JP7368264B2 - 基板処理装置、及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
本発明の基板処理装置において、前記処理液放出口は、前記貯留部の底部に向かい、前記底部で反射した後、前記気泡放出口へ向かうように前記処理液を放出する。
本発明の基板処理装置において、前記気泡放出口は、上方に向かって開口する。
本発明の基板処理装置において、前記第1管部は、外側配管と、前記外側配管の内部に配置される内側配管とを有する。前記気泡放出口は、第1開口と、第2開口とを有する。第1開口は、前記外側配管に形成されて、前記外側配管の内部と外部とを連通する。第2開口は、前記内側配管に形成されて、前記内側配管の内部と外部とを連通する。前記第1開口と、前記第2開口とは、互いに同じ向きに開口する。
本発明の第6の局面によれば、基板処理方法は、貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う。基板処理方法は、第1管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程を備える。基板処理方法は、前記第1管部に気体を流す工程を備える。基板処理方法は、前記貯留処理液内において前記第1管部の下方に配置されている第2管部に形成されている処理液放出口から前記処理液を放出させて、前記第1管部を挟むようにして前記第1管部の外周に沿って流れる一対の液流を生成する工程を備える。基板処理方法は、前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記第1管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程を備える。前記処理液放出口は、前記気泡放出口の直下に配置される。前記せん断力は、前記一対の液流により付与される。前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する。
本発明の第7の局面によれば、基板処理方法は、貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う。基板処理方法は、管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程を備える。基板処理方法は、前記管部に気体を流す工程を備える。基板処理方法は、前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程を備える。前記気体の気泡を放出させる工程において、前記貯留処理液内で前記管部を平行移動させることで前記せん断力を付与する。前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する。
本発明の第8の局面によれば、基板処理方法は、貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う。基板処理方法は、管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程を備える。基板処理方法は、前記管部に気体を流す工程を備える。基板処理方法は、前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程を備える。前記気体の気泡を放出させる工程において、前記管部を、前記管部の軸回りに回転させることで前記せん断力を付与する。前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する。
図1を参照して、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置100を説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置100の模式図である。基板処理装置100は、複数の基板Wを一括して処理する。例えば、基板処理装置100は複数の基板Wに対して一括してエッチングする。
図8を参照して、本発明の第2実施形態に係る基板処理装置100を説明する。図8は、気泡放出口Mと処理液放出口Nとの位置関係の第2例を示す図である。
図9を参照して、本発明の第3実施形態に係る基板処理装置100を説明する。図9は、気泡放出口Mと処理液放出口Nとの位置関係の第3例を示す図である。
図10を参照して、本発明の第4実施形態に係る基板処理装置100を説明する。図10は、気泡放出口Mと処理液放出口Nとの位置関係の第4例を示す図である。
図11を参照して、本発明の第5実施形態に係る基板処理装置100を説明する。図11は、気泡放出口Mと処理液放出口Nとの位置関係の第5例を示す図である。
図12~図13(b)を参照して、本発明の第6実施形態に係る基板処理装置100を説明する。図12は、気体Kの隆起部分KIに対してせん断力を付与するための構成の一例を示す模式図である。
112 内槽(貯留部)
130 気泡供給部
160 循環部(液流生成部)
KA 気泡
L 処理液
L1 貯留処理液
R1 第1液流(液流)
R2 第2液流(液流)
R3 第3液流(液流)
R4 第4液流(液流)
W 基板
Claims (16)
- 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理装置であって、
前記貯留処理液に気泡を供給する気泡供給部と、
前記気泡供給部に対して前記貯留処理液の液流を生成する液流生成部と
を備え、
前記気泡供給部は、気体が流れる第1管部を有し、
前記第1管部には、前記貯留処理液内に配置される気泡放出口が形成され、
前記気泡放出口は、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出し、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触し、
前記液流生成部は、前記処理液が流れる一対の第2管部を有し、
一対の前記第2管部は、前記貯留処理液内において前記第1管部を挟む位置に配置され、
一対の前記第2管部の各々には、前記貯留処理液内に配置される処理液放出口が形成され、
一対の前記処理液放出口は、前記貯留処理液内に前記第2管部を流れる前記処理液を放出することで一対の前記液流を生成し、
一対の前記液流は、前記第1管部を挟むようにして前記第1管部の外周に沿って流れる、基板処理装置。 - 一対の前記第2管部は、前記第1管部の下方で互いに間隔を空けて配置される、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1管部のうち前記気泡放出口が形成される部分には、疎水処理が施される、請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記処理液放出口は、上方から見て前記気泡放出口の側方に配置される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記処理液放出口は、前記貯留部の底部に向かい、前記底部で反射した後、前記気泡放出口へ向かうように前記処理液を放出する、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理装置であって、
前記貯留処理液に気泡を供給する気泡供給部と、
前記気泡供給部に対して前記貯留処理液の液流を生成する液流生成部と
を備え、
前記気泡供給部は、気体が流れる第1管部を有し、
前記第1管部には、前記貯留処理液内に配置される気泡放出口が形成され、
前記気泡放出口は、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出し、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触し、
前記液流生成部は、前記処理液が流れる第2管部を有し、
前記第2管部は、前記貯留処理液内において前記第1管部の下方に位置し、
前記第2管部には、前記貯留処理液内に配置される処理液放出口が形成され、
前記処理液放出口は、前記気泡放出口の直下に配置され、前記貯留処理液内に前記第2管部を流れる前記処理液を放出することで、前記第1管部を挟むようにして前記第1管部の外周に沿って流れる一対の前記液流を生成する、基板処理装置。 - 前記第1管部は、
前記第1管部の内部に対向する内面と、
前記第1管部の外部に対向する外面と
を有し、
前記気泡放出口は、
前記外面に形成される外側開口と、
前記内面に形成され、前記外側開口に連通する内側開口と
を有し、
前記外側開口の開口面積の方が、前記内側開口の開口面積よりも小さい、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記気泡放出口は、上方に向かって開口する、請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記第1管部は、外側配管と、前記外側配管の内部に配置される内側配管とを有し、
前記気泡放出口は、
前記外側配管に形成されて、前記外側配管の内部と外部とを連通する第1開口と、
前記内側配管に形成されて、前記内側配管の内部と外部とを連通する第2開口と
を有し、
前記第1開口と、前記第2開口とは、互いに同じ向きに開口する、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理装置であって、
前記貯留処理液に気泡を供給する気泡供給部と、
前記貯留部に対して前記気泡供給部を移動させる移動部と
を備え、
前記気泡供給部は、気体が流れる管部を有し、
前記管部には、前記貯留処理液内に配置される気泡放出口が形成され、
前記気泡放出口は、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出し、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触し、
前記移動部は、前記貯留処理液内で前記管部を平行移動させる、基板処理装置。 - 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理装置であって、
前記貯留処理液に気泡を供給する気泡供給部と、
前記貯留部に対して前記気泡供給部を移動させる移動部と
を備え、
前記気泡供給部は、気体が流れる管部を有し、
前記管部には、前記貯留処理液内に配置される気泡放出口が形成され、
前記気泡放出口は、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出し、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触し、
前記移動部は、前記管部を、前記管部の軸回りに回転させる、基板処理装置。 - 前記気泡供給部は、ポリエーテルエーテルケトンを含む、請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理方法であって、
第1管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程と、
前記第1管部に気体を流す工程と、
前記貯留処理液内において前記第1管部を挟む位置に配置されている一対の第2管部に形成されている処理液放出口から前記処理液を放出させて、前記第1管部を挟むようにして前記第1管部の外周に沿って流れる一対の液流を生成する工程と、
前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記第1管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程と
を備え、
前記せん断力は、前記一対の液流により付与され、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する、基板処理方法。 - 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理方法であって、
第1管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程と、
前記第1管部に気体を流す工程と、
前記貯留処理液内において前記第1管部の下方に配置されている第2管部に形成されている処理液放出口から前記処理液を放出させて、前記第1管部を挟むようにして前記第1管部の外周に沿って流れる一対の液流を生成する工程と、
前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記第1管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程と
を備え、
前記処理液放出口は、前記気泡放出口の直下に配置され、
前記せん断力は、前記一対の液流により付与され、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する、基板処理方法。 - 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理方法であって、
管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程と、
前記管部に気体を流す工程と、
前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程と
を備え、
前記気体の気泡を放出させる工程において、前記貯留処理液内で前記管部を平行移動させることで前記せん断力を付与し、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する、基板処理方法。 - 貯留部に貯留される処理液である貯留処理液に基板を浸漬して前記基板の処理を行う基板処理方法であって、
管部に形成される気泡放出口を前記貯留処理液内に配置する工程と、
前記管部に気体を流す工程と、
前記気体のうち前記気泡放出口から前記貯留処理液内に隆起する隆起部分を、前記管部の内部に存在する前記気体からせん断するためのせん断力を付与して、前記貯留処理液内に前記気体の気泡を放出させる工程と
を備え、
前記気体の気泡を放出させる工程において、前記管部を、前記管部の軸回りに回転させることで前記せん断力を付与し、
前記気体の気泡は、前記貯留処理液中を浮上する際に前記基板の表面に接触する、基板処理方法。
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