JP7373968B2 - ガス供給システム - Google Patents
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Description
実施形態に係る基板処理装置の構成について説明する。基板処理装置は、ウエハ等の基板に対して所定の基板処理を行う装置である。本実施形態では、基板処理装置を、基板としてウエハWに対してプラズマエッチング等の処理を行うプラズマ処理装置10とした場合を例に説明する。図1は、実施形態に係るプラズマ処理装置の断面の一例を概略的に示す図である。図1に示すプラズマ処理装置10は、容量結合型平行平板のプラズマエッチング装置である。プラズマ処理装置10は、略円筒状の処理容器12を備えている。
100 制御部
101 プロセスコントローラ
102 ユーザインターフェース
103 記憶部
110 ガス供給システム
111 ガス供給管
121 パージガス導入管
131、132 バルブ
131a 空気供給管
132a 分岐管
141 電磁バルブ
142 状態切替バルブ
143 手動バルブ
Claims (5)
- 中間接続点を有し、処理ガス供給源と基板処理容器との間に接続される第1ガス供給管と、
パージガス供給源と前記中間接続点との間に接続される第2ガス供給管と、
前記第1ガス供給管の前記中間接続点の上流に設けられた、空気作動式バルブである第1バルブと、
前記第1ガス供給管の前記第1バルブの上流に設けられた、空気作動式バルブである第2バルブと、
前記処理ガス供給源から前記基板処理容器に処理ガスを供給する第1モードにおいて、前記第1バルブ及び前記第2バルブを開き、前記パージガス供給源から前記基板処理容器にパージガスを供給する第2モードにおいて、前記第1バルブ及び前記第2バルブを閉じるように前記第1バルブ及び前記第2バルブを制御する制御部と、
分岐点を有し、空気供給源と前記第1バルブとの間に接続される第1空気供給管と、
前記分岐点と前記第2バルブとの間に接続される第2空気供給管と、
前記第1空気供給管の前記分岐点の上流に設けられた電磁バルブと
を有し、
前記制御部は、前記第1モードにおいて前記電磁バルブを開き、前記第2モードにおいて前記電磁バルブを閉じるように前記電磁バルブを制御する、ガス供給システム。 - 前記制御部は、前記第1モードにおいて前記第1バルブ及び前記第2バルブを同時に開き、前記第2モードにおいて前記第1バルブ及び前記第2バルブを同時に閉じるように前記第1バルブ及び前記第2バルブを制御する、請求項1に記載のガス供給システム。
- 前記第2空気供給管に設けられ、前記空気供給源から前記第2バルブへの空気の供給を遮断可能な遮断バルブをさらに有する、請求項1に記載のガス供給システム。
- 前記遮断バルブは、空気作動式バルブである、請求項3に記載のガス供給システム。
- 前記遮断バルブに接続された第3空気供給管と、
前記第3空気供給管に配置された手動バルブとをさらに有する、請求項4に記載のガス供給システム。
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