JP7369529B2 - 露光装置およびアライメント方法 - Google Patents
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Description
を算出する(S102)。そして、求められたチップ配列誤差量から、最小二乗法などを用いて線形成分を抽出し(S103)、これを取り除くことによって、各チップの固有位置ずれ量となるX、Y、θ成分を求める(S104)。
40 ステージ
42 ステージ駆動部
50 制御部
W 基板
AM アライメントマーク
R レチクル
Claims (2)
- 基板上にマトリクス状に配置させた複数のチップに対し露光可能であり、基板に対するアライメント可能であって、チップ毎に形成されたアライメントマークの位置情報を測定する独立した測定装置との間で通信可能な露光装置であって、
複数のチップをマトリクス状に配置させた基板に設けられたGA(グローバルアライメント)用アライメントマークの位置を、露光工程時に前記基板がステージに搭載されたときに測定する測定部と、
前記基板の設計上の各チップの露光位置と、前記測定装置によって測定された前記基板の各チップのアライメントマーク位置情報との差分から、前記基板全体に関わる線形成分の変形量を除去することによって、各チップのダイシフト量を求める演算部と、
設計上の各チップの露光位置に対し、前記ダイシフト量と、露光工程時に前記測定部によって測定されたGA用アライメントマークの位置情報から得られる線形位置ずれ量とを加味することにより、露光工程時の各チップの露光位置を算出する算出手段と
を備えることを特徴とする露光装置。 - アライメントマークの位置を測定する、露光装置とは独立した測定装置によって、複数のチップをマトリクス状に配置させた基板に設けられる、各チップのアライメントマーク位置を測定し、
前記露光装置に設けられた測定部によって、前記基板に設けられたGA(グローバルアライメント)用アライメントマークの位置を、露光工程時に前記基板がステージに搭載されたときに測定し、
前記測定装置または前記露光装置によって、前記基板の設計上の各チップの露光位置と、前記測定装置によって測定された前記基板の各チップのアライメントマーク位置情報との差分から、前記基板全体に関わる線形成分の変形量を除去することによって、各チップのダイシフト量を求め、そして、設計上の各チップの露光位置に対し、前記ダイシフト量と、露光工程時に前記測定部によって測定されたGA用アライメントマークの位置情報から得られる線形位置ずれ量とを加味することにより、露光工程時の各チップの露光位置を算出し、アライメントすることを特徴とするアライメント方法。
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