JP7365047B2 - 表面分析方法、表面分析装置 - Google Patents
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- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 title claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 35
- 239000013598 vector Substances 0.000 claims description 28
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 17
- 230000010365 information processing Effects 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 7
- 238000000701 chemical imaging Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 description 1
- 238000000491 multivariate analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0248—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using a sighting port, e.g. camera or human eye
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/2823—Imaging spectrometer
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0208—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using focussing or collimating elements, e.g. lenses or mirrors; performing aberration correction
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0264—Electrical interface; User interface
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0291—Housings; Spectrometer accessories; Spatial arrangement of elements, e.g. folded path arrangements
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0294—Multi-channel spectroscopy
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
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- G02B21/36—Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
- G02B21/365—Control or image processing arrangements for digital or video microscopes
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/2823—Imaging spectrometer
- G01J2003/2826—Multispectral imaging, e.g. filter imaging
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- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
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Description
本発明は、表面分析方法及び表面分析装置に関するものである。
表面分析の手法の一つとして、分光イメージングが知られている。これは、分光カメラ（ハイパースペクトルセンサなど）を用いて、画素毎に分光スペクトル情報が格納された分布データ（分光画像データ）を取得し、画素毎の分光スペクトル情報を解析することで、試料に含まれる物質や組成などの分布を可視化するものである（例えば、下記特許文献１参照）。
前述した分光イメージングは、生体試料中の物質分析など、各種の分野で利用されており、分光画像データの解析には、多変量解析などの統計手法が用いられている。分光画像データを可視化する上で有効な手法が、分光スペクトル情報のクラスタリングであり、一つの分類にクラスタリングされた一群の分光スペクトル情報の画素を同一色で表示することで、分光画像データによる分析結果をカラー画像として可視化することができる。
このような分光画像データの可視化において、多層膜状の試料の表面状態を分析する場合に、分光カメラで取得した反射光の分光画像データをそのままクラスタリングすると、多層膜の内部で反射した光の干渉などが影響して、不正確な分析結果になってしまうことが確認された。
特に、薄膜トランジスタ（thin film transistor，ＴＦＴ）などの多層膜基板における欠陥部の検知などを分光イメージングで行う場合、前述したように、多層膜の内部で反射した光の干渉などが影響して、欠陥部の輪郭が鮮明に可視化できない問題があった。
本発明は、このような問題に対処するために提案されたものである。すなわち、分光イメージングにおける分析結果の可視化に際して、正確性の高い分析を可能にすること、特に、多層膜状の試料に対する分析を行う場合に、特定の分析対象の輪郭を鮮明に可視化できるようにすること、などが本発明の課題である。
このような課題を解決するために、本発明は、以下の構成を具備するものである。
分光カメラを用いて、試料表面の分光画像データを取得する工程と、取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする工程と、画素毎の前記空間ベクトルを正規化する工程と、正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする工程と、前記分類にクラスタリングされた画素を前記分類毎に識別表示する工程とを有することを特徴とする表面分析方法。
分光カメラを用いて、試料表面の分光画像データを取得する工程と、取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする工程と、画素毎の前記空間ベクトルを正規化する工程と、正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする工程と、前記分類にクラスタリングされた画素を前記分類毎に識別表示する工程とを有することを特徴とする表面分析方法。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態に係る表面分析方法は、図１に示すように、分光画像データ取得工程Ｓ１、画素毎のｎ次元空間ベクトル化工程Ｓ２、空間ベクトル正規化工程Ｓ３、クラスタリング工程Ｓ４、識別表示工程Ｓ５を有している。
このような工程を実行するための表面分析装置１は、図２に示すように、試料Ｗの表面の分光画像データを取得する分光カメラ２０と、取得した分光画像データを分析処理する情報処理部３０と、情報処理部３０の処理結果を表示する表示部４０とを備えている。図２に示した表面分析装置１は、ステージＳ上に設置された試料Ｗである多層膜基板の欠陥部を拡大して認識するものであり、前述した分光カメラ２０に対して顕微鏡１０が設置されている。
図２おいて、顕微鏡１０は、試料Ｗである多層膜基板の表面Ｗａに白色落射光を照射して、表面Ｗａにおいて欠陥部を認識する単位領域（例えば、ＴＦＴ基板の画素領域）の拡大像を得る光学顕微鏡であり、対物レンズ１１やチューブレンズ１７などの光学系を備えると共に、白色落射光を表面Ｗａに照射するための白色光源１２とその光学系（ミラー１３及びハーフミラー１４）を備えている。また、顕微鏡１０は、必要に応じて、表面Ｗａの拡大像のモニタ画像を得るためのモニタカメラ１５とそのための光学系（ハーフミラー１６）などを備えている。
分光カメラ２０は、顕微鏡１０の光学系の光軸１０Ｐ上に、スリット２３とグレーティング素子（回折格子）２１を配置して、表面Ｗａにて反射される光を波長分離し、この分離された光を、リレーレンズ系２４を介して２次元カメラ２２の撮像面２２ａに結像し、ライン分光方式によって、表面Ｗａの拡大像の分光スペクトル情報を撮像面２２ａの画素毎に取得するものである。
図１における分光画像データ取得工程Ｓ１は、前述した分光カメラ２０を用いて、試料Ｗにおける表面Ｗａの分光画像データ（画素毎の分光スペクトル情報）を取得する。
情報処理部３０は、図３に示すように、前述した画素毎のｎ次元空間ベクトル化工程Ｓ２を実行するためのソフトウエアであるｎ次元空間ベクトル化手段３１、空間ベクトル正規化工程Ｓ３を実行するためのソフトウエアである空間ベクトル正規化手段３２、クラスタリング工程Ｓ４を実行するためのソフトウエアであるクラスタリング手段３３、識別表示工程Ｓ５を実行するためのソフトウエアである識別表示手段３４を備えている。これによって、入力された分光画像データを可視化して表示画像データとして出力する。
情報処理部３０による各分析処理工程を説明すると、ｎ次元空間ベクトル化工程Ｓ２は、分光画像データ取得工程Ｓ１にて取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、分光画像データにおける各波長のスペクトルをｎ次元の空間ベクトルとする。
取得された分光画像データには、図４に示すように、２次元カメラ２２の撮像面２２ａの一つの画素Ｐ（Ｘｎ，Ｙｎ）毎に、一つの分光スペクトル情報が格納されている。この分光スペクトル情報の波長範囲から、例えばλ１＝４００ｎｍ、λｎ＝７００ｎｍの波長範囲を選択して、この波長範囲を（ｎ－１）個（例えば、ｎ＝２００）に分割し、ｎ個の波長（λ１～λｎ）成分を抽出し、波長（λ１～λｎ）と各波長における強度（Ｉ１～Ｉｎ）との組み合わせによってｎ次元の空間ベクトルを得る。
そして、空間ベクトル正規化工程Ｓ３では、図５に示すように、ｎ次元の空間ベクトルを正規化して、ｎ次元の正規化空間ベクトルを得る。ここで言う正規化とは、ｎ次元空間ベクトルの方向を保ったまま、長さ（ノルム）が１になる単位ベクトルを得る処理であり、ｎ次元の空間ベクトルに対して、その空間ベクトルのノルムの逆数を掛けて、ノルム１の単位ベクトル（ｎ次元正規化空間ベクトル）を得る。
クラスタリング工程Ｓ４は、正規化された画素毎のｎ次元の空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする。ここでの分類の数は、分析対象に応じて設定される。例えば、ＴＦＴ基板などの多層膜基板の欠陥部を抽出する場合には、ＴＦＴ基板の構造に応じて規定数の分類が設定され、その分類に該当しないもの（分類不能）が入る分類枠を定める。
クラスタリングには、機械学習によるＧＭＭ（Gaussian mixture models）法などを用いることができる。図６は、ＴＦＴ基板の構造に応じて１５個の分類を設定して、分類不能が入る分類枠を２個設け、画素毎の正規化された空間ベクトルをクラスタリングした結果の一例を示しており、ここでは、各分類に入る画素数のヒストグラムを正常なパターンのヒストグラムとの差分で示している。正常なパターンのヒストグラムとの差分が大きい分類を欠陥部と認識することができる。
図７は、前述したクライスタリング工程Ｓ４の結果を可視化する識別表示工程Ｓ５の表示例を示している。ここでは、各分類にクラスタリングされた画素にコントラストや色分けを付して可視化（画像表示）を行っている。図７（ａ）がｎ次元の空間ベクトルを正規化したクラスタリングの結果（正規化クラスタリング）であり、図７（ｂ）がｎ次元の空間ベクトルを正規化すること無くクラスタリングした結果（絶対値クラスタリング）である。
図７（ａ）に示した正規化クラスタリングを可視化した場合には、図示のように特徴部分（例えば、欠陥部）の輪郭を鮮明に可視化することができる。これに対して、同じ試料表面の分光画像データを絶対値クラスタリングした場合には、図７（ｂ）に示すように、多層膜の内部で反射した光の干渉などが影響を受けて、特徴部分の輪郭が不鮮明になる。
このように、本発明の実施形態に係る表面分析方法或いは表面分析装置によると、取得した分光画像データをクラスタリングして可視化することで表面の特徴部分を分析するに際して、正確性の高い分析を行うことができる。特に、多層基板の欠陥部を識別表示する場合には、欠陥部の輪郭を鮮明に可視化することができるので、精度の高い欠陥部のリペア（レーザ修正）を実現することが可能になる。
図８は、前述した表面分析装置１を備えたレーザ修正装置２の構成例を示している。レーザ修正装置２は、前述した情報処理部３０の可視化によって認識された欠陥部に対して、レーザ光を照射して修正加工を行うものであり、顕微鏡１０の光軸と同軸上にレーザ光Ｌを照射するレーザ照射部３を備えている。
レーザ照射部３は、例えば、レーザ光源５３、レーザスキャナ５５などを備えており、レーザ光源５３から出射されたレーザ光Ｌは、ミラー５４とレーザスキャナ５５のガルバノミラー５５Ａ，５５Ｂを経由して、顕微鏡１０の光学系内に入射され、顕微鏡１０による拡大像が得られている単位領域の表面Ｗａ上に照射される。
図示の例では、顕微鏡１０の光軸に進入・退避する切り替えミラー１８が設けられており、切り替えミラー１８を顕微鏡１０の光軸上に進入させることで、分光カメラ２０に表面Ｗａからの反射光を入射させて、表面分析装置１を動作させ、切り替えミラー１８を顕微鏡１０の光軸から退避させることで、レーザ光Ｌを表面Ｗａに照射するレーザ修正装置２を動作可能にしている。
このような表面分析装置１を備えたレーザ修正装置２は、先ず、表面分析装置１を動作させることで、情報処理部３０が欠陥部の有無、欠陥部が有る場合の欠陥部の位置などの情報をレーザ制御部５０に送信する。レーザ制御部５０は、情報処理部３０から送信された前述の情報を基にして、レーザ修正を行うか否かの判断を行い、レーザ修正を行う場合には、欠陥部の位置情報などに基づいてレーザ照射範囲や加工レシピの設定を行う。
また、図示の例では、顕微鏡１０の拡大像は、モニタカメラ１５にも結像されており、モニタカメラ１５が撮像した画像を表示装置５２で観察しながら、レーザ修正を行うことできるようになっている。この際、モニタカメラ１５が取得した２次元画像は、画像処理部５１で画像処理されてレーザ制御部５０や情報処理部３０に送信されており、この２次元画像によっても、レーザ照射部３の制御を行うことができるようになっている。
このようなレーザ修正装置２によると、多層膜基板Ｗの欠陥部を、表面分析装置１によって鮮明な輪郭で詳細に認識することができ、この認識した情報を基にして、レーザ修正加工の設定を行うことができる。これにより、オペレータのスキルに影響されない高品質の修正加工が可能になり、また、欠陥部の認識から加工までを自動化して、高能率且つ高品質な修正加工を行うことができる。
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。
１：表面分析装置，２：レーザ修正装置，３：レーザ照射部，
１０：顕微鏡，１０Ｐ：光軸，１１：対物レンズ，１２：白色光源，
１３：ミラー，１４，１６：ハーフミラー，１５：モニタカメラ，
１７：チューブレンズ，１８：切り替えミラー，
２０：分光カメラ，２１：グレーティング素子，
２２：２次元カメラ，２２ａ：撮像面，２３：スリット，
３０：情報処理部，３１：ｎ次元空間ベクトル化手段，
３２：空間ベクトル正規化手段，
３３：クラスタリング手段，３４：識別表示手段，
４０：表示部，５０：レーザ制御部，５１：画像処理部，５２：表示装置，
５３：レーザ光源，５４：ミラー，５５：レーザスキャナ，
５５Ａ，５５Ｂ：ガルバノミラー，
Ｓ：ステージ，Ｗ：試料（多層膜基板），Ｗａ：表面，Ｌ：レーザ光
１０：顕微鏡，１０Ｐ：光軸，１１：対物レンズ，１２：白色光源，
１３：ミラー，１４，１６：ハーフミラー，１５：モニタカメラ，
１７：チューブレンズ，１８：切り替えミラー，
２０：分光カメラ，２１：グレーティング素子，
２２：２次元カメラ，２２ａ：撮像面，２３：スリット，
３０：情報処理部，３１：ｎ次元空間ベクトル化手段，
３２：空間ベクトル正規化手段，
３３：クラスタリング手段，３４：識別表示手段，
４０：表示部，５０：レーザ制御部，５１：画像処理部，５２：表示装置，
５３：レーザ光源，５４：ミラー，５５：レーザスキャナ，
５５Ａ，５５Ｂ：ガルバノミラー，
Ｓ：ステージ，Ｗ：試料（多層膜基板），Ｗａ：表面，Ｌ：レーザ光
Claims (4)
- 分光カメラを用いて、試料表面の分光画像データを取得する工程と、
取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする工程と、
画素毎の前記空間ベクトルを正規化する工程と、
正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする工程と、
前記分類にクラスタリングされた画素を前記分類毎に識別表示する工程とを有することを特徴とする表面分析方法。 - 前記試料表面がＴＦＴ基板の表面であり、
前記分類にクラスタリングされた画素によって欠陥部が識別表示されることを特徴とする請求項１記載の表面分析方法。 - 試料表面の分光画像データを取得する分光カメラと、
前記分光画像データを分析処理する情報処理部と、
前記情報処理部の処理結果を表示する表示部とを備え、
前記情報処理部は、
前記分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする手段と、
画素毎の前記空間ベクトルを正規化する手段と、
正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする手段と、
前記分類にクラスタリングされた画素を前記表示部にて前記分類毎に識別表示する手段とを備えることを特徴とする表面分析装置。 - 請求項３に記載の表面分析装置を有し、前記情報処理部は、前記クラスタリングされた前記特定数の分類により欠陥部を認識できるものであり、認識した前記欠陥部に対して、レーザ光を照射して修正加工を行うレーザ修正装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020003757A JP7365047B2 (ja) | 2020-01-14 | 2020-01-14 | 表面分析方法、表面分析装置 |
| PCT/JP2020/046547 WO2021145117A1 (ja) | 2020-01-14 | 2020-12-14 | 表面分析方法、表面分析装置 |
| CN202080089473.7A CN114846318A (zh) | 2020-01-14 | 2020-12-14 | 表面分析方法及表面分析装置 |
| US17/792,206 US20230049349A1 (en) | 2020-01-14 | 2020-12-14 | Surface analysis method and surface analysis device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020003757A JP7365047B2 (ja) | 2020-01-14 | 2020-01-14 | 表面分析方法、表面分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021110678A JP2021110678A (ja) | 2021-08-02 |
| JP7365047B2 true JP7365047B2 (ja) | 2023-10-19 |
Family
ID=76864224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020003757A Active JP7365047B2 (ja) | 2020-01-14 | 2020-01-14 | 表面分析方法、表面分析装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230049349A1 (ja) |
| JP (1) | JP7365047B2 (ja) |
| CN (1) | CN114846318A (ja) |
| WO (1) | WO2021145117A1 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US20130322760A1 (en) | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Raytheon Company | System and method for rapid cluster analysis of hyperspectral images |
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| JP2018111855A (ja) | 2017-01-11 | 2018-07-19 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 配線修正装置および配線修正方法 |
| JP2019186464A (ja) | 2018-04-16 | 2019-10-24 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 配線修正装置および配線修正方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5991699A (en) * | 1995-05-04 | 1999-11-23 | Kla Instruments Corporation | Detecting groups of defects in semiconductor feature space |
| JPH11118604A (ja) * | 1997-10-13 | 1999-04-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | 色判別システム及び形状認識システム |
| JP2020148804A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | 株式会社ブイ・テクノロジー | レーザリペア方法、レーザリペア装置 |
-
2020
- 2020-01-14 JP JP2020003757A patent/JP7365047B2/ja active Active
- 2020-12-14 US US17/792,206 patent/US20230049349A1/en active Pending
- 2020-12-14 CN CN202080089473.7A patent/CN114846318A/zh active Pending
- 2020-12-14 WO PCT/JP2020/046547 patent/WO2021145117A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
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| Title |
|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021110678A (ja) | 2021-08-02 |
| WO2021145117A1 (ja) | 2021-07-22 |
| CN114846318A (zh) | 2022-08-02 |
| US20230049349A1 (en) | 2023-02-16 |
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