JP7454986B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
本発明の基板処理装置において、前記処理液導入部は、前記基板への前記複数の気泡の供給の停止後であって、前記基板が前記処理液に浸漬されている前記期間に、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入することが好ましい。
本発明の他の局面によれば、基板処理装置は、処理槽と、基板保持部と、気泡供給部材と、気体供給部と、処理液導入部とを備える。処理槽は、処理液を貯留する。基板保持部は、基板を保持し、前記処理槽に貯留された前記処理液に前記基板を浸漬する。気泡供給部材は、複数の気泡供給孔を有し、前記処理槽の内部に配置されて、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡供給孔から複数の気泡を供給する。気体供給部は、前記気泡供給部材に接続される気体供給配管を含み、前記気体供給配管から前記気泡供給部材に気体を供給することで、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡を前記気泡供給部材に供給させる。処理液導入部は、前記気泡供給部材への前記気体の供給が停止された後に、前記気泡供給部材の内部に前記処理液を導入する。前記複数の気泡供給孔は、前記気泡供給部材の前記内部に連通する。前記気体供給部は、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液が導入された後に、前記気泡供給部材に前記気体供給配管から気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す処理を実行する。前記処理液を押し出す前記処理は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行される。前記処理液を押し出す前記処理を実行する場合の前記気体の流量は、前記複数の気泡を発生させる場合の前記気体の流量よりも多い。
図1~図9を参照して、本発明の実施形態1に係る基板処理装置100及び基板処理方法を説明する。まず、図1を参照して、基板処理装置100を説明する。
(2)流路FWに処理液LQを引き込む時間が短すぎると溶出成分の析出を抑制する効果が確認されない。
図4~図7を参照して、本発明の実施形態1の変形例に係る基板処理装置100を説明する。変形例に係る基板処理装置100では、気体供給機構202は、第2供給機構220を有していない。従って、変形例において、図6に示す処理液押出処理においては、第1供給機構210はバルブ211を開いて、気体供給配管201を開放する。その結果、第1供給機構210から、気体供給配管201を通って、気体が各気泡供給部材180に供給される。よって、処理液LQが、気体によって、各気泡供給部材180から複数の気泡供給孔Gを通して、処理槽110に押し出される。
図10~図14を参照して、本発明の実施形態2に係る基板処理装置100Aを説明する。実施形態2に係る基板処理装置100Aが、処理液導入部300に代えて処理液導入部400を備える点で、実施形態2は実施形態1と主に異なる。実施形態2に係る基板処理装置100Aの全体構成は、図1を参照して説明した実施形態1に係る基板処理装置100の全体構成と同様である。以下、実施形態2が実施形態1と異なる点を主に説明する。
図11~図14を参照して、本発明の実施形態2の変形例に係る基板処理装置100Aを説明する。変形例に係る基板処理装置100Aでは、気体供給機構202は、第2供給機構220を有していない。従って、変形例において、図13に示す処理液押出処理においては、第1供給機構210はバルブ211を開いて、気体供給配管201を開放する。その結果、第1供給機構210から、気体供給配管201を通って、気体が各気泡供給部材180に供給される。よって、処理液LQが、気体によって、各気泡供給部材180から複数の気泡供給孔Gを通して処理槽110に押し出されるとともに、導入用配管401に押し出される。
110 処理槽
120 基板保持部
180 気泡供給部材
201 気体供給配管
301、401 導入用配管(処理液導入用管)
G 気泡供給孔
W 基板
Claims (10)
- 処理槽に貯留された処理液に、基板を浸漬して、前記基板を前記処理液によって処理する基板処理方法であって、
前記処理槽に貯留された前記処理液に、前記基板を浸漬する工程と、
前記処理槽に配置された気泡供給部材の内部に連通する複数の気泡供給孔から、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて複数の気泡を供給する工程と、
前記基板への前記複数の気泡の供給を停止した後に、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する工程と、
前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入した後に、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す工程と
を含み、
前記処理液を押し出す前記工程は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行され、
前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する前記工程では、前記基板への前記複数の気泡の供給の停止後であって、前記基板が前記処理液に浸漬されている期間に、前記気泡供給部材の前記内部への前記処理液の導入を開始する、基板処理方法。 - 前記複数の気泡を供給する前記工程では、前記気泡供給部材に接続された気体供給配管から前記気泡供給部材に気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記複数の気泡供給孔から前記複数の気泡が供給され、
前記気泡供給部材に前記処理液を導入する前記工程では、前記気体供給配管から前記気泡供給部材への前記気体の供給を停止した後に、前記気体供給配管を開放することで、前記複数の気泡供給孔を通して前記処理槽から前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を引き込む、請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する前記工程では、前記基板への前記複数の気泡の供給の停止後であって、前記基板が前記処理液に浸漬されている前記期間に、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する、請求項1又は請求項2に記載の基板処理方法。
- 処理槽に貯留された処理液に、基板を浸漬して、前記基板を前記処理液によって処理する基板処理方法であって、
前記処理槽に貯留された前記処理液に、前記基板を浸漬する工程と、
前記処理槽に配置された気泡供給部材の内部に連通する複数の気泡供給孔から、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて複数の気泡を供給する工程と、
前記基板への前記複数の気泡の供給を停止した後に、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する工程と、
前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入した後に、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す工程と
を含み、
前記処理液を押し出す前記工程は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行され、
前記複数の気泡を供給する前記工程では、前記気泡供給部材に接続された気体供給配管から前記気泡供給部材に気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記複数の気泡供給孔から前記複数の気泡が供給され、
前記気泡供給部材に前記処理液を導入する前記工程では、前記気体供給配管から前記気泡供給部材への前記気体の供給を停止した後に、前記気体供給配管よりも下流側において前記気泡供給部材と接続される処理液導入用管を開放することで、前記複数の気泡供給孔を通して前記処理槽から前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を引き込む、基板処理方法。 - 処理槽に貯留された処理液に、基板を浸漬して、前記基板を前記処理液によって処理する基板処理方法であって、
前記処理槽に貯留された前記処理液に、前記基板を浸漬する工程と、
前記処理槽に配置された気泡供給部材の内部に連通する複数の気泡供給孔から、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて複数の気泡を供給する工程と、
前記基板への前記複数の気泡の供給を停止した後に、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する工程と、
前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入した後に、前記気泡供給部材に気体供給配管から気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す工程と
を含み、
前記処理液を押し出す前記工程は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行され、
前記複数の気泡を供給する前記工程では、前記気泡供給部材に接続された前記気体供給配管から前記気泡供給部材に気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記複数の気泡供給孔から前記複数の気泡が供給され、
前記気泡供給部材から前記処理液を押し出す前記工程では、前記気泡供給部材に前記気体供給配管から供給される前記気体の流量は、前記複数の気泡を供給する前記工程での前記気体の流量よりも多い、基板処理方法。 - 処理液を貯留する処理槽と、
基板を保持し、前記処理槽に貯留された前記処理液に前記基板を浸漬する基板保持部と、
複数の気泡供給孔を有し、前記処理槽の内部に配置されて、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡供給孔から複数の気泡を供給する気泡供給部材と、
前記気泡供給部材に、前記気泡を発生させるための気体を供給して、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡を供給させる気体供給部と、
前記気泡供給部材への前記気体の供給が停止された後に、前記気泡供給部材の内部に前記処理液を導入する処理液導入部と
を備え、
前記複数の気泡供給孔は、前記気泡供給部材の前記内部に連通し、
前記気体供給部は、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液が導入された後に、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す処理を実行し、
前記処理液を押し出す前記処理は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行され、
前記処理液導入部は、前記基板への前記複数の気泡の供給の停止後であって、前記基板が前記処理液に浸漬されている期間に、前記気泡供給部材の前記内部への前記処理液の導入を開始する、基板処理装置。 - 前記処理液導入部は、前記基板への前記複数の気泡の供給の停止後であって、前記基板が前記処理液に浸漬されている前記期間に、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を導入する、請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記気体供給部は、前記気泡供給部材に接続される気体供給配管を含み、
前記気体供給部は、
前記気体供給配管から前記気泡供給部材に前記気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記複数の気泡供給孔から前記複数の気泡を供給させ、
前記気体供給配管から前記気泡供給部材への前記気体の供給を停止した後に、前記気体供給配管を開放することで、前記複数の気泡供給孔を通して前記処理槽から前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を引き込む、請求項6又は請求項7に記載の基板処理装置。 - 処理液を貯留する処理槽と、
基板を保持し、前記処理槽に貯留された前記処理液に前記基板を浸漬する基板保持部と、
複数の気泡供給孔を有し、前記処理槽の内部に配置されて、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡供給孔から複数の気泡を供給する気泡供給部材と、
前記気泡供給部材に、前記気泡を発生させるための気体を供給して、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡を供給させる気体供給部と、
前記気泡供給部材への前記気体の供給が停止された後に、前記気泡供給部材の内部に前記処理液を導入する処理液導入部と
を備え、
前記複数の気泡供給孔は、前記気泡供給部材の前記内部に連通し、
前記気体供給部は、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液が導入された後に、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す処理を実行し、
前記処理液を押し出す前記処理は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行され、
前記気体供給部は、前記気泡供給部材に接続される気体供給配管を含み、
前記処理液導入部は、前記気体供給配管よりも下流側において前記気泡供給部材と接続される処理液導入用管を含み、
前記気体供給部は、前記気体供給配管から前記気泡供給部材に前記気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記複数の気泡供給孔から前記複数の気泡を供給させ、
前記処理液導入部は、前記気体供給配管から前記気泡供給部材への前記気体の供給が停止された後に、前記処理液導入用管を開放することで、前記複数の気泡供給孔を通して前記処理槽から前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液を引き込む、基板処理装置。 - 処理液を貯留する処理槽と、
基板を保持し、前記処理槽に貯留された前記処理液に前記基板を浸漬する基板保持部と、
複数の気泡供給孔を有し、前記処理槽の内部に配置されて、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡供給孔から複数の気泡を供給する気泡供給部材と、
前記気泡供給部材に接続される気体供給配管を含み、前記気体供給配管から前記気泡供給部材に気体を供給することで、前記処理液に浸漬された前記基板に向けて前記複数の気泡を前記気泡供給部材に供給させる気体供給部と、
前記気泡供給部材への前記気体の供給が停止された後に、前記気泡供給部材の内部に前記処理液を導入する処理液導入部と
を備え、
前記複数の気泡供給孔は、前記気泡供給部材の前記内部に連通し、
前記気体供給部は、前記気泡供給部材の前記内部に前記処理液が導入された後に、前記気泡供給部材に前記気体供給配管から気体を供給することで、前記気泡供給部材の前記内部から前記処理液を押し出す処理を実行し、
前記処理液を押し出す前記処理は、前記処理液に浸漬された前記基板を前記処理槽から引き上げた後であって、新たな基板を前記処理液に浸漬する前に実行され、
前記処理液を押し出す前記処理を実行する場合の前記気体の流量は、前記複数の気泡を発生させる場合の前記気体の流量よりも多い、基板処理装置。
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