JP7388246B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気記憶装置 - Google Patents
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Description
MgO(1-X)
(式中、Xは、0.07~0.25の範囲内である。)
で表される化合物を含む第1の下地層を有し、前記磁性層は、L10構造を有する合金を含み、前記L10構造を有する合金がBを含む第1の磁性層を有し、前記第1の下地層は、前記第1の磁性層と接している、磁気記録媒体。
(2)(1)に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、MgOを含むスパッタリングターゲットと、不活性ガスに水素が1体積%~20体積%の範囲内で添加されているスパッタガスを用いて、前記第1の下地層を成膜する工程を含む、磁気記録媒体の製造方法。
(3)(1)に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、MgOを含むスパッタリングターゲットを用い、1Pa以上のスパッタガス圧で0.5秒以下の時間放電した後、0.5Pa以下のスパッタガス圧で放電して、前記第1の下地層を成膜する工程を含む、磁気記録媒体の製造方法。
(4)(1)に記載の磁気記録媒体を有する、磁気記憶装置。
図1に、本実施形態の磁気記録媒体の層構成の一例を示す。
MgO(1-X)・・・(A)
(式中、Xは、0.07~0.25の範囲内である。)
で表される化合物を含む。
本実施形態の磁気記憶装置は、本実施形態の磁気記録媒体を有していれば、特に限定されない。
耐熱ガラス基板上に、厚さ50nmの50原子%Cr-50原子%Ti合金膜(第3の下地層)と、厚さ25nmの75原子%Co-20原子%Ta-5原子%B合金膜(軟磁性下地層)をこの順で成膜した。次に、基板を250℃まで加熱した後、厚さ10nmのCr膜(第2の下地層)を成膜した。このとき、第3の下地層、軟磁性下地層、第2の下地層の成膜には、DCマグネトロンスパッタ装置を用いた。
RFスパッタ装置を用いて、第1の下地層を以下のように成膜した以外は、実施例1と同様にして、磁気記録媒体を作製した。
第1の下地層、第1の磁性層の成膜条件を変更した以外は(表1参照)、実施例1と同様にして、磁気記録媒体を作製した。
第1の下地層、第1の磁性層の成膜条件を変更した以外は(表1参照)、実施例2と同様にして、磁気記録媒体を作製した。
X線回折装置(Philips製)を用いて、第2の磁性層を成膜した後の基板のX線回折スペクトルを測定し、FePt合金の(200)ピークの半値幅を求めた。
2 下地層
21 第1の下地層
22 第2の下地層
3 磁性層
31 第1の磁性層
32 第2の磁性層
100 磁気記録媒体
Claims (4)
- 基板と、下地層と、磁性層をこの順で有し、
前記下地層は、一般式
MgO(1-X)
(式中、Xは、0.07~0.25の範囲内である。)
で表される化合物を含む第1の下地層を有し、
前記磁性層は、L10構造を有する合金を含み、前記L10構造を有する合金がBを含む第1の磁性層を有し、
前記第1の下地層は、前記第1の磁性層と接している、磁気記録媒体。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、
MgOを含むスパッタリングターゲットと、不活性ガスに水素が1体積%~20体積%の範囲内で添加されているスパッタガスを用いて、前記第1の下地層を成膜する工程を含む、磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、
MgOを含むスパッタリングターゲットを用い、1Pa以上のスパッタガス圧で0.5秒以下の時間放電した後、0.5Pa以下のスパッタガス圧で放電して、前記第1の下地層を成膜する工程を含む、磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体を有する、磁気記憶装置。
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