JP7366140B2 - ストラットベアリング、ストラットアセンブリ、並びにそれらを製造及び使用する方法 - Google Patents

Description

本開示は、ベアリングに関し、より詳細には、車両のサスペンションアセンブリ内に設置するためのストラットベアリングに関する。

サスペンションアセンブリは、車両構成要素を別の車両構成要素に対して接続し、構成要素の動きを制御するための緩衝又は減衰を提供するために使用されてもよい。サスペンションアセンブリは、自転車、オートバイ、ＡＴＶ、乗用車、トラック、ＳＵＶ、航空機、宇宙船、船舶のような乗り物、又はその他の車両で使用されることができる。

多くのサスペンションアセンブリにおいて、サスペンションストラットは、車輪のステアリングナックルから上方に延伸し、車両のシャーシに接続するトップマウントとのジョイントで終端する。ストラットは、油圧シリンダを有するメインストラットロッドと、車輪の動きを吸収するためにメインロッドと一体になったスプリングとを含んでもよい。トップマウントとサスペンションストラットとの間に存在するジョイントは、ストラットベアリングを含んでもよい。ストラットベアリングは、トップマウント、車輪、及びサスペンションアセンブリの残りの部分に対するサスペンションストラットの特定のバックラッシュを許容する。

通常、ストラットベアリングは、ボールベアリング又はスライドベアリングの構成要素で作られるが、既存のシステムは、不均一なトルク又は不要な摩擦、振動、及び騒音を発生させる場合がある。サスペンションアセンブリにおいて使用するためのストラットベアリングが、アセンブリを簡素化し、アセンブリの寿命を延ばしながら、一貫性のあるトルクを提供し、摩擦、振動、及び騒音を減少させる必要性が引き続きある。

実施形態は、例として示され、添付の図面に限定されない。

一実施形態によるストラットベアリングを製造する方法を含む。 一実施形態による低摩擦構成要素の断面図を含む。 一実施形態による低摩擦構成要素の断面図を含む。 一実施形態による組み立てられたストラットベアリングの上面図を含む。 一実施形態による組み立てられたストラットベアリングの側面図を含む。 一実施形態によるストラットベアリングの組み立てられていないハウジングの上面図を含む。 一実施形態による組み立てられていないストラットベアリングの上面斜視図を含む。 一実施形態による組み立てられていないハウジングの上面斜視図を含む。 一実施形態によるアセンブリ内のストラットベアリングの側面図を含む。 一実施形態によるアセンブリ内のストラットベアリングの側面図を含む。 一実施形態によるアセンブリ内のストラットベアリングの斜視側面図を含む。 一実施形態によるストラットベアリング１００を先行技術のストラットベアリングに対して比較する様々な測定基準の表を含む。 一実施形態による組み立てられたストラットベアリングの断面側面図を含む。

当業者は、図面の要素が単純化及び明確化のために例示され、必ずしも縮尺通りに描写されていないことを理解する。例えば、図面の幾つかの要素の寸法は、本発明の実施形態の理解を向上させるのに役立つように、他の要素に対して誇張されている場合がある。

図面と組み合わせた以下の説明は、本明細書に開示される教示の理解を支援するために提供される。以下の議論は、教示の特定の実装及び実施形態に焦点を当てる。この焦点は、教示の説明を支援するために提供され、教示の範囲又は適用性についての制限として解釈されるべきではない。しかし、本願に開示されるような教示に基づいて、他の実施形態が使用されることができる。

「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」、「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する」（ｈａｖｉｎｇ）」という用語、又はそれらの他の変形は、非排他的な包含に広がることが意図される。例えば、特徴のリストを含む方法、物品、又は装置は、必ずしもこれらの特徴にのみ限定されず、明示的に列挙されず、又はこのような方法、物品、若しくは装置に固有でない他の特徴を含んでもよい。更に、特に反対のことが明記されていない限り、「又は」は、排他的論理和ではなく、包括的論理和を指す。例えば、条件Ａ又Ｂは、Ａが真である（或いは存在する）及びＢが偽である（或いは存在しない）、Ａが偽である（或いは存在しない）及びＢが真である（或いは存在する）、並びにＡ及びＢの両方が真である（或いは存在する）の何れかによって満たされる。

また、「ａ」又は「ａｎ」の使用は、本明細書で説明される要素及び構成要素を説明するために使用される。これは、単に便宜上、そして本発明の範囲の一般的な感覚を与えるために行われる。この説明は、別段の意味が明確でない限り、１つ、少なくとも１つ、若しくは複数形も含む単数形、又はその逆を含むように読解されるべきである。例えば、本明細書で単一の実施形態が説明される場合に、単一の実施形態の代わりに複数の実施形態が使用されてもよい。同様に、本明細書で複数の実施形態が説明される場合に、単一の実施形態が複数の実施形態に置き換えられてもよい。

別段に画定されない限り、本明細書で使用される全ての技術用語及び科学用語は、本発明が属する当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。材料、方法、及び例は、単なる例示であり、限定することが意図されない。本明細書で説明されない限り、特定の材料及び処理行為に関する多くの詳細は従来通りであり、ベアリング及びサスペンションのアセンブリ技術内の教科書及びその他の情報源で見出されてもよい。

本明細書で説明される実施形態は、概して、ストラットベアリング、及びアセンブリ内でストラットベアリングを作り出し、使用する方法を対象とする。特定の実施形態においては、ストラットベアリングは、上部部品及び底部部品を有するハウジングと、上部部品と底部部品との間の内部空隙内に配置された少なくとも１つの低摩擦構成要素とを有してもよく、低摩擦構成要素は低摩擦材料を含み、低摩擦構成要素は、ハウジングの上部部品及び底部部品の両方に接触する。

例示の目的のために、図１は、ストラットベアリングを形成するための形成プロセス１０を示す図を含む。形成プロセス１０は、上部部品及び底部部品を含むハウジングを形成する第１のステップ１２を含んでもよい。形成プロセス１０は、少なくとも１つの低摩擦構成要素をハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも１つに接合する第２のステップ１４を更に含んでもよく、低摩擦構成要素は低摩擦材料を含む。

第１のステップ１２を参照すると、ハウジングは、例えば、ポリケトン、ポリアラミド、ポリイミド、ポリテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアミドイミド、超高分子量ポリエチレン、フルオロポリマー、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、又はそれらの任意の組み合わせのようなポリマーを含む材料を含むことができる。特定のポリマーは、ポリケトン、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアミドイミド、それらの誘導体、又はそれらの組み合わせを含む。更なる例においては、ハウジングは、ポリケトン、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルケトンエーテルケトン、それらの誘導体、又はそれらの組み合わせを含む。一実施形態においては、特定のポリマーは、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリスルホン、ポリアミド（ＰＡ）、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリウレタン、ポリエステル、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、又はそれらの任意の組み合わせを含む。ハウジングは、リチウム石鹸、グラファイト、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、ポリテトラフルオロエチレン、窒化炭素、炭化タングステン、若しくはダイヤモンド様炭素、金属（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、マグネシウム、スズ、プラチナ、チタン、タングステン、鉛、鉄、青銅、鋼、ばね鋼、ステンレス鋼）、合金（列挙された金属を含む）、陽極酸化された金属（列挙された金属を含む）、又はそれらの任意の組み合わせを含む固体ベースの材料を含んでもよい。多くの実施形態においては、ポリアミド又はナイロンが、ハウジング材料、例えば、ナイロン６６のために使用されてもよい。

第１のステップ１２を参照すると、多くの実施形態においては、ハウジングは、ガラス繊維、炭素繊維、シリコン、ＰＥＥＫ、芳香族ポリエステル、炭素粒子、青銅、フルオロポリマー、熱可塑性充填剤、酸化アルミニウム、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ＰＰＳ、ポリフェニレンスルホン（ＰＰＳＯ２）、ＬＣＰ、芳香族ポリエステル、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、グラフェン、膨張グラファイト、窒化ホウ素、タルク、フッ化カルシウム、又はそれらの任意の組み合わせを含む充填剤を更に含んでもよい。加えて、充填剤は、アルミナ、シリカ、二酸化チタン、フッ化カルシウム、窒化ホウ素、マイカ、ウォラストナイト、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア、カーボンブラック、顔料、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。充填剤は、ビーズ、繊維、粉末、メッシュ、又はそれらの任意の組み合わせの形態にすることができる。ハウジングは、面取り、旋削、リーマ、鍛造、押出、成形、焼結、圧延、又は鋳造の少なくとも１つによって形成されてもよい。多くの実施形態においては、ハウジングは、射出成形によって形成されてもよい。

図２Ａは、形成プロセス１０の第２のステップ１４の低摩擦構成要素に形成されてもよい材料１０００の例示を含む。低摩擦構成要素は、少なくとも１つの基板１１１９を含んでもよい。一実施形態においては、基板１１１９は、ポリマー、例えば、ポリケトン、ポリアラミド、ポリイミド、ポリテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアミドイミド、超高分子量ポリエチレン、フルオロポリマー、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、又はそれらの任意の組み合わせを少なくとも部分的に含むことができる。一例においては、基板１１１９は、ポリケトン、ポリアラミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンスルホン、ポリベンズイミダゾール、それらの誘導体、又はそれらの組み合わせを含む。

一実施形態においては、基板１１１９は、少なくとも部分的に金属を含むことができる。特定の実施形態によれば、金属は、鉄、銅、チタン、スズ、アルミニウム、それらの合金を含んでもよく、又は別のタイプの金属にしてもよい。より具体的には、基板１１１９は、ステンレス鋼、炭素鋼、又はばね鋼のような鋼を少なくとも部分的に含むことができる。例えば、基板１１１９は、３０１ステンレス鋼を少なくとも部分的に含むことができる。３０１ステンレス鋼は、１／４硬度、１／２硬度、３／４硬度、又は完全硬度にアニールされてもよい。基板１１１９は、織りメッシュ又はエキスパンドメタルグリッドを含んでもよい。多くの実施形態においては、基板１１１９は、セラミック、例えば、チタン酸バリウム、ビスマスストロンチウムカルシウム銅酸化物、酸化ホウ素、窒化ホウ素、陶器、フェライト、二ホウ化マグネシウム、磁器、炭化ケイ素、窒化ケイ素、炭化チタン、酸化亜鉛、二酸化ジルコニウム、石器、骨灰磁器、それらの任意の組み合わせを少なくとも部分的に含むことができ、又は別のタイプであってもよい。基板１１１９は、面取り、旋削、リーマ、鍛造、押出、成形、焼結、圧延、又は鋳造の少なくとも１つによって形成されてもよい。

基板１１１９は、約１ミクロン～約２０００ミクロンの間、例えば、約５０ミクロン～約１５００ミクロンの間、例えば、約１００ミクロン～約１０００ミクロンの間、例えば、約２００ミクロン～約５００ミクロンの間の厚さＴ_ｓを有することができる。多くの実施形態においては、基板１１１９は、約１００～５００ミクロンの間の厚さＴ_ｓを有してもよい。多くの実施形態においては、基板１１１９は、約２５０～４５０ミクロンの間の厚さＴ_ｓを有してもよい。基板１１１９の厚さＴ_ｓは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。基板１１１９の厚さは均一であってもよく、すなわち、基板１１１９の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと等しくすることができる。基板１１１９の厚さは不均一であってもよく、すなわち、基板１１１９の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと異なることができる。異なる基板１１１９は、異なる厚さを有してもよいことが理解されることができる。

複合材料１０００は、基板１１１９の上に位置する少なくとも１つの低摩擦層１１０４を更に含む。低摩擦層１１０４は、基板１１１９の少なくとも一部に結合されることができる。多くの実施形態においては、低摩擦層１１０４は、低摩擦材料を含むことができる。低摩擦材料は、例えば、ポリマー、例えば、ポリケトン、ポリアラミド、ポリイミド、ポリテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアミドイミド、超高分子量ポリエチレン、フルオロポリマー、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。一例においては、低摩擦層１１０４は、低摩擦材料、例えば、ポリケトン、ポリアラミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンスルホン、フルオロポリマー、ポリベンズイミダゾール、それらの誘導体、又はそれらの組み合わせを含む。更なる例においては、低摩擦層１１０４は、ポリケトン、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルケトンエーテルケトン、それらの誘導体、又はそれらの組み合わせを含む低摩擦材料を含む。更なる例においては、低摩擦層１１０４は、フッ化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びフッ化ビニリデンのターポリマー（ＴＨＶ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリスルホン、ポリアミド（ＰＡ）、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリウレタン、ポリエステル、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、又はそれらの任意の組み合わせを含むフルオロポリマーを含む低摩擦材料を含む。低摩擦層１１０４は、リチウム石鹸、グラファイト、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、ポリテトラフルオロエチレン、窒化炭素、炭化タングステン、若しくはダイヤモンド様炭素、金属（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、マグネシウム、スズ、プラチナ、チタン、タングステン、鉛、鉄、青銅、鋼、ばね鋼、ステンレス鋼）、合金（列挙された金属を含む）、陽極酸化された金属（列挙された金属を含む）、又はそれらの任意の組み合わせを含む固体ベースの材料を含んでもよい。本明細書で使用されるように、「低摩擦材料」は、鋼に対して測定されるように、０．５未満、例えば、０．４未満、０．３未満、又は更には０．２未満の乾燥静止摩擦係数を有する材料にすることができる。「高摩擦材料」は、鋼に対して測定されるように、０．６より大きく、例えば、０．７より大きく、０．８より大きく、０．９より大きく、又は更には１．０より大きい乾燥静止摩擦係数を有する材料にすることができる。

多くの実施形態においては、低摩擦層１１０４は、ガラス繊維、炭素繊維、シリコン、ＰＥＥＫ、芳香族ポリエステル、炭素粒子、青銅、フルオロポリマー、熱可塑性充填剤、酸化アルミニウム、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ＰＰＳ、ポリフェニレンスルホン（ＰＰＳＯ２）、ＬＣＰ、芳香族ポリエステル、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、グラフェン、膨張グラファイト、窒化ホウ素、タルク、フッ化カルシウム、又はそれらの任意の組み合わせを含む充填剤を更に含んでもよい。加えて、充填剤は、アルミナ、シリカ、二酸化チタン、フッ化カルシウム、窒化ホウ素、マイカ、ウォラストナイト、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア、カーボンブラック、顔料、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。充填剤は、ビーズ、繊維、粉末、メッシュ、又はそれらの任意の組み合わせの形態にすることができる。

一実施形態においては、低摩擦層１１０４は、約１ミクロン～約１０００ミクロンの間、例えば、約１０ミクロン～約５００ミクロンの間、例えば、約５０ミクロン～約４００ミクロンの間、例えば、約１００ミクロン～約３００ミクロンの間の厚さＴ_ＬＦＡを有することができる。多くの実施形態においては、低摩擦層１１０４は、約１５０～２５０ミクロンの間の厚さＴ_ＬＦＡを有してもよい。低摩擦層１１０４の厚さＴ_ＬＦＡは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。低摩擦層１１０４の厚さは均一であってもよく、すなわち、低摩擦層１１０４の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと等しくすることができる。低摩擦層１１０４の厚さは不均一であってもよく、すなわち、低摩擦層１１０４の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと異なることができる。異なる低摩擦層１１０４は、異なる厚さを有してもよいことが理解されることができる。

複合材料１０００はまた、低摩擦層１１０４を基板１１１９に結合してもよい少なくとも１つの接着層１１２１、及び低摩擦層１１０４を含んでもよい。別の代替実施形態においては、固体構成要素、織りメッシュ、又はエキスパンドメタルグリッドとしての基板１１１９は、低摩擦層１１０４と基板１１１９との間に含まれる少なくとも１つの接着層１１２１の間に埋め込まれてもよい。

接着層１１２１は、フルオロポリマー、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテル／ポリアミドコポリマー、エチレンビニルアセテート、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ＥＴＦＥコポリマー、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、又はそれらの任意の組み合わせ（これらに限定されない）を含む連鎖技術に共通する任意の既知の接着材料を含んでもよい。加えて、接着剤は、－Ｃ＝Ｏ、－Ｃ－Ｏ－Ｒ、－ＣＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＯＯＲ、－ＣＦ_２＝ＣＦ－ＯＲ、又はそれらの任意の組み合わせから選択される少なくとも１つの官能基を含むことができ、Ｒは、１～２０の間の炭素原子を含む環状又は線状有機基である。加えて、接着剤はコポリマーを含むことができる。一実施形態においては、ホットメルト接着剤は、２５０℃以下、例えば、２２０℃以下の溶融温度を有することができる。一実施形態においては、接着剤は、２００℃より上、例えば、２２０℃より上で分解してもよい。更なる実施形態においては、ホットメルト接着剤の溶融温度は、２５０℃より高く、又は更には３００℃より高くすることができる。接着層１１２１は、約１ミクロン～約５００ミクロンの間、例えば、約１０ミクロン～約２５０ミクロンの間、例えば、約３０ミクロン～約１５０ミクロンの間、例えば、約４０ミクロン～約１００ミクロンの間の厚さＴ_ＡＬを有することができる。多くの実施形態においては、接着層１１２１は、約５０～２５０ミクロンの間の厚さＴ_ＡＬを有することができる。多くの実施形態においては、接着層１１２１は、約８０ミクロン～１２０ミクロンの間の厚さＴ_ＡＬを有することができる。接着層１１２１の厚さＴ_ＡＬは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。接着層１１２１の厚さは均一であってもよく、すなわち、接着層１１２１の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと等しくすることができる。接着層１１２１の厚さは不均一であってもよく、すなわち、接着層１１２１の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと異なることができる。異なる接着層１１２１は、異なる厚さを有してもよいことが理解されることができる。

図２Ｂは、形成プロセス１０の第２のステップ１４の低摩擦構成要素に形成されてもよい複合材料１００３の代替の実施形態の例示を含む。この特定の実施形態によれば、複合材料１００３は、この複合材料１００３がまた、少なくとも１つの腐食保護層１７０４、１７０５、及び１７０８、並びに接着促進剤層１１２７、及び基板１１１９と低摩擦層１１０４とに結合してもよいエポキシ層１１２９を含むことができる耐食性コーティング１１２４を含んでもよいことを除いて、複合材料１０００と同様であってもよい。

基板１１１９は、処理前に複合材料１００３の腐食を防止するために、腐食保護層１７０４及び１７０５で被覆されてもよい。加えて、腐食保護層１７０８が層１７０４の上に適用されることができる。層１７０４、１７０５、及び１７０８の各々は、約１～５０ミクロン、例えば、約７～１５ミクロンの厚さを有することができる。層１７０４及び１７０５は、亜鉛、鉄、マンガン、若しくはそれらの任意の組み合わせのリン酸塩、又はナノセラミック層を含むことができる。更に、層１７０４及び１７０５は、機能性シラン、ナノスケールのシランベースのプライマー、加水分解シラン、オルガノシラン接着促進剤、溶剤／水ベースのシランプライマー、塩素化ポリオレフィン、不動態化表面、市販の亜鉛（機械／電気亜鉛）、若しくは亜鉛－ニッケルコーティング、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。層１７０８は、機能性シラン、ナノスケールのシランベースのプライマー、加水分解シラン、オルガノシラン接着促進剤、溶媒／水ベースのシランプライマーを含むことができる。腐食保護層１７０４、１７０６、及び１７０８は、処理中に除去又は保持されることができる。

上述のように、複合材料１００３は、耐食性コーティング１１２５を更に含んでもよい。耐食性コーティング１１２５は、約１～５０ミクロン、例えば、約５～２０ミクロン、及び例えば、約７～１５ミクロンの厚さを有することができる。耐食性コーティング１１２５は、接着促進剤層１１２７及びエポキシ層１１２９を含むことができる。接着促進剤層１１２７は、亜鉛、鉄、マンガン、スズ、若しくはそれらの任意の組み合わせのリン酸塩、又はナノセラミック層を含むことができる。接着促進剤層１１２７は、機能性シラン、ナノスケールのシランベースの層、加水分解シラン、有機シラン接着促進剤、溶剤／水ベースのシランプライマー、塩素化ポリオレフィン、不動態化表面、市販の亜鉛（機械／ガルバニック）、若しくは亜鉛－ニッケルコーティング、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。エポキシ層１１２９は、熱硬化エポキシ、ＵＶ硬化エポキシ、ＩＲ硬化エポキシ、電子ビーム硬化エポキシ、放射線硬化エポキシ、又は空気硬化エポキシにすることができる。更に、エポキシ層１１２９は、ポリグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、オキシラン、オキサシクロプロパン、エチレンオキシド、１，２－エポキシプロパン、２－メチルオキシラン、９，１０－エポキシ－９，１０－ジヒドロアントラセン、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。エポキシ層１１２９は、硬化剤を更に含むことができる。硬化剤は、アミン、酸無水物、フェノールノボラックポリ［Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）マレイミド］（ＰＨＰＭＩ）のようなフェノールノボラック硬化剤、レゾールフェノールホルムアルデヒド、脂肪アミン化合物、無水ポリカーボネート、ポリアクリレート、イソシアネート、被包されたポリイソシアネート、三フッ化ホウ素アミン複合体、クロムベースの硬化剤、ポリアミド、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。概して、酸無水物は、化学式Ｒ－Ｃ＝Ｏ－Ｏ－Ｃ＝Ｏ－Ｒ’に従うことができ、Ｒは上記のようにＣ_ＸＨ_ＹＸ_ＺＡ_Ｕにすることができる。アミンは、モノエチルアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、等のような脂肪族アミン、脂環式アミン、環状脂肪族アミンのような芳香族アミン、シクロ脂肪族アミン、アミドアミン、ポリアミド、ジシアンジアミド、イミダゾール誘導体、等、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。概して、アミンは、第１級アミン、第２級アミン、又は化学式Ｒ_１Ｒ_２Ｒ_３Ｎに従う第３級アミンにすることができ、Ｒは上記のようにＣ_ＸＨ_ＹＸ_ＺＡ_Ｕにすることができる。一実施形態においては、エポキシ層１１２９は、導電性を改善するために、充填剤、例えば、炭素充填剤、炭素繊維、炭素粒子、グラファイト、金属充填剤、例えば、青銅、アルミニウム、及び他の金属、並びにそれらの合金、金属酸化物充填剤、金属被覆炭素充填剤、金属被覆ポリマー充填剤、又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。導電性充填剤は、電流がエポキシコーティングを通過することを許容することができ、導電性充填剤を有さない複合材料と比較して、複合材料の導電率を増加させることができる。

一実施形態においては、複合材料１０００、１００３、及び／又は複合材料１０００、１００３から形成される結果として生じる低摩擦構成要素は、０．０１ｍｍ～５ｍｍの範囲、例えば、０．１５ｍｍ～２．５ｍｍの範囲、又は更には、０．２ｍｍ～１ｍｍの範囲の厚さＴ_ＬＦＣを有することができる。複合材料１０００、１００３は、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよい厚さＴ_ＬＦＣを有することができることが更に理解されるであろう。複合材料１００、１００３は、均一であってもよい厚さＴ_ＬＦＣを有することができ、すなわち、複合材料の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと等しくすることができる。複合材料１００、１００３は、不均一であってもよい厚さＴ_ＬＦＣを有することができ、すなわち、複合材料の第１の位置における厚さは、それに沿った第２の位置における厚さと異なることができる。

一実施形態においては、図１のステップ１４の下で、上記のような複合材料１０００、１００３の層の何れも、それぞれ、加圧下で、高温において（熱間若しくは冷間又はプレス若しくは圧延）、接着剤によって、又はそれらの任意の組み合わせによって共に接合するために、ロール状に配置され、それから剥がされることができる。上記のような複合材料１０００、１００３の層の何れも、それらが少なくとも部分的に互いに重なり合うように共に積層されてもよい。

一実施形態においては、図１のステップ１４の下で、少なくとも１つの低摩擦構成要素は、ハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも１つに、例えば、ハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも１つと分子的に関連付けられ、又は接続されることによって接合されてもよい。互いに分子的に関連付けられ、又は接続されることは、低摩擦構成要素、及びハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも一方が分子間力を介して共に保持されることを意味する。境界面においては、低摩擦構成要素又は介在物質、及びハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも一方の分子が部分的に混合される。多くの実施形態においては、少なくとも１つの低摩擦構成要素は、成形、接着剤の使用、溶接、機械的取り付けによって、ハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも１つに接合されてもよく、又は異なる方法で接合されてもよい。多くの実施形態においては、ハウジングは、射出成形プロセスによって形成されてもよく、低摩擦構成要素は、ハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも一方に、又はそれとオーバーモールドされてもよい。

次に、本明細書で説明される実施形態に従って形成されたストラットベアリングを検討すると、図３は、本明細書で説明される実施形態による組み立てられたストラットベアリング１００の上面図を含む。図４は、本明細書で説明される実施形態による組み立てられたストラットベアリング１００の側面図を含む。図５は、本明細書で説明される実施形態による組み立てられていないストラットベアリング１００のハウジング１０２上面図を含む。図６Ａは、本明細書で説明される実施形態による組み立てられていないストラットベアリング１００の上面図を含む。図６Ｂは、本明細書で説明される実施形態による組み立てられていないハウジング１０２の上面斜視図を含む。例示の目的のために、図３～図６Ｂは、中心軸線Ａの周りに方向付けられたハウジング１０２を含むことができる、本明細書で説明される実施形態によるストラットベアリング１００の図を示す。ハウジング１０２は、上部部品１１０及び底部部品１３０を更に含むことができる。ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）は、内側径方向縁部１０３及び外側径方向縁部１０５を含むことができる。内側径方向縁部１０３は、ハウジング１０２において開口部１８０を少なくとも部分的に画定してもよい。ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも１つを含む）は、第１の軸面１０６と、中心軸線Ａの下方に方向付けられ、厚さＴ_Ｈによって離間された第１の軸面１０６の反対側の第２の軸面１０８とを含むことができる。ハウジング１０２は、中心軸線Ａに垂直な平面で見た場合に、多角形、楕円形、円形、半円形、又は実質的に円形の断面を有してもよい。多くの実施形態においては、ハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０は、互いに対して回転するように適合されてもよい。

多くの実施形態においては、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）は、特定の厚さＴ_Ｈを有してもよい。本明細書で説明される実施形態の目的のために、図４に示されるように、ハウジング１０２の厚さＴ_Ｈは、第１の軸面１０６から第２の軸面１０８までの距離である。特定の実施形態によれば、ハウジング１０２の厚さＴ_Ｈは、少なくとも約１ｍｍ、例えば、少なくとも約２ｍｍ、又は少なくとも約５ｍｍ、又は少なくとも約１０ｍｍ、又は少なくとも約１５ｍｍ、又は更には少なくとも約２０ｍｍであってもよい。更なる他の実施形態によれば、ハウジング１０２の厚さＴ_Ｈは、約２０ｍｍ以下、例えば、約１５ｍｍ以下、約１０ｍｍ以下、又は更には約５ｍｍ以下であってもよい。ハウジング１０２の厚さＴ_Ｈは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。ハウジング１０２の厚さＴ_Ｈは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。ハウジング１０２の厚さＴ_Ｈは、その周囲に沿って変化してもよいことがまた理解されるであろう。異なるハウジング部品１１０、１３０が異なる厚さを有してもよいことが理解されることができる。

多くの実施形態においては、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）は、特定の内側半径ＩＲ_Ｈを有してもよい。本明細書で説明される実施形態の目的のために、図５に示されるように、ハウジング１０２の内側半径ＩＲ_Ｈは、中心軸線Ａから内側径方向縁部１０３までの距離である。特定の実施形態によれば、ハウジング１０２の内側半径ＩＲ_Ｈは、少なくとも約１０ｍｍ、又は少なくとも約２０ｍｍ、又は少なくとも約３０ｍｍ、又は少なくとも約４０ｍｍ、又は更には少なくとも約５０ｍｍであってもよい。更に他の実施形態によれば、ハウジング１０２の内側半径ＩＲ_Ｈは、約１００ｍｍ以下、例えば、約５０ｍｍ以下、又は更には約２５ｍｍ以下であってもよい。ハウジング１０２の内側半径ＩＲ_Ｈは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。ハウジング１０２の内側半径ＩＲ_Ｈは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。ハウジング１０２の上部部品１１０の内側半径ＩＲ_Ｈは、ハウジング１０２の底部部品１３０の内側半径ＩＲ_Ｈから変化してもよいことがまた理解されることができる。ハウジング１０２の内側半径ＩＲ_Ｈは、その周囲に沿って変化してもよいことがまた理解されることができる。異なるハウジング部品１１０、１３０が異なる内側半径を有してもよいことが理解されることができる。

多くの実施形態においては、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）は、特定の外側半径ＯＲ_Ｈを有してもよい。本明細書で説明される実施形態の目的のために、図５に示されるように、ハウジング１０２の外側半径ＯＲ_Ｈは、中心軸線Ａから外側径方向縁部１０５までの距離である。特定の実施形態によれば、ハウジング１０２の外側半径ＯＲ_Ｈは、少なくとも約１０ｍｍ、又は少なくとも約２０ｍｍ、又は少なくとも約３０ｍｍ、又は少なくとも約４０ｍｍ、又は更には少なくとも約５０ｍｍであってもよい。更に他の実施形態によれば、ハウジング１０２の外側半径ＯＲ_Ｈは、約１００ｍｍ以下、例えば、約５０ｍｍ以下、又は更には約２５ｍｍ以下であってもよい。ハウジング１０２の外側半径ＯＲ_Ｈは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。ハウジング１０２の外側半径ＯＲ_Ｈは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。ハウジング１０２の上部部品１１０の外側半径ＯＲ_Ｈは、ハウジング１０２の底部部品１３０の外側半径ＯＲ_Ｈから変化してもよいことがまた理解されることができる。ハウジング１０２の外側半径ＯＲ_Ｈは、その周囲に沿って変化してもよいことがまた理解されることができる。異なるハウジング部品１１０、１３０が異なる外側半径を有してもよいことが理解されることができる。

一実施形態においては、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）の内側径方向縁部１０３は、ストラットベアリング１００における開口部１８０を少なくとも部分的に画定してもよい。開口部１８０は、中心軸線Ａに概して垂直な平面で見た場合に、多角形、楕円形、円形、半円形、又は実質的に円形の断面を有してもよい。開口部１８０は、不均一な形状であってもよい。

図６Ａを検討すると、ストラットベアリング１００は、少なくとも１つの低摩擦構成要素１５０を更に含んでもよい。各低摩擦構成要素１５０は、内側径方向縁部１５３、外側径方向縁部１５５、第１の周方向縁部１５７、及び第２の周方向縁部１５９を含んでもよい。低摩擦構成要素１５０は、第１の軸面１５６と、中心軸線Ａの下方に方向付けられ、厚さＴ_Ｉによって離間された第１の軸面１０６の反対側の第２の軸面１５８とを含むことができる。低摩擦構成要素１５０は、中心軸線Ａに垂直な平面で見た場合に、多角形、楕円形、円形、半円形、又は実質的に円形の断面を有してもよい。図６Ａに示されるように、複数の低摩擦構成要素１５０は、基板１１１９と、各基板１１１９の上に位置する対応する低摩擦層１１０４とを含んでもよい。各低摩擦構成要素１５０は、本明細書で説明されるように低摩擦材料を担持するそれ自体の基板１１１９を有することができるが、複数の低摩擦構成要素１１５０は、共通の基板１１１９を共有することができ、環状リングを形成することができる。

多くの実施形態においては、図６に示されるように、低摩擦構成要素１５０は、第１の周方向縁部１５７から第２の周方向縁部１５９までの弧長で測定された幅Ｗ_ＬＦＣを有してもよい。幅Ｗ_ＬＦＣは、式Ｗ_ＬＦＣ＝ＣΘ／３６０によって計算されることができ、Θは、中心軸線Ａに対して第１の周方向縁部１５７と第２の周方向縁部１５９との間で形成される角度であり、Ｃは、ストラットベアリング１００の低摩擦構成要素１５０の内側径方向縁部１５３によって形成された最適な円に沿ったストラットベアリング１００の周囲である。特定の実施形態においては、少なくとも１つの低摩擦構成要素１５０の幅Ｗ_ＬＦＣは、少なくとも約１ｍｍ、例えば、少なくとも約２ｍｍ、又は少なくとも約５ｍｍ、又は少なくとも約１０ｍｍ、又は少なくとも約２０ｍｍ、又は更には少なくとも約５０ｍｍであってもよい。更に他の実施形態によれば、低摩擦構成要素１５０の幅Ｗ_ＬＦＣは、約１００ｍｍ以下、例えば、約５０ｍｍ以下、又は更には約２５ｍｍ以下であってもよい。低摩擦構成要素１５０の幅Ｗ_ＬＦＣは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。低摩擦構成要素１５０の幅Ｗ_Ｉは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。低摩擦構成要素１５０の幅Ｗ_ＬＦＣは、その周囲に沿って変化してもよく、複数の低摩擦構成要素１５０に亘って変化してもよいことがまた理解されることができる。異なる低摩擦構成要素１５０、１５０が異なる幅を有してもよいことが理解されることができる。

低摩擦構成要素は、ストラットベアリング１００の周囲の１°～９０°の間、例えば、１°～４５°の間、例えば、１°～３０°の間、例えば、１°～２０°の間、又は例えば１°～１５°の間の弧に及んでもよい。

図５及び図６Ａの両方に示されるように、ストラットベアリング１００は、複数の低摩擦構成要素１５０、１５０を含んでもよい。低摩擦構成要素１５０は、互いから周方向にオフセットされることができる。低摩擦構成要素１５０、１５０は、ハウジング１５０（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）に形成された少なくとも１つの溝１３７によって、互いから周方向にオフセットされることができる。少なくとも１つの溝１３７は、低摩擦構成要素１５０が配置されてもよい間隙、スロット、チャネル、又は窪みであってもよい。少なくとも１つの径方向スロット１３７は、中心軸線Ａに概して垂直な平面で見た場合に、多角形、楕円形、円形、半円形、又は実質的に円形の断面を有してもよい。

上述のように、図５に示されるように、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）の内側径方向縁部１０３又は外側径方向縁部１０５は、それぞれがハウジング１０２から延伸する複数の軸線方向タブ１６０を含んでもよい。図４及び図５に示されるように、軸線方向タブ１６０は、互いから周方向にオフセットされることができる。軸線方向タブ１６０は、互いから周方向にオフセットされることができ、内部空隙１９０を形成するために、対応する軸線方向スロット１６２を介してハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０を対にしてもよく、又は結合してもよい。低摩擦構成要素１５０は、ハウジング１０２の上部部品１１０と底部部品１３０との結合の間に作り出された内部空隙１９０内に配置されてもよい。少なくとも１つの軸線方向タブ１１０は、中心軸線Ａに概して垂直な平面で見た場合に、多角形、楕円形、円形、半円形、又は実質的に円形の断面を有してもよい。一実施形態においては、ハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０は、ねじ山又はねじ切り、ボルト、バテン、バックル、クランプ、クリップ、フランジ、フロッグ、グロメット、ホック、ラッチ、ペグ、釘、リベット、スクリューアンカー、スナップファスナー、ステッチ、ねじファスナー、タイ、トグルボルト、ウェッジアンカー、接着剤（上記の接着層１１２１のために列挙された接着剤を含むが、これらに限定されない）の少なくとも１つを含む異なる取り付け手段を介して取り付けてもよく、又は異なる方法で共に取り付けられてもよい。

一実施形態においては、上述のように、低摩擦構成要素１５０は、ハウジング１０２の上部部品１１０又は底部部品１３０の少なくとも１つとオーバーモールドされてもよく、又は他の方法で結合されてもよい。一実施形態においては、オーバーモールドは、低摩擦層を露出させた状態で、低摩擦構成要素１５０の基板１１１９に対して行われてもよい。図４Ｂに最も良く示されるように、少なくとも１つの低摩擦層１１０４を露出させてもよい一方で、基板１１１９は、底部部品１３０にオーバーモールドされてもよい。一実施形態においては、低摩擦層１１０４は、低摩擦構成要素１５０が接合されてもよいハウジング１０２の上部部品１１０又は底部部品１３０の一方に対して反対側の他方の対向面１１５に接触してもよい。図４Ｂに最も良く示されるように、低摩擦層１１０４は、低摩擦構成要素１５０が結合されてもよいもの（すなわち、底部部品１３０）に対して反対側のハウジング１０２の上部部品１１０の対向面１１５に接触する。これはまた、低摩擦構成要素１５０が上部部品１１０に接合されてもよい一方で、低摩擦層１１０４がハウジング１０２の底部部品１３０の対向面に接触することによって行われてもよい。一実施形態においては、複数の低摩擦構成要素層１１０４は、複数の低摩擦層１１０４が、低摩擦構成要素１５０が接合されてもよいハウジング１０２の上部部品１１０又は底部部品１３０の一方に対して反対側の他方の対向面１１５に接触するように露出されてもよい。

多くの実施形態においては、上述のように、ハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０は、互いに対して回転するように適合されてもよい。ハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０の互いに対する回転は、低摩擦層１１０４が摺動する対向面１１５に沿って環状トラック１１７を画定してもよい。対向面１１５に沿った環状トラック１１７に沿った低摩擦層１１０４の摺動は、ハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０の対向面との低摩擦境界面を形成してもよい。図６Ｂに最も良く示されているように、例えば、低摩擦層１１０４は、ハウジング１０２の上部部品１１０の対向面１１５と接触し、上部部品１１０及び底部部品１３０が互いに対して回転する場合には、低摩擦層１１０４は、低摩擦構成要素１５０が接合されてもよいもの（すなわち、底部部品１３０）に対して反対側の上部部品１１０の対向面１１５における環状トラック１１７に沿って摺動する。上述のように、上部部品１１０が低摩擦構成要素１５０に接合されてもよい一方で、環状トラック及び対向面が底部部品１３０に位置するように、方向付けが逆になってもよい。一実施形態においては、低摩擦層１１０４は、環状トラック１１７の表面積の８０％未満、例えば、環状トラック１１７の表面積の７０％未満、環状トラック１１７の表面積の６０％未満、環状トラック１１７の表面積の５０％未満、又は環状トラック１１７の表面積の４０％未満に接触してもよい。

多くの実施形態においては、図４Ａに示されるように、ストラットベアリング１００は、厚さＴ_ＳＢを有することができる。本明細書で説明される実施形態の目的のために、ストラットベアリング１００の厚さＴ_ＳＢは、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも１つを含む）の第１の軸面１０６から第２の軸面１０８までの距離である。特定の実施形態によれば、ストラットベアリング１００の厚さＴ_ＳＢは、少なくとも約１ｍｍ、例えば、少なくとも約２ｍｍ、又は少なくとも約５ｍｍ、又は少なくとも約１０ｍｍ、又は更には少なくとも約１５ｍｍであってもよい。更に他の実施形態によれば、ストラットベアリング１００の厚さＴ_ＳＢは、約２０ｍｍ以下、例えば、約１５ｍｍ以下、約１０ｍｍ以下、又は更には約５ｍｍ以下であってもよい。ストラットベアリング１００の厚さＴ_ＳＢは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。ストラットベアリング１００の厚さＴ_ＳＢは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。例えば、ストラットベアリング１００の軸線方向の厚さＴ_ＳＢは、１０ｍｍ未満であってもよい。ストラットベアリング１００の厚さＴ_ＳＢは、その周囲に沿って変化してもよいことがまた理解されることができる。

多くの実施形態においては、図４に示されるように、ストラットベアリング１００は、全体的な内側半径ＩＲ_ＳＢを有してもよい。本明細書で説明される実施形態の目的のために、ストラットベアリング１００の内側半径ＩＲ_ＳＢは、中心軸線Ａからストラットベアリング１００の径方向最内周までの距離であり、それは、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも一方を含む）の内側径方向縁部１０３であってもよい。特定の実施形態によれば、ストラットベアリング１００の内側半径ＩＲ_ＳＢは、少なくとも約１ｍｍ、例えば、少なくとも約１０ｍｍ、又は少なくとも約２０ｍｍ、又は少なくとも約３０ｍｍ、又は少なくとも約４０ｍｍ、又は更には少なくとも約５０ｍｍであってもよい。更に他の実施形態によれば、ストラットベアリング１００の内側半径ＩＲ_ＳＢは、約５００ｍｍ以下、例えば、約２５０ｍｍ以下、又は更には約１００ｍｍ以下であってもよい。ストラットベアリング１００の内側半径ＩＲ_ＳＢは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。ストラットベアリング１００の内側半径ＩＲ_ＳＢは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。ストラットベアリング１００の内側半径ＩＲ_ＳＢは、その周囲に沿って変化してもよいことがまた理解されることができる。

多くの実施形態においては、図４に示されるように、ストラットベアリング１００は、全体的な外側半径ＯＲ_ＳＢを有してもよい。本明細書で説明される実施形態の目的のために、ストラットベアリング１００の外側半径ＯＲ_ＳＢは、中心軸線Ａからストラットベアリング１００の径方向最外周までの距離であり、それは、ハウジング１０２（上部部品１１０及び底部部品１３０の少なくとも１つを含む）の外側径方向縁部１０５であってもよい。特定の実施形態によれば、ストラットベアリング１００の外側半径ＯＲ_ＳＢは、少なくとも約１０ｍｍ、又は少なくとも約２０ｍｍ、又は少なくとも約３０ｍｍ、又は少なくとも約４０ｍｍ、又は更には少なくとも約５０ｍｍであってもよい。更に他の実施形態によれば、ストラットベアリング１００の外側半径ＯＲ_ＳＢは、約５００ｍｍ以下、例えば、約２５０ｍｍ以下、又は更には約１００ｍｍ以下であってもよい。ストラットベアリング１００の外側半径ＯＲ_ＳＢは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあってもよいことが理解されるであろう。ストラットベアリング１００の外側半径ＯＲ_ＳＢは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。ストラットベアリング１００の外側半径ＯＲ_ＳＢは、その周囲に沿って変化してもよいことがまた理解されることができる。

例示の目的のために、図７は、本明細書で説明される実施形態によるアセンブリ５００内のストラットベアリング１００の側面図を含む。アセンブリ５００は、車両用のサスペンションアセンブリ又はストラットアセンブリであってもよい。多くの実施形態においては、ストラットベアリング１００は、車両用のサスペンションストラットベアリングであってもよい。多くの実施形態においては、アセンブリ５００は、車輪５０２、シャーシ又は車体５０４、ステアリングナックル５０６、及びステアリングナックル５０６から上方に延伸するサスペンションストラット５５０を含むことができる。サスペンションストラット５５０は、トップマウント５７０（シャーシ又は車体５０４にまた接続してもよい）を有するジョイント５６０を含み、その中で終端してもよい。多くの実施形態においては、サスペンションストラット５５０は、メインストラットロッド５５２と、ストラットロッド５５２と一体であり、それを取り囲むスプリング５５４とを含んでもよい。ストラッドロッド５５２は、油圧シリンダを含んでもよい。ジョイント５６０は、アセンブリ５００内にストラットベアリング１００を収容してもよい。一実施形態においては、ストラッドロッド５５２は、車輪５０２を回転させるために、シャーシ若しくは車体５０４又はトップマウント５７０の少なくとも１つに対して回転するように適合されてもよい。この回転は、ストラットベアリング１００の上部部品１１０及び底部部品１３０が互いに対して回転することを許容してもよく、上記の低摩擦境界面が生じる。別の実施形態においては、ストラットロッド５５２及びストラットベアリング１００の少なくとも一部は、シャーシ若しくは車体５０４又はトップマウント５７０の少なくとも１つに対して回転するように適合されてもよい。サスペンションストラット５５０は、ねじ山又はねじ切り、ボルト、バテン、バックル、クランプ、クリップ、フランジ、フロッグ、グロメット、ホック、ラッチ、ペグ、釘、リベット、スクリューアンカー、スナップファスナー、ステッチ、ねじファスナー、タイ、トグルボルト、ウェッジアンカー（これらに限定されない）を含むこれらの構成要素の何れかの間のファスナーを更に含んでもよく、又は別のタイプであってもよい。ストラットベアリング１００は、アセンブリ５００においてその開口部１８０を通ってストラットロッド５５２に隣接して、又はそれに接触して配置されることができる。多くの実施形態においては、開口部１８０は、上記で列挙されたサスペンションストラット５５０の構成要素の何れかを含むストラットの上部を取り囲むように適合されてもよい。多くの実施形態においては、ストラットベアリング１００は、アセンブリ５００におけるストラットロッド５５２の周りに設置又は配置されてもよい。多くの実施形態においては、ストラットベアリングのハウジング１０２は、上記で列挙されたサスペンションストラッド５５０の構成要素の何れかを含むストラットの上部と嵌合し、それを取り囲み、さもなければそれを収容又はそれに接触するように適合されてもよい。

例示の目的のために、図８Ａは、本明細書で説明される実施形態によるアセンブリ５００内のストラットベアリング１００の断面図を含む。図８Ｂは、本明細書で説明される実施形態によるアセンブリ５００内のストラットベアリング１００の切り取られた側面図を含む。図７と同様に、図８Ａ及び図８Ｂは、サスペンションストラット５５０のトップマウント５７０とメインストラットロッド５５２との間のジョイント５６０におけるストラットベアリング１００を示す。アセンブリ５００は、スプリング５５４を少なくとも部分的に収容してもよいスプリングシート５５６を更に含んでもよい。アセンブリ５００は、メインストラットロッド５５２を少なくとも部分的に取り囲むダストブーツ５５８を更に含んでもよい。

特定の実施形態においては、ストラットベアリング１００は、ストラットロッド５５２の周りに配置されたストラットベアリング１００を有するストラットロッド５５２を含む内側部材を含むストラットアセンブリ５００に設置されてもよい。ストラットベアリング１００は、上部部品１１０及び底部部品１３０を含むハウジング１０２と、それぞれが低摩擦材料を含む複数の低摩擦層１１０４を含む少なくとも１つの低摩擦構成要素１００とを含んでもよく、低摩擦構成要素１００は、ハウジング１０２の上部部品１１０又は底部部品１３０の少なくとも一方に接合されてもよい。

少なくとも１つの実施形態において、アセンブリ５００は、その構成要素の何れかに潤滑剤を含んでもよい。少なくとも１つの実施形態において、潤滑剤は、リチウム石鹸、二硫化リチウム、グラファイト、鉱物油若しくは植物油、シリコーングリース、フルオロエーテルベースのグリース、アピエゾン、食品グレードのグリース、石油化学グリースの少なくとも１つを含むグリースを含んでもよく、又は異なるタイプであってもよい。少なくとも１つの実施形態においては、潤滑剤は、グループＩ～グループＩＩＩ＋油、パラフィン油、ナフテン油、芳香族油、生体潤滑剤、ヒマシ油、キャノーラ油、パーム油、ヒマワリ種子油、菜種油、トール油、ラノリン、合成油、ポリアルファ－オレフィン、合成エステル、ポリアルキレングリコール、リン酸エステル、アルキル化ナフタレン、シリケートエステル、イオン流体、多重アルキル化シクロペンタン、石油化学ベースの油の少なくとも１つを含む油を含んでもよく、又は異なるタイプであってもよい。少なくとも１つの実施形態においては、潤滑剤は、リチウム石鹸、グラファイト、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、ポリテトラフルオロエチレン、金属、金属合金の少なくとも１つを含む固体ベースの潤滑剤を含んでもよく、又は異なるタイプであってもよい。

一実施形態においては、アセンブリ５００は、内側部材に対して長手方向に、少なくとも１０Ｎ、例えば、少なくとも２０Ｎ、少なくとも３０Ｎ、少なくとも４０Ｎ、少なくとも５０Ｎ、少なくとも１００Ｎ、又は更には少なくとも１５０Ｎの組み立て力によって設置され、又は組み立てられることができる。更なる実施形態においては、アセンブリ５００は、内側部材に対して長手方向に、少なくとも１ｋｇｆ、例えば、１５００Ｎ以下、１０００Ｎ以下、７５０Ｎ以下、又は更には２５０Ｎ以下の組み立て力によって設置され、又は組み立てられることができる。

図９は、一実施形態によるストラットベアリング１００を、先行技術のストラットベアリング１００に対して比較する様々な測定基準の表を示す。ストラットベアリングＡは、先行技術のストラットベアリングのための先行技術のボールベアリング設計を示す。ストラットベアリングＢは、先行技術のストラットベアリングのための先行技術のスライドベアリング設計を示す。ストラットベアリングＣは、一実施形態によるストラットベアリング１００を示す。示されるように、ストラットベアリングＣは、先行技術のストラットベアリングより優れたトルク性能を提供する一方で、より薄い厚み及びより軽い重量で作動する。

更なる他の実施形態によれば、ストラットベアリング１００は、約１００ｇ以下、例えば、約７５ｇ以下、約５０ｇ以下、又は更には４０ｇ以下であってもよい重量を有することができる。

多くの実施形態においては、ストラットベアリング１００は、少なくとも約０．５Ｎ・ｍ、例えば、少なくとも約１Ｎ・ｍ、又は少なくとも約１．５Ｎ・ｍ、又は少なくとも約２Ｎ・ｍ、又は更には少なくとも約２．５Ｎ・ｍの最大－最小トルクを有することができる。更なる他の実施形態によれば、ストラットベアリング１００は、４５００及び１０００Ｎで測定されるように、約５Ｎ・ｍ以下、例えば、約３Ｎ・ｍ以下、又は更には約２．５Ｎｍ以下であってもよい最大－最小トルクを有することができる。ストラットベアリング１００の最大－最小トルクは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の範囲内にあることが理解されるであろう。ストラットベアリング１００の最大－最小トルクは、上記の最小値及び最大値の何れかの間の任意の値であってもよいことが更に理解されるであろう。

図１０は、一実施形態による組み立てられたストラットベアリング１００の断面側面図を含む。ストラットベアリング１００は、本明細書の組み立てられたストラットベアリング１００の他の実施形態において議論されたのと同様の特徴を含んでもよい。例えば、ストラットベアリング１００は、上部部品１１０及び底部部品１３０を含むハウジング１０２を含んでもよい。更に、ストラットベアリング１００は、ハウジング１０２の上部部品１１０又は底部部品１３０に接合された低摩擦層を含む少なくとも１つの低摩擦構成要素１５０を更に含んでもよい。任意選択で、ストラットベアリング１００は、少なくとも１つの分離機構１７０を更に含んでもよい。任意選択で、ストラットベアリング１００は、図１０に示されるように、複数の分離機構１７０、１７０’を更に含んでもよい。幾つかの実施形態においては、少なくとも１つの分離機構１７０は、ハウジング１３０の上部部品１１０又は底部部品１３０と隣接してもよい。幾つかの実施形態においては、少なくとも１つの分離機構１７０は、ハウジング１３０の上部部品１１０又は底部部品１３０の構成要素であってもよい。

少なくとも１つの分離機構１７０は、上部部品１１０と底部部品１３０との間に軸線方向に位置し、低摩擦構成要素１５０から周方向にオフセットされた空洞１７２に破片が入るのを防止するように適合された構成要素を含んでもよい。空洞１７２は、低摩擦構成要素１５０が組み立てられたストラットベアリング１００の上部部品１１０と底部部品１３０との間に摺動面を提供することを許容し、容易にするように設計されたグリース又は潤滑剤を収容してもよい。

一実施形態においては、少なくとも１つの分離機構１７０は、シール１７４を含んでもよい。多くの実施形態においては、シール１７４は、ジャケット１７４ａ及び付勢要素１７４ｂを含んでもよい。ジャケット１７４ａは、凹部１７４ｅを画定するフィンガ１７４ｃ及び１７４ｄを含んでもよい。一実施形態においては、フィンガ１７４ｃ及び１７４ｄは、凹部１７４ｅがまた対称であるように、線１１２について対称であってもよい。付勢要素１７４ｂは、凹部１７４ｅ内に配置され、例えば、凹部１７４ｅに部分的に配置され、又は凹部１７４ｅに全体的に配置されてもよい。一実施形態においては、フィンガ１７４ｃ及び１７４ｄの少なくとも１つは、凹部１７４ｅに向かって延伸する遠位フランジ１７５を含んでもよい。遠位フランジ１７５は、付勢要素１７４ｂの凹部１７４ｅからの脱落を防止してもよい。図１０に示されるように、例示的なシール１７４は、空洞１７２を形成するために、ハウジング１０２の上部部品１１０と底部部品１３０との間の境界面を提供するフィンガ１７４ｃ及び１７４ｄを含んでもよい。

付勢要素１７４ｂは、少なくとも１つの外方の方向に、例えば、フィンガ１７４ｃ及び１７４ｄの少なくとも一方に向かって、外方の付勢力を提供するように適合された本体を含んでもよい。一実施形態においては、付勢要素１７４ｂは、例えば、コイルスプリング又はＯ字形の断面輪郭を有する本体のようなスプリングから構成されてもよい。別の実施形態においては、付勢要素１７４ｂは、Ｄ字形、Ｕ字形、又はＣ字形から選択される断面輪郭を有してもよい。特定の実施形態においては、付勢要素１７４ｂは、付勢要素１７４ｂの表面がフィンガ１７４ｃ及び１７４ｄの少なくとも１つに隣接するように延伸する片持ちの輪郭を有してもよい。付勢要素１７４ｂの片持ちの部分は、フィンガ１７４ｃ及び１７４ｄを互いから離間するように外方に付勢してもよい。一実施形態においては、付勢要素１７４ｂは、ジャケット１７４ａに対して浮動してもよい。より具体的には、付勢要素１７４ｂは、凹部１７４ｅに対して自由に動いてもよい。別の実施形態においては、付勢要素１７４ｂは、例えば、接着剤、ジャケット１７４ａ及び付勢要素１７４ｂの一方若しくは両方の機械的変形、ねじ若しくは非ねじファスナーによって、又は付勢要素１７４ｂをジャケット１７４ａ内に少なくとも部分的に埋め込むことによって、ジャケット１７４ａに結合されてもよい。一実施形態においては、付勢要素１７４ｂの端部は、付勢要素１７４ｂのジャケット１７４ａからの脱落を防止するために、ジャケット１７４ａ内に被包されてもよい。接着剤を使用する実施形態においては、接着層（示されていない）が、付勢要素１７４ｂの少なくとも一部とジャケット１７４ａとの間に配置されてもよい。別の実施形態においては、ジャケット１７４ａが、付勢要素自体として機能し、追加の付勢要素１７４ｂを必要とすることなくシステムを密閉してもよい。これは、フィンガ１７４ｃ、１７４ｄが上部部品１１０又は底部部品１３０に接触するように形成されている方向を通じて行われてもよい。

非限定的な例として、付勢要素１７４ｂは、ポリマー、金属、合金、又はそれらの組み合わせを含んでもよい。特定の実施形態においては、付勢要素１７４ｂは金属を含む。特定の実施形態においては、ジャケット１７４ａはポリマー材料を含んでもよい。例示的なポリマーは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ化エチレン－プロピレン（ＦＥＰ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリスルホン、ポリアミド（ＰＡ）、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリウレタン、ポリエステル、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、又はそれらの任意の組み合わせを含む。特定の実施形態によれば、ジャケット１０２はフルオロポリマーを含んでもよい。例示的なフルオロポリマーは、フッ化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びフッ化ビニリデン（ＴＨＶ）のターポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、又はそれらの任意の組み合わせを含む。ＰＴＦＥは、それが動いている構成要素間の低摩擦境界面を維持する一方で優れた密封特性を示すので、本明細書で説明される特定の実施形態に従って使用される。

一実施形態においては、少なくとも１つの分離機構１７０は、機械的境界面１７６を含んでもよい。一実施形態においては、機械的境界面１７６は、ハウジング１０２の上部部品１１０及び底部部品１３０を取り付け、空洞１７２を作り出してもよい。上記のように、機械的境界面１７６は、ねじ山又はねじ切り、ボルト、バテン、バックル、クランプ、クリップ、フランジ、フロッグ、グロメット、ホック、ラッチ、実矧ぎ、ペグ、釘、リベット、スクリューアンカー、スナップファスナー、ステッチ、ねじファスナー、タイ、トグルボルト、ウェッジアンカー、接着剤（上記の接着層１１２１のために列挙された接着剤を含むが、これらに限定されない）の少なくとも１つを含む異なる取り付け手段を介して取り付けてもよく、又は異なる方法で共に取り付けられてもよい。図１０に示されるように、例示的な取り付け手段１７６は、空洞１７２を形成するために、底部部品１３０の棚部１７６ｂとの境界面を提供する上部部品１１０上の舌部１７６ａを含んでもよい。異なる分離機構１７０が、シール１７４と機械的境界面１７６との単なる例示的な組み合わせを示す図１０との任意の組み合わせで、本明細書で使用されてもよいことが理解されたい。

ストラットベアリング１００又はアセンブリ５００の使用は、アセンブリ１００の厚さを減少させ、この結果、スタック高さを減少させることによって、より大きい利益をもたらしてもよい。更に、ストラットベアリング１００又はアセンブリ５００の使用は、他の既存のストラットベアリング又はアセンブリと比較した場合に、重量を減少させてもよい。更に、ストラットベアリング１００又はアセンブリ５００の使用は、他の既存のストラットベアリング又はアセンブリ（ボールベアリングを使用しない）と比較した場合に、より低いトルクを提供してもよい。更に、ストラットベアリング１００又はアセンブリ５００の使用は、他の既存のストラットベアリング又はアセンブリ（ボールベアリングを使用しない）と比較した場合に、２．５未満のより低い最大－最小トルクを提供してもよい。

多くの異なる態様及び実施形態が可能である。これらの態様及び実施形態の一部が以下で説明される。本明細書を読解した後、当業者は、これらの態様及び実施形態が単なる例示であり、本発明の範囲を限定しないことを理解するであろう。実施形態は、以下に列挙されるような実施形態の何れか１つ以上に従ってもよい。

実施形態１．ストラットベアリングは、上部部品及び底部部品を備えるハウジングと、それぞれが低摩擦材料を含む低摩擦層を備える複数の低摩擦構成要素であって、ハウジングの上部部品又は底部部品に接合されている複数の低摩擦構成要素とを備える。

実施形態２．ストラットアセンブリは、ストラットロッドを備える内側部材と、ストラットロッドの周りに配置されたストラットベアリングであって、上部部品及び底部部品を備えるハウジング、並びにそれぞれが低摩擦材料を含む低摩擦層を備える複数の低摩擦構成要素であって、ハウジングの上部部品又は底部部品に接合されている複数の低摩擦構成要素を備えるストラットベアリングとを備える。

実施形態３．ストラットベアリングを形成する方法は、上部部品及び底部部品を備えるハウジングを形成するステップと、少なくとも１つの低摩擦構成要素を、ハウジングの上部部品又は底部部品の少なくとも１つに接合するステップであって、少なくとも１つの低摩擦構成要素は、低摩擦材料を含む低摩擦層を備える、ステップとを含む。

実施形態４．実施形態１～３の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、少なくとも１つの低摩擦構成要素は、ハウジングの上部部品又は底部部品とオーバーモールドされている。

実施形態５．実施形態１～４の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、低摩擦構成要素の層の少なくとも１つは、低摩擦層が、少なくとも１つの低摩擦構成要素が接合されているハウジングの上部部品又は底部部品の一方に対して反対側の他方の対向面に接触するように露出されている。

実施形態６．実施形態１～４の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、複数の低摩擦構成要素の層は、複数の低摩擦層が、少なくとも１つの低摩擦構成要素が接合されているハウジングの上部部品又は底部部品の一方に対して反対側の他方の対向面に接触するように露出されている。

実施形態７．実施形態１～６の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ハウジングの上部部品及び底部部品は、互いに対して回転するように適合され、回転は、対向面に沿って環状トラックを画定し、低摩擦層は、対向面に沿って摺動する。

実施形態８．実施形態７のストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、低摩擦層は、環状トラックの表面積の８０％未満、例えば、環状トラックの表面積の７０％未満、環状トラックの表面積の６０％未満、環状トラックの表面積の５０％未満、又は環状トラックの表面積の４０％未満に接触する。

実施形態９．実施形態１～８の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、少なくとも１つの低摩擦構成要素は基板を更に備え、低摩擦層は基板の上に位置する。

実施形態１０．実施形態９のストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、基板は複数の基板セグメントを備え、各基板セグメントは対応する低摩擦層を支持する。

実施形態１１．実施形態９又は１０のストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、基板は、ポリマー、金属、又はセラミックを含む。

実施形態１２．実施形態１～１１の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、低摩擦材料は、ポリケトン、ポリアラミド、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアミドイミド、超高分子量ポリエチレン、熱可塑性フルオロポリマー、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、又はそれらの任意の組み合わせの少なくとも１つを含むポリマーを含む。

実施形態１３．実施形態１～１２の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、低摩擦材料は、フルオロポリマーを含む。

実施形態１４．実施形態１～１３の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、少なくとも１つの低摩擦構成要素は、基板と低摩擦層との間に配置された接着層を更に備える。

実施形態１５．実施形態１４のストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、接着層は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテル／ポリアミドコポリマー、エチレン酢酸ビニル、ＥＴＦＥコポリマー、又はそれらの任意の組み合わせを含む。

実施形態１６．実施形態１～１５の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ハウジングは、ポリアミドを含む。

実施形態１７．実施形態１～１６の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ストラットベアリングは、水、グリース、油、又は固体ベースの潤滑剤の少なくとも１つを含む潤滑剤を更に含む。

実施形態１８．実施形態１～１７の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ハウジングの上部部品及び底部部品は、共に結合して内部空隙を作り出すように適合されている。

実施形態１９．実施形態１８のストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、少なくとも１つの低摩擦構成要素は、内部空隙内に配置されている。

実施形態２０．実施形態１～１９の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、上部部品又は底部部品の少なくとも１つは、チャネルを画定する複数の溝を含む。

実施形態２１．実施形態１～２０の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、複数の低摩擦構成要素は、上部部品又は底部部品の少なくとも１つの複数のチャネル内に配置されている。

実施形態２２．実施形態１～２１の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ストラットベアリングは、車両用のサスペンションストラットベアリングである。

実施形態２３．実施形態１～２２の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ストラットベアリングは、約１Ｎｍより大きく、且つ約５Ｎｍより小さいトルク値を有する。

実施形態２４．実施形態１～２３の何れかのストラットベアリング、ストラットアセンブリ、又は方法において、ストラットベアリングは、約１Ｎｍより大きく、且つ約２．５Ｎｍより小さい最小－最大トルク値を有する。

上記の特徴の全てが要求されず、特定の特徴の一部が要求されなくてもよく、説明される特徴に加えて、１つ以上の特徴が提供されてもよいことに留意すべきである。また更に、特徴が説明される順序が、特徴が設置される順序とは限らない。

明確にするために、本明細書で別個の実施形態の文脈で説明される特定の特徴がまた、単一の実施形態に組み合わせて提供されてもよい。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される様々な特徴がまた、別個に、又は任意の部分的組み合わせで提供されてもよい。

利点、その他の長所、及び課題の解決策は、特定の実施形態に関して上記で説明されているが、任意の利点、長所、及び解決策を生じさせ、又はより顕著にさせてもよい利点、長所、課題の解決策、及び任意の特徴が、請求項の何れか又は全ての重要な特徴、要求される特徴、又は本質的な特徴として解釈されるべきではない。

本明細書で説明される実施形態の詳述及び例示は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供することが意図される。詳述及び例示は、本明細書で説明される構造又は方法を使用する装置及びシステムの全ての要素及び特徴の網羅的且つ包括的な説明としての機能を果たすことが意図されない。別個の実施形態がまた、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよく、逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される様々な特徴がまた、別個に又は任意の部分的組み合わせで提供されてもよい。更に、範囲に記載された値への言及は、その範囲内のありとあらゆる値を含む。多くの他の実施形態が、本明細書を読解した後にのみ当業者に明らかになってもよい。他の実施形態が、本開示の範囲から逸脱することなく、構造的置換、論理的置換、又は任意の変更が行われてもよいように、使用され、本開示から導き出されてもよい。よって、本開示は、限定的ではなく例示的なものと見なされるべきである。

Claims (15)

1. 環状形状を有する上部部品及び底部部品を備えるハウジングと、
   それぞれが低摩擦材料を含む低摩擦層を備える複数の低摩擦構成要素であって、前記ハウジングの前記上部部品又は前記底部部品に接合されている複数の低摩擦構成要素と、を備え、前記複数の低摩擦構成要素の少なくとも２つの低摩擦構成要素が互いから周方向にオフセットされ、前記上部部品又は前記底部部品の少なくとも１つが個々の低摩擦構成要素が配置される複数の溝を備え、前記複数の溝の少なくとも１つの溝が２つの側壁を備える、ストラットベアリング。
2. ストラットロッドを備える内側部材と、
   前記ストラットロッドの周りに配置されたストラットベアリングであって、
   環状形状を有する上部部品及び底部部品を備えるハウジング、並びに
   それぞれが低摩擦材料を含む低摩擦層を備える複数の低摩擦構成要素であって、前記ハウジングの前記上部部品又は前記底部部品に接合されている複数の低摩擦構成要素を備えるストラットベアリングと、を備え、前記複数の低摩擦構成要素の少なくとも２つの低摩擦構成要素が互いから周方向にオフセットされ、前記上部部品又は前記底部部品の少なくとも１つが個々の低摩擦構成要素が配置される複数の溝を備え、前記複数の溝の少なくとも１つの溝が２つの側壁を備える、ストラットアセンブリ。
3. ストラットベアリングを形成する方法であって、
   環状形状を有する上部部品及び底部部品を備えるハウジングを形成するステップと、
   複数の低摩擦構成要素を、前記ハウジングの前記上部部品又は前記底部部品の少なくとも１つに接合するステップであって、前記複数の低摩擦構成要素は、低摩擦材料を含む低摩擦層を備える、ステップと、を含み、
   前記複数の低摩擦構成要素の少なくとも２つの低摩擦構成要素が互いから周方向にオフセットされ、前記上部部品又は前記底部部品の少なくとも１つが個々の低摩擦構成要素が配置される複数の溝を備え、前記複数の溝の少なくとも１つの溝が２つの側壁を備える、方法。
4. 前記少なくとも１つの低摩擦構成要素は、前記ハウジングの前記上部部品又は前記底部部品とオーバーモールドされている、請求項１に記載のストラットベアリング。
5. 前記低摩擦構成要素の層の少なくとも１つは、前記低摩擦層が、前記少なくとも１つの低摩擦構成要素が接合されている前記ハウジングの前記上部部品又は前記底部部品の一方に対して反対側の他方の対向面に接触するように露出されている、請求項４に記載のストラットベアリング。
6. 複数の低摩擦構成要素の層は、前記複数の低摩擦層が、前記少なくとも１つの低摩擦構成要素が接合されている前記ハウジングの前記上部部品又は前記底部部品の一方に対して反対側の他方の対向面に接触するように露出されている、請求項４に記載のストラットベアリング。
7. 前記ハウジングの前記上部部品及び前記底部部品は、互いに対して回転するように適合され、前記回転は、前記対向面に沿って環状トラックを画定し、前記低摩擦層は、前記対向面に沿って摺動する、請求項１に記載のストラットベアリング。
8. 前記低摩擦層は、前記環状トラックの表面積の８０％未満に接触する、請求項７に記載のストラットベアリング。
9. 前記少なくとも１つの低摩擦構成要素は基板を更に備え、前記低摩擦層は前記基板の上に位置する、請求項１に記載のストラットベアリング。
10. 前記基板は複数の基板セグメントを備え、各基板セグメントは対応する低摩擦層を支持する、請求項９に記載のストラットベアリング。
11. 前記低摩擦材料は、ポリケトン、ポリアラミド、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアミドイミド、超高分子量ポリエチレン、熱可塑性フルオロポリマー、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、又はそれらの任意の組み合わせの少なくとも１つを含むポリマーを含む、請求項１に記載のストラットベアリング。
12. 前記ストラットベアリングは、水、グリース、油、又は固体ベースの潤滑剤の少なくとも１つを含む潤滑剤を更に含む、請求項１に記載のストラットベアリング。
13. 前記ハウジングの前記上部部品及び前記底部部品は、共に結合して内部空隙を作り出すように適合されている、請求項１に記載のストラットベアリング。
14. 前記少なくとも１つの低摩擦構成要素は、前記内部空隙内に配置されている、請求項１３に記載のストラットベアリング。
15. 前記ストラットベアリングは、約１Ｎｍより大きく、且つ約５Ｎｍより小さいトルク値を有する、請求項１に記載のストラットベアリング。

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