JP5059838B2 - レチクル検査システム及び方法 - Google Patents
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Description
[0032] 本発明は、レチクル検査システム及び方法に関する。本明細書は、本発明の特徴が組み込まれた1以上の実施形態を開示する。開示する実施形態は、本発明を例示するに過ぎない。本発明の範囲は、開示する実施形態に限定されない。本発明は、添付の特許請求の範囲によって定義される。
II.レチクル検査システムの実施形態
III.例示的なリソグラフィ環境
A.例示的な反射型及び透過型リソグラフィシステム
1.工程モードでは、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームBに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、X及び/又はY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードでは、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームBに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率及び像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、又はスキャンする一方で、放射ビームBに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。パルス放射源SOが採用されてよく、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、又はスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、本願において言及したタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
B.例示的なEUVリソグラフィ装置
IV.レチクル検査方法
V.結論
104 顕微鏡対物系
106 瞳フィルタ
108 投影光学系
110 ディテクタ
112 放射ビーム
114 物体
116 コンピュータ
200 レチクル検査システム
201 干渉計素子
203 コヒーレントな照明ビーム
204、205 顕微鏡対物系
207、209 フーリエ変換済みビーム
210 フォトディテクタ
220 照明源
225 フィルタリングシステム
226 レンズ
227 フーリエレンズ
228 空間フィルタ
230 検査レチクル
232 基準レチクル
234 ペリクル
236 基板サポート
238 ディテクタ
240 アクチュエータ
242 面
255 制御信号
303 光ビーム
381 オプションの照明システム
383 光学素子
385 折り返しミラー
403 光ビーム
420 照明源
452、454 ビームスプリッタ
560 プロセッサ
600 レチクル検査システム
601、668 干渉計素子
603 照明ビーム
604、605 顕微鏡対物系
607、609 ビーム
610 ディテクタ
624 ビームスプリッタ
626 レンズ
630 検査レチクル
632 基準レチクル
638 ディテクタ
664 基板サポート
672、674 反射素子
778 第1レチクルサポート
780 第2レチクルサポート
782 第1レチクルサポート
784 第2レチクルサポート
786 第3レチクルサポート
836 レチクルサポート
863 検査パターン
865 基準パターン
867 単一レチクル
869 単一パターン
871 検査パターン部
873 基準パターン部
990、991、992 結像例
993 検査レチクル
994 パーティクル
995 基準レチクル
996 パーティクル
997 像
998 潜在的なパーティクル又は異常
999 像
1000、1000’ リソグラフィ装置
1113 照明光学ユニット
1115 放射源チャンバ
1117 コレクタチャンバ
1119 ガスバリア又は汚染トラップ
1121 放射コレクタ
1123 格子スペクトルフィルタ
1129、1131 法線入射リフレクタ
1133 放射ビーム
1135 パターン付きビーム
1137、1139 反射素子
1141、1143、1145 リフレクタ
SO 放射源
IL イルミネータ
PS 投影システム
B 放射ビーム
W 基板
BD ビームデリバリシステム
MA パターニングデバイス
MT サポート構造
PM、PW 第1及び第2ポジショナ
IF1、IF2 位置センサ
WT 基板テーブル
AD アジャスタ
IN インテグレータ
CO コンデンサ
M1、M2 マスクアライメントマーク
P1、P2 基板アライメントマーク
Claims (14)
- 検査レチクル及び基準レチクルの各部分を照明するように構成されたコヒーレント照明源であって、前記検査レチクル及び前記基準レチクルは、等しいパターンを有する同一のレチクルである、コヒーレント照明源と、
前記検査レチクルの前記照明された部分から伝播された第1光ビームに第1フーリエ変換を適用するように構成された第1顕微鏡対物系を有する検査干渉計分岐と、
前記基準レチクルの前記照明された部分から伝播された第2光ビームに第2フーリエ変換を適用するように構成された第2顕微鏡対物系を有する基準干渉計分岐と、
前記第1及び第2光ビームを受け取り且つ合成するように構成されたビームスプリッタと、
前記検査干渉計分岐における干渉計素子であって、前記検査干渉計分岐と前記基準干渉計分岐との間に180度の位相シフトを生じさせ且つ前記第1顕微鏡対物系からの前記第1光ビームを前記ビームスプリッタに向けるように構成された、干渉計素子と、
前記合成された第1及び第2光ビームに逆フーリエ変換を与えて、それにより像が形成されるように構成されたフーリエレンズと、
前記像を検出するように構成されたディテクタと、を含み、
前記像は、前記検査レチクル及び前記基準レチクルの振幅及び位相分布における差を表し、
前記検査干渉計分岐は前記照明源と前記ディテクタとの間の光路を有し、
前記基準干渉計分岐は前記照明源と前記ディテクタとの間の光路を有し、
前記検査干渉計分岐と前記基準干渉計分岐との間の光路長差は、前記照明源のコヒーレンス長未満であり、
前記基準レチクルは、空間光モジュレータである、レチクル検査システム。 - 前記フーリエレンズから伝播された前記合成された第1及び第2光ビームにおける不所望のエネルギーを遮断するように構成されたフィルタリングシステムを更に含む、請求項1に記載のレチクル検査システム。
- 前記干渉計素子から向けられた前記第1光ビームを検出し、位相調節信号を出力するように構成された位相調節ディテクタと、
前記位相調節ディテクタから前記位相調節信号を受け取り、前記位相調節信号に呼応して前記干渉計素子を調節するように構成されたアクチュエータと、
を更に含む、請求項1又は請求項2に記載のレチクル検査システム。 - 前記基準干渉計分岐における干渉計素子を更に含み、
前記基準干渉計分岐における前記干渉計素子は、前記第2顕微鏡対物系からの前記第2光ビームを前記ビームスプリッタに向けるように構成される、請求項1乃至請求項3のうち何れか1項に記載のレチクル検査システム。 - 前記検査レチクル及び前記基準レチクルがその上に取り付けられた可動プラットフォームを更に含み、
前記可動プラットフォームは、前記検査レチクルの連続的な部分の検査のために動かされるように構成される、請求項1乃至請求項4うち何れか1項に記載のレチクル検査システム。 - 前記検査レチクルがその上に取り付けられた第1可動プラットフォームと、
前記基準レチクルがその上に取り付けられた第2可動プラットフォームと、
を更に含み、
前記第2可動プラットフォームは、前記第1可動プラットフォーム及び第2可動プラットフォームの動作が前記検査レチクルの連続的な部分の検査のために同一であるように、前記第1可動プラットフォームとユニゾンで動くように構成される、請求項1乃至請求項5うち何れか1項に記載のレチクル検査システム。 - 前記検査レチクルがその上に取り付けられた第1可動プラットフォームと、
前記基準レチクルがその上に取り付けられた第2可動プラットフォームであって、前記第1可動プラットフォーム及び第2可動プラットフォームの動作が前記検査レチクルの連続的な部分の検査のために同一であるように、前記第1可動プラットフォームとユニゾンで動くように構成される、第2可動プラットフォームと、
前記第1可動プラットフォーム及び前記第2可動プラットフォームがその上に配置された第3可動プラットフォームであって、前記第1及び第2可動プラットフォームを所望の位置に動かすように構成される、第3可動プラットフォームと、
を更に含む、請求項1乃至請求項6うち何れか1項に記載のレチクル検査システム。 - 前記照明源からの照明を、前記第1顕微鏡対物系を通り前記検査レチクルに向けるように構成された第1照明ビームスプリッタと、
前記照明源からの照明を、前記第2顕微鏡対物系を通り前記基準レチクルに向けるように構成された第2照明ビームスプリッタと、
を更に含む、請求項1乃至請求項7うち何れか1項に記載のレチクル検査システム。 - 検査レチクル及び基準レチクルの各部分を照明するように構成されたコヒーレント照明源と、
前記照明源からの照明を前記検査レチクルに向けるように構成された第1反射素子と、
前記照明源からの照明を前記基準レチクルに向けるように構成された第2反射素子と、
前記検査レチクルの前記照明された部分から伝播された第1光ビームに第1フーリエ変換を適用するように構成された第1顕微鏡対物系を有する検査干渉計分岐と、
前記基準レチクルの前記照明された部分から伝播された第2光ビームに第2フーリエ変換を適用するように構成された第2顕微鏡対物系を有する基準干渉計分岐と、
前記第1及び第2光ビームを受け取り且つ合成するように構成されたビームスプリッタと、
前記検査干渉計分岐と前記基準干渉計分岐との間に180度の位相シフトを生じさせ且つ前記第1顕微鏡対物系からの前記第1光ビームを前記ビームスプリッタに向けるように構成された第1干渉計素子と、
前記第2顕微鏡対物系からの前記第2光ビームを前記ビームスプリッタに向けるように構成された第2干渉計素子と、
前記合成された第1及び第2光ビームに逆フーリエ変換を与えて、それにより像が形成されるように構成されたフーリエレンズと、
前記像を検出するように構成されたディテクタと、
を含み、
前記像は、前記検査レチクル及び前記基準レチクルの振幅及び位相分布における差を表し、
前記検査干渉計分岐は前記照明源と前記ディテクタとの間の光路を有し、
前記基準干渉計分岐は前記照明源と前記ディテクタとの間の光路を有し、
前記検査干渉計分岐と前記基準干渉計分岐との間の光路長差は、前記照明源のコヒーレンス長未満であり、
前記基準レチクルは、空間光モジュレータである、レチクル検査システム。 - レチクル検査システムを有するリソグラフィシステムであって、
前記レチクル検査システムは、
検査レチクル及び基準レチクルの各部分を照明するように構成されたコヒーレント照明源と、
前記検査レチクルの前記照明された部分から伝播された第1光ビームに第1フーリエ変換を適用するように構成された第1顕微鏡対物系を有する検査干渉計分岐と、
前記基準レチクルの前記照明された部分から伝播された第2光ビームに第2フーリエ変換を適用するように構成された第2顕微鏡対物系を有する基準干渉計分岐と、
前記第1及び第2光ビームを受け取り且つ合成するように構成されたビームスプリッタと、
前記検査干渉計分岐における干渉計素子であって、前記検査干渉計分岐と前記基準干渉計分岐との間に180度の位相シフトを生じさせ且つ前記第1顕微鏡対物系からの前記第1光ビームを前記ビームスプリッタに向けるように構成された、干渉計素子と、
前記合成された第1及び第2光ビームに逆フーリエ変換を与えて、それにより像が形成されるように構成されたフーリエレンズと、
前記像を検出するように構成されたディテクタと、
を含み、
前記像は、前記検査レチクル及び前記基準レチクルの振幅及び位相分布における差を表し、
前記検査干渉計分岐は前記照明源と前記ディテクタとの間の光路を有し、
前記基準干渉計分岐は前記照明源と前記ディテクタとの間の光路を有し、
前記検査干渉計分岐と前記基準干渉計分岐との間の光路長差は、前記照明源のコヒーレンス長未満であり、
前記基準レチクルは、空間光モジュレータである、リソグラフィシステム。 - コヒーレント照明源を用いて、検査レチクルの表面及び基準レチクルの表面の各部分を照明すること、
前記照明された部分からの散乱光にフーリエ変換を適用すること、
前記検査レチクル及び前記基準レチクルのうち一方からの前記変換された光の位相を、前記検査レチクルからの前記変換された光と前記基準レチクルからの前記変換された光との間の位相差が180度となるようにシフトすること、
前記照明された部分からの前記変換された光を合成すること、
前記合成された光に逆フーリエ変換を適用すること、及び、
ディテクタにおいて前記合成された光を検出すること、
を含み、
前記検査レチクルを介する前記照明源と前記ディテクタとの間の第1光路と、前記基準レチクルを介する前記照明源と前記ディテクタとの間の第2光路との間の光路長差が、前記照明源のコヒーレンス長未満であり、
前記ディテクタにより検出された前記合成された光は、前記検査レチクル及び前記基準レチクルの振幅分布における差を表す像の形態にあり、
前記基準レチクルは、空間光モジュレータである、レチクル検査方法。 - 不所望のエネルギーを除去すべく前記合成された光をフィルタリングすることを更に含む、請求項11に記載の方法。
- 連続する工程で、前記検査レチクル及び前記基準レチクルをユニゾンで動かすこと、及び、
照明ステップ、フーリエ変換の適用ステップ、シフト、合成ステップ、逆フーリエ変換の適用ステップ及び検出ステップを繰り返して、前記検査レチクルの連続的な部分を検査すること、
を更に含む、請求項11又は請求項12に記載の方法。 - 干渉計素子を調節して前記位相差を180度に維持すること、及び、
コンピュータにより生成されたパターンを前記基準レチクルに付けること、
を更に含む、請求項11乃至請求項13のうち何れか1項に記載の方法。
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