JP7366513B1 - 活性ガス生成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は本実施の形態の活性ガス生成装置5の構造を示す説明図である。図2は図1の着目領域S1の詳細構造を示す説明図である。図1及び図2それぞれのXYZ直交座標系を記している。
本実施の形態の活性ガス生成装置5において、所定の形成方向であるY方向に隣接関係にある高電圧電極構造体13及び接地電極構造体140と、隣接関係にある高電圧電極構造体12,接地電極構造体140間の放電空間6とにより1単位の放電セルが構成される。したがって、第1の数及び第2の数のうち少なくとも一方を“2”以上に設定することにより、放電空間用構造体である発生器ベースフランジ53に複数の放電セルを設けることができる。
上述した基本態様では、複数の溝54の全てを用いて第1の数の高電圧電極構造体13と第2の数の接地電極構造体140とを保持していた。基本態様以外に、複数の溝54の一部のみを用いて、第1の数の高電圧電極構造体13及び第2の数の接地電極構造体140を保持する変形態様が考えられる。以下、変形態様について詳述する。
2 接地電位電極部
3,4 単体電極用誘電体膜
5 活性ガス生成装置
7 ウェハー
10,20,30,40 電極用誘電体膜
11,21 金属電極
13 高電圧電極構造体
14,140 接地電極構造体
51 発生器カバー
52 チャンバー
53 発生器ベースフランジ
54 溝
54e 最外溝
56 溝側壁部位
57 ウェハー支持台
61 原料ガス供給空間
62 活性ガス出力空間
70 押圧部材
80 ブランク部品
100 高周波電源
541,542 部分溝
G1 原料ガス
G2 活性ガス
S54 保持空間
S56 分離空間
S541,S542 部分保持空間
Claims (7)
- 原料ガス供給空間と、
活性ガス出力空間と、
各々が平面視して矩形状の第1の平面領域を有する第1の数の高電圧電極構造体と、
各々が平面視して矩形状の第2の平面領域を有する第2の数の接地電極構造体と、
前記原料ガス供給空間と前記活性ガス出力空間との間に設けられる放電空間用構造体とを備えた活性ガス生成装置であって、
前記放電空間用構造体は、
所定の形成方向に沿って設けられる複数の溝を有し、
前記複数の溝は互いに離散して設けられ、前記複数の溝はそれぞれ保持空間を有し、
前記第1の数の高電圧電極構造体と前記複数の溝のうち第1の数の溝とが対応し、前記第1の数の高電圧電極構造体はそれぞれ前記第1の数の溝のうち対応する溝の前記保持空間内で保持され、
前記第2の数の接地電極構造体と前記複数の溝のうち第2の数の溝とが対応し、前記第2の数の接地電極構造体はそれぞれ前記第2の数の溝のうち対応する溝の前記保持空間内で保持され、
前記第1の数の高電圧電極構造体と前記第2の数の接地電極構造体とは、前記所定の形成方向に沿って交互に配置され、前記第1の数の高電圧電極構造体それぞれの前記第1の平面領域と前記第2の数の接地電極構造体それぞれの前記第2の平面領域とが分離空間を挟んで対向し、
前記第1の数の高電圧電極構造体に交流電圧が印加され、前記第2の数の接地電極構造体が基準電位に設定され、前記分離空間は放電空間を含み、
前記放電空間において、前記原料ガス供給空間側の開口部がガス供給口となり、前記活性ガス出力空間側の開口部がガス噴出口となり、前記ガス供給口から前記ガス噴出口に向かう方向がガス流通方向として規定され、
前記活性ガス生成装置は、
前記活性ガス出力空間内に設けられ、基板を載置する基板載置面を有する基板支持台をさらに備え、
前記ガス噴出口はスリット状を呈し、
前記ガス流通方向は前記基板載置面に対し垂直方向から所定の傾きを有する斜め方向に設定される、
活性ガス生成装置。 - 請求項1記載の活性ガス生成装置であって、
前記放電空間用構造体は内部を貫通した開口領域を含み、前記開口領域は前記所定の形成方向と交差する対向方向において互いに対向する一対の開口縁部を有し、
前記複数の溝はそれぞれ前記一対の開口縁部に設けられる一対の部分溝を含み、
前記保持空間は前記一対の部分溝に設けられ、各々が前記ガス流通方向に合致する空間形成方向に延在する一対の部分保持空間を含み、
前記第1の数の高電圧電極構造体それぞれの前記第1の平面領域の両端部が前記一対の部分保持空間内で保持され、
前記第2の数の接地電極構造体それぞれの前記第2の平面領域の両端部が前記一対の部分保持空間内で保持される、
活性ガス生成装置。 - 請求項1または請求項2記載の活性ガス生成装置であって、
前記高電圧電極構造体は、
第1の電極用誘電体膜と第1の電極用導電膜と第1の補助誘電体膜とからなる第1の複合構造を含み、前記第1の複合構造において前記第1の電極用誘電体膜、前記第1の電極用導電膜及び前記第1の補助誘電体膜の順で積層され、前記第1の電極用導電膜に前記交流電圧が印加され、
前記接地電極構造体は、
第2の電極用誘電体膜と第2の電極用導電膜と第2の補助誘電体膜とからなる第2の複合構造を含み、前記第2の複合構造において前記第2の電極用誘電体膜、前記第2の電極用導電膜及び前記第2の補助誘電体膜の順で積層され、前記第2の電極用導電膜が前記基準電位に設定される、
活性ガス生成装置。 - 請求項3記載の活性ガス生成装置であって、
前記放電空間用構造体は導電性を有し、前記放電空間用構造体に前記基準電位が付与され、
前記接地電極構造体の前記第2の複合構造において、前記第2の電極用導電膜は前記放電空間用構造体と電気的に接続される、
活性ガス生成装置。 - 請求項4記載の活性ガス生成装置であって、
前記接地電極構造体は、
前記第2の平面領域を有する単体電極用誘電体膜をさらに含み、
前記第2の数の溝は、前記複数の溝のうち前記所定の形成方向において最外に位置する最外溝を含み、
前記単体電極用誘電体膜は前記最外溝の前記保持空間内で保持され、かつ、前記第2の平面領域が前記放電空間用構造体と接触関係を有する、
活性ガス生成装置。 - 原料ガス供給空間と、
活性ガス出力空間と、
各々が平面視して矩形状の第1の平面領域を有する第1の数の高電圧電極構造体と、
各々が平面視して矩形状の第2の平面領域を有する第2の数の接地電極構造体と、
前記原料ガス供給空間と前記活性ガス出力空間との間に設けられる放電空間用構造体とを備え、
前記放電空間用構造体は、
所定の形成方向に沿って設けられる複数の溝を有し、
前記複数の溝は互いに離散して設けられ、前記複数の溝はそれぞれ保持空間を有し、
前記第1の数の高電圧電極構造体と前記複数の溝のうち第1の数の溝とが対応し、前記第1の数の高電圧電極構造体はそれぞれ前記第1の数の溝のうち対応する溝の前記保持空間内で保持され、
前記第2の数の接地電極構造体と前記複数の溝のうち第2の数の溝とが対応し、前記第2の数の接地電極構造体はそれぞれ前記第2の数の溝のうち対応する溝の前記保持空間内で保持され、
前記第1の数の高電圧電極構造体と前記第2の数の接地電極構造体とは、前記所定の形成方向に沿って交互に配置され、前記第1の数の高電圧電極構造体それぞれの前記第1の平面領域と前記第2の数の接地電極構造体それぞれの前記第2の平面領域とが分離空間を挟んで対向し、
前記第1の数の高電圧電極構造体に交流電圧が印加され、前記第2の数の接地電極構造体が基準電位に設定され、前記分離空間は放電空間を含み、
前記放電空間において、前記原料ガス供給空間側の開口部がガス供給口となり、前記活性ガス出力空間側の開口部がガス噴出口となり、前記ガス供給口から前記ガス噴出口に向かう方向がガス流通方向として規定され、
前記第1の数の溝と前記第2の数の溝との組合せが第3の数の放電空間形成用溝と規定され、
前記複数の溝の一部が前記第3の数の放電空間形成用溝となる、
活性ガス生成装置。 - 請求項6記載の活性ガス生成装置であって、
前記複数の溝のうち、前記第3の数の放電空間形成用溝を除く溝が第4の数の不使用溝に分類され、
前記第4の数の不使用溝の前記保持空間及び前記第4の数の不使用溝に隣接する前記分離空間を塞ぐように配置されたブランク部品をさらに備える、
活性ガス生成装置。
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