JP7351758B2 - 検査装置 - Google Patents
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Description
実施形態1に係る照明装置を説明する。図2は、実施形態1に係る検査装置を例示した図である。図2に示すように、検査装置1は、照明装置10、結像レンズ20、波長シフト手段30、ラインセンサ40、処理部50、メモリ60を備えている。検査装置1は、照明装置10から生成された照明光で検査試料80を照明し、検査試料80を検査する。
次に、実施形態2に係る検査装置を説明する。まず、実施形態1と実施形態2との違いを説明する。図8(a)は、実施形態1の検査方法を例示した概念図であり、(b)は、実施形態2の検査方法を例示した概念図である。図8(a)に示すように、実施形態1では、波長をシフトさせる前及び波長をシフトさせた後の照明光で基準試料及び検査試料を照明する。
10 照明装置
20 結像レンズ
30 波長シフト手段
31 バンドパスフィルタ
40、41 ラインセンサ
41a 第1ライン状画素
41b 第2ライン状画素
50 処理部
60 メモリ
70 基準試料
80 検査試料
Re 所定の出力値
Claims (5)
- ライン状に並んだ複数の光源を有し、前記複数の光源から生成された光を含む照明光で、基板と前記基板上に形成された均一な膜厚の膜とを含む基準試料、及び、検査試料を照明する照明装置と、
ライン状に並んだ複数の画素を有し、前記照明光が、前記基準試料及び前記検査試料で反射した反射光を受光し、各画素が受光した前記反射光の反射率に基づいて、前記各画素の出力値を出力するラインセンサと、
前記照明光または前記反射光の波長を、前記ラインセンサの出力の変化がリニアである波長変動範囲においてシフトさせる波長シフト手段と、
前記検査試料における前記波長をシフトさせる前及びシフトさせた後の前記出力値を、前記基準試料における前記波長をシフトさせる前及びシフトさせた後の前記出力値を用いて補正し、補正した出力値から前記検査試料を検査する処理部と、
を備え、
前記ラインセンサは、
前記波長をシフトさせる前及びシフトさせた後の前記照明光が前記基準試料で反射した前記反射光を受光した場合に、前記各画素が受光した前記反射光の反射率に基づいて、前記各画素の第1出力値及び第2出力値を出力し、
前記波長をシフトさせる前及びシフトさせた後の前記照明光が前記検査試料で反射した前記反射光を受光した場合に、前記各画素が受光した前記反射光の反射率に基づいて、前記各画素の第3出力値及び第4出力値を出力し、
前記処理部は、
前記各画素における所定の出力値と前記第1出力値との第1差、に対する、前記所定の出力値と前記第2出力値との第2差、の比を算出するとともに、
前記第3出力値及び前記第4出力値を、前記比を用いて補正することにより、均一な波長の前記照明光で前記検査試料を照明した場合の前記各画素の前記補正した出力値を導出する、
検査装置。 - 前記波長シフト手段は、前記照明光の光路上のバンドパスフィルタに取り付けられた支持部、前記光源の温度を調整する温度調整器、及び、前記光源に流れる電流値を変化させる電流調整器のうちの少なくともいずれかを含む、
請求項1に記載の検査装置。 - ライン状に並んだ複数の光源を有し、前記複数の光源から生成された光を含む照明光で、基板と前記基板上に形成された均一な膜厚の膜とを含む基準試料、及び、検査試料を照明する照明装置と、
ライン状に並んだ複数の画素を有し、前記照明光が、前記基準試料及び前記検査試料で反射した反射光を受光し、各画素が受光した前記反射光の反射率に基づいて、前記各画素の出力値を出力するラインセンサと、
前記照明光または前記反射光の波長を、前記ラインセンサの出力の変化がリニアである波長変動範囲においてシフトさせる波長シフト手段と、
前記検査試料における前記波長をシフトさせる前及びシフトさせた後の前記出力値を、前記基準試料における前記波長をシフトさせる前及びシフトさせた後の前記出力値を用いて補正し、補正した出力値から前記検査試料を検査する処理部と、
を備え、
前記複数の画素は、第1ライン状画素であり、
前記ラインセンサは、前記第1ライン状画素に平行にライン状に並んだ複数の画素を含む第2ライン状画素をさらに有し、
前記波長シフト手段は、前記照明光の反射角度を変える前の前記反射光を受光する前記第1ライン状画素と、前記照明光の反射角度を変えた後の前記反射光を受光する前記第2ライン状画素と、の間の間隔であり、
前記第1ライン状画素は、前記照明光が前記基準試料及び前記検査試料で反射した前記反射角度を変える前の前記反射光を受光した場合に、前記各画素が受光した前記反射光の反射率に基づいて、前記各画素の第1出力値及び第3出力値を出力し、
前記第2ライン状画素は、前記照明光が前記基準試料及び前記検査試料で反射した前記反射角度を変えた後の前記反射光を受光した場合に、前記各画素が受光した前記反射光の反射率に基づいて、前記各画素の第2出力値及び第4出力値を出力し、
前記処理部は、
前記各画素における所定の出力値と前記第1出力値との第1差、に対する、前記所定の出力値と前記第2出力値との第2差、の比を算出するとともに、
前記第3出力値及び前記第4出力値を、前記比を用いて補正することにより、均一な波長の前記照明光で前記検査試料を照明した場合の前記各画素の前記補正した出力値を導出する、
検査装置。 - 前記第1ライン状画素の前記各画素の配置は、前記第2ライン状画素の前記各画素の配置に対して、ハーフピッチずれている、
請求項3に記載の検査装置。 - 前記第1出力値、前記第2出力値、前記第3出力値、前記第4出力値、及び、前記比を記憶するメモリをさらに備えた、
請求項1~4のいずれか1項に記載の検査装置。
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JP2021117185A JP2021117185A (ja) | 2021-08-10 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002277399A (ja) | 2000-03-30 | 2002-09-25 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 照明装置並びにこれを用いた検査装置、エンコーダ及び高さ測定装置 |
US20070115473A1 (en) | 2005-11-23 | 2007-05-24 | Jean-Luc Legoupil | Optical method and device for detecting surface and structural defects of a travelling hot product |
JP2013210383A (ja) | 2005-11-15 | 2013-10-10 | Zygo Corp | 光学的に未処理の表面特徴の特性を測定する干渉計及び方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003059817A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-02-28 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置並びにマイクロデバイス製造方法 |
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JP2013210383A (ja) | 2005-11-15 | 2013-10-10 | Zygo Corp | 光学的に未処理の表面特徴の特性を測定する干渉計及び方法 |
US20070115473A1 (en) | 2005-11-23 | 2007-05-24 | Jean-Luc Legoupil | Optical method and device for detecting surface and structural defects of a travelling hot product |
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