにおいて、前記第1及び第2の温度アクチュエータから、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含むデータを受信することと、
前記温度制御システムを使用して、前記受信したデータに基づいて前記第1の加熱システムおよび/または前記第2の加熱システムをオンにするための下限閾値と、前記第1の加熱システムおよび/または前記第2の加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む閾値を決定することであって、前記閾値は、前記第1及び第2の温度を制御する際に前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、閾値を決定することと、
を含む、方法。 - 前記第1及び第2の温度アクチュエータから前記データを受信することは、第1の時間期間中の、前記対応する水冷却システムの前記1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データを監視することを含み、
前記閾値を決定することは、
前記第1の時間期間中の、レーザ源の状況を決定することと、
前記レーザ源の前記状況が前記レーザ源がオン状態になかったことを示すとき、前記水冷却システムの前記1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定することと、
前記第1のフィルタ処理データの外れ値部分をフィルタ除去することによって、第2のフィルタ処理データを決定することであって、前記外れ値部分は1つ以上のデータ閾値に基づいて決定される、第2のフィルタ処理データを決定することと、
を含む、
請求項10に記載の方法。 - 前記閾値を決定することは、
前記第2のフィルタ処理データに基づいて、エンベロープデータを決定することと、
低域移動平均フィルタを前記エンベロープデータに適用することによって、フィルタ処理エンベロープデータを決定することと、
前記フィルタ処理エンベロープデータに基づいて、前記下限及び上限閾値を決定することと、
を更に含む、請求項11に記載の方法。 - 第1のレーザチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2のレーザチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
温度制御システムと、
を含み、
前記第1及び第2の温度アクチュエータの各々は、水冷却システム及び加熱システムを含み、
前記温度制御システムは、前記第1及び第2の温度アクチュエータから、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含むデータを受信して、前記データに基づいて前記加熱システムをオンにするための下限閾値と、前記加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む閾値を決定するように構成され、
前記閾値は、前記第1及び第2の温度を制御する際に前記第1及び第2の温度アクチュエータによって使用される、
装置。 - 前記温度制御システムは、
第1の時間期間中の、前記対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データを監視するように、
前記第1の時間期間中の、前記装置の状況を決定するように、及び、
前記装置の前記状況が前記装置がオン状態になかったことを示すとき、前記水冷却システムの前記1つ以上の弁に関連付けられた前記位置データの一部をフィルタ除去することによって、第1のフィルタ処理データを決定するように、
構成される、請求項13に記載の装置。 - 第1の水冷却システム及び第1の加熱システムを含み、第1のチャンバ内のガスの第1の温度を制御するように構成された第1の温度アクチュエータと、
第2の水冷却システム及び第2の加熱システムを含み、第2のチャンバ内のガスの第2の温度を制御するように構成された第2の温度アクチュエータと、
温度制御システムと、
を含む、装置であって、
前記温度制御システムは、
前記第1及び第2の温度アクチュエータから、対応する水冷却システムの1つ以上の弁に関連付けられた位置データを含むデータを受信するように構成され、
前記受信したデータに基づいて、前記第1の加熱システムをオンにするための下限閾値と、前記第1の加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む第1の閾値を決定するように構成され、前記第1の閾値は、前記第1の温度を制御する際に前記第1の温度アクチュエータによって使用され、
前記受信したデータに基づいて、前記第2の加熱システムをオンにするための下限閾値と、前記第2の加熱システムをオフにするための上限閾値とを含む第2の閾値を決定するように構成され、前記第2の閾値は、前記第2の温度を制御する際に前記第2の温度アクチュエータによって使用される、
装置。
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