JP2013518261A - 空間フィルタを有するホログラフィックマスク検査システム - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
[0001] 本願は、2010年1月27日に出願した米国仮出願第61/298,792号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
[0025] 本発明の実施形態は、ホログラフィックマスク検査システムに関する。本明細書は、本発明の実施形態の特徴を組み込んだ1つ以上の実施形態を開示する。開示される(1つ以上の)実施形態は、本発明を例示するにすぎない。本発明の範囲は開示される(1つ以上の)実施形態に限定されない。本発明は添付の特許請求の範囲によって定義される。
A.例示的反射型および透過型リソグラフィシステム
[0029] 図1Aおよび図1Bは、それぞれリソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’を概略的に示す。リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’の各々は、放射ビームB(例えば、DUVまたはEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えば、マスク、レチクルまたは動的パターニングデバイス)MAを支持するように構成され、かつパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されているサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ基板Wを正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されている基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTとを備える。リソグラフィ装置100および100’は、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分(例えば、1つ以上のダイを含む)C上に投影するように構成された投影システムPSも有する。リソグラフィ装置100では、パターニングデバイスMAおよび投影システムPSは反射型であり、リソグラフィ装置100’では、パターニングデバイスMAおよび投影システムPSは透過型である。
1.ステップモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームBに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームBに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームBに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する。パルス放射源SOが採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
[0045] 図2は、本発明の一実施形態による例示的EUVリソグラフィ装置200を概略的に示す。図2では、EUVリソグラフィ装置200は、放射システム42、照明光学ユニット44および投影システムPSを含む。放射システム42は、放射ビームが放電プラズマによって形成され得る放射源SOを含む。一実施形態では、EUV放射は、電磁スペクトルのEUV範囲内の放射を放出するために非常に高温のプラズマが生成される、例えば、Xeガス、Li蒸気あるいはSn蒸気などのガスまたは蒸気によって生成され得る。非常に高温のプラズマは、少なくとも部分的にイオン化されたプラズマを、例えば、放電によって生成することによって作り出すことができる。例えば、10PaのXe、Li、Sn蒸気、あるいは任意の他の適したガスまたは蒸気の分圧が、放射の効率的な生成のために必要とされることがある。放射源SOによって放出される放射は、放射源チャンバ47から、放射源チャンバ47における開口部内またはその後方に位置決めされたガスバリアまたは汚染物質トラップ49を介してコレクタチャンバ48へと進む。一実施形態では、ガスバリア49はチャネル構造を含んでもよい。
[0057] 図3は、ホログラフィックマスク検査システム300の一実施形態の図である。ホログラフィックマスク検査システム300は、ミラー320、照明源330、対物レンズ340、空間フィルタ350、ビームコンバイナ360、チューブレンズ370およびイメージセンサ380を含む。対物レンズ340、空間フィルタ350、ビームコンバイナ360およびチューブレンズ370を、本明細書中、ホログラフィックマスク検査システム300の光学システム390とも総称する。「レチクル」および「マスク」という単語は、本明細書中、交換可能に用いられる。
[0089] 発明の概要および要約の項目は、(一人以上の)発明者が想定するような本発明の1つ以上の例示的実施形態について述べることができるが、全ての例示的実施形態を述べることはできず、したがって、本発明および添付の請求の範囲をいかなる意味でも制限しないものとする。
Claims (23)
- ホログラフィックマスク検査システムであって、
放射ビームでマスクのターゲット部分上を照明するように構成された照明源と、
光学システムの瞳面に配置された空間フィルタであって、前記空間フィルタは、前記マスクの前記ターゲット部分から反射放射ビームの少なくとも一部を受け、前記光学システムは、前記反射放射ビームの前記一部を参照放射ビームと組み合わせて組み合わせ放射ビームを生成する、空間フィルタと、
前記組み合わせ放射ビームに対応するイメージを検出するように構成されたイメージセンサと
を含む、ホログラフィックマスク検査システム。 - ミラーをさらに含み、前記ミラーは、前記照明源からの前記放射ビームを前記マスクの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されている、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。
- 前記空間フィルタは、前記反射放射ビームに対応する前記イメージにおける1つ以上の空間周波数成分をフィルタリングするように構成されている、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。
- 前記空間フィルタは、前記マスクの前記ターゲット部分によって生成される所定の回折パターンに基づくフィルタパターンを含む、請求項3に記載のホログラフィックマスク検査システム。
- 前記光学システムは、
前記空間フィルタが前記反射放射ビームの前記一部を受ける前に前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を前記参照放射ビームと組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームコンバイナであって、前記空間フィルタは、前記対物レンズと前記ビームコンバイナとの間に位置決めされている、ビームコンバイナと、
前記組み合わせ放射ビームを受け、かつ前記組み合わせ放射ビームを前記イメージセンサの一部上に誘導するように構成されたチューブレンズと
を含む、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。 - 前記光学システムは、
前記照明源からの前記放射ビームを前記マスクの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されたミラーと、
前記放射ビームを前記ミラーに向かって誘導し、かつ前記放射ビームに基づいて前記参照放射ビームを生成するように構成されたビームスプリッタと、
前記空間フィルタが前記反射放射ビームの前記一部を受ける前に前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成されたチューブレンズであって、前記空間フィルタは、前記対物レンズと前記チューブレンズとの間に位置決めされる、チューブレンズと、
前記チューブレンズからの前記反射放射ビームの前記一部を前記参照放射ビームと組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームコンバイナと
を含む、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。 - 前記光学システムは、
前記放射ビームおよび前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記参照放射ビームを受けるように構成された参照ミラーと、
前記放射ビームを前記対物レンズおよび前記参照ミラーに向かって誘導し、かつ前記反射放射ビームの前記一部を前記参照ミラーからの前記参照放射ビームの反射と組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームスプリッタおよびコンバイナと、
前記組み合わせ放射ビームを受けるリレーレンズと、
前記リレーレンズから前記組み合わせ放射ビームを受け、かつ前記組み合わせ放射ビームを前記イメージセンサの一部に誘導するように構成されたチューブレンズであって、前記空間フィルタは、前記リレーレンズと前記チューブレンズとの間に位置決めされている、チューブレンズと
を含む、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。 - 前記イメージセンサは、センサアレイを有するシリコン電荷結合素子を含む、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。
- 前記イメージは、前記マスク上の1つ以上のマスク欠陥に対応する情報を含む、請求項1に記載のホログラフィックマスク検査システム。
- 放射ビームでマスクのターゲット部分上を照明することと、
光学システムの瞳面に配置された空間フィルタに前記マスクの前記ターゲット部分からの反射放射ビームの少なくとも一部を通過させることと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を参照放射ビームと組み合わせて組み合わせ放射ビームを生成することと、
前記組み合わせ放射ビームに対応するイメージを検出することと
を含む、ホログラフィックマスク検査方法。 - ミラーを用いて照明源からの前記放射ビームを前記マスクの前記ターゲット部分上に反射させることをさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 前記反射放射ビームの前記少なくとも一部を通過させることは、前記反射放射ビームに対応する前記イメージ内の1つ以上の空間周波数成分をフィルタリングすることを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記1つ以上の空間周波数成分をフィルタリングすることは、前記マスクの前記ターゲット部分によって生成される所定の回折パターンに基づいて1つ以上の空間周波数成分をフィルタリングすることを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記イメージを検出することは、前記マスク上の1つ以上のマスク欠陥を検出することを含む、請求項10に記載の方法。
- リソグラフィシステムであって、
第1放射ビームを調整するように構成された第1照明システムと、
前記第1放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板上に合焦させるように構成された投影システムと、
ホログラフィックマスク検査システムと
を含み、前記ホログラフィックマスク検査システムは、
第2放射ビームで前記パターニングデバイスのターゲット部分上を照明するように構成された第2照明源と、
光学システムの瞳面に配置された空間フィルタであって、前記空間フィルタは、前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分から反射放射ビームの少なくとも一部を受け、前記光学システムは、前記反射放射ビームの前記一部を参照放射ビームと組み合わせて組み合わせ放射ビームを生成する、空間フィルタと、
前記組み合わせ放射ビームに対応するイメージを検出するように構成されたイメージセンサとを含む、リソグラフィシステム。 - 前記ホログラフィックマスク検査システムは、ミラーをさらに含み、前記ミラーは、前記第2照明源からの前記第2放射ビームを前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されている、請求項15に記載のリソグラフィシステム。
- 前記空間フィルタは、前記反射放射ビームに対応する前記イメージにおける1つ以上の空間周波数成分をフィルタリングするように構成されている、請求項15に記載のリソグラフィシステム。
- 前記空間フィルタは、前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分によって生成される所定の回折パターンに基づくフィルタパターンを含む、請求項17に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光学システムは、
前記空間フィルタが前記反射放射ビームの前記一部を受ける前に前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を前記参照放射ビームと組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームコンバイナであって、前記空間フィルタは、前記対物レンズと前記ビームコンバイナとの間に位置決めされている、ビームコンバイナと、
前記組み合わせ放射ビームを受け、かつ前記組み合わせ放射ビームを前記イメージセンサの一部上に誘導するように構成されたチューブレンズと
を含む、請求項15に記載のリソグラフィシステム。 - 前記光学システムは、
前記第2照明源からの前記第2放射ビームを前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されたミラーと、
前記第2放射ビームを前記ミラーに向かって誘導し、かつ前記第2放射ビームに基づいて前記参照放射ビームを生成するように構成されたビームスプリッタと、
前記空間フィルタが前記反射放射ビームの前記一部を受ける前に前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成されたチューブレンズであって、前記空間フィルタは、前記対物レンズと前記チューブレンズとの間に位置決めされる、チューブレンズと、
前記チューブレンズからの前記反射放射ビームの前記一部を前記参照放射ビームと組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームコンバイナと
を含む、請求項15に記載のリソグラフィシステム。 - 前記光学システムは、
前記第2放射ビームおよび前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記参照放射ビームを受けるように構成された参照ミラーと、
前記放射ビームを前記対物レンズおよび前記参照ミラーに向かって誘導し、かつ前記反射放射ビームの前記一部を前記参照ミラーからの前記参照放射ビームの反射と組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームスプリッタおよびコンバイナと、
前記組み合わせ放射ビームを受けるリレーレンズと、
前記リレーレンズから前記組み合わせ放射ビームを受け、かつ前記組み合わせ放射ビームを前記イメージセンサの一部に誘導するように構成されたチューブレンズであって、前記空間フィルタは、前記リレーレンズと前記チューブレンズとの間に位置決めされている、チューブレンズと
を含む、請求項15に記載のリソグラフィシステム。 - 前記イメージセンサは、センサアレイを有するシリコン電荷結合素子を含む、請求項15に記載のリソグラフィシステム。
- 前記イメージは、前記マスク上の1つ以上のマスク欠陥に対応する情報を含む、請求項15に記載のリソグラフィシステム。
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