TWI805969B

TWI805969B - 表面形貌檢測系統

Info

Publication number: TWI805969B
Application number: TW109141939A
Authority: TW
Inventors: 張瑋剛; 楊蘭昇
Original assignee: 致茂電子股份有限公司
Priority date: 2020-11-30
Filing date: 2020-11-30
Publication date: 2023-06-21
Also published as: TW202223362A

Abstract

本發明提出一種表面形貌檢測系統，包含光源、第一分光鏡、待測端物鏡、參考端物鏡、空間光調製器以及檢測模組。所述光源用以提供標準光線。所述第一分光鏡用以將標準光線分成第一光線與第二光線。所述待測端物鏡用以將第一光線投射於待測表面，並接收待測表面反射的測試光線。所述參考端物鏡用以將第二光線投射於參考表面，並接收參考表面反射的參考光線。所述空間光調製器用以接收參考光線，並依據修正參數修正參考光線。所述檢測模組用以比對測試光線與修正後的參考光線，以計算待測表面的表面形貌。其中修正參數關聯於待測端物鏡與參考端物鏡之間的鏡頭像差。

Description

表面形貌檢測系統

本發明係關於一種表面形貌檢測系統，特別是關於一種利用空間光調製器補償鏡頭像差的表面形貌檢測系統。

在產品製造完成後，都會經過一定的測試程序，用來把關產品的品質。一般來說，業界會仰賴人力檢查產品的外觀是否缺損，或者藉由觀察產品的外觀來判斷功能是否正常。但有些產品的結構比較細緻，有時實在無法要求人員使用肉眼檢查出瑕疵。傳統上，業界可能使用攝影機來拍攝產品的外觀，藉由放大拍攝到的影像，便可以檢查產品特定區域的外觀。請參閱圖1，圖1係繪示先前技術中的表面形貌檢測系統的示意圖。如圖1所示，利用傳統的表面形貌檢測系統9檢測待測表面DUT時，可以先由光源90發射出光線。光源90發出的光線經由偏振片91之後，會由分光鏡92分為朝向物鏡93的子光線以及朝向物鏡94的子光線。實務上，朝向物鏡93的子光線會經由物鏡93聚焦之後，再射向待測表面DUT，並且物鏡93會接收待測表面DUT反射回來的光線。

另一方面，朝向物鏡94的光線會經由物鏡94聚焦之後，再射向一個反射鏡95，並且物鏡94會接收反射鏡95反射回來的光線。接著，待測表面DUT反射回來的光線和反射鏡95反射回來的光線會回到分光鏡92，並且射向分光鏡92下方的攝影機96。理論上，攝影機96還可以外接電腦(圖未示)，由電腦分析待測表面DUT反射回來的光線和反射鏡95反射回來的光線之間的干涉圖案，從而計算出待測表面DUT的表面形貌。然而，實際的物鏡93和物鏡94不會完全相同，使得所述干涉圖案不一定只關聯於待測表面DUT的表面形貌，更還可能關聯於物鏡93和物鏡94之間的鏡頭像差。一般來說，縱使物鏡93和物鏡94是同批製造出來的，物鏡93和物鏡94之間還是很可能因為各種不理想的因素而具有鏡頭像差。當待測表面DUT的尺寸非常小的時候，物鏡93和物鏡94之間的鏡頭像差會在干涉圖案上產生嚴重干擾，從而讓表面形貌的判斷受到影響。因此，業界需要一種新的表面形貌檢測系統，解決物鏡之間的鏡頭像差問題，以提高表面形貌的測量準確度。

本發明提供一種的表面形貌檢測系統，加入了空間光調製器以補償不同物鏡之間的鏡頭像差，從而可以提高表面形貌的測量準確度。

於一些實施例中，參考光線可以投射至空間光調製器，空間光調製器反射參考光線以得到修正後的該參考光線。在此，表面形貌檢測系統更可以包含偏光單元，偏光單元設置於光源與分光鏡之間，用以偏振標準光線。此外，第一光線與測試光線的總光程，可以等於第二光線、參考光線與修正後的參考光線的總光程。

本發明提出一種表面形貌檢測系統，包含光源、第一分光鏡、待測端物鏡、參考端物鏡、空間光調製器以及檢測模組。所述光源用以提供標準光線。所述第一分光鏡用以將標準光線分成第一光線與第二光線。所述待測端物鏡用以將第一光線投射於待測表面，並接收待測表面反射的測試光線。所述空間光調製器用以接收第二光線，並依據修正參數修正第二光線。所述參考端物鏡用以將修正後的第二光線投射於參考表面，並接收參考表面反射的參考光線。所述檢測模組用以比對測試光線與參考光線，以計算待測表面的表面形貌。其中修正參數關聯於待測端物鏡與參考端物鏡之間的鏡頭像差。

於一些實施例中，第二光線可以投射至空間光調製器，空間光調製器反射第二光線以得到修正後的第二光線。在此，表面形貌檢測系統更可以包含偏光單元，偏光單元設置於光源與分光鏡之間，用以偏振標準光線。此外，第一光線與測試光線的總光程，可以等於第二光線、修正後的第二光線與參考光線的總光程。

本發明提出一種表面形貌檢測系統，包含光源、第一分光鏡、待測端物鏡、參考端物鏡、空間光調製器以及檢測模組。所述光源用以提供標準光線。所述第一分光鏡用以將標準光線分成第一光線與第二光線。所述待測端物鏡設置於第一光路徑中，用以將第一光線投射於待測表面，並接收待測表面反射的測試光線。所述空間光調製器設置於第二光路徑中，用以接收第二光線，並依據修正參數分別修正第二光線與參考光線。所述參考端物鏡設置於第二光路徑中，用以將修正後的第二光線投射於參考表面，並將參考表面反射的參考光線射入空間光調製器。所述檢測模組用以比對測試光線與修正後的參考光線，以計算待測表面的表面形貌。其中修正參數關聯於待測端物鏡與參考端物鏡之間的鏡頭像差。

於一些實施例中，第二光線可以穿透空間光調製器以得到修正後的第二光線，參考光線可以穿透空間光調製器以得到修正後的參考光線。在此，表面形貌檢測系統更可以包含偏光單元，偏光單元設置於光源與分光鏡之間，用以偏振標準光線。此外，第一光線與測試光線的總光程，可以等於第二光線、修正後的第二光線、參考光線與修正後的參考光線的總光程。

綜上所述，本發明提供的表面形貌檢測系統在其中一條光路徑中加入了用空間光調製器，空間光調製器會依據待測端物鏡與參考端物鏡之間的鏡頭像差，補償入射空間光調製器的光線。藉此，經過空間光調製器修正後的光線，會更匹配另一光路徑中的光線，以解決待測端物鏡與參考端物鏡不匹配的問題。因此，本發明提供的表面形貌檢測系統能夠改善表面形貌的測量準確度。

下文將進一步揭露本發明之特徵、目的及功能。然而，以下所述者，僅為本發明之實施例，當不能以之限制本發明之範圍，即但凡依本發明申請專利範圍所作之均等變化及修飾，仍將不失為本發明之要意所在，亦不脫離本發明之精神和範圍，故應將視為本發明的進一步實施態樣。

請參閱圖2，圖2係繪示依據本發明一實施例之表面形貌檢測系統的示意圖。如圖2所示，本發明所揭露的表面形貌檢測系統1可以用來檢測物件的待測表面DUT。所述物件可以是晶片、晶粒(die)、晶圓(wafer)、面板、電路或具有微結構的表面。當然，前述舉出的例子並非用以限制所述物件的類型與尺寸，實務上所述物件也可以是任意的物體，於所屬技術領域具有通常知識者可以自由選擇。圖2繪示的表面形貌檢測系統1可以具有光源10、分光鏡12(第一分光鏡)、待測端物鏡13、參考端物鏡16、空間光調製器(spatial light modulator)18以及檢測模組20。當然，表面形貌檢測系統1還可以包含圖2中繪示的偏光單元11、分光鏡14(第二分光鏡)、反射鏡15、參考表面17與透鏡19，本實施例不加以限制。以下說明表面形貌檢測系統1的光學架構。

光源10係用來提供標準光線，光源10可以例如是點光源或面光源。一般來說，光源10輸出的標準光線應當是平行光，如果光源10是點光源時，則光源10提供的標準光線會進入額外提供的透鏡(圖未示)，所述透鏡的功能是將來自點光源的光線轉換成平行光。於所屬技術領域具有通常知識者應該明白，光源10大致上會在所述透鏡的焦點位置，從而經過所述透鏡的光線，大致上可被視為一個平行光。當然，如果光源10原本就是可以產生平行光的面光源，實務上也可以不需要透鏡。此外，光源10可以是同調光光源或者是非同調光源，從而所述標準光線可以是同調光光線或者是一種非同調光光線。

偏光單元11會設置於光源10與分光鏡12之間，用以偏振標準光線。實務上，偏光單元11可以是一種光學偏振片，本實施例不限制偏振後的標準光線的極性。此外，分光鏡12係位於標準光線的光學路徑(第一光路徑)上，用以將標準光線分為第一光線與第二光線。以圖2繪示的例子來說，第一光線射向分光鏡12的右側，朝向待測端物鏡13，而第二光線射向分光鏡12的上側，朝向分光鏡14。於一個例子中，標準光線與第一光線可以是同一方向，而第二光線可以朝向垂直標準光線的方向。當然，本實施例不限制第一光線與第二光線的方向，例如也有可能標準光線與第二光線是同一方向，而第一光線朝向垂直標準光線的方向。實務上，分光鏡12可以將標準光線分割成兩道相同的光線，也就是說理論上第一光線與第二光線應當是具有相同的光學特性。本實施例定義分光鏡12右側為第一光路徑，分光鏡12上側為第二光路徑，從而可以看成第一光線會進入第一光路徑中，而第二光線會進入第二光路徑中。

先就射向分光鏡12右側的第一光線來說，第一光線會先進入待測端物鏡13，接著第一光線會投射於待測表面DUT，待測表面DUT表面通常是光滑表面並且可以用來反射光線。本實施例將經過待測表面DUT反射的光線稱為測試光線，測試光線會包含待測表面DUT表面的資訊，例如待測表面DUT的表面形貌。實務上，第一光線會垂直入射待測表面DUT，從而測試光線也會垂直出射待測表面DUT。也就是說，第一光線和測試光線是在同光軸上，只是第一光線和測試光線的前進方向不同。此外，測試光線會再次返回待測端物鏡13，並且從待測端物鏡13射向分光鏡12。於一個例子中，分光鏡12可以將測試光線投射向檢測模組20，而檢測模組20可以包含攝影機來接收測試光線。於圖2繪示的例子中，分光鏡12和檢測模組20之間具有透鏡19，透鏡19可以拉伸光程，讓使用者可以調整檢測模組20的設置位置，以增加設計表面形貌檢測系統1時的彈性。於所屬技術領域具有通常知識者應可以明白，透鏡19並非必要元件，縱使沒有透鏡19也不影響表面形貌檢測系統1的基本功能。於一個例子中，前述的第一光路徑可以是從依序經過分光鏡12、待測端物鏡13、待測表面DUT、待測端物鏡13，再回到分光鏡12的光路徑。

接著就射向分光鏡12上側的第二光線來說，第二光線會先穿過分光鏡14，再由反射鏡15反射第二光線回分光鏡14。此時，分光鏡14可以將經過反射鏡15反射的第二光線射向參考端物鏡16，第二光線會經過參考端物鏡16入射參考表面17。與前述的待測表面DUT相類似的是，參考表面17是光滑表面並且可以用來反射光線，本實施例將經過參考表面17反射的光線稱為參考光線。於一個例子中，參考表面17應當是一種經過檢驗的標準件，例如可以是一種標準的鏡面，因此本可實施例可以排除參考表面17影響參考光線的因素，而縮減變因縮減為參考端物鏡16的誤差。實務上，第二光線會垂直入射參考表面17，從而參考光線也會垂直出射參考表面17，也就是說第二光線和參考光線也是同光軸上只是前進方向不同。

承接上述，參考光線出射參考表面17後，會再次返回參考端物鏡16，並且從參考端物鏡16穿過分光鏡14射向空間光調製器18。於一個例子中，空間光調製器18可以具有多個像素，且所述多個像素可以排列成陣列形式。在此，本實施例提供的空間光調製器18可以是一種反射式的空間光調製器，而每個像素可以被看成一種微鏡面，決定是否讓光線通過特定像素。換句話說，空間光調製器18可以依據控制指令來決定哪些像素可以反射光線，哪些像素不會反射光線(或將光線射向他處)。以實際的例子來說，本實施例會預先量測待測端物鏡13和參考端物鏡16之間的鏡頭像差，並且把所述鏡頭像差轉換成修正參數，所述修正參數被包含在控制指令中，可以用來控制空間光調製器18中的像素。藉此，被空間光調製器18反射(被修正)後的參考光線，已經補償了待測端物鏡13和參考端物鏡16之間的鏡頭像差。此時，修正後的參考光線會返回分光鏡14，並且從分光鏡14射向分光鏡12。於一個例子中，分光鏡12可以將修正後的參考光線投射向檢測模組20，而檢測模組20可以包含攝影機來接收修正後的參考光線。實務上，修正後的參考光線和測試光線之間應當只會反映出參考表面17和待測表面DUT的差異，由於參考表面17是前述經過檢驗的標準件，故檢測模組20可以藉由修正後的參考光線和測試光線計算出待測表面DUT的表面形貌。

於一個例子中，前述的第二光路徑可以是從依序經過分光鏡12、分光鏡14、反射鏡15、分光鏡14、參考端物鏡16、參考表面17、參考端物鏡16、分光鏡14、空間光調製器18、分光鏡14，再回到分光鏡12的光路徑。此外，待測端物鏡13和待測表面DUT之間也可以設有透鏡(圖未示)，與透鏡19相類似的是，待測端物鏡13和待測表面DUT之間的透鏡也可以用來拉伸光程，讓使用者可以調整待測表面DUT的設置位置，以增加設計表面形貌檢測系統1時的彈性。相類似地，參考端物鏡16和參考表面17之間也可以設有透鏡(圖未示)，本實施例在此不加以限制。

值得一提的是，雖然圖2繪示了分光鏡14和反射鏡15，但本實施例不以此為限。分光鏡14和反射鏡15的功能是調整第二光線和參考光線的光路徑，從而能夠在參考光線回到分光鏡12之前進入空間光調製器18，以修正參考光線，實務上也有可能用其他的光學元件替代分光鏡14和反射鏡15。此外，反射鏡15可以被設計成能夠前後移動的鏡面，當反射鏡15被移動某一距離，檢測模組20接收到修正後的參考光線和測試光線的總和亮度最高時，可以視為修正後的參考光線和測試光線恰好是建設性(constructive)干涉。建設性干涉表示檢測模組20接收到兩道光線為零光程差，以物理的意義來說，就是標準光線在被分光鏡12分成第一光線和第二光線之後，到檢測模組20接收修正後的參考光線和測試光線前有一樣的光程，即第一光線與測試光線的總光程，會等於第二光線、參考光線與修正後的參考光線的總光程。接著，再藉由找出形成建設性干涉的反射鏡15位置，推知反射鏡15被移動的距離，從而可以算出待測表面DUT的表面形貌。

詳細來說，檢測模組20可以在第一時間區間內可以連續拍攝多張影像，每一張影像可以對應反射鏡15的一個位置。也就是說，反射鏡15可以在第一時間區間內移動一個範圍，而檢測模組20記錄了在反射鏡15移動的過程中，每一個反射鏡15位置對應的修正後的參考光線和測試光線的總和亮度。實務上，所述總和亮度可以用灰階值表現，也就是說在第一時間區間內，檢測模組20可以記錄一連串的灰階值。當反射鏡15移動了第一距離時，檢測模組20記錄到的灰階值最大(總和亮度最高)，即可使用所述第一距離推算待測表面DUT的表面形貌。本實施例在此不限制由所述第一距離推算表面形貌的方式，於所屬技術領域具有通常知識者可以依據實際光路架構調整。

此外，本實施例也不限制射向第二光路徑的順序，例如分光鏡12上側的第二光線不一定要先穿過分光鏡14再到反射鏡15。請一併參閱圖2與圖3，圖3係繪示依據本發明另一實施例之表面形貌檢測系統的示意圖。與圖2相同的是，表面形貌檢測系統3同樣可以具有光源30、偏光單元31、分光鏡32(第一分光鏡)、待測端物鏡33、分光鏡34(第二分光鏡)、反射鏡35、參考端物鏡36、參考表面37、空間光調製器38、透鏡39以及檢測模組40。並且，分光鏡32也可以將光源30發出的標準光線分為第一光線與第二光線。與圖2不同的是，就射向分光鏡32上側的第二光線來說，第二光線有可能先被分光鏡34反射向空間光調製器38，使得空間光調製器38可以依據修正參數補償第二光線，並從空間光調製器38反射出修正後的第二光線。

接著，修正後的第二光線可以再進入參考端物鏡36，並由參考表面37反射後可被視為參考光線。所述參考光線再經由分光鏡34與反射鏡35回到分光鏡32，再經過分光鏡32與透鏡39至檢測模組40。由上述可知，前一個實施例示範了空間光調製器18修正的對象是經過參考表面17反射後的參考光線，而實施例示範了空間光調製器38修正的對象是在進入參考表面37前的第二光線。於一個例子中，本實施例的第二光路徑有別於前一個實施例，可以是從依序經過分光鏡32、分光鏡34、空間光調製器38、分光鏡34、參考端物鏡36、參考表面37、參考端物鏡36、分光鏡34、反射鏡35、分光鏡34，再回到分光鏡32的光路徑。於所屬技術領域具通常知識者可以理解，檢測模組20收到的修正過的參考光線應該相同於檢測模組40收到的參考光線，都是在第二光路徑中經過一次空間光調製器的光線，差別只是空間光調製器修正光線的順序不同。

於一個例子中，檢測模組40接收到修正後的參考光線和測試光線的總和亮度最高時，可以視為修正後的參考光線和測試光線恰好是建設性干涉。建設性干涉表示檢測模組40接收到兩道光線為零光程差，以物理的意義來說，就是標準光線在被分光鏡32分成第一光線和第二光線之後，到檢測模組40接收參考光線和測試光線前有一樣的光程，即第一光線與測試光線的總光程，會等於第二光線、修正後的第二光線與參考光線的總光程。接著，再藉由找出形成建設性干涉的反射鏡35位置，推知反射鏡35被移動的距離，從而可以算出待測表面DUT的表面形貌。

圖2與圖3繪示的表面形貌檢測系統都是應用了反射式的空間光調製器，但實際上空間光調製器還有可能是穿透式的。舉例來說，穿透式的空間光調製器可以包含可透光的像素陣列，所述像素陣列可以具有一液晶層(圖未示)，藉由控制所述液晶層中的液晶旋轉方向，決定是否讓光線通過特定像素。請一併參閱圖2與圖4，圖4係繪示依據本發明再一實施例之表面形貌檢測系統的示意圖。如圖所示，與圖2相同的是，表面形貌檢測系統5同樣可以具有光源50、偏光單元51、分光鏡52(第一分光鏡)、待測端物鏡53、空間光調製器54、參考端物鏡55、參考表面56、透鏡57以及檢測模組58。並且，分光鏡52也可以將光源50發出的標準光線分為第一光線與第二光線。

與圖2不同的是，圖4的實施例調整了第二光路徑上的光學元件。就射向分光鏡52上側的第二光線來說，第二光線會進入空間光調製器54，由於空間光調製器54是穿透式的，故第二光線經過空間光調製器54之後可以看成修正後的第二光線。接著，修正後的第二光線會經由參考端物鏡55至參考表面56。參考表面56會反射修正後的第二光線，本實施例稱參考表面56反射出的光線為參考光線。實務上，參考光線會沿著入射的光軸返回參考端物鏡55，並再次經過空間光調製器54。此時，參考光線經過空間光調製器54之後可以看成修正後的參考光線。於一個例子中，本實施例的第二光路徑有別於前一個實施例，可以是從依序經過分光鏡52、空間光調製器54、參考端物鏡55、參考表面56、參考端物鏡55、空間光調製器54，再回到分光鏡52的光路徑。由上述可知，本實施例的第二光路徑會經過兩次空間光調製器54，相較於前述實施例多一次。

值得一提的是，雖然本實施例也會先將待測端物鏡53和參考端物鏡55之間的鏡頭像差測量出來，但這裡的修正參數只會是前一個實施例的一半。舉例來說，因為圖2的例子於第二光路徑中只會經由空間光調製器18修正一次(例如是參考光線被修正)，從而必須在經過空間光調製器18時完全補償鏡頭像差。為了方便說明，在此假設圖2的表面形貌檢測系統1使用的修正參數可以對應修正100%的鏡頭像差。但是由圖4可知，表面形貌檢測系統5的第二光路徑會經過兩次空間光調製器54(第二光線與參考光線各經過一次)。此時，如果表面形貌檢測系統5的修正參數相同於表面形貌檢測系統1的修正參數，則顯然有過度修正鏡頭像差的問題。據此，相比於圖2的例子，本實施例表面形貌檢測系統5使用的修正參數僅對應修正鏡頭像差的50%，也就是第二光線變成修正後的第二光線時，僅有50%的鏡頭像差被修正。而當參考光線變成修正後的參考光線時，另外50%的鏡頭像差被再次修正。如前所述，因為表面形貌檢測系統5的第二光路徑會經過兩次空間光調製器54，總合起來表面形貌檢測系統5還是可以修正100%的鏡頭像差。

於一個例子中，參考表面56可以將圖2中的的反射鏡15和參考表面17整合成一個元件，也就是參考表面56可以被設計成能夠前後移動的鏡面，且所述鏡面可以是經過檢驗的標準件。與前一實施例類似地，當參考表面56被移動某一距離，檢測模組58接收到修正後的參考光線和測試光線的總和亮度最高時，可以視為修正後的參考光線和測試光線恰好是建設性干涉。建設性干涉表示檢測模組58接收到兩道光線為零光程差，即第一光線與測試光線的總光程，會等於第二光線、修正後的第二光線、參考光線與修正後的參考光線的總光程。接著，再藉由找出形成建設性干涉的參考表面56位置，推知參考表面56被移動的距離，從而可以算出待測表面DUT的表面形貌。

綜上所述，本發明提供的表面形貌檢測系統在其中一條光路徑中加入了空間光調製器，空間光調製器會依據待測端物鏡與參考端物鏡之間的鏡頭像差，補償入射空間光調製器的光線。藉此，經過空間光調製器修正後的光線，會更匹配另一光路徑中的光線，以解決待測端物鏡與參考端物鏡不匹配的問題。因此，本發明提供的表面形貌檢測系統能夠改善表面形貌的測量準確度。

1:表面形貌檢測系統 10:光源 11:偏光單元 12:分光鏡 13:待測端物鏡 14:分光鏡 15:反射鏡 16:參考端物鏡 17:參考表面 18:空間光調製器 19:透鏡 20:檢測模組 3:表面形貌檢測系統 30:光源 31:偏光單元 32:分光鏡 33:待測端物鏡 34:分光鏡 35:反射鏡 26:參考端物鏡 37:參考表面 38:空間光調製器 39:透鏡 40:檢測模組 5:表面形貌檢測系統 50:光源 51:偏光單元 52:分光鏡 53:待測端物鏡 54:空間光調製器 55:參考端物鏡 56:參考表面 57:透鏡 58:檢測模組 9:表面形貌檢測系統 90:光源 91:偏振片 92:分光鏡 93:物鏡 94:物鏡 95:反射鏡 96:攝影機 DUT:待測表面

圖1係繪示先前技術中的表面形貌檢測系統的示意圖。

圖2係繪示依據本發明一實施例之表面形貌檢測系統的示意圖。

圖3係繪示依據本發明另一實施例之表面形貌檢測系統的示意圖。

圖4係繪示依據本發明再一實施例之表面形貌檢測系統的示意圖。

無

1:表面形貌檢測系統

10:光源

11:偏光單元

12:分光鏡

13:待測端物鏡

14:分光鏡

15:反射鏡

16:參考端物鏡

17:參考表面

18:空間光調製器

19:透鏡

20:檢測模組

DUT:待測表面

Claims

一種表面形貌檢測系統，包含：一光源，用以提供一標準光線；一第一分光鏡，用以將該標準光線分成一第一光線與一第二光線；一待測端物鏡，用以將該第一光線投射於一待測表面，並接收該待測表面反射的一測試光線；一參考端物鏡，用以將該第二光線投射於一參考表面，並接收該參考表面反射的一參考光線；一空間光調製器，用以接收該參考光線，並依據一修正參數修正該參考光線；以及一檢測模組，用以比對該測試光線與修正後的該參考光線，以計算該待測表面的一表面形貌；其中該修正參數關聯於該待測端物鏡與該參考端物鏡之間的一鏡頭像差。
如請求項1所述之表面形貌檢測系統，其中該參考光線投射至該空間光調製器，該空間光調製器反射該參考光線以得到該修正後的該參考光線。
如請求項1所述之表面形貌檢測系統，其中該第一光線與該測試光線的總光程，等於該第二光線、該參考光線與修正後的該參考光線的總光程。
一種表面形貌檢測系統，包含：一光源，用以提供一標準光線；一分光鏡，用以將該標準光線分成一第一光線與一第二光線；一待測端物鏡，用以將該第一光線投射於一待測表面，並接收該待測表面反射的一測試光線；一空間光調製器，用以接收該第二光線，並依據一修正參數修正該第二光線；以及一參考端物鏡，用以將修正後的該第二光線投射於一參考表面，並接收該參考表面反射的一參考光線；一檢測模組，用以比對該測試光線與該參考光線，以計算該待測表面的一表面形貌；其中該修正參數關聯於該待測端物鏡與該參考端物鏡之間的一鏡頭像差。
如請求項4所述之表面形貌檢測系統，其中該第二光線投射至該空間光調製器，該空間光調製器反射該第二光線以得到修正後的該第二光線。
如請求項4所述之表面形貌檢測系統，其中該第一光線與該測試光線的總光程，等於該第二光線、修正後的該第二光線與該參考光線的總光程。
一種表面形貌檢測系統，包含：一光源，用以提供一標準光線；一分光鏡，用以將該標準光線分成一第一光線與一第二光線；一待測端物鏡，設置於一第一光路徑中，用以將該第一光線投射於一待測表面，並接收該待測表面反射的一測試光線；一空間光調製器，設置於一第二光路徑中，用以接收該第二光線，並依據一修正參數分別修正該第二光線與一參考光線；以及一參考端物鏡，設置於該第二光路徑中，用以將修正後的該第二光線投射於一參考表面，並將該參考表面反射的該參考光線射入該空間光調製器；一檢測模組，用以比對該測試光線與修正後的該參考光線，以計算該待測表面的一表面形貌；其中該修正參數關聯於該待測端物鏡與該參考端物鏡之間的一鏡頭像差。
如請求項7所述之表面形貌檢測系統，其中該第二光線穿透該空間光調製器以得到修正後的該第二光線，該參考光線穿透該空間光調製器以得到修正後的該參考光線。
如請求項7所述之表面形貌檢測系統，更包含一偏光單元，該偏光單元設置於該光源與該第一分光鏡之間，用以偏振該標準光線。
如請求項7所述之表面形貌檢測系統，其中該第一光線與該測試光線的總光程，等於該第二光線、修正後的該第二光線、該參考光線與修正後的該參考光線的總光程。