JP7390055B2 - 発電機を製造する方法 - Google Patents
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Description
本発明は、空軍科学技術研究事務所により授与された助成金第FA9550-13-1
-0085号の下での政府支援によってなされた。政府は本発明に所定の権利を有する。
本願は、2016年3月9日に出願された米国仮特許出願第62/305,852号の
、米国特許法第119条(e)による優先権を主張し、その全体が参照によりここに組み
入れられる。
トを統合して単一デバイスアーキテクチャとした発電機に関する。
るのに非常に異なる方法を使用するからである。例えば、熱電発電機(TEG)が熱勾配
にさらされると、ゼーベック効果により電圧が発生する。各熱電素子が最大熱勾配を維持
するときに、TEGは最適な性能を達成する。その代わりに、圧電材料の機械的変形によ
り、生成した結合表面電荷間に電位がもたらされるので、圧電発電機(PEG)は、エネ
ルギーを収穫するべく動的なシステムに結合される必要がある。熱源と機械源との結合の
このような不整合ゆえに、TEGが剛性かつ静的となるように設計されるのが典型的な一
方、PEGは可撓性かつ動的にされるので、主要標的システムが廃熱及び機械的エネルギ
ー双方を示すにもかかわらず、互いが両立しなくなる。
壊的となる。静的な熱勾配のもとでは、TEGはDC電圧を発生させるので、本質的に低
い値の抵抗性の素子となる。その代わりに、動的応力を受ける誘電性のPEGは、AC電
圧を発生させるので、本質的に容量性である。これらの素子を組み合わせると、構成によ
っては他方の電力生成が打ち消される。例えば、TEGとPEGとを電気的に並列に配置
すると、低抵抗のTEGがPEG容量素子を放電させるので、TEGのみが電力を生成す
ることとなる。その代わりに、TEGとPEGとを電気的に直列に配置すると、容量素子
が、TEGの電力出力を劇的に低減させる開回路をもたらす。
とを有効に統合して単一のデバイスアーキテクチャにする発電機がここに記載される。簡
潔には、ここに記載の発電機は熱電膜を含み、当該熱電膜は、当該膜の一面にわたって複
数の側方p-n接合部を含み、当該側方p-n接合部は、p型領域とn型領域との界面に
確立される。圧電膜が熱電膜に結合され、電極が当該圧電膜に結合される。いくつかの実
施形態において、発電機は、圧電膜が熱電膜と電極との間に位置決めされるサンドイッチ
構造を採用する。また、熱電膜は、p-n接合部において折り曲げることができる。かか
る実施形態において、発電機は、波形の構造又は配向を有し得る。
説明とを参照して容易に理解することができる。しかしながら、ここに記載の素子、装置
及び方法は、詳細な説明及び例に提示された特定の実施形態に限られない。これらの実施
形態が、本発明の原理の単なる例示であることを認識するべきである。本発明の要旨及び
範囲から逸脱することのない多数の修正例及び適合例が、当業者にとって容易に明らかと
なる。
くつかの実施形態において、発電機は熱電膜を含み、当該熱電膜は、当該膜の一面にわた
って複数の側方p-n接合部を有し、当該側方p-n接合部はp型領域とn型領域との界
面に確立される。圧電膜が熱電膜に結合され、電極が当該圧電膜に結合される。図1(a
)~(b)は、ここに記載のいくつかの実施形態に係る発電機を例示する。図1(a)に
例示されるように、圧電膜又は圧電層12が、熱電膜又は熱電層11に結合される。熱電
膜11は、膜11にわたって複数の側方p-n接合部を含む。電極13が圧電膜に結合さ
れる。ここで図1(b)を参照すると、熱電膜11は、p-n接合部14において折り曲
げられ、発電機10が波形の配向に置かれる。熱電膜11及び関連する圧電膜12並びに
電極13を折り曲げることにより、発電機10の厚さにわたって熱勾配(ΔT)を確立す
ることができる。熱電電圧が、電極13の対向端の間で測定され、圧電電圧は、電極13
と熱電膜11との間で測定される。図1(b)の実施形態において、熱電膜11は、圧電
膜12の機械的変形により得られる圧電電圧を抽出するための背面電極13を備えた容量
性構造体を与える電極の役目を果たす。
らは、当該膜の一面にわたって複数の側方p-n接合部を有し、当該側方p-n接合部は
、p型領域とn型領域との界面に確立される。p型領域及びn型領域は、本発明の目的に
矛盾しない任意の材料から形成することができる。ここにさらに詳述されるように、p型
領域及びn型領域は、有機材料、無機材料、又はこれらの様々な組み合わせを含み得る。
粒子を含む。p型領域の導電性粒子は、p型有機ナノ粒子、p型無機ナノ粒子、又はこれ
らの混合物を含み得る。いくつかの実施形態において、p型ナノ粒子は、ナノチューブ、
ナノワイヤ、ナノロッド、プレートレット及びシートからなる群から選択される。p型ナ
ノ粒子は、いくつかの実施形態において1次元又は2次元の構造を有し得る。
混合物を含み得る。いくつかの実施形態において、有機p型ナノ粒子の格子構造は、ホウ
素のような一以上のドーパントを含む。その代わりに、p型ドーパントは、第1担体の中
のナノ粒子を取り囲む環境により、外部から有機ナノ粒子に適用される。例えば、第1担
体は、有機ナノ粒子の表面にpドーパントを与えることができる。同様に、有機ナノ粒子
と相互作用をさせるべく一以上のpドーパント種を、第1担体の中に分散させることがで
きる。
る元素から形成された二元、三元及び四元半導体組成物を含み得る。例えば、p型無機ナ
ノ粒子は、Cu2-xTe、Cu2-xSe、Sb2Te3、Ag2Se、Ag2Te、
Cu2Te、Cu2Se、Se又はTeから形成することができる。P型無機ナノ粒子は
また、様々な遷移金属ダイカルコゲナイドすなわちMX2から選択することもできる。こ
こで、Mは遷移金属であり、Xはカルコゲンである。表Iは、p型無機ナノ粒子及び形態
の非制限的な例を与える。
散された一以上のpドーパント種により、外部から無機ナノ粒子に適用される。例えば、
無機ナノ粒子は、ナノ粒子の電子的特性が表面挙動及び表面相互作用によって支配される
程度に十分薄くすることができる。無機ナノ粒子は、任意の有意なバルク特性を示す程度
の十分な厚さを有していなくてもよい。したがって、外部から無機ナノ粒子に適用される
pドーパント種は、当該ナノ粒子のp型特性をもたらすことができる。いくつかの実施形
態において、p型領域の無機ナノ粒子は、一以上のトポロジカル絶縁体である。
1担体に存在し得る。いくつかの実施形態において、p型有機及び/又は無機ナノ粒子は
、0.1重量パーセントから30重量パーセントの量で第1担体の中に存在する。いくつ
かの代替実施形態において、p型ナノ粒子の一層が第1担体を覆うように形成される。か
かる実施形態において、第1担体は、有機及び/又は無機ナノ粒子が分散されたマトリッ
クスに対向するナノ粒子層のための支持体の役目を果たす。
担体は、一以上の重合体種を含み得る。適切な重合体種が、一以上のフッ素重合体を含み
得る。いくつかの実施形態において、第1担体は、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、
ポリフッ化ビニル(PVF)、ポリフッ化ビニリデン-トリフルオロエチレン(PVDF
-TrFE)、ポリフッ化ビニリデン-テトラフルオロエチレン(PVDF-TFE)、
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、又はこれらの混合物若しくは共重合体を含む
。薄膜層のp型領域において使用されるPVDF、PVDF-TFE及び/又はPVDF
-TrFEの半結晶性重合体は、β相の量の増加を実証し得る。例えば、p型層のPVD
F、PVDF-TFE及び/又はPVDF-TrFEは、1.5から2.5のβ/α相比
を示し得る。いくつかの実施形態において、β/α相比は2から2.5である。β相結晶
子は、ポーリング技法により非ランダム性の配向で与えることができるので、重合体マト
リックスの圧電特性及び焦電特性が高められる。
、例えばポリジメチルシロキサン(PDMS)を含む一以上のエラストマー種を含み得る
。第1有機担体はまた、ポリアクリル酸(PAA)、ポリメタクリレート(PMA)、ポ
リメチルメタクリレート(PMMA)、又はこれらの混合物若しくは共重合体も含み得る
。それに加えて、第1担体は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、又はこれ
らの混合物若しくは共重合体を含むがこれらに限られないポリオレフィンを含み得る。
性重合体は、ポリ(フェニレンビニレン)及びポリ(p-フェニレンビニレン)(PPV
)のようなフェニレンビニレン、並びにこれらの誘導体を含み得る。いくつかの実施形態
において、半導体性重合体は、ポリフルオレン、ナフタレン、及びこれらの誘導体を含む
。他の実施形態において、半導体性重合体は、ポリ(2-ビニルピリジン)(P2VP)
、ポリアミド、ポリ(N-ビニルカルバゾール)(PVCZ)、ポリピロール(PPy)
、ポリアニリン(PAn)、及びポリ[2,6-(4,4-ビス-(2-エチルヘキシル
)-4H-シクロペンタ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン)-alt-4,7
-(2,1,3-ベンゾチアジアゾール)](PCPDTBT)を含む。
実施形態において、無機担体は、多結晶セラミックス又は他の粒子性無機材料を含む。
領域の導電性粒子は、n型有機ナノ粒子、n型無機ナノ粒子、又はこれらの混合物を含み
得る。いくつかの実施形態において、n型ナノ粒子は、ナノチューブ、ナノワイヤ、ナノ
ロッド、プレートレット及びシートからなる群から選択される。n型ナノ粒子は、いくつ
かの実施形態において1次元構造又は2次元構造を有し得る。
混合物を含み得る。いくつかの実施形態において、有機n型ナノ粒子の格子構造は、窒素
のような一以上のドーパントを含む。その代わりに、n型ドーパントは、第2担体の中の
ナノ粒子を取り囲む環境により、外部から有機ナノ粒子に適用される。例えば、第2担体
は、有機ナノ粒子の表面にnドーパントを与えることができる。同様に、有機ナノ粒子と
相互作用をさせるべく、ポリエチレンイミン(PEI)のような一以上のnドーパント種
を、第2担体の中に分散させることができる。
る元素から形成された二元、三元及び四元半導体組成物を含み得る。例えば、n型無機ナ
ノ粒子は、Bi2Se3、Bi2Te3、Bi2Te3-xSex、Sb2Te3、Sb
2-xBixTe3、CuドープBi2Se3、並びにAg表面修飾Bi2Se3及びB
i2Te3から形成することができる。N型無機ナノ粒子はまた、様々な遷移金属ダイカ
ルコゲナイド、すなわちMX2、から選択することもできる。いくつかの実施形態におい
て、n型遷移金属ダイカルコゲナイドは、TiS2、WS2及びMoS2を含む。表II
は、n型無機ナノ粒子及び形態の非制限的な例を与える。
に分散された一以上のnドーパント種により、外部から無機ナノ粒子に適用される。
の十分な厚さを有していなくてもよい。したがって、外部から無機ナノ粒子に適用される
nドーパント種は、当該ナノ粒子のn型特性をもたらすことができる。さらに、n型領域
の無機ナノ粒子は、一以上のトポロジカル絶縁体である。
2担体に存在し得る。いくつかの実施形態において、n型有機及び/又は無機ナノ粒子は
、0.1重量パーセントから30重量パーセントの量で第2担体の中に存在する。いくつ
かの代替実施形態において、n型ナノ粒子の一層が第2担体を覆うように形成される。か
かる実施形態において、第2担体は、有機及び/又は無機ナノ粒子が分散されたマトリッ
クスに対向するナノ粒子層のための支持体の役目を果たす。
n型電子構造を有する薄膜構造を与えるべくn型有機ナノ粒子及び/又はn型無機ナノ粒
子のホスト又は支持体として動作可能な任意の材料を含み得る。例えば、第2担体は一以
上の重合体種を含み得る。適切な重合体種は一以上のフッ素重合体を含み得る。いくつか
の実施形態において、第2有機担体は、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリフッ化
ビニル(PVF)、ポリフッ化ビニリデン-トリフルオロエチレン(PVDF-TrFE
)、ポリフッ化ビニリデン-テトラフルオロエチレン(PVDF-TFE)、ポリテトラ
フルオロエチレン(PTFE)、又はこれらの混合物若しくは共重合体を含む。薄膜層の
n型領域において使用されるPVDF、PVDF-TFE及び/又はPVDF-TrFE
の半結晶性重合体は、β相の量の増加を実証し得る。例えば、p型層のPVDF、PVD
F-TFE及び/又はPVDF-TrFEは、1.5から2.5のβ/α相比を示し得る
。いくつかの実施形態において、β/α相比は2から2.5である。
サン、例えばポリジメチルシロキサン(PDMS)を含む一以上のエラストマー種を含み
得る。第2有機担体はまた、ポリアクリル酸(PAA)、ポリメタクリレート(PMA)
、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、又はこれらの混合物若しくは共重合体も含み
得る。それに加えて、第2有機担体は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、
又はこれらの混合物若しくは共重合体を含むがこれらに限られないポリオレフィンを含み
得る。
導体性重合体は、ポリ(フェニレンビニレン)及びポリ(p-フェニレンビニレン)(P
PV)のようなフェニレンビニレン、並びにこれらの誘導体を含み得る。いくつかの実施
形態において、半導体性重合体は、ポリフルオレン、ナフタレン、及びこれらの誘導体を
含む。他の実施形態において、半導体性重合体は、ポリ(2-ビニルピリジン)(P2V
P)、ポリアミド、ポリ(N-ビニルカルバゾール)(PVCZ)、ポリピロール(PP
y)、ポリアニリン(PAn)、及びポリ[2,6-(4,4-ビス-(2-エチルヘキ
シル)-4H-シクロペンタ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン)-alt-4
,7-(2,1,3-ベンゾチアジアゾール)](PCPDTBT)を含む。
ない無機材料としてよい。
。隣接するp型領域及びn型領域の構造に応じて、当該界面は継ぎ目を示すか又は継ぎ目
なしとなり得る。例えば、第1担体及び第2担体は、同じ材料から形成することができる
ので、p型領域とn型領域との継ぎ目なしの界面を与え得る。その代わりに、第1担体及
び第2担体が異なる材料から形成されると、界面において継ぎ目が与えられる。熱電膜は
、本発明の目的に矛盾しない任意の所望厚さを有し得る。厚さは、例えば、堆積させる方
法及び条件、並びに用いられる担体の量に応じて変わり得る。いくつかの実施形態におい
て、熱電膜の厚さは、100nmから500μm、又は500nmから50μmである。
機担体を含む液相の中に分散させることにより作製し、成型して薄膜セグメントにするこ
とができる。個々のp型セグメント及びn型セグメントは、単一層の薄膜の作製時に、側
方に接合される。ここで、p-n接合部は、p型セグメントとn型セグメントとの界面に
確立される。いくつかの実施形態において、例えば、個々のセグメントは溶剤接着される
。ここで、溶剤接着は、側方フォーマットを維持するようにセグメントのエッジにおいて
行われる。他の実施形態において、個々のセグメントは、溶融又は他の加熱処理技法によ
り接合することができる。第1有機担体及び第2有機担体の溶融は、例えば、p型セグメ
ントとn型セグメントとの界面領域に局在化することができる。さらなる実施形態におい
て、p型セグメントとn型セグメントとを接合するべく伝導性接着剤を用いることができ
る。
ドープされてn型セグメントが形成される。いくつかの実施形態において、p型セグメン
トの複数領域がドープされ、n型セグメントが、p型セグメントの未ドープ領域と交互と
なるように与えられる。同様に、n型セグメントが与えられ、少なくとも一つの領域に選
択的にドープされてp型セグメントが形成される。いくつかの実施形態において、n型セ
グメントの複数領域がドープされ、p型セグメントが、n型セグメントの未ドープ領域と
交互となるように与えられる。
ノ粒子は、ナノ粒子の電子的特性が表面相互作用及び/又は挙動により支配される程度に
十分薄い。例えば、無機ナノ粒子は、ここに記載される寸法を有するナノプレートとして
よい。pドーパントを薄膜の選択された一つ又は複数の面積範囲に堆積させることにより
一以上のp型セグメントが形成される。pドーパントが無機ナノ粒子と相互作用をするこ
とにより、ドープ領域のp型電子構造が与えられる。同様に、nドーパントを薄膜に堆積
させることにより、一以上のn型領域をp型領域に隣接するように形成することができる
。nドーパントは無機ナノ粒子と相互作用をすることにより、n型電子構造を得ることが
できる。例えば、p型ドーパント及びn型ドーパントは、ここに記載の側方p-n接合ア
ーキテクチャを与えるように薄膜層にプリントすることができる。かかる実施形態におい
て、ドープ前の無機ナノ粒子の有機担体は、p型領域及びn型領域に対して同じなので、
継ぎ目なしのヘテロ接合構造が可能となる。
アーキテクチャの形成が可能となる。例えば、pドーパントとn-ドーパントとのプリン
ティングを離間させることにより、p-絶縁体-n接合部を形成することができる。さら
に、金属領域の電子構造を与えるのに十分なドーパントをp型領域とn型領域との間の領
域に設けることにより、p-金属-n接合部を形成することができる。さらなる実施形態
において、p型領域は、可変レベルのp-ドーパントを示し得るので、ドーパント勾配を
もたらすことができる。Pドーパント勾配は、例えば、単一p型領域の中に、当該p型領
域にわたるp/p-/p--勾配のように存在し得る。その代わりに、pドーパント勾配
は、薄膜の表面上の別個のp型領域間に確立することもできる。同様に、n型領域も、可
変レベルのn-ドーパントを示し得るので、ドーパント勾配をもたらすことができる。N
ドーパント勾配は単一n型領域の中に、当該n型領域にわたるn/n+/n++勾配のよ
うに存在し得る。それに加えて、nドーパント勾配は、当該膜の表面上の別個のn型領域
間に確立することもできる。
料、無機材料、又はこれらの様々な組み合わせから形成することができる。圧電膜は、い
くつかの実施形態において、重合体材料を含む。重合体圧電膜は、ポリフッ化ビニル(P
VF)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリフッ化ビニリデン-トリフルオロエチ
レン(PVDF-TrFE)、ポリフッ化ビニリデン-テトラフルオロエチレン(PVD
F-TFE)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、又はこれらの混合物若しくは
共重合体を含む半結晶性重合体を含み得る。発電機の圧電膜において使用されるPVDF
、PVDF-TFE及び/又はPVDF-TrFEの半結晶性重合体は、β相の量の増加
を実証し得る。例えば、絶縁層のPVDF、PVDF-TFE及び/又はPVDF-Tr
FEは、1.5から2.5のβ/α比を示し得る。いくつかの実施形態において、β/α
比は2から2.5である。ここに説明されるように、β相結晶子には、ポーリング技法に
より非ランダム性の配向が与えられるので、絶縁層の圧電特性及び焦電特性を高めること
ができる。その代わりに、圧電重合体は、ポリアミド又はポリ尿素を含み得る。いくつか
の実施形態において、圧電膜は、ナイロン-11又はポリ尿素-9を含む。
、BaTiO3粒子、BiTe粒子、他の無機圧電粒子、又はこれらの混合物の粒子を含
み得る。BaTiO3粒子、BiTe粒子及び/又は他の無機粒子は、本発明の目的に矛
盾しない任意のサイズ及び/又は幾何学的形状を有し得る。BaTiO3粒子及びBiT
e粒子は、20nmから500nmの範囲にあるサイズ分布を実証し得る。さらに、圧電
粒子は、本発明の目的に矛盾しない任意の積載量で圧電層の重合体の中に分散させること
ができる。いくつかの実施形態において、BaTiO3粒子、BiTe粒子及び/又は他
の無機圧電粒子はナノ粒子であり、これらは、圧電膜の中に、当該圧電膜の総重量に基づ
き5~80重量パーセント又は10~50重量パーセントの量で存在する。ここに記載さ
れるように、圧電膜の圧電粒子には、ここに記載の熱電装置の圧電特性及び/又は焦電特
性を高めるべく電気的極性を持たせることができる。
くつかの実施形態において、圧電膜は、遷移金属酸化物粒子を含む金属酸化物粒子から形
成することができる。適切な金属酸化物粒子はまた、圧電挙動を実証し得る。一つの実施
形態において、例えば、圧電膜は、電気的極性を有し得るBaTiO3粒子から形成され
る。
において、圧電膜は、少なくとも約50nmの厚さを有し得る。圧電膜は、いくつかの実
施形態において、少なくとも約500nm又は少なくとも約1μmの厚さを有する。
膜の一面は、熱電膜の一面と同一の広がりを有しない。さらに、いくつかの実施形態にお
いて、圧電膜及び熱電膜は、同じ重合体を用いる。例えば、圧電膜及び熱電膜は、PVD
F又はその誘導体のような同じフッ素重合体を用いてよい。かかる実施形態において、熱
電膜及び圧電膜を与えるべく単一のフッ素重合体膜を使用することができる。例えば、フ
ッ素重合体膜は、当該膜の表面に側方p-n接合部が形成されるのに十分な厚さを有し得
る。側方p-n接合は、上述した技法に従って形成することができる。フッ素重合体膜の
側方p-n接合部及び表面領域が熱電膜の役目を果たす一方、フッ素重合体膜のバルクは
圧電膜の役目を果たす。フッ素重合体膜の厚さはまた、圧電バルクと熱電表面との間の電
荷流を抑制するように制御することができる。
盾しない任意の材料から作製することができる。電極は例えば、金属、合金又は半導体組
成物としてよい。図1(b)に例示されるように、電極は、折り曲げられた又は波形の配
向を採用するべく可撓性とすることができる。いくつかの実施形態において、電極は、圧
電層と同一の広がりを有する。その代わりに、電極は、圧電膜と同一の広がりを有するわ
けではなく、p-n型接合部の直上に位置決めされるが次の接合まで延びて各接合の電極
をもたらすわけではない小セクションに分割することができる。
る。例えば、一以上の接着層を、熱電膜と圧電膜との間に位置決めすることができる。同
様に、一以上の接着層を、電極と圧電膜との間に位置決めすることができる。接着層は一
般に、電気的絶縁材料から形成することができる。いくつかの実施形態において、接着層
はポリビニルアルコール(PVA)である。
プセルに封入することができる。適切な材料は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)の
ようなエラストマーを含む。発電機全体をケースに入れ、又は一部のみをケースに入れる
ことができる。いくつかの実施形態において、ケースの材料は、熱勾配を確立し又は強め
て当該発電機の熱電性能を増加させるべく使用することができる。例えば、発電機の底部
を熱絶縁材料のケースに入れ、頂部はケースに入れず又は熱伝導性材料のケースに入れる
ことができる。このような配列により、発電機の厚さ方向の熱勾配を強めることができる
。
洗浄済み単一壁/二重壁カーボンナノチューブ(CNT)が使用された。CNTを分散さ
せるべく、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)ACS試薬99.8%(Sigma
-Aldrich社)が使用された。CNTマトリックスは、分子量(M.W.)534
,000の非導電性重合体PVDF(Aldrich Chemistry社)と一緒に
されて15/85重量パーセントのCNT/PVDFとなるように保持された。得られた
p型膜はその後、ポリエチレンイミン(PEI)ブランヂドM.W.600,99%との
ブランド(Alfa Aeser社)を使用してスプレイドーピング法により選択的にn
型ドープがされた。スプレイドーピング技法により、DMFの中のPEIが膜表面に堆積
され、取り囲んでいるPVDFマトリックスが溶解され、小分子ドーパントが統合されて
連続するp型熱電膜となり、交互となるp型セクション及びn型セクションが作られた。
この合成技法により、連続する電極をTEGとして倍増することができた。得られたTE
G膜は、長さ10mmの、交互となるp型セクション及びn型セクションからなる。使用
された圧電膜は、社により製造された一軸配向型圧電PVDF膜(FV301251)で
あった。最後に、底部の18mm×110mmのTEG電極を20mm×100mmのP
EGに接着するべく、水溶性プラスチックのポリ(ビニルアルコール)(PVA)(Al
drich Chemistry社)が接着剤として使用された。脱イオン水中の100
mg/mLのPVAの120μLが滴下され、当該膜が一緒に加圧された。頂部の18m
m×98mmのCNT/PVDF電極がその後、同じプロセスを使用して接着された。シ
ステムが60℃で120~180分乾燥された。構造体がその後、折り曲げられ、測定を
目的として金属接点が頂部電極及び底部電極に取り付けられ、構造体全体は最後に、ポリ
ジメチルシロキサン(PDMS)(Dow Corning社のSylgard(登録商
標)184)のケースに入れられた。
abVIEW(登録商標)を使用して処理された。熱勾配が底部接触ホットブロックによ
り導入され、k型熱電対を使用して測定された。予荷重高調波振動ばね質量系を使用して
デバイスの頂部に応力が適用された。
勾配とした場合に線形の熱電関係V=αΔTがあれば、TPEGデバイスの実効ゼーベッ
ク係数を計算することができる。それぞれがゼーベック係数30μV/K及び-27μV
/Kを有するp型素子及びn型素子6つによれば、TPEGデバイスが示した実効ゼーベ
ック係数は302±14μV/Kである。したがって、TPEGにより発生して測定され
た熱電電圧は、当該熱電素子に対して近似的に88%の固有値となった。熱勾配10ΔK
での2×2デバイスアレイに対して発生した電力は140nWであり、理論上の値の89
%であった。理論出力に対する測定された電力の11%の減少は、測定されたΔT合計の
全体に対するPDMS基板にわたって降下した分の結果である。TPEG構造体の折り曲
げにより、TEGコンポーネントが、熱源に対して最小限の性能損失で最適に結合するこ
とができる。それに加えて、TPEG構造体は、電力が、一アレイのデバイスに対応した
スケールとなることを許容する。
れた。圧電係数dim=dDi/dσmは、応力σmの変化に起因する変位場Diの変化
を定量化する。線形の応力入力に対しては、一つのみの圧電係数が、平坦なPEGシステ
ムにおける変位場の変化に寄与する。しかしながら、TPEGシステムに対しては、エラ
ストマーの頂部表面への外部からの線形の応力により、折り曲げ圧電膜に内部的に適用さ
れる応力成分の複合的な組み合わせがもたらされる。TPEGデバイスにおける折り曲げ
圧電膜が圧縮ひずみ及びせん断ひずみを有し得るとすれば、電圧信号を各寄与分に分解す
ることは非自明的である。しかしながら、同じ線形の応力が与えられたTPEGと平坦な
PEGデバイスとの測定電圧差を比較することにより、TPEGデバイスの性能に対する
圧電膜を折り曲げることの効果を示すことができる。図3(a)は、予荷重ばね質量系の
高調波振動により発生した圧電電圧を示す。圧電信号の安定性ゆえに、ピーク間電圧は容
易に計算及び再現することができる。図3(b)における黒棒は、測定されたピーク間電
圧と入力応力との比を示す。図3(b)における斜線棒は、測定された電圧である。11
.1μV/Paが、TPEGデバイスに対する平均電圧対応力比であったのに対し、5.
49μV/Paが平坦PEGデバイスに対するものであった。これが意味するのは、圧電
膜を折り曲げることにより、同じ入力応力に対して2倍もの電圧が発生するということで
ある。2×2のTPEGアレイは、28.0μV/Paを発生させた。多数のデバイスを
一緒に接続することにより、出力電圧は、平坦PEGデバイスのよりも5.3倍大きくな
る。
これらの実施形態は、本発明の原理の例示にすぎないことを認識するべきである。本発明
の要旨及び範囲から逸脱することのない、その多数の修正例及び適合例が、当業者にとっ
て容易に明らかとなる。
Claims (6)
- 熱電コンポーネント及び圧電コンポーネントを含む発電機(10)を作る方法であって、
表面にわたって複数の側方p-n接合部(14)を有する熱電膜(11)を作ることであって、前記側方p-n接合部(14)は前記側方p-n接合部はp型領域とn型領域との界面に確立されることと、
前記熱電膜(11)に圧電膜(12)を結合することと、
前記圧電膜(12)に電極(13)を結合することと
を含み、
前記熱電膜(11)を作ることは、
無機ナノ粒子を含む薄膜を有機担体に設けることと、
前記薄膜にp型ドーパントを堆積して前記p型領域をもたらすことと前記薄膜にn型ドーパントを堆積して前記n型領域をもたらすこととによって前記側方p-n接合部(14)を形成することと
を含む、方法。 - 前記無機ナノ粒子は、プレートレットである、請求項1の方法。
- 前記圧電膜(12)は、無機圧電粒子を含む重合体圧電膜である、請求項1又は2のいずれか一項の方法。
- 前記電極(13)は、前記圧電膜(12)と同一の広がりを有する、請求項1から3のいずれか一項の方法。
- 前記圧電膜(12)と前記熱電膜(11)との間に一以上の接着層が位置決めされる、請求項1から4のいずれか一項の方法。
- 前記発電機(10)を前記側方p-n接合部(14)において折り曲げることと、
前記発電機(10)をエラストマー材料のケースに入れることと
をさらに含む、請求項1から5のいずれか一項の方法。
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