JP7353011B2 - フッ素化ベンゼン、フッ素化ベンゾフェノン、およびその誘導体の新しい製造方法 - Google Patents

フッ素化ベンゼン、フッ素化ベンゾフェノン、およびその誘導体の新しい製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、フッ素化ベンゼン、フッ素化ベンゾフェノン、およびその誘導体(特にフッ素化ベンゼンおよびその誘導体)を合成および製造する新しい方法に関する。
ベンゾフェノンは、ポリアリールエーテルケトン(PAEK)を製造するための出発材料である。
ポリアリールエーテルケトン(PAEK)は、高温安定性および高機械的強度を有する半結晶性熱可塑性プラスチックであり、その分子主鎖にケトン基(R-CO-R)とエーテル基(R-O-R)を交互に含む。官能基の間の接続基Rは、1,4-置換アリール基(例えば、1,4-置換フェニル基)からなる。
有機分子の文脈では、アリールは芳香環、通常はフェニルやナフチルなどの芳香炭化水素に由来する任意の官能基または置換基である。「アリール」という用語は、省略または一般化のために使用され、「Ar」は、化学構造図におけるアリール基のプレースホルダーとして使用される。
PAEKの特性に関して、PAEKの連続動作温度は250°C(482°F)であり、短期間の負荷では最大350°C(662°F)まで機能する。燃焼するときに、その毒性および腐食性が最も小さい。燃焼時の熱出力が低いため、室内の航空用途での使用に適している。また、全体的な耐薬品性にも優れている。引張強度は85MPa(12,300psi)、ヤング率は4,100MPa(590,000psi)である。その降伏強度は、23°C(73°F)で104MPa(15,100psi)、160°C(320°F)で37MPa(5,400psi)である。
PAEKプラスチックは、酸素ブリッジ(エーテルおよびカルボニル基(ケトン))を介して連結されたフェニレン環を特徴としている。エーテルとケトンの比率と順序は、主にガラス転移温度とポリマーの融点に影響し、耐熱性と加工温度にも影響する。ケトンの比率が高いほど、ポリマー鎖が硬くなり、ガラス転移温度と融点が高くなる。処理温度は350~430°Cの範囲である。
このファミリに含まれるプラスチックには、PEK(ポリエーテルケトン)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、PEKK(ポリエーテルケトンケトン)、PEEKK(ポリエーテルエーテルケトンケトン)、PEKEKK(ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン)が含まれる。
PARKは、2つの方法で生成できる。1つは求核経路と呼ばれ、もう1つは求電子経路と呼ばれる。求核経路は、重合工程でエーテル結合を形成する。求電子経路は、重合工程でカルボニルブリッジが形成される。射出成形、押出成形、圧縮成形、トランスファー成形など、一般的な熱可塑性プロセスをすべて使用して処理できる。
PAEKは以下の用途に適用できる。主要なエンジニアリング用途の1つは、シール、コンプレッサーリング、バルブパーツ、ギア、ベアリング、ワイヤーコーティングなどのオイルドリルコンポーネントである。また、温度や応力に耐え、耐食性を備えているため、ケミカルポンプ業界でも使用されている。自動車業界では、トランスミッションのギアやスラストベアリングの製造に使用されている。耐加水分解性に優れており、滅菌時に分解しないため医療機器に使用されている。PEKEKKは人工股関節などの外科用インプラントの製造に使用されている。
ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は、エンジニアリングア用途で使用されるポリアリールエーテルケトン(PAEK)ファミリーの無色の有機熱可塑性ポリマーである。もともとはVictrexPLCによって導入され、1980年代初頭にImperial Chemical Industries(ICI)によって導入された。
例えば、PEEKの合成は以下の通りである。PEEKポリマーは、ビスフェノラート塩のジアルキル化による段階的成長重合によって得られる。典型的なのは、4,4’-ジフルオロベンゾフェノンとハイドロキノンの二ナトリウム塩との反応であり、これは炭酸ナトリウムによる脱プロトン化によってその場で生成される。反応は、ジフェニルスルホンなどの極性非プロトン性溶媒中で約300°Cで行われる。
PEEKの特性に関して、PEEKは、高温に保持される優れた機械的および化学的耐性を備えた半結晶性熱可塑性樹脂である。PEEKの成形に使用される処理条件は、結晶性、機械的特性に影響を与える可能性がある。そのヤング率は3.6GPaであり、その引張強度は90~100Mpaである。PEEKのガラス転移温度は約143°C(289°F)で、約溶融温度は343°C(662°F)である。特定のグレードの有効動作温度は最大250°C(482°F)である。熱伝導率は、室温と固相線温度の間の温度とともにほぼ直線的に増加する。それは、熱劣化、ならびに有機環境と水性環境の両方による攻撃に対して非常に耐性がある。高温では、ハロゲン、強力なブレンステッド酸、ルイス酸、および一部のハロゲン化化合物や脂肪族炭化水素に攻撃される。室温で濃硫酸に溶解しますが、微粉末や薄膜など、表面積と体積の比率が高い形態でない限り、溶解に非常に長い時間がかかる場合がある。生分解に対して高い耐性がある。
PEEKは以下の用途に適用できる。PEEKは、その堅牢性により、ベアリング、ピストンパーツ、ポンプ、高性能液体クロマトグラフィーカラム、コンプレッサープレートバルブ、電気ケーブル絶縁など、要求の厳しい用途で使用されるアイテムの製造に使用される。PEEKは、超高真空用途と互換性のある数少ないプラスチックの1つである。PEEKは、医療用インプラント(膝など)で使用される高度な生体材料と見なされており、神経外科用途で部分的な置換頭蓋骨を作成するために、高解像度磁気共鳴イメージング(MRI)でも使用される。
PEEKは、脊椎固定装置および補強棒での使用が増加していることを発見した。航空宇宙、自動車、化学プロセス業界で広く使用されている。PEEKシールとマニホールドは、流体用途で一般的に使用される。PEEKは、連続的な高温(最大500°F/260°C)が一般的である用途でも良好に機能する。これとその低い熱伝導率のために、FFF印刷でも使用され、ホットエンドとコールドエンドを熱的に分離する。PEEKは、特にRDA、RDTA、RTAなどの再構築可能なアトマイザーで、アトマイザー内の絶縁体としても広く使用されている。PEEKのアトマイザー内の主な機能は、アトマイザーの底部内側の負極ポストから正極ポストを分離することである。
ベンゾフェノンに関して、好ましいIUPAC名はジフェニルメタノンである。他の名前には、ベンゾフェノン、フェニルケトン、ジフェニルケトン、ベンゾイルベンゼン、ベンゾイルフェニル、ベンゾイルフェニル、ジフェニルメタノンが含まれる。CAS番号は119-61-9である。
ベンゾフェノンは、式(CCOを有する有機化合物であり、通常PhCOと略する。白色固体であり、有機溶媒に可溶である。ベンゾフェノンは有機化学では幅広く使用されている構造単位であり、その母体はジアリールケトンである。ベンゾフェノンは、印刷業界のインク、イメージング、クリアコーティングなどのUV硬化用途で光開始剤として使用できる。ベンゾフェノンは、紫外線(UV)が香水や石鹸などの製品の香りや色を損なうのを防止する。ベンゾフェノンは、包装用ポリマーまたはその内容物の光分解を防ぐために、UVブロッカーとしてプラスチック包装に追加することもできる。その使用により、メーカーは製品を透明なガラスまたはプラスチック(PETEウォーターボトルなど)にパッケージ化できる。それがないと、不透明または暗いパッケージが必要になる。生物学的用途では、ベンゾフェノンは、ペプチド-タンパク質相互作用を特定およびマッピングするための光物理プローブとして広く使用されている。ベンゾフェノンは、「スイートウッディジェラニウムのようなノート」の香料や香水の添加物として使用される。
従来技術では、ベンゾフェノンは、空気によるジフェニルメタンの銅触媒酸化によって生成される。実験室ルートでは、ベンゼンと四塩化炭素を反応させた後、得られたジフェニルジクロロメタンを加水分解する。それはまた、ルイス酸(例えば、塩化アルミニウム)触媒の存在下での塩化ベンゾイルによるベンゼンのFriedel-Craftsアシル化によって調製することができる。別の合成経路は、パラジウム(II)/オキソメタレート触媒を使用することである。これにより、アルコールが両側に2つの基を持つケトンに変換される。ベンゾフェノンを生成するためのもう1つのあまり知られていない反応は、無水安息香酸カルシウムの熱分解である。
ジフェニルジクロロメタンは、式(CCClを有する有機化合物であり、他の有機化合物の前駆体として使用される無色の固体である。
ジフェニルジクロロメタンは、四塩化炭素と無水塩化アルミニウムを触媒として、ベンゼンのダブルFriedel-Craftsアルキル化反応により得られる。あるいは、ベンゾフェノンは五塩化リンで処理される。
(CCO+PCl→(CCCl+POCl
ジフェニルジクロロメタンは加水分解してベンゾフェノンになる。
(CCCl+HO→(CCO+2HCl
ジフェニルジクロロメタンは、テトラフェニルエチレン、ジフェニルメタンイミン塩酸塩および安息香酸無水物の合成に使用される。
ジフェニルメタンは、式(CCHを有する有機化合物である。この化合物は、2つの水素原子が2つのフェニル基で置き換えられたメタンで構成される。ジフェニルメタンは、有機化学において一般的な骨格を形成する。ジフェニルメチル基はベンズヒドリル(benzhydryl)としても知られている。ジフェニルメタンは、三塩化アルミニウムなどのルイス酸の存在下で、ベンゼンによる塩化ベンジルのFriedel-Craftsアルキル化によって調製される。
CHCl+C→(CCH+HCl
いわゆるFriedel-Crafts反応は、当業者によく知られている。例えば、Friedel-Crafts反応は、1877年にCharles FriedeとJames Craftsによって開発された芳香環に置換基を結合する一連の反応として知られている。Friedel-Crafts反応には、アルキル化反応とアシル化反応の2つの主要なタイプがあり、どちらも求電子性芳香族置換によって進行する。
ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)のようなPAEKは、VictrexのWO2018/055384に記載されているような特殊プラスチック用途で使用される。
PEEKは、ハイドロキノンと4,4’-ジフルオロベンゾフェノンの縮合物から製造され、このベンゾフェノンは、Victrex WO2018/055384および中国特許(2018)CN107573500に記載されているように、主要な原料としてフルオロベンゼンから製造される。4,4’-ジフルオロベンゾフェノンは、4,4’-ジフルオロジフェニルメタンから酸化により製造され(ChemCatChem(2018),10(5),1096-1106)、フルオロベンゼンとCClのFriedel-Craftsアルキル化反応により製造され(HuagongJinzhan(2015),34(4),1104-1108)、またはRaychemのUS4814508に記載されているように、4-フルオロベンゾイルクロリドによるフルオロベンゼンのFriedel-Craftsアシル化から製造される。現在、ジフルオロジフェニルメタンの最も一般的な合成は、ダーティNaNO/HBF化学を含むBalz-Schiemann反応による4,4’-メチレンビス[ベンゼナミン]からの合成である(特許(2016)CN106008182)。フルオロベンゼンとホルムアルデヒドからジフルオロジフェニルメタンを合成するは、すでにBulletin de la SocieteChimique de France;(1951);p.318,323に記載されている。4-フルオロベンジルクロリドからジフルオロジフェニルメタンを合成することは、すでにChemical Society,Chemical Communications(1989)(18),1353-4に記載されている。
別のFriedel-Craftsアシル化反応による4,4’-ジフルオロベンゾフェノンの合成はフルオロベンゼンから合成される。あるいは、4-フルオロフェニルボロン酸から合成され(例えば、(Cambridge,United Kingdom)(2017),53(93),12584-12587)、および4-フルオロ安息香酸誘導体または4-フルオロトリクロロトルエン誘導体から合成される((2016)CN106045828)。これらのプロセスは、少なくとも1つのステップにはBalz-Schiemann反応とFriedel-Crafts反応の組み合わせを含む。どちらの反応タイプも非常に古い技術であり、環境に優しくて新しい化学物質や反応技術に置き換える必要がある。「ダーティ」Halex反応による4,4’-ジクロロベンゾフェノンからの4,4’-ジフルオロベンゾフェノンの合成は、三井物産の特許US4453009に記載されている。上記Halexの化学的性質は、変換が不完全で、製品の分離が困難で、多くの場合、大量の有毒な廃水を生成するため、一般に「汚れた」と考えられている。カップリング製品として得られる「汚れた」KClは、埋め立てによく使用される。
一般に、最先端のリアクター(イオン性液体中で触媒されるルイス酸)でのベンゾイルクロリドとクロロベンゼンのフリーデルクラフト反応は、Chemistry Letters(2008),37(8),844-845およびJournal of the Chinese Chemical Society(Taipei)(2000),47(6),1243-1246に記載されているように知られている。α-FeおよびCaCOナノ粒子を含むマイクロリアクターのFriedel-Craftは、Chemical Engineering Journal(Amsterdam,Netherlands)(2018)331,443-449に記載されている。クロロベンゼン、クロロベンゾイルクロリドおよびルイス酸としてのAlClのFriedel-Crafts反応の収率は96%であり(HuagongXinxingCailiao,(2012),40(2))、87-90%であり(Journal of Fluorine Chemistry,(2005),126(8),1191-1195)、フッ素性溶媒中の希土類(III)パーフルオロオクタンスルホネートを使用することで収率は86%である。
KhimicheskayaTekhnologiya(2001),(5),3-5から分かるように、クロロベンゼンとテレフタロイルクロリドの反応は、約260℃の温度下で、Friedel-Crafts触媒が存在しない場合、収率が86%である。Qingdao KejiDaxueXuebao,ZiranKexueban)(2007),28(1),39-42にもAlClがルイス酸として使用されている。Jpn.KokaiTokkyoKoho(2014)、JP2014237738にはFeClがルイス酸として使用されている。
クロロベンジルクロリドとクロロベンゼンのFriedel-Crafts反応は、Journal of Organic Chemistry(1989),54(5),1201-3,and AngewandteChemie,International Edition(2011),50(46),10913-10916に記載されている。
上記のすべての既知の反応は、大量の廃棄物と廃水を生成し、高価な試薬を必要とし、特に環境に関して産業規模で実用的ではない。
本発明の目的は、従来技術方法の欠点を克服し、特にFriedel-Crafts反応により化合物を製造するより効果的で、省エネで、環境により優しい方法を提供し、有益な触媒を提供することである。本発明の他の目的は、Friedel-Crafts反応により、有益な触媒を使用することである。上記触媒は、フッ素化反応に容易に適用できる。フッ素化反応は、Friedel-Crafts反応の前または後であってもよい。ここで、本発明の別の目的は、触媒をFriedel-Crafts反応に使用することである。上記触媒は、Friedel-Crafts反応およびフッ素化反応のいずれにも使用できる。
本発明の目的は、特許請求の範囲で定義されるように解決され、本明細書に詳細に記載される。したがって、本発明は、特許請求の範囲で定義され、本明細書で説明されるように、フルオロアリール化合物およびその誘導体、特にフルオロベンゼンおよびその誘導体、並びにその製品を製造するための新しいプロセスに関する。また、本発明は、上記化合物の環境に優しい生産に関する。
したがって、本発明は、従来の技術プロセスの欠点を、驚くほど単純で有益な方法で克服し、特に、従来のプロセスと比較して、本発明は、より効率的で省エネのプロセスを提供し、また、核フッ素化芳香族化合物、好ましくは核フッ素化フルオロベンゼンの製造のためにより環境に優しいプロセスを提供する。
特に、一態様では、本発明は、ポリアリールエーテルケトン(PAEK)の製造のための原料としてのフッ素化ベンゼンおよびベンゾフェノンの合成のための新規の環境に優しいプロセスに関する。ここで、本発明は、いわゆるFriedel-Crafts反応によるアシル化またはアルキル化アリール化合物、例えば、アシル化またはアルキル化ベンゼンの製造または合成、並びに新しい触媒に関する。
有機分子の文脈では、アリールは芳香環、通常はフェニルやナフタなどの芳香族炭化水素に由来する任意の官能基または置換基である。「アリール」という用語は、略語または一般化のために使用され、「Ar」は、化学構造図におけるアリール基のプレースホルダーとして使用される。
単純なアリール基はフェニル基(化学式:C)であり、ベンゼンに由来する基である。最も基礎的なアリール基はフェニルで、ベンゼン環の1つの水素原子が置換基で置換されており、分子式はC-である。フェニル基を含む化合物を命名する際に、フェニル基は親炭化水素とされ、接尾辞「-ベンゼン」で表される。あるいは、フェニル基を置換基として扱い、名称の中に「フェニル」として記載されてもよい。このような命名は、通常、フェニル基に結合している基が6つ以上の炭素原子で構成される場合に使用される。
Friedel-Craftsアルキル化には、強力なルイス酸触媒を使用してハロゲン化アルキルにより芳香環をアルキル化することが含まれる。無水塩化第二鉄を触媒として、塩化物イオンの前部にアルキル基が付着する。この反応には、生成物が反応物よりも求核性であるという欠点がある。その結果、過剰アルキル化が発生する。さらに、この反応は、三級アルキル化剤、いくつかの二次アルキル化剤、または安定化されたカルボカチオンを生成するもの(例えば、ベンジル)に対してのみ非常に有用である。第一級アルキルハライドの場合、初期のカルボカチオン(R(+)‐X‐Al(-)‐Cl)はカルボカチオン再配列反応を起こす。
Friedel‐Craftsアシル化には、芳香環のアシル化が含まれる。典型的なアシル化剤は塩化アシルである。典型的なルイス酸触媒は酸と三塩化アルミニウムである。Friedel-Craftsアシル化では、酸無水物を使用してもよい。反応条件はFriedel-Craftsアルキル化反応と類似する。上記反応は、アルキル化反応に比べいくつかの利点を有する。カルボニル基の電子吸引効果により、ケトン生成物は常に元の分子よりも反応性が低く、複数のアシル化は発生しない。また、アシリウムイオンは正電荷が酸素上にある共鳴構造によって安定化されるため、カルボカチオンの再配列は発生しない。Friedel-Craftsアシル化反応の実行可能性は、塩化アシル試薬の安定性に依存する。
本発明の文脈において関連する化合物は、テレフタル酸二塩化物としても知られているテレフタロイルクロリド(TCL、1,4-ベンゼンジカルボニルクロリド)である。好ましいIUPAC名称は、ベンゼン-1,4-ジカルボニルジクロリドである。他の名称は、テレフタロイルジクロリド、1,4-ベンゼンジカルボニルクロリド、ベンゼン-1,4-ジカルボニルクロリド、テレフタル酸ジクロリド、テレフタロイルジクロリド、p-フタリルクロリドである。一般的な略語はTCLである。
前に述べたように、先行技術で知られているすべての反応は、大量の廃棄物および廃水を生成し、高価な試薬を必要とし、または工業規模で実行可能ではない。
従来技術の不利な点は、本発明によって克服される。したがって、本発明は、廃水なしで、試薬の価格が合理的で、工業規模に適したプロセスを提供する。より具体的には、この目的は、非常に安価でクリーンで簡単に作成できる出発材料を使用し、SbHalに基づく触媒システムを使用することによって解決される。本発明はまた、フッ素化が調製されることを意図しているとしても、非常に有利である。さらに、一実施形態では、本発明のFriedel-Crafts反応は、必要に応じてマイクロリアクターシステムで実行される。
従って、本発明の一態様によれば、HFを用いてハロゲン化ベンゼン前駆体からフルオロベンゼンを製造する時にハロゲン化水素が形成される工業に有益な方法が提供される。さらに、本発明によれば、フルオロベンゼンの工業製造におけるクロロベンゼンの原料とする簡単な使用が提供される。本発明の前の従来技術においては、クロロベンゼンの当該使用が知られていない。
(触媒)
本発明の方法で用いられるハロゲン化触媒、好ましくはフッ素化触媒は、いわゆるルイス酸であってもよいが、これに限定されない。ハロゲン化は、化学反応の1種であり、化合物または材料に1種または複数種のハロゲンを添加することに関する。ハロゲン化の経路および化学量論比は、有機基質の構造特徴および官能基および特定のハロゲンに依存する。例えば、金属の無機化合物の合成にもハロゲン化が必要である。フッ素化は、ハロゲン化の1種であり、F(フッ素)は導入化合物または材料におけるハロゲンである。ハロゲン化および/またはフッ素化、およびこれらの反応で用いられるハロゲン化触媒および/またはフッ素化触媒は、当業者によって知られている。例えば、中間体ハロゲン塩イオンを活性物質としてオレフィンにハロゲン(例えば、塩素および/またはフッ素)を付加する。有機化学における「ハロゲンイオン」は、ハロゲン原子を含むいかなるハロゲン塩化合物(イオン)、例えば、本明細書において、正電荷を持つフッ素原子をいう。
好ましくは、ハロゲン化触媒および/またはフッ素化触媒は、当業者によく知られており、本発明において、Sb、As、Bi、Al、Zn、Fe、Mg、Cr、Ru、Sn、Ti、Co、Ni、好ましくはSbに基づくものである。Friedel-Crafts反応の前または後のフッ素化テップにおいてSbHalを過剰なHFに保持する場合、より好ましくは、フッ素化触媒、特に活性物質HSbF を提供するSbフッ素化触媒である。Friedel-Crafts反応自体では、HFは「低」濃度(例えば、ppm範囲)でのみ使用される。
したがって、HFを使用してハロベンゼン前駆体からフルオロベンゼンを調製する工業的に有益なプロセスにおいて過剰のHFとフッ素化触媒とを使用してハロゲン化水素を形成する場合、さらに、HFが「低」濃度で使用される場合、またはHFが存在しない場合に、フッ素化触媒は、Friedel-Crafts触媒として有益で簡単な使用を提供することもできる。これによって、本発明以前の先行技術では知られていなかった方法で、Friedel-Crafts反応による化合物の製造のための産業的に興味深い出発材料としてアシル化またはアルキル化化合物を提供する新しい機会を提供する。「低」濃度という用語は、本明細書の以下の本発明の詳細な説明においてより具体的に定義される。
本発明によれば、アンチモン(Sb)が最良かつ最も安価な触媒であるが、AsおよびBiもフッ素化触媒として使用することが可能である。必要に応じて、金属の酸化段階III、特にSbHal-IIIシェアを持つSbHalの存在下、またはMHal化合物のような他の金属化合物(AsHalやBiHalなど)のシェアを持つ場合、Friedel-Crafts反応に使用され得る。
例えば、本発明の一態様では、フッ素化反応を提供する。フッ素化芳香族系(「フルオロベンゼン」)に用いられるアンチモン(Sb)触媒の使用は新しく有利である。例えば、触媒は、HF中のSbFであり、SbClで作製される。もちろん、新鮮な触媒との反応が始まるときに、触媒アンチモン(Sb)上の1つまたは2つの塩素原子を置換し、一定時間のフッ素化後、全ての塩素原子を置換する。
今まで、例えば、フルオロベンゼンおよび誘導体は、工業的には、Balz SchiemannまたはSandmeyer反応により製造されている。これらの反応は、化学的には非常に優れているが、大量の廃棄物および非常に有毒な排水をもたらす問題がある。この原因で、多くの化学プラントが倒産した。例えば、中国、さらに世界中の多くの企業は、信頼性が高く環境的に許容されるフルオロベンゼンの供給源を持っていない。ここで、フルオロベンゼンの実施例にて説明される同様または類似する問題は、通常他のフッ素化芳香族およびヘテロ芳香族化合物(例えば、製薬および農業化学分野における構造単位)の製造にもある。
本発明の化学的新規性および概念は、ハロゲン化触媒を用いる新しいフッ素化方法であり、例えば、好ましい実施形態において、アンチモン(Sb)ハロゲン化物をハロゲン化触媒として用いる。本発明に記載されているように、本発明の製造方法は、如何なる(少なくとも如何なる顕著な)廃物である副生成物をもたらすことなく、フルオロベンゼンおよびその誘導体を触媒で生産することである。例えば、カラムヘッドが15bar、-20℃である場合、カラムヘッには100%HClがある。
(リアクター)
さらに、本発明の一態様は、本発明で使用、本明細書で説明されるように、工場エンジニアリングに関する発明を提供する。本発明のいくつかの実施形態において、当該方法は、マイクロリアクター中で実施される好ましい。
本発明の一実施形態において、「マイクロリアクター」、「微細構造リアクター」または「マイクロチャネルリアクター」とは、典型的な横寸法が約1mm以下の有限な空間で化学反応を行う装置であり、一般的なものはマイクロチャネルを使う。通常、本明細書において、用語「マイクロリアクター」、「微細構造リアクター」または「マイクロチャネルリアクター」とは、典型的な横寸法が約5mm以下の有限な空間で化学反応を行う装置を指す。
マイクロリアクターおよびその中で物理的過程が発生する他の装置(例えばマイクロ熱交換器)について、マイクロプロセス工学分野において研究を行なった。上記マイクロリアクターは、通常連続流通リアクター(回分式リアクターに対して)をである。マイクロリアクターは、通常の拡大リアクターと比較して、エネルギー効率、反応速度および収率、安全性、信頼性、拡大可能性、その場/オンデマンド生産が大幅に改善され、プロセス制御がより精細になる。
「フローケミストリー」においてマイクロリアクターを用いて化学反応を行う。
マイクロリアクターを用いるフローケミストリーにおいて、回分式ではなく、連続的なフローで化学反応を行う。回分式生産は、製造において用いられる技術であり、一連のワークステーションで段階的に所望の目的物を生産し、異なるバッチの生成物を得る。回分式生産、バッチ生産(ワンタイム生産)および大規模生産(フロー生産または連続生産)は、3つの主な生産方法である。フローケミストリーにおいて、化学反応は、連続的なフローで行われる。この場合、各ポンプにより流体をパイプにポンピングし、各パイプが互いに接続されているため、流体は互いに接触する。これらの流体が反応性であると、反応が起きる。フローケミストリーは、大量の原料を用いて大規模製造を行う成熟した技術である。しかし、「フローケミストリー」という用語は、実験室規模の応用に対して作ったばかりの用語である。
連続流通リアクター(例えば、マイクロリアクターとして用いられる)は、通常管状であり、非反応性材料で作製される。当該非反応性材料は、従来技術において知られているものであり、試薬および/または反応物の特定の目的および特性に依存する。混合方法は、拡散法であり、例えば、リアクターの直径が狭い(例えば、<1mm)場合に拡散法を使用し、例えば、マイクロリアクターおよびスタティックミキサーにおいて拡散法を使用する。連続流通リアクターは、反応条件(熱伝達、時間および混合)を良好に制御することができる。リアクター内の試薬の滞留時間、即ち、反応が加熱または冷却される時間は、リアクター体積およびそれを通過する流速により計算される(滞留時間=リアクター体積/流速)。従って、より長い滞留時間を達成するために、試薬をより遅くポンピングしたり、体積がより大きなリアクターおよび/または複数のマイクロリアクターを直列に配置したり、任意にそれらの間にいくつかのシリンダーを追設することで反応の完成に必要な滞留時間を増加したりすることができる。後者の場合において、それぞれのマイクロリアクターの後ろのサイクロンセパレータは、形成されたHClの脱出に役に立つとともに、反応性能に積極的な影響を与える。これにより、生産性は、数ミリリットル/分間から数リットル/時間に増加することができる。
フロー式リアクターの例には、回転ディスクリアクター(ColinRamshaw)、回転管リアクター、マルチセルフロー式リアクター、振動流リアクター、マイクロリアクター、熱交換リアクター、吸引式リアクターが含まれる。吸引式リアクターにおいて、1つポンプにより1種の試薬をポンピングし、反応物を吸引する。プラグフロー式リアクターおよび管型流通リアクターがさらに含まれる。
本発明の一実施形態において、マイクロリアクターを使用することが特に好ましい。
マイクロリアクター中で合成し、4-クロロベンゾイルクロリドおよびクロロベンゼで4,4’-ジフルオロベンゾフェノンを連続的に製造するプロセススキームを示す例示的な実施形態である。 マイクロリアクター中で合成し、CClおよびクロロベンゼンで4,4’-ジフルオロベンゼンメタンを連続的に製造するプロセススキームを示す例示的な実施形態である。 マイクロリアクター中で合成し、4-クロロベンジルクロリドおよびクロロベンゼンで4,4’-ジフルオロベンゼンメタンを連続的に製造するプロセススキームを示す例示的な実施形態である。
発明の概要での簡単な説明、および特許請求の範囲での限定、以下の発明の詳細な説明および実施例での詳しい説明によれば、本発明は、従来技術の不足を克服する。本発明の前にはHFを用いてハロゲン化ベンゼン前駆体からフルオロベンゼンを製造する時にハロゲン化水素が形成される工業的に適切な方法がない。
従って、上記のように、本発明の一態様によれば、HFを用いてハロゲン化ベンゼン前駆体からフルオロベンゼンを製造する時にハロゲン化水素が形成される工業に有益な方法が提供される。さらに、本発明によれば、フルオロベンゼンの工業製造におけるクロロベンゼンの原料とする簡単な使用が提供される。本発明の前の従来技術においては、クロロベンゼンの当該使用が知られていない。
上記のように、HFを用いてハロゲン化ベンゼン前駆体からフルオロベンゼンを製造する時にハロゲン化水素が形成される工業的に適切な方法がない。フッ化水素は、鉱山から得たれた天然資源である蛍石(CaF)の第1化学利用段階であり、本発明のハロゲン化水素はさらに化学合成に適用できるため、芳香族化合物で触媒されるハロゲン-フッ素交換は、最良の環境およびプロセス技術である。これは、本発明により達成される。
過剰な無水HFにおける五フッ化アンチモンは、強求核性フッ化物であるスーパーアシッドHSbFが生成する。無水HFにおける高度にフッ素化されたSbFは、溶媒として求核置換反応においてベンゼン、不活性なハロゲン化ベンゼン、特にクロロベンゼン、ブロモベンゼン、およびそれらの誘導体をフッ素化し、非常に不活性な前駆体は原料として用いることができる。これは、以下の一般式で表される。
過フッ素化溶媒のような不活性溶媒において、Sb-五ハロゲン化物は、主にルイス酸として作用し、加水分解のときにフェノールおよびビフェニルを提供する。SbHalがSbHalに還元されて初めてハロゲン化は可能となるが、触媒されることではない。五フッ化アンチモンとコロロベンゼンとの反応は未知のものであり、当業者は、通常Friedel-Crafts生成物、または重合、分解により不確定な生成物およびオリゴマーを生成することしか期待しない。Journal of the Chemical Society,Perkin Transactions 2: Physical Organic Chemistry(1997)(11),2301-2306には、クロロベンゼンとジフェニルジスルフィドとの反応が記載されており、当該反応において、SbClは、ハロゲン化試薬ではなく、Friedel-Crafts触媒として用いられる。Theoretical and Experimental Chemistry(2011),47(2),123-128では、SbClは、ジクロロベンゼン、クラウンエーテルおよび塩素ガスを生産するための塩素化試薬の一部であるが、工業生産に適合しないかもしれない。
しかし、フッ素化反応が溶媒である無水HF中、環境温度よりもやや高い温度以上の温度範囲内で行われる場合、求核ハロゲン-フッ素置換は、非常に良い収率および高い反応速度で進行する。これは、(過剰)HFにおいて五フッ化アンチモンのFriedel-Crafts触媒機能から求核フッ素化機能またはフッ素化剤機能への変化が発生し、つまり、超酸性が極めて強い求核フッ素アニオン(F)の形で、例えばクロロベンゼンに反応配偶体として提供され、好ましくは核フッ素化フルオロベンゼンを生成する。例えば、より活性が高い場合、フッ素化はすでに約40℃から始まる温度で起こり得る。しかし、上記40℃よりもやや高い温度は、HClが形成された直後に気相に入るのにも有利であるため、フッ素化反応が速くなる。酸化段階Vでのアンチモン(Sb)(即ち、Sb-V)は約130℃から始まる温度下でSb-IIIに分解するため、いかなる反応物が存在しない場合において、反応温度の上限は高すぎてはならない。従って、一実施形態において、フッ素化反応の温度範囲は約40℃から130℃である。好ましい実施形態において、フッ素化反応の温度範囲は約40℃から110℃であり、より好ましい範囲は、約50℃から110℃であり、さらに好ましい範囲は約60℃から110℃であり、より好ましい範囲は約70℃から110℃である。最も好ましくは、フッ素化反応の温度範囲は約80℃から110℃である。これは最適な温度範囲である。上記内容は、他のハロゲンなどの化学的不活性化置換基またはシアノ基やニトロ基などの強力な置換基を持つクロロベンゼンを含む、全てのクロロベンゼンおよびその誘導体に適用される。同様に、他の核フッ素化芳香族が対応する核塩素化芳香族を出発物質として製造される場合、他の核フッ素化芳香族の製造に適用される。例えば、理論に束縛されることを望まないが、求核反応では、通常は不活性なCNやNOなどの置換基は、電子が置換基に引き付けられるため、求核剤に対する反応性を高め、したがって、他の位置および芳香環におけるδはで増加する。
従来技術の不利な点は、本発明によって克服される。したがって、本発明は、廃水なしで、試薬の価格が合理的で、工業規模に適したプロセスを提供する。より具体的には、この目的は、非常に安価でクリーンで簡単に作成できる出発材料を使用し、SbHalに基づく触媒システムを使用することによって解決される。本発明はまた、フッ素化が調製されることを意図しているとしても、非常に有利である。
本発明により、廃水を含まず、試薬の価格が合理的で、工業規模に適したプロセスが提供される。特に、上記目的は、非常に安価でクリーンで簡単に作成できる原料としてクロロベンゼンおよび/またはクロロベンゼン誘導体を使用し、およびSbHalに基づく触媒システムを使用し、一実施形態においてマイクロリアクターシステム中で行うことにより解決される。例として、いくつかの化学的オプションについて以下のスキームで与えられているが、それによって本発明を限定することを意図するものではない。
括弧[構造]で示されている化合物は、その場で形成することができる。
(スキーム1)CClオプション(ワンポット)バッチまたは連続(独創的な手順)。
メチレンブリッジの2つの塩素原子も、少なくとも部分的にはフッ素化されている可能性があると考えられている。これは、対応する中間体(F-が導入される前のベンジルカチオン)がベンジル構造によって非常によく安定化されているためである。したがって、加水分解段階の前の予備段階はまた、対応するジフルオロメチレン化合物および/または混合フルオロクロロメチレン化合物であり得る。
(スキーム2)4-クロロベンゾイルクロリドオプション(ワンポット)バッチまたは連続(独創的な手順)。
本発明によれば、4-クロロベンゾイルクロリドを使用する代わりに、別の選択肢としてp-クロロフェニルボロン酸を使用することも可能である。反応は、1つまたは複数のバッチリアクターでバッチで、またはマイクロリアクターシステムで連続的に行うことができる。有機材料は、相分離によって触媒およびHFから分離されることが好ましい。相形成をスピードアップするために、または化合物に応じて、不活性溶媒を加えることができる。もちろん、第1相の不活性溶媒が相を完全に分離できる場合(例えば、フルオロベンゼン誘導体の場合)がある。したがって、本発明は、一般に、相分離が添加された不活性溶媒の存在下で行われるプロセスも含む。本明細書において、「不活性溶媒」の意味は、溶媒が反応条件下で不活性であり、特に反応条件下でフッ素化が発生しないことである。分離された有機材料を結晶化(MP:107℃)によりさらに精製する。
(スキーム3)クロロベンゼンおよび4-クロロ-1-(クロロメチル)ベンゼンでジフルオロジフェニルメタンを製造し、次いでSbHal/HFシステム中でフッ素化することができる(独創的な手順)。
PAEKの原料としてのもう1つの興味深い分子は、テレフタロイルクロリドとフルオロベンゼンからFriedel-Craftsを使用して合成が再度行われる分子である(XiangsuZiyuanLiyong,(2011)(2),1-4、またはHoechstの特許US5300693およびBASFの特許DE3531837を参照)。
(スキーム4)テレフタロイルクロリドとクロロベンゼンが反応して変換した後、SbHal/HFシステムでフッ素化する(独創的な手順)。
あるいは、クロロベンゼンの代わりにフルオロベンゼンが使用される場合、Friedel-Craftsステップのみが適用され、本発明で主張される通りである。
本発明のすべての反応は、HDPTFEまたはSiCデバイスが取り付けられたバッチリアクター(オートクレーブ)中で行うことができ、あるいはマイクロリアクターまたはプラグフローリアクター中で連続的に行うことができる。一連のSTR(「撹拌容器」)を使用してもよいが、プラグフローおよびマイクロリアクターはより有利である。アルミニウムおよびアルミニウム合金は、例えば、表面のフッ素化後、高度にフッ素化されたSb触媒に対してある程度の耐性も示すことに留意されたい。したがって、アルミニウムおよびアルミニウム合金もまた、リアクター材料として使用され得る。例えば、化学的に攻撃的な媒体と接触する耐食性の機械シャフトを製造またはコーティングするための酸化アルミニウムまたはニッケルおよびアルミニウムを含む材料の使用は、例えば、DE10326613に記載されている。ただし、SiCとHDPTFEは通常、耐性に優れているため好ましい。
もちろん、4-クロロベンゾイルクロリド、4-クロロベンジルクロリドおよびテレフタロイルクロリドのフリーデルクラフト反応は、本明細書に開示される本発明の方法以外の既知の方法によって実施することができる。しかし、本明細書に記載の本発明のプロセスを使用することにより、追加の分離ステップが回避され、生成物の収率が増加し、廃棄物の形成が大幅に減少する。
(スキーム5)本発明によるクロロベンゼンのアシル化
(スキーム6)本発明によるフルオロベンゼンのアシル化
ここで、スキーム1の上記の文脈で述べたように、ジフルオロメチレン化合物または少なくともクロロフルオロメチレン化合物が同様に産生する可能性がある。
(スキーム7)本発明によるクロロベンゼンのアシル化による4,4’-ジフルオロフェニルメタンの調製
以下では、本発明の一般的な実施形態をより詳細に説明し、当業者の知識に基づいた推測に基づいて適切に調査され、したがって以下でさらに説明するより具体的な実施形態から導き出せる本発明の幅を説明する。
第1実施形態では、本発明は、Friedel-Crafts反応により化合物(特に1つまたは複数の芳香環を含む化合物)を製造する方法に関する。出発材料化合物の芳香環は、PAEKの前駆体として使用され、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)、好ましくは活性化された(必要に応じてフッ化水素(HF)で活化された)五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下でFriedel-Crafts試薬と反応する。
「PAEK」という用語は、本明細書で上記に記載されており、したがって、当技術分野の当業者に知られているもの、ならびに「PAEK」の前駆体として機能する化合物として定義される。本発明の文脈において本明細書に組み込まれる上記のセクションおよび説明が参照される。
第2実施形態では、本発明は、上記化合物の製造方法に関する。製造される化合物はフッ素化化合物である。
第3実施形態では、本発明は、本発明に係る化合物の製造方法に関する。出発材料化合物は、式(I)を有する化合物から選択される。
式中、原則的には、残基Rnは、フッ素化およびFriedel-Crafts反応の反応条件下で「不活性」である任意の置換基であり得る。例えば、環系および複素環を含む化合物は本発明に適用できる。
好ましくは、Rnは独立して水素(H)、フッ素(F)または塩素(Cl)から選択される1つまたは複数の置換基であり、
Halは、フッ素(F)、塩素(Cl)、臭素(Br)またはヨウ素(J)から選択されるハロゲン、好ましくはフッ素(F)または塩素(Cl)である。
第4実施形態では、本発明は、化合物の製造方法に関する。出発材料化合物は上記式(I)を有する化合物から選択される。
Rnは独立して水素(H)、フッ素(F)または塩素(Cl)から選択される1つの置換基であり、
Halはフッ素(F)または塩素(Cl)から選択されるハロゲン、好ましくは塩素(Cl)である。
例えば、本発明に係る化合物の製造方法において、出発材料化合物は、上記式(I)を有する化合物から選択される。式中、Rnの1つ、好ましくはパラ位(4-Rn)にあるRnは、フッ素(F)または塩素(Cl)であり、他のRnは水素であり、Halはフッ素(F)または塩素(Cl)である。好ましくは、出発材料化合物は、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、好ましくは1,4-ジクロロベンゼン、フルオロベンゼンおよびジフルオロベンゼン、好ましくは1,4-ジフルオロベンゼンからなる群より選択される。より好ましくは、出発材料化合物は、化合物クロロベンゼンおよびフルオロベンゼンから選択される。
第5実施形態では、本発明は、上記実施形態のいずれか1つに係る化合物の製造方法に関する。Friedel-Crafts試薬は、式(II)を有する化合物から選択される。
式中、R’nは独立して水素(H)、フッ素(F)または塩素(Cl)から選択される1つまたは複数の置換基である。
R1およびR2はそれぞれ独立して水素、トリハロメチル基(-CHal)、ハロカルボニル基(-(C=O)Hal)、ハロメチル基(-CHHal)、またはボロン酸基であり、R1およびR2の少なくとも1つはトリハロメチル基(-CHal)、ハロカルボニル基(-(C=O)Hal)またはハロメチル基(-CHHal)であり、各ハロゲン(Hal)は、フッ素(F)、塩素(Cl)、臭素(Br)またはヨウ素(J)から選択され、好ましくはハロゲンは(Hal)フッ素(F)および塩素(Cl)から選択され、より好ましくはハロゲン(Hal)は塩素(Cl)である。
ボロン酸は、ホウ酸(B(OH))に関連する化合物で、3つのヒドロキシ基の1つがアルキル基またはアリール基に置換されている。ホウ酸の一般的な構造はR’’‐B(OH)であり、R’’は置換基である。炭素-ホウ素結合を含む化合物は、有機ボランに属する。ボロン酸はルイス酸として機能する。
原則的には、残基R’nは、フッ素化およびFriedel-Crafts反応の反応条件下で「不活性」である任意の置換基であり得る。例えば、環系および複素環を含む化合物は本発明に適用できる。
例えば、上記化合物の製造方法において、本発明によれば、Friedel-Crafts試薬は、上記式(II)を有する化合物から選択される。
式中、R’nは独立して水素(H)、フッ素(F)または塩素(Cl)から選択される1つの置換基であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して水素、トリクロロメチル基(-CCl)、塩化カルボニル基(-(C=O)Cl)、クロロメチル(-CHCl)またはボロン酸基であり、R1およびR2の少なくとも1つはトリクロロメチル基(-CCl)、塩化カルボニル基(-(C=O)Cl)またはクロロメチル(-CHCl)である。
例えば、上記化合物の製造方法において、本発明によれば、Friedel-Crafts試薬は、上記式(II)を有する化合物から選択される。R1およびR2はそれぞれ独立して水素、塩化カルボニル基(-(C=O)Cl)、クロロメチル(-CHCl)またはボロン酸基から選択され、R1およびR2の少なくとも1つは塩化カルボニル基(-(C=O)Cl)、クロロメチル(-CHCl)またはボロン酸基である。
例えば、上記化合物の製造方法において、本発明によれば、Friedel-Crafts試薬は、クロロベンゾイルクロリド、フルオロベンゾイルクロリド、(4-クロロフェニル)ボロン酸、ベンゼン-ジカルボニルジクロリド和クロロメチルクロロベンゼン、好ましくは4-クロロベンゾイルクロリド、ベンゼン-1,4-ジカルボニルジクロリドおよび4-(クロロメチル)-1-クロロベンゼンからなる群より選択される。
例えば、上記化合物の製造方法において、本発明によれば、Friedel-Crafts試薬は、上記式(II)を有する化合物から選択される。出発材料化合物の存在下で、それぞれ上記方法においてテトラハロゲノメタンからその場でトリハロメチル基(-CHal)またはトリクロロメチル基(-CCl)を製造し、あるいは、上記方法においてテトラクロロメタンからその場で製造する。
例えば、上記化合物の製造方法において、本発明によれば、Friedel-Crafts試薬は、テトラハロゲノメタンからその場で製造され、出発材料化合物はクロロベンゼンおよびフルオロベンゼンである。
別の実施形態において、本発明は、上記化合物の製造方法に関する。五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下、好ましくはフッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、出発材料化合物である芳香環とFriedel-Crafts試薬とを反応させる。
(i)2モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬テトラクロロメタンとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジクロロジフェニル)-ジクロロメタンを生成する。
(ii)2モルの出発材料化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬テトラクロロメタンとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジクロロジフェニル)-ジクロロメタンを生成する。
(iii)1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-クロロベンゾイルクロリドとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゾフェノンを生成する。
(iv)1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬(4-クロロフェニル)ボロン酸とを反応させ,生成目的化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゾフェノンを生成する。
(v)1モルの出発材料化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-クロロベンゾイルクロリドとを反応させ、目的化合物(4-フルオロ,4’-クロロ)-ベンゾフェノンを生成する。
(vi)1モルの出発材料化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-フルオロベンゾイルクロリドとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成する。
(vii)1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-クロロ-1-(クロロメチル)-ベンゼンとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゼンメタンを生成する。
(viii)1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-フルオロ-1-(クロロメチル)-ベンゼンとを反応させ、目的化合物(4-フルオロ,4’-クロロ)-ベンゼンメタンを生成する。
(ix)1モルの出発材料化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-クロロ-1-(クロロメチル)-ベンゼンとを反応させ、目的化合物(4-フルオロ,4’-クロロ)-ベンゼンメタンを生成する。
(x)1モルの出発材料化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-フルオロ-1-(クロロメチル)-ベンゼンとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンを生成する。
(xi)1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬ベンゼン-1,4-ジカルボニルジクロリドとを反応させ、目的化合物ビス-1,4-[(4,4’-(ジクロロフェニル)-カルボニル]-フェニレンを生成する。
(xii)1モルの出発材料化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬ベンゼン1,4-ジカルボニルジクロリドとを反応させ、目的化合物1ビス-1,4-[(4,4’-ジフルオロフェニル)-カルボニル]-フェニレンを生成する。
別の実施形態では、本発明は、化合物の製造方法に関する。五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下、好ましくはフッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、出発材料化合物である芳香環とFriedel-Crafts試薬とを反応させる。
A)目的化合物は(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンである。
さらに、
(i)ステップ1において、低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、2モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬テトラクロロメタンとを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロジフェニル)-ジクロロメタンをその場で生成し、
ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物(4,4’-ジクロロジフェニル)-ジクロロメタンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成する。
あるいは、
(ii)ステップ1において、低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-クロロベンゾイルクロリドとを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゾフェノンをその場で生成する。
ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物4,4’-(ジクロロ)-ベンゾフェノンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成する。
あるいは、
(iii)ステップ1において、低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬である(4-クロロフェニル)ボロン酸とを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゾフェノンをその場で生成し、
ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゾフェノンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成する。
あるいは、
B)目的化合物は(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンであり、必要に応じて目的化合物は上記(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンに由来する(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンである。
さらに、
(iv)ステップ1において、低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬4-クロロ-1-(クロロメチル)ベンゼンとを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゼンメタンをその場で生成する。
ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゼンメタンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンを生成する。
必要に応じて、ステップ2で得られた(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンはさらに反応して目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成する。
(v)ステップ1において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、クロロベンゼンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、中間体化合物フルオロベンゼンをその場で生成する。
ステップ2において、低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの中間体化合物フルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬テトラクロロメタンとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンを生成する。
必要に応じて、ステップ2で得られた(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンはさらに反応して目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成する。
C)目的化合物はビス-1,4-[(4,4’-ジフルオロフェニル)-カルボニル]-フェニレンである。
さらに、
(vi)低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物クロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬ベンゼン-1,4-ジカルボニルジクロリドとを反応させ、中間体化合物ビス-1,4-[(4,4’-ジクロロフェニル)-カルボニル]-フェニレンをその場で生成する。
ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物ビス-1,4-[(4,4’-ジクロロフェニル)-カルボニル]-フェニレンと、過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物ビス-1,4-[(4,4’-ジフルオロフェニル)-カルボニル]-フェニレンを生成する。
(HFの濃度)
Friedel-Crafts反応において、用語「低」は、少なくとも微量HFの濃度をいい、例えば微量のHFは約0.1ppm-約100ppmの範囲内である。例えば、出発原料、反応物または所望の生成物を溶媒として用いる場合、ppmレベルの微量HFを使用することができる。代替的には、不活性溶媒、例えば、ヘキサフルオロベンゼンまたはパーフルオロデカンを溶媒として使用してもよい。いくつかの実施例において、HF濃度は、約ゼロまたはゼロ(HFが存在しない)であってもよい。
ベンゼン核のフッ素化について、求核フッ素化HSbFを形成するために「過剰」なHFが必要である。
HFの過剰について、HSbFの量の分析方法は限定されないが、推定することができ、Sbのモル量よりも約2倍過剰なHFは、比較的低い量であると考えてもよい。これは、この下限で反応混合物において十分なHSbF を形成できるためである。上限は重要ではなく、無限に過剰であっても構わないが、実際の原因から、フッ素化反応に必要なフッ素のモル量に適合するHFの上限が好ましい。従って、フッ素化反応の一実施形態において、Sbのモル量に対してHFの上限は多くとも約40倍過剰であってもよい。フッ素化反応の別の実施形態において、Sbのモル量に対してHFの上限は多くとも約30倍過剰であり、好ましくはHFの上限は多くとも約20倍、より好ましくは約10倍過剰である。
従って、Sbのモル量に対して、フッ素化反応において過剰なHF濃度は、HFの約2倍-約40倍過剰である。フッ素化反応の別の実施形態において、フッ素化反応における過剰なHF濃度は、Sbのモル量に対して約2倍-約30倍過剰である。HFは、好ましくは約2倍-約20倍、より好ましくは約2倍-約10倍過剰である。
別の実施形態において、本発明は、上述した本発明のいずれかのFriedel-Crafts反応による化合物の製造方法に関する。
(a)上記反応は、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で行い、好ましくはフッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で行い、上記方法は連続方法であり、
あるいは、
(b)上記方法が2つ以上のステップを含む場合、以下のステップ(b1)および(b2)を含み、
(b1)Friedel-Crafts反応において、出発材料化合物とFriedel-Crafts試薬とを五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で反応させ、上記五ハロゲン化アンチモン触媒は、低濃度で存在するフッ化水素(HF)で活化され、
(b2)フッ素化反応において、化合物と過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で反応させ、
上記ステップ(b1)および(b2)のうちの少なくとも1つは連続方法であり、
好ましくは、少なくともステップ(b2)において、上記フッ素化反応のステップは連続方法であり、
より好ましくは、上記Friedel-Crafts反応のステップ(b1)およびフッ素化反応のステップ(b2)は、いずれも連続方法である。
例えば、本発明によれば、上記化合物の製造方法において、上記ステップ(b1)および(b2)の少なくとも1つは連続方法であり、
好ましくは、少なくとも(b2)のフッ素化反応は連続方法であり、
より好ましくは、(b1)Friedel-Crafts反応のステップおよび(b2)フッ素化反応のステップはいずれも連続方法であり、
上記連続方法は、少なくとも1つの連続フローリアクター、好ましくは少なくとも1つのマイクロリアクター中で行い、その上部横寸法は約5mm以下または約4mm以下であり、
最も好ましくは、上記ステップのうち、少なくとも(b2)フッ素化反応のステップは、少なくとも1つのマイクロリアクター中で、
流速:約10ml/h-約400l/h
温度:約30℃-約150℃
圧力:約4bar-約50bar
滞留時間:約1秒-約60分間、好ましくは約1分間-約60分間
の1種または複数の条件下で行う連続方法である。
別の実施形態において、本発明は上記化合物の製造方法に関する。少なくとも1つの上記連続フローリアクター、好ましくは少なくとも1つのマイクロリアクターは、独立してSiC連続フローリアクター、好ましくはSiCマイクロリアクターである。
別の実施形態中において、本発明は上記化合物の製造方法に関する。フッ素化反応では、触媒は、ハロゲン化触媒、好ましくはフッ素化触媒であり、Sb、As、Bi、Al、Zn、Fe、Mg、Cr、Ru、Sn、Ti、Co、Ni、好ましくはSbに基づき、より好ましくはフッ素化触媒であり、フッ素化触媒は、活性物質HSbF を提供するSbフッ素化触媒から選択される。
例えば、本発明によれば、上記化合物の製造方法において、フッ素化反応では、ハロゲン化触媒は、五塩化アンチモンおよび/または五フッ化アンチモンであり、好ましくは触媒は五フッ化アンチモン(SbF)であり、請求項1から17のいずれか1項に記載の方法における反応ステップの前にオートクレーブ中でSbClとHFとの反応により調製され、より好ましくはHFにおけるSbFからなり、活性物質HSbF を形成する。
別の実施形態において、本発明は、上記化合物の製造方法に関する。上記方法は、ステップ(b3)において、上述したいずれかの方法で得られた上記目的化合物を精製および/または分離し、精製および/または分離された化合物を産生する。
例えば、本発明の上記方法では、ステップ(b3)において、上記目的化合物の上記精製および/または分離は、相分離法を含むか、または相分離法からなり、好ましくは、ステップ(b3)において、上記目的化合物の上記精製および/または分離は、蒸留して精製および/または分離された目的化合物を産生することを含まない。
上記すべての反応は、バッチリアクター、あるいはプラグフローまたはマイクロリアクター中で連続的に行われる。図1のスキームでは、例としてマイクロリアクターを使用する。SbVは、部分的にはSbIIIに還元され得るため、塩素またはフッ素であるハロゲンは、相分離器の下流のいかなるHF/触媒の再循環流にフィードされ得る(WO03/053580)。また、高度にフッ素化されたアンチモン(Sb)触媒と過剰なHFとの混合物は、非常に強い腐食性を有するため、本発明によれば、これらの反応は、SiCリアクターまたはHDPDFEが塗布されたリアクター中で行われるか、あるいはSiCまたはHDPDFEで裏付けられたリアクター中で行われることが最も好ましい。一部のAl塗層にも正性抵抗がある。
最終生成物が固体である場合、再結晶により精製することが好ましい。生成物が液体または低融点固体である場合、蒸留により精製し、必要に応じて、いわゆる加熱コンデンサを有する固体蒸留により精製する。
(リアクターの詳細)
好ましい実施形態において、本発明の用途およびプロセスでは、マイクロリアクターを使用する。なお、本発明の一般的な実施形態において、上記マイクロリアクター以外、好ましくは、本明細書で定義された上部横寸法が約1cm以下の管型連続フローリアクターを使用してもよい。したがって、このような連続フローリアクターは、好ましくは約5mm以下または約4mm以下の上部横寸法を有する。これは、本発明の好ましい実施形態、例えば、好ましいマイクロリアクターを指す。連続的に操作するSTRシリーズは、別の選択肢であるが、マイクロリアクターを使用することがより好ましい。
なお、任意の2つのマイクロリアクターの間にサイクロンセパレータを挿入することができる。これによって、本明細に記載されているように、少なくとも部分的に反応中で形成されたHClが除去される。
本発明の上記実施形態において、例えば好ましくは、管型連続フローリアクターの最小横寸法は約>5mmであってもよいが、通常約1cm以下である。従って、例えば、好ましくは、管型連続フローリアクターの横寸法は、約>5mm-約1cmの範囲内、またはこの範囲内の任意の値であってもよい。例えば、例えば好ましくは管型連続フローリアクターの横寸法は、約5.1mm、約5.5mm、約6mm、約6.5mm、約7mm、約7.5mm、約8mm、約8.5mm、約9mm、約9.5mm、約10mm、または上記値の間の任意値であってもよい。
本発明の上記実施形態において、好ましくはマイクロリアクターを使用する。マイクロリアクターの最小横寸法は、約0.25mm以上、好ましくは約0.5mm以上であってもよいが、マイクロリアクターの最大横寸法は、約5mm以下である。従って、例えば、マイクロリアクターの横寸法の範囲は、約0.25mm-約5mmであってもよいが、好ましくは約0.5mm-約5mmであり、この範囲内の任意値であってもよい。例えば、マイクロリアクターの横寸法は、約0.25mm、約0.3mm、約0.35mm、約0.4mm、約0.45mm、約5mm、または上記値の間の任意値であってもよい。
上記のように、本発明の実施形態において、横寸法が約1cm以下の管型連続フローリアクターを使用することが好ましい。このような連続フローリアクターは、例えばプラグフロー式リアクター(PFR)である。
プラグフロー式リアクター(PFR)は、連続管型リアクター、CTRまたはプラグフロー式リアクターとも呼ばれ、是用于在連続的、流動的な円筒状システム中で化学反応を行うリアクターである。PFRリアクターモデルは、このように設計された化学リアクターの挙動を予測するために用いられ、それにより、重要なリアクターの変量、例えば、リアクターのサイズを推測することができる。
PFRを流れる流体は、一連の無限に薄い緊密な「プラグ(plug)」にモデル化されてリアクターを流れることができる。上記プラグは、それぞれ均一な組成を有し、リアクターにおいて軸方向に沿って移動し、且つ各プラグは、前後のプラグと異なる組成を有する。主要な仮定は、流体がプラグフローにつれてPFRを経過して軸方向(前または後)ではなく、径方向(即ち、横方向)において完璧に混合することである。
従って、本明細書において、本発明で用いられるリアクタータイプを定義するための用語、例えば「連続フローリアクター」、「プラグフロー式リアクター」、「管型リアクター」、「連続フローリアクターシステム」、「プラグフロー式リアクターシステム」、「管型リアクターシステム」、「連続フローシステム」、「プラグフローシステム」、「管型システム」は、互いに同義であり、交換することができる。
リアクターまたはシステムは、複数のパイプとして配置することができ、(例えば)線状、環形、蛇状、環状、旋回管型またはそれらの組み合わせであってもよい。(例えば)旋回管型である場合、リアクターまたはシステムは、「旋回管型リアクター」または「旋回管型システム」とも呼ばれる。
径方向、即ち横方向において、このようなリアクターまたはシステムは、約1cm以下の内径または内部断面サイズ(即ち、それぞれ縦寸法または横寸法)を有する。従って、一実施例において、リアクターまたはシステムの横寸法は、約0.25mm-約1cm、好ましくは約0.5mm-約1cm、より好ましくは約1mm-約1cmのであってもよい。
さらなる実施例において、リアクターまたはシステムの横寸法は、約>5mm-約1cmまたは約5.1mm-約1cmの範囲内であってもよい。
横寸法が約5mm以下または約4mm以下である場合、リアクターは、「マイクロリアクター」と呼ばれる。さらなるマイクロリアクターの実施例において、リアクターまたはシステムの横寸法は、約0.25mm-約5mm、好ましくは約0.5mm-約5mm、より好ましくは約1mm-約5mmの範囲であってもよい。あるいは、リアクターまたはシステムの横寸法は、約0.25mm-約4mm、好ましくは約0.5mm-約4mm、より好ましくは約1mm-約4mmの範囲であってもよい。
反応物が固体である場合、不活性溶媒を使用することができる。従って、固体原料を使用する場合、上記固体原料を不活性溶媒に溶解する。適切な溶媒は、例えばアセトニトリル、または過フッ素化若しくは部分フッ素化アルカン(例えば、ペンタフルオロブタン(365mfc))、線状または環状の部分フッ素化または過フッ素化エーテル(如CF-CH-OCHF(E245))、またはオクタフルオロテトラヒドロフランである。通常、利用可能な場合、または最初の合成後に、生成物自体も不活性溶媒として機能する。
本発明の任意の実施例において、マイクロリアクターではなく、必要に応じて別の連続フローリアクターを使用してもよい。(例えば)ハロゲン化またはフッ素化で用いられる触媒(ハロゲン化促進触媒、例えば、ハロゲン化触媒または好ましくはハロゲン化触媒)組成物が反応過程において粘稠になりやすいか、または上記触媒その自体が粘稠である場合、マイクロリアクターの代わりに、別の連続フローリアクターを使用することが好ましい。この場合には、連続フローリアクターは、下部の横寸法が上記マイクロリアクターの横寸法(即ち、約1mm)よりも大きいが、上部の横寸法が約4mm以下の有限な空間で化学反応を行う装置である。従って、本発明の任意の実施例において連続フローリアクターを使用する。用語「連続フローリアクター」は、好ましくは、有限な空間中で化学反応を行う装置(典型的には、横寸法が約1mm-約4mmである)を指す。本発明のこのような実施例において、上記横寸法を有するプラグフロー式リアクターおよび/または管型フローリアクターを連続フローリアクターとして使用することが特に好ましい。また、本発明のこのような実施例において、マイクロリアクターを使用する実施例と比較して、上記横寸法を有する連続フローリアクター、好ましくはプラグフロー式リアクターおよび/または管型フローリアクターは、より高い流速を有することが特に好ましい。例えば、このより高い流速は、本明細書に記載のマイクロリアクターの典型的な流速の約2倍以下、約3倍以下、約4倍以下、約5倍以下、約6倍以下、約7倍以下、または約1倍-約7倍、約1倍-約6倍、約1倍-約5倍、約1倍-約4倍、約1倍-約3倍、約1倍-約2倍のいずれかの流速である。本発明のこの実施例において、好ましい上記連続フローリアクター、より好ましいプラグフロー式リアクターおよび/または管型フローリアクターを使用して、本発明書に記載のマイクロリアクターの製造材料を調製する。例えば、このような製造材料は、炭化ケイ素(SiC)および/または合金(例えば、本明細書に記載のマイクロリアクターの高耐食性のニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金、例えばHastelloy(登録商標))である。
本発明では、上記横寸法を有するマイクロリアクターまたは連続フローリアクターを使用することにより、分離工程を簡単化することができるとともに、時間やエネルギーが係る(例えば)中間蒸留工程が必要とされない。特に、本発明では、上記横寸法を有するマイクロリアクターまたは連続フローリアクターを使用することにより、相分離だけにより分離することができるとともに、未反応成分は、適宜な時または必要な時に反応過程に再循環されてもよいか、または生成物として用いられてもよい。
本発明の好適な実施例では、本発明に係るマイクロリアクターを用いるが、マイクロリアクターに加えてまたはそれの代わりに、それぞれプラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターを使用してもよい。
プラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターおよびその操作条件は、当業者にはよく知られている。
本発明において上部の横寸法が約4mm以下の連続フローリアクター、特にマイクロリアクターを使用することが好ましいが、場合によって、収率損失およびより長い滞留時間、より高い温度によりマイクロリアクターの使用が回避されるため、プラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターを使用する。これにより、収率損失の問題が解決され、つまり、詰まり(望ましくない駆動方式による粒子の形成)が抑制される。これは、パイプの直径またはプラグフロー式リアクターのチャンネルがマイクロリアクターよりも大きいためである。
プラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターを使用する欠点は、主観的な見方もなされることができる。一方、ある場所または生産施設内のある方法の制限下で、この欠点は適切なものであり、収率損失が重要ではないと認められ、あるいは他の利点または制限に鑑みて許容できる場合がある。
以下、マイクロリアクターを使用する実施形態により本発明をより詳しく説明する。本発明で使用されるマイクロリアクターは、好ましくはセラミック連続フローリアクターであり、より好ましくはSiC(炭化ケイ素)連続フローリアクターであり、トン規模で物質を生産することができる。熱交換器とSiCとを組み合わせて製造することにより、操作されにくいフローケミストリーの応用に対して最適化制御を行うことができる。コンパクトなモジュラー製造および流れ生産用のリアクターは、異なる方法に対して柔軟性を有し、一連の生産体積(5-400l/h)を使用することができ、空間に制限がある場合であっても化学製品の収量を増加させ、比類のない化学的適合性および熱制御を有する。
セラミック(SiC)マイクロリアクターは、(例えば)拡散接合に有利な3MSiCリアクターであり、特にろう付けおよび金属がなく、FDAに承認された材料または他の薬物管理機関(例えば、EMA)に承認された材料に優れた熱伝達、質量伝達、優れた化学的適合性を提供する。炭化ケイ素(SiC)は、カーボランダム(carborundum)とも呼ばれ、ケイ素および炭素を含み、当業者に知られているものである。例えば、合成SiC粉末は、大量に生産され、加工されて多くの用途に用いられている。
例えば、本発明の実施例において、本発明の目的は、少なくとも1つの反応ステップがマイクロリアクター中で行われる方法によって目的を実現する。特に、本発明の好適な実施例において、本発明の目的は、少なくとも1つの反応ステップがSiCを含むかまたはSiCで作製されたマイクロリアクター(「SiC-マイクロリアクター」)、あるいは合金を含むかまたは合金で作製されたマイクロリアクター、例えばHastelloy C中で行われる方法によって実現される。詳細は後述する。
従って、例えば、本発明の一実施形態において、生産、好ましくは工業生産に適しているマイクロリアクターは、SiC(炭化ケイ素、例えば、Dow Corningが提供したType G1SiC、またはChemtrixが提供したMR555 Plantrix SiC)を含むか、またはSiCで作製された「SiC-マイクロリアクター」であるが、これに制限されない。これにより、(例えば)約5-約400kg/時間の生産性が提供される。あるいは、例えば、本発明の他の実施例において、工業生産に適しているマイクロリアクターは、Ehrfeldが提供したHastelloy Cを含むか、またはそれで作製されたものであるが、これに制限されない。このようなマイクロリアクターは、本発明に係るフッ素化生成物の好適な工業生産に特に適している。
生産規模のフロー式リアクターに対する機械的要求および化学的要求を満たすために、3M(商標)SiC(レベルC)でPlantrixモジュールを製造する。特許で保護されている3M(EP1637271B1および外国特許)拡散接合技術により製造されたリアクターは、全体として密閉され、溶接線/接合スポットがなく、ろう付け用フラックスを使用する必要がない。Chemtrix MR555 Plantrixについては、2017年にChemtrix BVによって印刷されたマニュアル「CHEMTRIXのPlantrix(登録商標)MR555シリーズに関する拡大可能なフローケミストリー技術情報」に記載され、その技術情報の全体は引用により本明細書に組み込まれる。
上記実施例に加えて、本発明の他の実施例において、当業者に知られている他の製造業者のSiCを使用することができる。
従って、本発明において、ChemtrixのProtrixをマイクロリアクターとして使用してもよい。Protrix(登録商標)は、3M(登録商標)炭化ケイ素で製造されたモジュール化の連続フローリアクターであり、優れた耐薬品性および熱伝達を提供する。3M(登録商標)SiC(レベルC)で製造されたProtrix(登録商標)モジュールは、フロー式リアクターに対する機械的要求および化学的要求を満たすことができる。特許で保護されている3M(EP1637271B1および外国特許)拡散接合技術により製造されたリアクターは、全体として密閉され、溶接線/接合スポットがなく、ろう付け用フラックスを使用する必要がない。この製造技術は、完全なSiCリアクター(熱膨張係数=4.1x10-6-l)を得るための製造方法である。
0.2-20ml/minの流速および25 bar以下の圧力に設定することにより、Protrix(登録商標)は、実験室規模の連続フロー方法に適用でき、さらにPlantrix(登録商標)MR555(x340倍率)に移転して物質の生産を行うことができる。Protrix(登録商標)リアクターは、独特なフロー式リアクターであり、以下の利点を有する。拡散接合による3M(登録商標) SiCモジュールは、統合した熱交換器を有し、比類のない熱制御および優れた耐薬品性を提供し、標準ヒュームフードにおいてグラムレベルで極端な反応条件下で安全に操作することができ、試薬の添加量、生産力または反応時間からみて、生産を効率的かつ柔軟に実行することができる。Protrix(登録商標)フロー式リアクターの一般的なパラメータは以下の通りである。可能な反応タイプは、(例えば)A+B→P1+Q(またはC)→Pであり、用語「A」、「B」、「C」は反応物を示し、「P」、「P1」は生成物を示し、「Q」はクエンチャーを示し、生産量(ml/min)は約0.2-約20であり、チャンネルサイズ(mm)は1x1(予熱ゾーンおよび混合器ゾーン)、1.4x1.4(停留通道)であり、試薬供給は1-3であり、モジュールサイズ(幅x高さ)(mm)は110x260であり、フレームサイズ(幅x高さx長さ)(mm)は約400x300x250であり、モジュール/フレーム数は1-4である。Chemtrix Protrix(登録商標)リアクターの技術情報については、2017年にChemtrix BVによって出版されたマニュアル「CHEMTRIXのProtrix(登録商標)に関する拡大可能なフローケミストリー技術情報」に記載され、その技術情報の全体は引用により本明細書に組み込まれる。
工業生産、プロセス開発および小規模生産に適用可能なDow CorningのType G1SiCマイクロリアクターは、以下のサイズにより特徴付けられる。典型的なリアクターサイズ(長さx幅x高さ)は88cmx38cmx72cmであり、典型的な流体モジュールサイズは188mmx162 mmである。Dow CorningのType G1SiCマイクロリアクターの特徴は、優れた混合および熱交換、特許で保護されているHEART設計、小さい内部容積、長い滞留時間、高柔軟性、多用途、高耐薬品性のため高pH化合物、特にフッ化水素酸が適用すること、混合型ガラス/SiC溶液が製造材料として使用されること、他の先端的なフローリアクターとのシームレスな拡大である。Dow CorningのType G1SiCマイクロリアクターの典型的な技術パラメータは以下の通りである。流速は約30ml/min-約200ml/minであり、操作温度は約-60℃-約200℃であり、操作圧力は約18barg(barg:ゲージ圧の単位、即ち、barで環境圧力または大気圧よりも高い圧力)以下であり、用いられる材料は炭化ケイ素、PFA(ペルフルオロアルコキシアルカン)、ペルフルオロエラストマーであり、流体モジュール内の容積は10 mlであり、必要に応じて管理機関、例えばFDAまたはEMAにより承認されている。Dow CorningのType G1SiCマイクロリアクターのリアクターは、多用途であり、その配置がカスタマイズすることができる。また、上記リアクター上の任意の位置に注入スポットを増設することができる。
Hastelloy(登録商標)Cは、式NiCr21Mo14Wで表される合金であり、「合金22」または「Hastelloy(登録商標)C-22」とも呼ばれてもよい。上記合金は、耐食性が高いニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金であり、酸化性酸、還元性酸および混合酸に対して優れた耐性を有することが知られている。上記合金は、用于排煙脱硫工場、化学工業、環境保護システム、廃棄物焼却工場、廃水処理工場に用いられている。上記実施例以外、本発明の他の実施例において、当業者に知られている他の製造業者のニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金を用いてもよい。合金成分の合計を100%とする場合、ニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金の典型的な組成(重量%)は、約51.0%以上、例えば約51.0%-約63.0%のNi(ニッケル)を主成分とし、Cr(クロム)が約20.0-約22.5%、Mo(モリブデン)が約12.5-約14.5%、W(タングステンまたはウルフラム)が約2.5~約3.5%、Fe(鉄)が約6.0%以下、例えば約1.0%-約6.0%、好ましくは約1.5%-約6.0%、より好ましくは約2.0%-約6.0%である。あるいは、Co(コバルト)は、合金成分の合計100%に対して約2.5%以下、例えば約0.1%-約2.5%の含有量で合金に存在してもよい。また、V(バナジウム)は、合金成分の合計100%に対して約0.35%以下、例えば約0.1%-約0.35%の含有量で合金に存在してもよい。さらに、合金成分の合計100%に対して、少量(即ち0.1%以下)の他の元素は、独立して(例えば)C(カーボン)、Si(シリコン)、Mn(マンガン)、P(リン)および/またはS(硫黄)であり得る。少量(即ち0.1%以下)の他の元素が存在する場合には、上記元素(例えば)C(カーボン)、Si(シリコン)、Mn(マンガン)、P(リン)および/またはS(硫黄)は、合金成分の合計100%に対してそれぞれ独立して約0.1%以下、例えば約0.01-約0.1%、好ましくは約0.08%以下、例えば約0.01-約0.08%の含有量で存在してもよい。例えば、上記元素(例えば)C(カーボン)、Si(シリコン)、Mn(マンガン)、P(リン)および/またはS(硫黄)は、合金成分の合計100%に対してそれぞれ独立してC≦0.01%、Si≦0.08%、Mn≦0.05%、P≦0.015%、S≦0.02%の含有量で存在してもよい。通常、上記合金組成物には、Nb(ニオブ)、Ti(チタン)、Al(アルミ)、Cu(銅)、N(窒素)およびCe(セリウム)のいずれかが微量でも存在しない。
Hastelloy(登録商標)C-276合金は、極めて低い炭素含有量およびケイ素含有量により溶接の問題を緩和する鍛造ニッケル-クロム-モリブデン材料であるため、化学方法および関連工業において広く用いられており、多くの腐食性化学薬品に対する耐性について、50年にわたる追跡記録により実証された。他のニッケル合金と同様に、可塑性を有し、成形および溶接が容易であり、塩化物を含む溶液中の応力腐食割れ(オーステナイト系ステンレス鋼が受けやすい分解の態様)に対して優れた耐性を有する。そのクロム含有量およびモリブデン含有量が高いため、酸化性酸および非酸化性酸に耐えることができ、塩化物および他のハロゲン化物の存在下で孔食および隙間腐食に対して顕著な耐性を示す。総成分100%に対して、重量%で一般的な組成は、Ni(ニッケル)57%(残部)、Co(コバルト)2.5%以下、Cr(クロム)16%、Mo(モリブデン)16%、Fe(鉄)5%、W(タングステン(tungsten)またはウルフラム(wolfram))4%であり、より少量の他の成分は、Mn(マンガン)1%以下、V(バナジウム)0.35%以下、Si(シリコン)0.08%以下、C(カーボン)0.01以下、Cu(銅)0.5%以下である。
本発明の別の実施例において、例えば、上記生産、好ましくは上記工業生産に適したマイクロリアクターは、SiC(炭化ケイ素、例えば、Dow CorningによってType G1SiCとして、またはChemtrixによってMR555 Plantrixとして提供されるSiC)で構成されるか、または作製されたSiC-マイクロリアクターであるが、これに制限されない。これにより、(例えば)約5-約400kg/時間の生産性が提供される。
本発明によれば、本発明のフッ素化生成物の生産、好ましくは工業生産において、1つまたは複数のマイクロリアクター、好ましくは1つまたは複数のSiC-マイクロリアクターを使用することができる。本発明のフッ素化生成物の生産、好ましくは工業生産において1つ以上のマイクロリアクター、好ましくは1つ以上のSiC-マイクロリアクターを使用する場合、これらのマイクロリアクター、好ましくはSiC-マイクロリアクターは、並列配置および/または直列配置して使用することができる。例えば、2つ、3つ、4つまたはより多くのマイクロリアクター、好ましくは2つ、3つ、4つまたはより多くのSiC-マイクロリアクターは、並列配置および/または直列配置して使用することができる。
反応および/または拡大条件を使用可能な実験室研究について、例えば、Chemtrix社のリアクターPlantrixはマイクロリアクターとして使用することができるが、これに限定されない。
場合によっては、マイクロリアクターのガスケットがHDPTFE以外の材料で作られていると、多少の膨張のために短時間の操作ですぐに漏れみが生じる可能性があるため、HDPTFEガスケットは、マイクロリアクターの長い動作時間を確保し、セトラーや蒸留塔などの他の機器部品を使用する。
例えば、工業フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標)MR555)は、ステンレス鋼フレームに置かれた(非浸入式)SiCモジュール(例えば3M(登録商標) SiC)から構成され、標準Swagelokコネクタを用いて上記フレームによりフィードラインと作動媒体との接続を構築する。作動媒体(熱流体または熱流)と共に使用するときに、統合熱交換器を用いてモジュール内でプロセス流体を加熱または冷却し、鋸歯状または双鋸歯状の中間チャンネルの構造中で反応させる。上記構造は、プラグフローを得るとともに高熱交換能力を有するように設計される。基本IFR(例えばPlantrix(登録商標)MR555)システムは、1つのSiCモジュール(例えば3M(登録商標)SiC)および1つの混合器(MRX)から構成され、上記混合器はA+B→Pタイプの反応を行うことができる。モジュールの数を増加することで反応時間および/またはシステム生産性を増加することができる。クエンチャーQ/Cモジュールを増設することにより、反応タイプはA+B→P1+Q(またはC)→Pに拡大され、仕切られることで2つの温度領域が得られる。本明細書において、用語「A」、「B」および「C」は反応物、「P」および「P1」は生成物、「Q」はクエンチャーを示す。
工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標) MR555)の典型的なサイズは、(例えば)ミリメートルでチャンネルサイズが4x4(「MRX」、混合器)および5x5(「MRH-I/MRH-II」;MRHは滞留モジュールを示す)であり、モジュールサイズ(幅x高さ)が200mmx555mmであり、フレームサイズ(幅x高さ)が322mmx811mmである。工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標)MR555)の典型的な生産量は、(例えば)約50l/h-約400l/hである。また、用いられる流体の特性および過程条件に応じて、工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標)MR555)の生産量は、(例えば)>400l/hであってもよい。滞留モジュールは、直列に配置することができる。これにより、必要な反応体積または生産性が得られる。直列に配置可能なモジュールの数は、流体の特性および目的流速に依存する。
工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrixeMR555)の典型的な操作条件または過程条件は、(例えば)温度範囲が約-30℃-約200℃、圧力差(作動過程)が<70℃、試薬供給が1-3、最大操作圧力(作動流体)が約200℃の温度で約5bar、最大操作圧力(プロセス流体)が約≦200℃の温度で約25barである。
(本発明のフッ素化方法の詳細は、以下の通りである)
本発明の方法は、ハロゲン化触媒、好ましくはフッ素化触媒を使用する。ハロゲン化は、化合物または物質に1つまたは複数のハロゲンを付加する化学反応である。ハロゲン化の経路および化学量論は、有機基質の構造特徴、官能基および特定のハロゲンに依存する。無機化合物(例えば金属)もハロゲン化することができる。フッ素化は、化合物または物質に導入されるハロゲンがF(フッ素)であるハロゲン化である。ハロゲン化および/またはフッ素化、およびこれらの反応に係るハロゲン化触媒および/またはフッ素化触媒は、当業者に知られているものである。例えば、オレフィンにハロゲン(例えば塩素および/またはフッ素)を付加することは、活性物質である中間ハロゲン塩イオンにより行われる。ここで、「ハロゲン塩イオン」は、有機化学において、ハロゲン原子を含む正電荷を持つ任意の塩化合物(イオン)を示し、例えば、本発明において、フッ素原子である。
ハロゲン化触媒および/またはフッ素化触媒は、当業者によく知られており、本発明において、Sb、As、Bi、Al、Zn、Fe、Mg、Cr、Ru、Sn、Ti、Co、Ni、好ましくはSbに基づくものである。より好ましくはフッ素化触媒、特に、活性物質HSbF を提供するSbフッ素化触媒である。
一実施形態において、本発明は、フッ素化生成物を製造するためのフッ素化方法に関する。少なくとも1つの上記連続フローリアクター、好ましくは、少なくとも1つのマイクロリアクターは、独立してSiC-連続フローリアクター、好ましくはSiC-マイクロリアクターである。
他の実施形態において、本発明は、上記実施形態に記載のフッ素化方法、および本発明のフッ素化生成物の製造方法に関する。上記触媒は、Sb、As、Bi、Al、Zn、Fe、Mg、Cr、Ru、Sn、Ti、Co、Ni、好ましくはSbに基づくハロゲン化触媒、好ましくはフッ素化触媒、より好ましくはフッ素化触媒である。フッ素化触媒は、活性物質HSbF を提供するSbフッ素化触媒からなる群より選択される。
他の実施形態において、本発明は、上記実施形態に記載のフッ素化方法、および本発明のフッ素化生成物の製造に関する。ハロゲン化触媒は、五塩化アンチモンおよび/または五フッ化アンチモンである。好ましくは、触媒は、五フッ化アンチモン(SbF)であり、オートクレーブ中でSbClとHFとの反応により調製され、より好ましくは、過剰量のHFにおけるSbFからなる。HFにおけるSbFは、上記実施形態に記載の方法のフッ素化反応の前に活性物質HSbF を形成する。本発明は、本発明のフッ素化生成物の製造に関する。
他の実施形態において、本発明は、上記実施形態に記載のフッ素化方法、および本発明のフッ素化生成物の製造に関する。上記方法は、得られたフッ素化生成物を精製および/または分離し、本発明の精製および/または分離されたフッ素化生成物を得ることを含む。
他の実施形態において、本発明は、上記実施形態に記載のフッ素化方法、および本発明のフッ素化生成物の製造に関する。上記フッ素化生成物の精製および/または分離は、相分離法を含むか、または相分離法から構成される。
他の実施形態において、本発明は、上記実施形態に記載のフッ素化方法、および本発明のフッ素化生成物の製造に関する。上記精製および/または分離は、蒸留を含まず、本発明の精製および/または分離されたフッ素化生成物を得る。
(本発明で用いられるリアクターの詳細は以下の通りである)
本発明の一実施形態において、「マイクロリアクター」、「微細構造リアクター」または「マイクロチャネルリアクター」とは、典型的な横寸法が約1mm以下の有限な空間で化学反応を行う装置であり、一般的なものはマイクロチャネルを使う。通常、本明細書において、用語「マイクロリアクター」、「微細構造リアクター」または「マイクロチャネルリアクター」とは、典型的な横寸法が約5mm以下または約4mm以下の有限な空間で化学反応を行う装置を指す。
マイクロリアクターは、マイクロプロセスの分野において、物理的過程が発生する他の装置(例えばマイクロ熱交換器)と共に研究されている。上記マイクロリアクターは、通常連続流通リアクター(回分式リアクターに対して)をである。マイクロリアクターは、従来の規模の拡大リアクターと比較して、エネルギー効率、反応速度および収率、安全性、信頼性、拡大可能性、その場/オンデマンド生産が大幅に改善され、プロセス制御がより精細になるなどの利点を有する。
マイクロリアクターを用いるフローケミストリーにおいて、回分式ではなく、連続的なフローで化学反応を行う。回分式生産は、製造において用いられる技術であり、一連のワークステーションで段階的に所望の目的物を生産し、異なるバッチの生成物を得る。回分式生産、バッチ生産(ワンタイム生産)および大規模生産(フロー生産または連続生産)は、3つの主な生産方法である。フローケミストリーにおいて、化学反応は、連続的なフローで行われる。この場合、各ポンプにより流体をパイプにポンピングし、各パイプが互いに接続されているため、流体は互いに接触する。これらの流体が反応性であると、反応が起きる。フローケミストリーは、大量の原料を用いて大規模製造を行う成熟した技術である。しかし、「フローケミストリー」という用語は、実験室規模の応用に対して作ったばかりの用語である。
連続流通リアクター(例えば、マイクロリアクターとして用いられる)は、通常管状であり、非反応性材料で作製される。当該非反応性材料は、従来技術において知られているものであり、試薬および/または反応物の特定の目的および特性に依存する。混合方法は、拡散法であり、例えば、リアクターの直径が狭い(例えば、<1mm)場合に拡散法を使用し、例えば、マイクロリアクターおよびスタティックミキサーにおいて拡散法を使用する。連続流通リアクターは、反応条件(熱伝達、時間および混合)を良好に制御することができる。リアクター内の試薬の滞留時間、即ち、反応が加熱または冷却される時間は、リアクター体積およびそれを通過する流速により計算される(滞留時間=リアクター体積/流速)。従って、より長い滞留時間を達成するために、試薬をより遅くポンピングしたり、体積がより大きなリアクターおよび/または複数のマイクロリアクターを直列に配置したり、任意にそれらの間にいくつかのシリンダーを追設することで反応の完成に必要な滞留時間を増加したりすることができる。後者の場合において、それぞれのマイクロリアクターの後ろのサイクロンセパレータは、形成されたHClの脱出に役に立つとともに、反応性能に積極的な影響を与える。これにより、生産性は、数ミリリットル/分間から数リットル/時間に増加することができる。
フロー式リアクターの例には、回転ディスクリアクター(ColinRamshaw)、回転管リアクター、マルチセルフロー式リアクター、振動流リアクター、マイクロリアクター、熱交換リアクター、吸引式リアクターが含まれる。吸引式リアクターにおいて、1つポンプにより1種の試薬をポンピングし、反応物を吸引する。プラグフロー式リアクターおよび管型流通リアクターがさらに含まれる。
本発明の一実施形態において、マイクロリアクターを使用することが特に好ましい。
本発明の任意の実施例において、マイクロリアクターではなく、必要に応じて別の連続フローリアクターを使用してもよい。(例えば)ハロゲン化またはフッ素化で用いられる触媒(ハロゲン化促進触媒、例えば、ハロゲン化触媒または好ましくはハロゲン化触媒)組成物が反応過程において粘稠になりやすいか、または上記触媒その自体が粘稠である場合、マイクロリアクターの代わりに、別の連続フローリアクターを使用することが好ましい。この場合には、連続フローリアクターは、下部の横寸法が上記マイクロリアクターの横寸法(即ち、約1mm)よりも大きいが、上部の横寸法が約4mm以下の有限な空間で化学反応を行う装置である。従って、本発明の任意の実施例において連続フローリアクターを使用する。用語「連続フローリアクター」は、好ましくは、有限な空間中で化学反応を行う装置(典型的には、横寸法が約1mm-約4mmである)を指す。本発明のこのような実施例において、上記横寸法を有するプラグフロー式リアクターおよび/または管型フローリアクターを連続フローリアクターとして使用することが特に好ましい。また、本発明のこのような実施例において、マイクロリアクターを使用する実施例と比較して、上記横寸法を有する連続フローリアクター、好ましくはプラグフロー式リアクターおよび/または管型フローリアクターは、より高い流速を有することが特に好ましい。例えば、このより高い流速は、本明細書に記載のマイクロリアクターの典型的な流速の約2倍以下、約3倍以下、約4倍以下、約5倍以下、約6倍以下、約7倍以下、または約1倍-約7倍、約1倍-約6倍、約1倍-約5倍、約1倍-約4倍、約1倍-約3倍、約1倍-約2倍のいずれかの流速である。本発明のこの実施例において、好ましい上記連続フローリアクター、より好ましいプラグフロー式リアクターおよび/または管型フローリアクターを使用して、本発明書に記載のマイクロリアクターの製造材料を調製する。例えば、このような製造材料は、炭化ケイ素(SiC)および/または合金(例えば、本明細書に記載のマイクロリアクターの高耐食性のニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金、例えばHastelloy(登録商標))である。
本発明では、上記横寸法を有するマイクロリアクターまたは連続フローリアクターを使用することにより、分離工程を簡単化することができるとともに、時間やエネルギーが係る(例えば)中間蒸留工程が必要とされない。特に、本発明では、上記横寸法を有するマイクロリアクターまたは連続フローリアクターを使用することにより、相分離だけにより分離することができるとともに、未反応成分は、適宜な時または必要な時に反応過程に再循環されてもよいか、または生成物として用いられてもよい。
本発明の好適な実施例では、本発明に係るマイクロリアクターを用いるが、マイクロリアクターに加えてまたはそれの代わりに、それぞれプラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターを使用してもよい。
プラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターおよびその操作条件は、当業者にはよく知られている。
本発明において上部の横寸法が約4mm以下の連続フローリアクター、特にマイクロリアクターを使用することが好ましいが、場合によって、収率損失およびより長い滞留時間、より高い温度によりマイクロリアクターの使用が回避されるため、プラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターを使用する。これにより、収率損失の問題が解決され、つまり、詰まり(望ましくない駆動方式による粒子の形成)が抑制される。これは、パイプの直径またはプラグフロー式リアクターのチャンネルがマイクロリアクターよりも大きいためである。
プラグフロー式リアクターまたは管型フローリアクターを使用する欠点は、主観的な見方もなされることができる。一方、ある場所または生産施設内のある方法の制限下で、この欠点は適切なものであり、収率損失が重要ではないと認められ、あるいは他の利点または制限に鑑みて許容できる場合がある。
以下、マイクロリアクターを使用する実施形態により本発明をより詳しく説明する。本発明で使用されるマイクロリアクターは、好ましくはセラミック連続フローリアクターであり、より好ましくはSiC(炭化ケイ素)連続フローリアクターであり、トン規模で物質を生産することができる。熱交換器とSiCとを組み合わせて製造することにより、操作されにくいフローケミストリーの応用に対して最適化制御を行うことができる。コンパクトなモジュラー製造および流れ生産用のリアクターは、異なる方法に対して柔軟性を有し、一連の生産体積(5-400l/h)を使用することができ、空間に制限がある場合であっても化学製品の収量を増加させ、比類のない化学的適合性および熱制御を有する。
セラミック(SiC)マイクロリアクターは、(例えば)拡散接合に有利な3MSiCリアクターであり、特にろう付けおよび金属がなく、FDAに承認された材料または他の薬物管理機関(例えば、EMA)に承認された材料に優れた熱伝達、質量伝達、優れた化学的適合性を提供する。炭化ケイ素(SiC)は、カーボランダム(carborundum)とも呼ばれ、ケイ素および炭素を含み、当業者に知られているものである。例えば、合成SiC粉末は、大量に生産され、加工されて多くの用途に用いられている。
例えば、本発明の実施例において、本発明の目的は、少なくとも1つの反応ステップがマイクロリアクター中で行われる方法によって目的を実現する。特に、本発明の好適な実施例において、本発明の目的は、少なくとも1つの反応ステップがSiCを含むかまたはSiCで作製されたマイクロリアクター(「SiC-マイクロリアクター」)、あるいは合金を含むかまたは合金で作製されたマイクロリアクター、例えばHastelloy C中で行われる方法によって実現される。詳細は後述する。
従って、例えば、本発明の一実施形態において、生産、好ましくは工業生産に適しているマイクロリアクターは、SiC(炭化ケイ素、例えば、Dow Corningが提供したType G1SiC、またはChemtrixが提供したMR555 Plantrix SiC)を含むか、またはSiCで作製された「SiC-マイクロリアクター」であるが、これに制限されない。これにより、(例えば)約5-約400kg/時間の生産性が提供される。あるいは、例えば、本発明の他の実施例において、工業生産に適しているマイクロリアクターは、Ehrfeldが提供したHastelloy Cを含むか、またはそれで作製されたものであるが、これに制限されない。このようなマイクロリアクターは、本発明に係るフッ素化生成物の好適な工業生産に特に適している。
生産規模のフロー式リアクターに対する機械的要求および化学的要求を満たすために、3M(商標)SiC(レベルC)でPlantrixモジュールを製造する。特許で保護されている3M(EP1637271B1および外国特許)拡散接合技術により製造されたリアクターは、全体として密閉され、溶接線/接合スポットがなく、ろう付け用フラックスを使用する必要がない。Chemtrix MR555 Plantrixについては、2017年にChemtrix BVによって印刷されたマニュアル「CHEMTRIXのPlantrix(登録商標)MR555シリーズに関する拡大可能なフローケミストリー技術情報」に記載され、その技術情報の全体は引用により本明細書に組み込まれる。
上記実施例に加えて、本発明の他の実施例において、当業者に知られている他の製造業者のSiCを使用することができる。
従って、本発明において、ChemtrixのProtrixをマイクロリアクターとして使用してもよい。Protrix(登録商標)は、3M(登録商標)炭化ケイ素で製造されたモジュール化の連続フローリアクターであり、優れた耐薬品性および熱伝達を提供する。3M(登録商標)SiC(レベルC)で製造されたProtrix(登録商標)モジュールは、フロー式リアクターに対する機械的要求および化学的要求を満たすことができる。特許で保護されている3M(EP1637271B1および外国特許)拡散接合技術により製造されたリアクターは、全体として密閉され、溶接線/接合スポットがなく、ろう付け用フラックスを使用する必要がない。この製造技術は、完全なSiCリアクター(熱膨張係数=4.1x10-6-l)を得るための製造方法である。
0.2-20ml/minの流速および25 bar以下の圧力に設定することにより、Protrix(登録商標)は、実験室規模の連続フロー方法に適用でき、さらにPlantrix(登録商標)MR555(x340倍率)に移転して物質の生産を行うことができる。Protrix(登録商標)リアクターは、独特なフロー式リアクターであり、以下の利点を有する。拡散接合による3M(登録商標) SiCモジュールは、統合した熱交換器を有し、比類のない熱制御および優れた耐薬品性を提供し、標準ヒュームフードにおいてグラムレベルで極端な反応条件下で安全に操作することができ、試薬の添加量、生産力または反応時間からみて、生産を効率的かつ柔軟に実行することができる。Protrix(登録商標)フロー式リアクターの一般的なパラメータは以下の通りである。可能な反応タイプは、(例えば)A+B→P1+Q(またはC)→Pであり、用語「A」、「B」、「C」は反応物を示し、「P」、「P1」は生成物を示し、「Q」はクエンチャーを示し、生産量(ml/min)は約0.2-約20であり、チャンネルサイズ(mm)は1x1(予熱ゾーンおよび混合器ゾーン)、1.4x1.4(停留通道)であり、試薬供給は1-3であり、モジュールサイズ(幅x高さ)(mm)は110x260であり、フレームサイズ(幅x高さx長さ)(mm)は約400x300x250であり、モジュール/フレーム数は1-4である。Chemtrix Protrix(登録商標)リアクターの技術情報については、2017年にChemtrix BVによって出版されたマニュアル「CHEMTRIXのProtrix(登録商標)に関する拡大可能なフローケミストリー技術情報」に記載され、その技術情報の全体は引用により本明細書に組み込まれる。
工業生産、プロセス開発および小規模生産に適用可能なDow CorningのType G1SiCマイクロリアクターは、以下のサイズにより特徴付けられる。典型的なリアクターサイズ(長さx幅x高さ)は88cmx38cmx72cmであり、典型的な流体モジュールサイズは188mmx162 mmである。Dow CorningのType G1SiCマイクロリアクターの特徴は、優れた混合および熱交換、特許で保護されているHEART設計、小さい内部容積、長い滞留時間、高柔軟性、多用途、高耐薬品性のため高pH化合物、特にフッ化水素酸が適用すること、混合型ガラス/SiC溶液が製造材料として使用されること、他の先端的なフローリアクターとのシームレスな拡大である。Dow CorningのType G1SiCマイクロリアクターの典型的な技術パラメータは以下の通りである。流速は約30ml/min-約200ml/minであり、操作温度は約-60℃-約200℃であり、操作圧力は約18barg(barg:ゲージ圧の単位、即ち、barで環境圧力または大気圧よりも高い圧力)以下であり、用いられる材料は炭化ケイ素、PFA(ペルフルオロアルコキシアルカン)、ペルフルオロエラストマーであり、流体モジュール内の容積は10 mlであり、必要に応じて管理機関、例えばFDAまたはEMAにより承認されている。Dow CorningのType G1SiCマイクロリアクターのリアクターは、多用途であり、その配置がカスタマイズすることができる。また、上記リアクター上の任意の位置に注入スポットを増設することができる。
Hastelloy(登録商標)Cは、式NiCr21Mo14Wで表される合金であり、「合金22」または「Hastelloy(登録商標)C-22」とも呼ばれてもよい。上記合金は、耐食性が高いニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金であり、酸化性酸、還元性酸および混合酸に対して優れた耐性を有することが知られている。上記合金は、用于排煙脱硫工場、化学工業、環境保護システム、廃棄物焼却工場、廃水処理工場に用いられている。上記実施例以外、本発明の他の実施例において、当業者に知られている他の製造業者のニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金を用いてもよい。合金成分の合計を100%とする場合、ニッケル-クロム-モリブデン-タングステン合金の典型的な組成(重量%)は、約51.0%以上、例えば約51.0%-約63.0%のNi(ニッケル)を主成分とし、Cr(クロム)が約20.0-約22.5%、Mo(モリブデン)が約12.5-約14.5%、W(タングステンまたはウルフラム)が約2.5~約3.5%、Fe(鉄)が約6.0%以下、例えば約1.0%-約6.0%、好ましくは約1.5%-約6.0%、より好ましくは約2.0%-約6.0%である。あるいは、Co(コバルト)は、合金成分の合計100%に対して約2.5%以下、例えば約0.1%-約2.5%の含有量で合金に存在してもよい。また、V(バナジウム)は、合金成分の合計100%に対して約0.35%以下、例えば約0.1%-約0.35%の含有量で合金に存在してもよい。さらに、合金成分の合計100%に対して、少量(即ち0.1%以下)の他の元素は、独立して(例えば)C(カーボン)、Si(シリコン)、Mn(マンガン)、P(リン)および/またはS(硫黄)であり得る。少量(即ち0.1%以下)の他の元素が存在する場合には、上記元素(例えば)C(カーボン)、Si(シリコン)、Mn(マンガン)、P(リン)および/またはS(硫黄)は、合金成分の合計100%に対してそれぞれ独立して約0.1%以下、例えば約0.01-約0.1%、好ましくは約0.08%以下、例えば約0.01-約0.08%の含有量で存在してもよい。例えば、上記元素(例えば)C(カーボン)、Si(シリコン)、Mn(マンガン)、P(リン)および/またはS(硫黄)は、合金成分の合計100%に対してそれぞれ独立してC≦0.01%、Si≦0.08%、Mn≦0.05%、P≦0.015%、S≦0.02%の含有量で存在してもよい。通常、上記合金組成物には、Nb(ニオブ)、Ti(チタン)、Al(アルミ)、Cu(銅)、N(窒素)およびCe(セリウム)のいずれかが微量でも存在しない。
Hastelloy(登録商標)C-276合金は、極めて低い炭素含有量およびケイ素含有量により溶接の問題を緩和する鍛造ニッケル-クロム-モリブデン材料であるため、化学方法および関連工業において広く用いられており、多くの腐食性化学薬品に対する耐性について、50年にわたる追跡記録により実証された。他のニッケル合金と同様に、可塑性を有し、成形および溶接が容易であり、塩化物を含む溶液中の応力腐食割れ(オーステナイト系ステンレス鋼が受けやすい分解の態様)に対して優れた耐性を有する。そのクロム含有量およびモリブデン含有量が高いため、酸化性酸および非酸化性酸に耐えることができ、塩化物および他のハロゲン化物の存在下で孔食および隙間腐食に対して顕著な耐性を示す。総成分100%に対して、重量%で一般的な組成は、Ni(ニッケル)57%(残部)、Co(コバルト)2.5%以下、Cr(クロム)16%、Mo(モリブデン)16%、Fe(鉄)5%、W(タングステン(tungsten)またはウルフラム(wolfram))4%であり、より少量の他の成分は、Mn(マンガン)1%以下、V(バナジウム)0.35%以下、Si(シリコン)0.08%以下、C(カーボン)0.01以下、Cu(銅)0.5%以下である。
本発明の別の実施例において、例えば、上記生産、好ましくは上記工業生産に適したマイクロリアクターは、SiC(炭化ケイ素、例えば、Dow CorningによってType G1SiCとして、またはChemtrixによってMR555 Plantrixとして提供されるSiC)で構成されるか、または作製されたSiC-マイクロリアクターであるが、これに制限されない。これにより、(例えば)約5-約400kg/時間の生産性が提供される。
本発明によれば、本発明のフッ素化生成物の生産、好ましくは工業生産において、1つまたは複数のマイクロリアクター、好ましくは1つまたは複数のSiC-マイクロリアクターを使用することができる。本発明のフッ素化生成物の生産、好ましくは工業生産において1つ以上のマイクロリアクター、好ましくは1つ以上のSiC-マイクロリアクターを使用する場合、これらのマイクロリアクター、好ましくはSiC-マイクロリアクターは、並列配置および/または直列配置して使用することができる。例えば、2つ、3つ、4つまたはより多くのマイクロリアクター、好ましくは2つ、3つ、4つまたはより多くのSiC-マイクロリアクターは、並列配置および/または直列配置して使用することができる。
反応および/または拡大条件を使用可能な実験室研究について、例えば、Chemtrix社のリアクターPlantrixはマイクロリアクターとして使用することができるが、これに限定されない。
場合によっては、マイクロリアクターのガスケットがHDPTFE以外の材料で作られていると、多少の膨張のために短時間の操作ですぐに漏れみが生じる可能性があるため、HDPTFEガスケットは、マイクロリアクターの長い動作時間を確保し、セトラーや蒸留塔などの他の機器部品を使用する。
例えば、工業フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標)MR555)は、ステンレス鋼フレームに置かれた(非浸入式)SiCモジュール(例えば3M(登録商標) SiC)から構成され、標準Swagelokコネクタを用いて上記フレームによりフィードラインと作動媒体との接続を構築する。作動媒体(熱流体または熱流)と共に使用するときに、統合熱交換器を用いてモジュール内でプロセス流体を加熱または冷却し、鋸歯状または双鋸歯状の中間チャンネルの構造中で反応させる。上記構造は、プラグフローを得るとともに高熱交換能力を有するように設計される。基本IFR(例えばPlantrix(登録商標)MR555)システムは、1つのSiCモジュール(例えば3M(登録商標)SiC)および1つの混合器(MRX)から構成され、上記混合器はA+B→Pタイプの反応を行うことができる。モジュールの数を増加することで反応時間および/またはシステム生産性を増加することができる。クエンチャーQ/Cモジュールを増設することにより、反応タイプはA+B→P1+Q(またはC)→Pに拡大され、仕切られることで2つの温度領域が得られる。本明細書において、用語「A」、「B」および「C」は反応物、「P」および「P1」は生成物、「Q」はクエンチャーを示す。
工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標) MR555)の典型的なサイズは、(例えば)ミリメートルでチャンネルサイズが4x4(「MRX」、混合器)および5x5(「MRH-I/MRH-II」;MRHは滞留モジュールを示す)であり、モジュールサイズ(幅x高さ)が200mmx555mmであり、フレームサイズ(幅x高さ)が322mmx811mmである。工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標)MR555)の典型的な生産量は、(例えば)約50l/h-約400l/hである。また、用いられる流体の特性および過程条件に応じて、工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrix(登録商標)MR555)の生産量は、(例えば)>400l/hであってもよい。滞留モジュールは、直列に配置することができる。これにより、必要な反応体積または生産性が得られる。直列に配置可能なモジュールの数は、流体の特性および目的流速に依存する。
工業用フロー式リアクター(「IFR」、例えばPlantrixeMR555)の典型的な操作条件または過程条件は、(例えば)温度範囲が約-30℃-約200℃、圧力差(作動過程)が<70℃、試薬供給が1-3、最大操作圧力(作動流体)が約200℃の温度で約5bar、最大操作圧力(プロセス流体)が約≦200℃の温度で約25barである。
以下の実施例は、その範囲を限定することなく、本発明をさらに説明することを意図している。
<実施例>
<実施例1>
マイクロリアクターでの4,4’-ジフルオロベンゾフェノンの合成経路を図1に示す。反応スキームおよび条件は以下の通りである。
4-クロロベンゾイルクロリドとHF+触媒混合物とを好ましくは混合系(例えば、分割と再結合システム)中に予備混合し、少なくとも一部のクロロベンゾイルフルオリドと対応するSbHal複合体を形成する。上記複合体は、マイクロリアクター1(構成材料はSiC)に入る前にクロロベンゼンに接触する。
反応は、フッ素化ステップとFriedel-Crafts反応を含む2ステップの手順として実行される。
ステップ1(マイクロリアクター1)の化学反応:Friedel-Craftsアシル化
十分なサイズのセトラーを使用すると、HF-触媒混合物は主に4,4’-ジクロロベンゾフェノンである有機材料から分離する。次のステップでは、マイクロリアクター2に入る前に過剰なHF/Sbモル比(HF:Sb≧10:1)でHF/触媒混合物を追加することにより、求核性フッ素化剤に変換する必要がある。この反応は、マイクロリアクターIの後のセトラーなしで、相分離なしでも可能であるが、工業規模でのプロセス制御は、そのコンセプトとマイクロリアクター1の後のセトラーを使用することにより簡単になることができる。
従って、有機相(セトラーを使用する場合、)またはマイクロリアクター1から出た混合物に過剰な無水HFを添加し、上記求核性フッ素化剤を化学的に取得し、4,4’-ジクロロベンゾフェノンを4,4’-ジフルオロベンゾフェノンに変換する。
ステップ2(マイクロリアクター2)での化学反応:フッ素化ステップ
マイクロリアクター2の後に、過剰なHF/Sb混合物と4,4’-ジフルオロベンゾフェノンの相分離を可能にする十分な滞留時間を持つ別のセトラーがある。残りのHFは、Nまたは他の不活性ガス流または真空によって生成物から除去され、続いて再結晶化または加熱された冷却器を備えた真空中のいわゆる固相蒸留装置によって除去され得る。再結晶後の融点は109℃であった。
<実施例2>
本発明によるCCl経路を図2に示し、反応スキームを以下に示す。反応条件は実施例1に示す通りである。
CCl経路を使用する場合は、最初にフルオロベンゼンを準備し、次のスキームに示すように、ステップ2でCClを使用してFriedel-Craftsを行うことが有利である。
ステップ1(マイクロリアクター1)での化学反応:フッ素化ステップ
ステップ2(マイクロリアクター2)での化学反応:Friedel-Craftsアシル化
ステップ3:加水分解
<実施例3>
本発明に係る4-クロロベンジルクロリド経路を図3に示し、反応スキームを以下に示す。
ステップ1(マイクロリアクター1)での化学反応:Friedel-Craftsアシル化
ステップ2(マイクロリアクター2)での化学反応:フッ素化ステップ

Claims (6)

  1. 五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)、フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、出発材料化合物である芳香環とFriedel-Crafts試薬とを反応させることで目的化合物を製造する方法であって、
    A)前記目的化合物は(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンであり、
    さらに、
    (i)ステップ1において、濃度が0.1ppm-00ppmの低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、2モルの出発材料化合物であるクロロベンゼンと1モルのFriedel-Crafts試薬であるテトラクロロメタンとを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロジフェニル)-ジクロロメタンをその場で生成し、
    ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物(4,4’-ジクロロジフェニル)-ジクロロメタンと、過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成し、あるいは
    (ii)ステップ1において、前記低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物であるクロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬である4-クロロベンゾイルクロリドとを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゾフェノンをその場で生成し、
    ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物4,4’-(ジクロロ)-ベンゾフェノンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成し、
    あるいは、
    B)前記目的化合物は(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタン、または前記(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンに由来する(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンであり、
    さらに、
    (iv)ステップ1において、前記低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物であるクロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬である4-クロロ-1-(クロロメチル)ベンゼンとを反応させ、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゼンメタンをその場で生成し、
    ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物(4,4’-ジクロロ)-ベンゼンメタンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンを生成し、
    必要に応じて、ステップ2で得られた(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンはさらに反応し、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成し、あるいは
    (v)ステップ1において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、クロロベンゼンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、中間体化合物フルオロベンゼンをその場で生成し、
    ステップ2において、前記低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの中間体化合物であるフルオロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬であるテトラクロロメタンとを反応させ、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンを生成し、
    必要に応じて、ステップ2で得られた(4,4’-ジフルオロ)-ベンゼンメタンはさらに反応し、目的化合物(4,4’-ジフルオロ)-ベンゾフェノンを生成し、
    あるいは、
    C)前記目的化合物はビス-1,4-[(4,4’-ジフルオロフェニル)-カルボニル]-フェニレンであり、
    さらに、
    (vi)前記低濃度フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、1モルの出発材料化合物であるクロロベンゼンと、1モルのFriedel-Crafts試薬であるベンゼン-1,4-ジカルボニルジクロリドとを反応させ、中間体化合物ビス-1,4-[(4,4’-ジクロロフェニル)-カルボニル]-フェニレンをその場で生成し、
    ステップ2において、五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で、中間体化合物ビス-1,4-[(4,4’-ジクロロフェニル)-カルボニル]-フェニレンと過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを反応させ、目的化合物ビス-1,4-[(4,4’-ジフルオロフェニル)-カルボニル]-フェニレンを生成する、方法。
  2. (a)前記反応は、フッ化水素(HF)で活性化された五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で行い、前記方法は連続方法であり、
    あるいは、
    (b)前記方法が2つ以上のステップを含む場合、以下のステップ(b1)および(b2)を含み、
    (b1)Friedel-Crafts反応において、出発材料化合物とFriedel-Crafts試薬とを五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で反応させ、前記五ハロゲン化アンチモン触媒は、前記低濃度フッ化水素(HF)で活化され、
    (b2)フッ素化反応において、化合物と過剰濃度で存在するフッ化水素(HF)とを五ハロゲン化アンチモン触媒(SbHal)の存在下で反応させ、
    前記ステップ(b1)および(b2)のうちの少なくとも1つは連続方法である、
    請求項1に記載の方法。
  3. 前記ステップ(b1)および(b2)の少なくとも1つは連続方法であり、
    前記連続方法は、少なくとも1つの連続フローリアクター中で行い、その上部横寸法は5mm以下または4mm以下であり、
    流速:10ml/h-400l/h
    温度:30℃-150℃
    圧力:4bar-50bar
    滞留時間:1秒-60分間
    の1種または複数の条件下で行う連続方法である、請求項2に記載の方法。
  4. 少なくとも1つの前記連続フローリアクターは、独立してSiC連続フローリアクターである、請求項に記載の方法。
  5. 前記方法は、ステップ(b3)において、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法で得られた前記目的化合物を精製および/または分離し、精製および/または分離された化合物を産生する、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
  6. ステップ(b3)において、前記目的化合物の前記精製および/または分離は、相分離法を含むか、または相分離法からなる、請求項5に記載の方法。
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