JP7365955B2 - 粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラム - Google Patents

粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラム Download PDF

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Description

本発明は、粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラムに関する。
溶液中に存在するコロイド粒子(以下、単に粒子とする)の大きさを測定する方法として、動的光散乱法が知られている。動的光散乱法では、溶液中に存在しブラウン運動する粒子に光を照射し、散乱光の変動に基づいて粒子径を算出する方法である(下記特許文献1参照)。また、撮像素子で撮像した画像により、各粒子の粒子径と頻度との関係を表す粒度分布を計測する装置もある(下記特許文献2参照)。
特開2002-296118号公報 特開2001-74642号公報
動的光散乱法は、粒子径の大きさによって必要とされる測定時間は異なる。特許文献1のように、測定時間が固定されている場合において、粒子径が小さい試料を測定対象とするとき、測定時間に無駄な時間が含まれるため、不必要に測定時間が長くなる。また、特許文献2のように撮像素子を用いて粒子径を測定すると、例えば100nm以下の小さい粒子径を測定することができない。
本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、測定対象となる粒子径に応じた適切な測定時間を設定することで、無駄な測定時間を省いた粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラムを提供することである。
上記課題を解決するために、本開示に係る粒子径測定方法は、予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定ステップと、前記テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出ステップと、前記自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、前記予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定ステップと、前記一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、前記試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光の本測定強度を測定する本測定ステップと、前記本測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出する粒子径算出ステップと、を含む。
上記課題を解決するために、本開示に係る粒子径測定装置は、予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定部と、前記テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出部と、前記自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、前記予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定部と、前記一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、前記試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光の本測定強度を測定する本測定部と、前記本測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出する粒子径算出部と、を含む。
上記課題を解決するために、本開示に係る粒子径測定プログラムは、予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定ステップと、前記テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出ステップと、前記自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、前記予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定ステップと、前記一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、前記試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光の本測定強度を測定する本測定ステップと、前記本測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出する粒子径算出ステップと、を前記試料の粒子径を測定する粒子径測定装置に用いられるコンピュータに実行させる。
図1は本実施形態に係る粒子径測定装置の概略構成を示す模式図である。 図2は本実施形態に係る測定部の概略構成の一例を示す図である。 図3はチャンネル設定テーブルの一例を示す図である。 図4は各チャンネルのサンプリング時間を説明するための図である。 図5は本実施形態にかかる粒子径を算出する方法を示すフローである。 図6は自己相関関数の一例を示す図である。 図7は自己相関関数の一例を示す図である。 図8は第1予備時間設定テーブルの一例を示す図である。 図9は第2予備時間設定テーブルの一例を示す図である。 図10は第3予備時間設定テーブルの一例を示す図である。 図11は本測定時間設定テーブルの一例を示す図である。
本開示における実施形態について、図面を用いて以下に説明する。
図1は、本実施形態の粒子径測定装置100の概略構成を示す模式図である。図1に示すように、本実施形態の粒子径測定装置100は、情報処理部102と測定部104とを含む。情報処理部102は、制御部106と、記憶部108と、表示部110と、入出力部112と、を含む。情報処理部102は、例えば、一般的なコンピュータである。制御部106、記憶部108、表示部110及び入出力部112は、データバス114により相互に電気信号のやり取りができるよう接続されている。
制御部106は、プロセッサであるCPU(Central Processing Unit)である。具体的には、制御部106は、機能的に、自己相関関数算出部116、設定部118、粒子径算出部120を含み、各部は、記憶部108に記憶されたプログラムに従って後述する動作を行う。
記憶部108は、RAM(Random Access Memory)などの主記憶装置及びHDD(Hard Disk Drive)やSSD(Solid State Drive)等の静的に情報を記録できる補助記憶装置である。記憶部108には、粒子径測定プログラムの他、情報処理部102に含まれる各部の動作を制御するプログラムが記憶される。また、記憶部108は、後述する各テーブルを予め記憶する。
表示部110は、CRT(Cathode Ray Tube)やいわゆるフラットパネルディスプレイ等である。表示部110は、ユーザに対して視覚的に画像を表示する。
入出力部112は、キーボードやマウス、タッチパネル等の、ユーザが情報を入力するための一又は複数の機器である。入出力部112は、情報処理部102が測定部104等の外部機器と情報をやり取りするための一又は複数のインタフェースである。例えば、入出力部112は、測定部104が測定した結果が入力される。入出力部112には、有線接続するための各種ポート及び、無線接続のためのコントローラが含まれていてよい。なお、ここで示した情報処理部102の構成は一例であり、これ以外の構成のものであってもよい。
測定部104は、機能的にテスト測定部122と本測定部124とを含む。テスト測定部122は、予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、試料により散乱された散乱光214(後述)のテスト測定強度を測定する。本測定部124は、テスト測定時間に含まれる測定タイミングのうちの一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、試料に光を照射し、試料により散乱された散乱光214の本測定強度を測定する。テスト測定部122と本測定部124の機能の詳細については後述する。図2は測定部104のハードウェア構成の概略を示す模式図である。なお、測定部104のハードウェア構成は既知のものであるため簡単な説明にとどめる。
図2に示すように、測定部104は、光源202と、試料ホルダ204と、ピンホール206と、受光部208と、を含む。光源202は、所与の波長のレーザー210を発する、例えば半導体レーザー発生装置である。試料ホルダ204は、測定対象となる試料が配置される。試料は、液体状であって、ブラウン運動する粒子212を含む。光源202が発したレーザー210は、試料に含まれる粒子212に照射されて散乱する。散乱光214は、ピンホール206を介して受光部208に入射する。
受光部208は、設定された時間、入射したフォトンの数を計数することで、散乱光214の強度の時間変化を測定する。具体的には、受光部208は、マルチチャンネルアナライザであって、各チャンネルに対応する半導体検出器と、各半導体検出器が検出したフォトンの数を係数する計数器と、を含む。受光部208は、各チャンネルが指定された期間、入射したフォトンの数を計数することにより、散乱光214の強度の時間変化を測定する。
本実施形態では、測定部104は、記憶部108に記憶された、サンプリング時間と、開始タイムラグと、終了タイムラグと、チャンネル数と、累計チャンネル数と、の関係に基づいて動作を行う。具体的には、例えば、記憶部108は、図3に示すような、グループと、サンプリング時間と、開始タイムラグと、終了タイムラグと、チャンネル数(ch数)と、累計チャンネル数(累計ch数)と、の関係を表すテーブルを記憶する。以下、図3に示すテーブルをチャンネル設定テーブルとする。
グループは、同じサンプリング時間が設定されたチャンネル群を表す番号である。サンプリング時間は、各チャンネルがフォトンの数を計数する時間であって、チャンネルごとに時間が設定される。各グループの開始タイムラグは、測定を開始したタイミングから、当該グループに属する各チャンネルがサンプリングを終了するタイミングのうち最も早いタイミングまでの時間である。各グループの終了タイムラグは、測定を開始したタイミングから、当該グループに属する各チャンネルがサンプリングを終了するタイミングのうち最も遅いタイミングまでの時間である。チャンネル数は、各グループに含まれるチャンネルの数を表す。累計チャンネル数は、対応するグループに含まれるチャンネル数と、当該グループより番号の小さいグループに含まれる全てのチャンネル数を累計した数を表す。なお、各グループに属するチャンネル数とサンプリング時間が設定されることにより、他の項目はチャンネル数とサンプリング時間に応じた所定の値に設定される。
測定部104は、制御部106の指示に基づいて、図3に含まれる1から設定されたグループまでに属するチャンネルを用いて、測定を行う。具体的には、例えば、測定部104が、グループ1から10に属するチャンネルを用いて測定を行う旨の指示を制御部106から取得した場合について、図4を用いて説明する。この場合、まず、測定部104は、グループ1に属する50チャンネルのチャンネルを用いてフォトンの数を係数する。
ここで、グループ1に属する各チャンネルは、サンプリングしている時間が重複しないようにかつ連続するように、それぞれ測定を開始するタイミング(以下、単に測定タイミングとする)が設定される。図3に示すように、グループ1に含まれる各チャンネルのサンプリング時間は0.1μsであり、グループ1の開始タイムラグは0.1μsであり、終了タイムラグは5μsであり、グループ1に含まれるチャンネル数は50である。従って、図4に示すように、グループ1に含まれる各チャンネルは、測定部104が制御部106から測定を開始する旨の指示に応じて測定を開始したタイミングから5μsの期間、順次フォトンの数を計数する。
そして、グループ1に含まれる最も測定タイミングの遅いチャンネルのサンプリング時間が終了後、サンプリングしている時間が重複しないようにかつ連続するように、グループ2に属するチャンネルは、サンプリングを開始する。グループ1と同様、グループ2に属する各チャンネルは、サンプリングしている時間が重複しないようにかつ連続するように、10μsの期間、順次フォトンの数を計数する。
同様に、グループ3からグループ10にそれぞれ含まれる各チャンネルが順次フォトンの数を計数する。その結果、測定部104は、グループ1からグループ10に含まれる各チャンネル用いて、図3のグループ10の終了タイムラグである4000μsの期間、測定を行う。測定部104が測定した結果は、強度(係数したフォトンの数、単位cps)と時間との関係で表される。
次に、図5に示すフローを用いて、本実施形態にかかる粒子径測定方法及び制御部106に含まれる各部の機能について説明する。まず、ユーザにより、試料に含まれる粒子212の粒子径の値が入力されたか否かが判定される(S502)。
S502において、粒子径の値が入力されない場合、設定部118は、予め設定された粒子径と測定タイミングとの関係に基づいて、テスト測定に用いる測定タイミングを設定する(S504)。具体的には、例えば、設定部118は、予め記憶部108に記憶された図3に示す全ての測定タイミングを設定する。ここでは、全ての測定タイミングを含むテスト測定時間は、1800000μsである。設定は、制御部106がグループ1から18に属する全てのチャンネルを用いて測定を行う旨の指示を測定部104に送ることで行われる。
次に、入出力部112は、テスト測定回数の入力を受け付ける(S506)。具体的には、例えば、ユーザが入出力部112を操作することにより、入出力部112は、5回というテスト測定回数を受け付ける。なお、入力されるテスト測定回数は、従来粒子径を算出するために行われていた測定回数よりも少ないことが望ましい。後述するように、テスト測定回数を少なくすることで全体の測定時間を短くすることができる。
次に、S506で入力されたテスト回数が0回以外である場合S508へ進み、入力されたテスト回数が0回である場合S517へ進む(S507)。入力されたテスト回数が0回以外である場合、テスト測定部122は、設定されたテスト測定時間の間、試料に光を照射し、試料により散乱された散乱光214のテスト測定強度を測定する(S508)。具体的には、テスト測定部122は、チャンネル1からチャンネル480に対応する検出器に順次入射したフォトンの数を計数することにより、散乱光214の強度の時間変化を1800000μsの間測定する。また、テスト測定部122は、S506で入力された5回、当該測定を行う。なお、テスト測定ステップS508において、テスト測定強度の測定は複数回行われることが好ましいが1回であってもよい。
次に、自己相関関数算出部116は、テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する。具体的には、例えば、テスト測定強度をI(t)とした場合、自己相関関数算出部116は数1を用いて自己相関関数G2(τ)を算出する。
Figure 0007365955000001
例えば、図6は、テスト測定強度に基づいて、自己相関関数算出部116が算出した自己相関関数の一例を示す図である。図6に示すように、自己相関関数は、測定時間が0である時に最大値をとり、徐々に減衰し、粒子径に応じた時間で1に収束する。
次に、粒子径算出部120は、テスト測定強度に基づいて、試料の粒子径を算出する(S512)。具体的には、粒子径算出部120は、S510で算出された自己相関関数に基づいて、拡散係数を算出する。さらに、粒子径算出部120は、拡散係数とアインシュタイン・ストークスの式によりテスト測定強度に基づく粒子径を算出する。テスト測定強度が複数回測定されている場合には、粒子径算出部120は、テスト測定強度毎に算出された粒子径の平均値を算出してもよいし、最大値を算出してもよい。
次に、設定部118は、自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する(S514)。
具体的には、まず、設定部118は、自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間に基づいて、基礎時間を設定する。例えば、図7は、図6の自己相関関数が1に収束する時間の付近を拡大した図である。図7に示すように、自己相関関数は、1000μsの時間で閾値1.003を下回ることから、設定部118は、基礎時間を1000μsと設定する。そして、設定部118は、基礎時間と対応するグループを設定する。例えば、設定部118は、設定テーブルを参照し、基礎時間1000μsを含み、最も累計チャンネル数の少ないグループであるグループ8を、基礎時間と対応するグループとして設定する。
なお、上述のように、入力されるテスト測定回数は、従来粒子径を算出するために行われていた測定回数よりも少ない。従って、S512でテスト測定強度から算出された粒子径は、試料の粒子径としては精度の低い値である。しかしながら、S512でテスト測定強度から算出された粒子径は、基礎時間を設定するために用いる値としては、十分な精度である。
また、設定部118は、テスト測定回数、テスト測定強度から算出された粒子径、テスト測定強度に基づいて、予備時間を設定する。具体的には、設定部118は、予備時間と対応するグループの変更値を設定する。
例えば、設定部118は、テスト測定回数が少ないほど、予備時間が長くなるように変更値を設定する。図8は、テスト測定回数とグループの変更値との関係を示す第1予備時間設定テーブルである。上記のようにテスト測定回数が5回である場合、設定部118はテスト測定回数に対応する変更値として1を設定する。テスト測定回数が少ない場合、テスト測定の精度が低い可能性が高い。従って、第1予備時間設定テーブルを用いることでテスト測定回数が少ない場合であっても、閾値を下回る時間が本測定時間に含まれない事態を回避することができる。
また、設定部118は、テスト測定強度から算出された粒子径が小さいほど、予備時間が長くなるように変更値を設定する。図9は、テスト測定強度から算出された粒子径とグループの変更値との関係を示す第2予備時間設定テーブルである。例えば、S512でテスト測定強度から算出された粒子径が2μmである場合、設定部118はテスト測定強度から算出された粒子径に対応する変更値として0を設定する。粒子径が小さいほど本測定時間を短くすることができるが、粒子径が小さい場合、基礎時間が極端に短く設定される場合がある。この場合、テスト測定の精度によっては閾値を下回る時間が本測定時間に含まれないおそれがあるが、第2予備時間設定テーブルを用いることで回避することができる。
また、設定部118は、テスト測定強度の平均値が小さいほど、予備時間が長くなるように変更値を設定する。図10は、テスト測定強度とグループの変更値との関係を示す第3予備時間設定テーブルである。例えば、S508で測定されたテスト測定強度が500万cpsである場合、設定部118はテスト測定強度に対応する変更値として1を設定する。テスト測定強度が小さい場合、テスト測定の精度が低い可能性が高い。従って、第3予備時間設定テーブルを用いることでテスト測定の精度が低い場合であっても、閾値を下回る時間が本測定時間に含まれない事態を回避することができる。
設定部118は、第1から第3予備時間設定テーブルで設定された変更値の合計値を、基礎時間と対応するグループの番号に加算する。上記例では、基礎時間と対応するグループとして特定されたグループの番号である8と、変更値の合計値である2と、を加算し10を算出する。そして、設定部118は、本測定に用いる測定タイミングとして、グループ1からグループ10に含まれる各チャンネルの測定タイミングを設定する。ここでは、当該測定タイミングを含む本測定時間は、4000μsである。設定部118による設定は、制御部106がグループ1から10に属する全てのチャンネルを用いて測定を行う旨の指示を測定部104に送ることで行われる。
ここで、S502において粒子径の値が入力された場合の説明に戻る。S502において、粒子径の値が入力された場合、設定部118は、予め設定された粒子径と測定タイミングとの関係に基づいて、本測定に用いる測定タイミングを設定する(S516)。具体的には、例えば、設定部118は、図11に示す本測定時間設定テーブルを参照して、本測定に用いる測定タイミングを設定する。例えば、S502で入力された値が500nmである場合、設定部118は、本測定に用いる測定タイミングとして、グループ1からグループ14に含まれる各チャンネルの測定タイミングを設定する。S514と同様、設定部118による設定は、制御部106がグループ1から14に属する全てのチャンネルを用いて測定を行う旨の指示を測定部104に送ることで行われる。この場合、テスト測定のステップ自体を行わないことにより、予め粒子径の概算値が判明している場合には、より測定時間を短くすることができる。
また、S507においてテスト測定回数が0回であると判定された場合、設定部118は、全ての測定タイミングを本測定に用いる測定タイミングとして設定する(S517)。具体的には、例えば、設定部118は、予め記憶部108に記憶された図3に示す全ての測定タイミングを設定する。ここでは、全ての測定タイミングを含むテスト測定時間は、1800000μsである。設定部118による設定は、制御部106がグループ1から18に属する全てのチャンネルを用いて測定を行う旨の指示を測定部104に送ることで行われる。この場合、粒子径の入力が行われない場合であっても、テスト回数の入力タイミングに応じて本測定が行われる。従って、ユーザが本測定を開始するタイミングを制御することができる。
次に、本測定部124は、本測定時間の間、試料に光を照射し、試料により散乱された散乱光214の本測定強度を測定する(S518)。具体的には、本測定部124は、S514、S516またはS517で設定された測定タイミングに基づいて、本測定を行う。上記例のように、グループ1からグループ10に含まれる各チャンネルの測定タイミングが設定された場合、本測定部124は、チャンネル1から300に対応する検出器に順次入射したフォトンの数を計数することにより、散乱光214の強度の時間変化を4000μsの間測定する。
また、本測定部124は、粒子径を精度良く測定できる回数として予め設定された回数、本測定を行う。本測定の回数は、固定されていてもよいし、ユーザが入出力部112に入力することで決定されてもよいが、テスト測定回数よりも多く設定される。
次に、粒子径算出部120は、本測定強度に基づいて、試料の粒子径を算出する。具体的には、例えば、粒子径算出部120は、S512のステップと同様の方法で、S518の測定結果を用いて試料の粒子径を算出する。本測定強度は複数回測定されるため、粒子径算出部120は、本測定強度毎に算出された粒子径の平均値を算出する。
以上のように、本実施形態によれば、テスト測定時間よりも本測定時間を短く設定することにより、測定の精度を低下させずに短い時間で測定を完了することができる。例えば、一定の測定精度を得るために25回の測定が必要である粒子径測定装置100において、従来技術のように上記チャンネル設定テーブルに含まれる全てのチャンネルを用いて測定を行った場合、1800000μsの測定を25回測定する必要がある。この場合、全体の測定時間は、およそ45秒である。一方、上記実施形態のように、1800000μsの測定を行うテスト測定が5回であり、4000μsの測定を行う本測定時間が25回である場合、全体の測定時間は、およそ9である。従って、粒子径を算出するために用いる自己相関関数の数を維持したまま、測定時間を短くすることができる。
なお、本発明は、上記実施形態で説明した態様に限られない。例えば、図3に示すチャンネル設定テーブルや、各予備時間設定テーブルは一例であって、粒子径測定装置100ごとに適宜設定されてよい。例えば、測定時間が短いほど時間分解能を高くするために、図3に示す設定テーブルは、グループの番号が大きくなるほど、サンプリング時間が指数関数的に長くなるように設定されている。しかしながら、グループの番号に比例して、サンプリング時間が長くなるように設定されてもよいし、各グループのサンプリング時間は同じであってもよい。
また、第1予備時間設定テーブルから第3予備時間設定テーブルを全て用いる場合について説明したが、全ての予備時間設定テーブルを用いずに基礎時間のみを用いて本測定時間が設定されてもよいし、一部の予備時間設定テーブルを用いて本測定時間が設定されてもよい。
また、上記において、グループ単位で本測定時間が設定される場合について説明したが、本測定時間は、チャンネル単位で設定されてもよい。この場合、本測定時間に必要な時間をより正確に設定できるため、さらに測定時間を短くすることができる。
100 粒子径測定装置、102 情報処理部、104 測定部、106 制御部、108 記憶部、110 表示部、112 入出力部、114 データバス、116 自己相関関数算出部、118 設定部、120 粒子径算出部、122 テスト測定部、124 本測定部、202 光源、204 試料ホルダ、206 ピンホール、208 受光部、210 レーザー、212 試料に含まれる粒子、214 散乱光。

Claims (6)

  1. 予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定ステップと、
    前記テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出ステップと、
    前記自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、前記予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定ステップと、
    前記一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、前記試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光の本測定強度を測定する本測定ステップと、
    前記本測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出する粒子径算出ステップと、
    を含む粒子径測定方法。
  2. 前記テスト測定ステップにおいて、前記テスト測定強度の測定は複数回行われ、
    前記テスト測定回数が少ないほど、前記予備時間が長くなるように設定される、
    ことを特徴とする請求項1に記載の粒子径測定方法。
  3. 前記テスト測定ステップにおいて、前記テスト測定強度の測定は複数回行われ、
    前記テスト測定強度の平均値が小さいほど、前記予備時間が長くなるように設定される、
    ことを特徴とする請求項1に記載の粒子径測定方法。
  4. 前記テスト測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出するステップをさらに含み、
    前記テスト測定強度から算出された粒子径が小さいほど、前記予備時間が長くなるように設定される、
    ことを特徴とする請求項1に記載の粒子径測定方法。
  5. 予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定部と、
    前記テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出部と、
    前記自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、前記予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定部と、
    前記一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、前記試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光の本測定強度を測定する本測定部と、
    前記本測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出する粒子径算出部と、
    を含む粒子径測定装置。
  6. 予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間、試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定ステップと、
    前記テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出ステップと、
    前記自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間とに基づいて、前記予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定ステップと、
    前記一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、前記試料に光を照射し、前記試料により散乱された散乱光の本測定強度を測定する本測定ステップと、
    前記本測定強度に基づいて、前記試料の粒子径を算出する粒子径算出ステップと、
    を前記試料の粒子径を測定する粒子径測定装置に用いられるコンピュータに実行させる粒子径測定プログラム。

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013167589A (ja) 2012-02-16 2013-08-29 Horiba Ltd 粒径分布測定装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0617860B2 (ja) 1987-04-23 1994-03-09 大塚電子株式会社 粒径測定装置
JPH0643949B2 (ja) * 1988-10-03 1994-06-08 大塚電子株式会社 粒径測定装置
JP2001074642A (ja) 1999-06-30 2001-03-23 Nikkiso Co Ltd 粒度分布測定装置
JP3689274B2 (ja) * 1999-08-31 2005-08-31 株式会社堀場製作所 動的光散乱式粒径分布測定システム
JP4372369B2 (ja) 2001-03-30 2009-11-25 大塚電子株式会社 光子相関計
US10620105B2 (en) 2004-03-06 2020-04-14 Michael Trainer Methods and apparatus for determining characteristics of particles from scattered light
US9658156B2 (en) * 2010-03-03 2017-05-23 Wyatt Technology Corporation Method of characterizing interactions and screening for effectors
US20160327467A1 (en) * 2014-01-15 2016-11-10 Empire Technology Development Llc Method and apparatus for detecting particulate matter
JP6910154B2 (ja) 2016-02-05 2021-07-28 株式会社堀場製作所 粒子径分布測定装置及び粒子径分布測定方法
DE102016212164B3 (de) * 2016-07-04 2017-09-21 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Bestimmung der mittleren Partikelgröße von Partikeln, die in einem flüssigen und fließenden Medium suspendiert sind, über dynamische Lichtstreuung und Vorrichtung hierzu
JP7185486B2 (ja) 2018-10-26 2022-12-07 株式会社ディスコ 加工装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013167589A (ja) 2012-02-16 2013-08-29 Horiba Ltd 粒径分布測定装置

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