JP7402350B2 - 差動測定システム - Google Patents
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Description
[0001] 本願は、2020年4月7日出願の、欧州出願第20168356.2号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
第1の部材は第1のパターンを備え、第1の部材の回転速度は第1のターゲットの特性に基づくように構成され、
第2の部材は第2のパターンを備え、第2の部材の回転速度は第2のターゲットの特性に基づくように構成され、
更に、第1及び第2のパターンは角度変動し、第1及び第2の部材がそれらの回転速度において相対的な差を有するとき、それらの相互作用によって干渉パターンを生成するように構成され、干渉パターンはこの差の大きさを示す。
第1のパターンを備える第1の部材を、第1のターゲットの特性に基づく速度で回転させることと、
第2のパターンを備える第2の部材を、第2のターゲットの特性に基づく速度で回転させることと、を含み、
それによって、第1及び第2の部材がそれらの回転速度における相対差を有するとき、第1のパターンと第2のパターンの間の干渉パターンが形成され、
また方法は、干渉パターンに基づいて、第1及び第2のターゲットの特性の差動測定を行うことを含む。
放射ビームB(例えばEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)IL、
パターニングデバイス(例えば、マスク又はレチクル)MAを支持するように構築され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された、支持構造(例えばマスクテーブル)MT、
基板(レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された、基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WT、及び、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを、基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された、投影システム(例えば反射型投影システム)PS、
を備える。
2.スキャンモードでは、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。
3.別のモードでは、支持構造(例えばマスクテーブル)MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
Claims (14)
- 第1のターゲットの流量と第2のターゲットの流量との間の差を測定するためのシステムであって、
前記システムは、第1の部材及び第2の部材を備え、
前記第1の部材は、第1のパターンを備え、第1の回転速度で回転するように配置され、前記第1の部材の前記第1の回転速度が前記第1のターゲットの前記流量に基づくように構成され、
前記第2の部材は、第2のパターンを備え、第2の回転速度で回転するように配置され、前記第2の部材の前記第2の回転速度が前記第2のターゲットの前記流量に基づくように構成され、
前記第1及び第2のパターンは、角度変動し、前記第1及び第2の部材がそれらの回転速度において相対的な差を有するとき、それらの相互作用によって干渉パターンを生成するように構成され、
前記干渉パターンは、この差の大きさを示す、システム。 - 前記第1及び第2のパターンは、第1及び第2のコンポーネントを備え、
a.前記第1のコンポーネントが前記第2のコンポーネントよりも低い透過性を有するか、又は、
b.前記第1のコンポーネントが前記第2のコンポーネントよりも低い反射性を有する、請求項1に記載のシステム。 - 前記第1の部材は、インレットに配設されたフローロータに取り付けられ、
前記第2の部材は、アウトレットに配設されたフローロータに取り付けられ、
任意選択として、前記第1及び第2の部材の前記回転速度が、前記それぞれのフローロータの前記回転速度よりも高いように、前記第1及び第2の部材が歯車機構を介して前記フローロータに取り付けられる、請求項1又は2に記載のシステム。 - 前記第1及び第2の部材は、ディスクであり、前記ディスクの表面上又は表面を介して形成された前記第1及び第2のパターンを備える、請求項1から3の何れか一項に記載のシステム。
- 前記第1及び第2の部材は、同心ドラムであり、前記ドラムの重なる部分において前記ドラムの表面上又は表面を介して形成された前記第1及び第2のパターンを備える、請求項1から4の何れか一項に記載のシステム。
- 前記干渉パターン上に又は前記干渉パターンを介して光が当たるように、光源が配設され、
前記第1と第2の部材間の回転速度における前記相対的な差を示す前記光の信号を受け取るように、センサが構成され、
任意選択として、前記光源からの光を前記第1と第2の部材間で送るように、それらの間に光ファイバが配設される、請求項1から5の何れか一項に記載のシステム。 - 1つ以上の温度センサが、前記第1及び第2のターゲットにおける温度を測定するように構成され、
前記干渉パターンによって提供される差動信号の大きさが、前記測定された温度差に基づいて較正可能である、請求項1から6の何れか一項に記載のシステム。 - 前記第1のパターンは、前記第2のパターンとは異なり、
前記第1及び第2の部材が同じ速度で回転するとき、結果として生じる前記第1と第2のパターン間の重ね合わされたパターンが角度変動パターンである、請求項1から7の何れか一項に記載のシステム。 - 前記第1のパターン及び前記第2のパターンは、2つの同心環状領域に分割される、請求項1から4の何れか一項に記載のシステム。
- 流体インレット及び流体アウトレットを有する流体循環システムと、
前記流体インレット及び前記流体アウトレットにおける前記流量間の差を測定するように構成されている請求項1から9の何れか一項に記載のシステムと、
を備える、リソグラフィツール。 - 前記流体循環システムは、温度制御された水を循環させるように構成されている、請求項10に記載のリソグラフィツール。
- 第1のターゲットの流量と第2のターゲットの流量との間の差を測定する方法であって、
第1のパターンを備える第1の部材を、前記第1のターゲットの前記流量に基づく第1の速度で回転させることと、
第2のパターンを備える第2の部材を、前記第2のターゲットの前記流量に基づく第2の速度で回転させることと、を含み、
それによって、前記第1及び第2の部材がそれらの回転速度における相対差を有するとき、前記第1と第2のパターンの間の干渉パターンが形成され、
前記方法は、前記干渉パターンに基づいて、前記第1及び第2のターゲットの前記流量の差動測定を行うことを更に含む、方法。 - 前記第1のターゲットに関する第1の温度を監視することと、
前記第2のターゲットに関する第2の温度を監視することと、
前記干渉パターンに基づいて、前記第1と第2のターゲット間の前記推測される差動流量測定を較正するために、前記第1の温度と前記第2の温度との間の差を使用することと、
を更に含む、請求項12に記載の方法。 - 干渉パターンによって変調されるように、前記第1及び第2のパターン上に当たるか、又は前記第1及び第2のパターンを介して進むためのビームを提供することと、
前記干渉パターンによって変調された後に、前記ビームの振幅を監視することと、
前記ビームの前記振幅に基づいて経時的に、前記第1及び第2のターゲットの前記流量間の差を決定することと、
を更に含む、請求項12又は13に記載の方法。
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