JP7350971B2 - 触媒膜 - Google Patents
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Description
(i)ガス拡散層に電極触媒層を適用して、ガス拡散電極を形成してもよい。イオン伝導性膜の各側にガス拡散電極を配置し、互いに積層して、5層膜電極接合体を形成する。
(ii)電極触媒層は、イオン伝導性膜の両面に適用され得る。続いて、触媒コーティングされたイオン伝導性膜の各面にガス拡散層を適用する。
(iii)片側に電極触媒層でコーティングされたイオン伝導性膜、その電極触媒層に隣接するガス拡散層、及びイオン伝導性膜の反対側のガス拡散電極から、膜電極接合体を形成することができる。
層A及びイオン伝導性膜が、電極触媒層の反対側の面に隣接し、
層Aが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含み、
電極触媒層が、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含む。
i)電極触媒層インクを層A上、若しくは層Aインクの層上に適用すること、又は
ii)層Aインクを電極触媒層上、若しくは電極触媒層インクの層上に適用すること、を含み、
電極触媒層インクが、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
層Aインクが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む、方法を提供する。
ここで、本発明の好ましいかつ/又は任意選択的な特徴が、記載される。本発明の任意の態様も、文脈による別途の要求がない限り、本発明の任意の他の態様とも組み合わせることができる。任意の態様の好ましい又は任意選択的な特徴のいずれも、文脈による別途の要求がない限り、本発明の任意の態様とも、単一又は組み合わせで、組み合わせることができる。
(i)白金族金属(白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、及びオスミウム)、
(ii)金若しくは銀、
(iii)卑金属、
あるいはこれらの金属又はそれらの酸化物のうちの1つ以上を含む合金又は混合物から選択される。
層A及びイオン伝導性膜が、カソード電極触媒層の反対側の面に隣接し
カソード層Aが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含み、
電極触媒層が、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
イオン伝導性膜の反対側の面においては、2つの対向する面を有するアノード電極触媒層、及び層Aであり、
層A及びイオン伝導性膜が、電極触媒層の反対側の面に隣接し、
層Aが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含み、
アノード電極触媒層が、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含む。
i)電極触媒層インクをイオン伝導性膜上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、
ii)電極触媒層上に層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップを含み、
電極触媒層インクが、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
層Aインクが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む、方法を提供する。
i)基材上にイオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップ、次に、
ii)イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含む電極触媒層インクをステップi)において形成された層A上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、
iii)電極触媒層がイオン伝導性膜に隣接するように、層をイオン伝導性膜と組み合わせるステップを含む、方法を提供する。層Aインクが適用される基材は、好適には、デカール移植基材であり得る。
i)電極触媒層インクをイオン伝導性膜上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、次に
ii)電極触媒層上に層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップを含み、
電極触媒層インクが、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
層Aインクが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む、方法を提供する。
i)基材上にイオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップ、次に、
ii)イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含む電極触媒層インクをステップi)において形成された層Aに適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、次に、
iii)電極触媒層がイオン伝導性膜に隣接するように、層をイオン伝導性膜と組み合わせるステップを含む、方法を提供する。層Aインクが適用される基材は、好適には、デカール転写基材又はガス拡散層であり得る。
層Aインクは、炭素粉末が完全に湿ったことを確実にするために、スパチュラを使用して、2gの炭素粉末を7.07gの水性Solvay 830EWアイオノマー溶液(Aquivion、25重量%)と混合することによって製作した。2.85gの未希釈のプロパン-1-オール及び4.82gの水を混合物に添加して、溶媒混合物中の22重量%のプロパン-1-オール/水比を達成し、十分に撹拌した。カーボンインク中のアイオノマー含有量は、炭素の重量に対して90重量%であった。最適な粒子破壊が達成されるまで、混合物を10、5mm直径のYTZ(登録商標)ビーズを有するSpeedmixer(商標)DAC 150 FVZ-Kで処理した。インク処理を停止し、5分後に撹拌して、処理中のインクの過熱を回避した。
炭素担持Pt電極触媒
電極触媒層インクEL1を、カーボンブラックに担持された30重量%Pt2.5gをスパチュラを使用した13.47gのNafion 1100EW溶液(DuPont、10~12重量%)に混合することによって製作し(これは、国際公開第2013/045894号に記載されている炭素担持Pt触媒の一般的な調製方法に類似した方法を使用して調製された)プロパン-1-オール溶媒を添加する前に、電極触媒粉末が完全に湿っていることを確認した。3.35gの未希釈のプロパン-1-オールを混合物に添加して、溶媒混合物中の22重量%のプロパン-1-オール/水比を達成し、十分に撹拌した。カソードインク中のアイオノマー含有量は、炭素の重量に対して90重量%であった。最適な粒子破壊が達成されるまで、混合物を10、5mm直径のYTZ(登録商標)ビーズを有するSpeedmixer(商標)DAC 150 FVZ-Kで処理した。インク処理を停止し、5分後に撹拌して、処理中のインクの過熱を回避した。処理されたインクを、好適なインク固形含有量に更に希釈し、コーティングプロセスが電極触媒層中の目標のPt負荷を達成できるようにした。
電極触媒層インクEL2、EL3、EL4、及びEL5を、2gのカーボンブラック担持ナノ粒子Pt/Ni合金材料(電極触媒粉末)を一定量のNafion 1100EW溶液(DuPont、10~12重量%)と混合することによって製作し、電極触媒粉末中の炭素の質量に対して80~90%のアイオノマーの質量を提供した。電極触媒材料中の金属の量を、誘導結合プラズマ質量分析を使用して分析した。炭素の質量は、金属の総質量及び質量の差から計算された。スパチュラを使用して、プロパン-1-オール溶媒添加前に電極触媒粉末を完全に湿らせた。未希釈のプロパン-1-オールを混合物に添加して、溶媒混合物中の22重量%のプロパン-1-オール/水比を達成し、十分に撹拌した。最適な粒子破壊が達成されるまで、混合物を10、5mm直径のYTZ(登録商標)ビーズを有するSpeedmixer(商標)DAC 150 FVZ-Kで処理した。インク処理を停止し、5分後に撹拌して、処理中のインクの過熱を回避した。次いで、処理されたインクを、22重量%のプロパン-1-オール/水で好適なインク固形含有量に希釈し、コーティングプロセスが電極触媒層中の標的Pt負荷を達成できるようにした。
比較例(層Aなし)
アノード及びカソード触媒層をPTFEシート上に堆積させ、150℃~200℃の温度の積層によるPFSA強化膜(17μm厚)のいずれかの側に適切な層を転写することにより、50cm2の活性領域の触媒イオン伝導性膜を調製した。本発明の電極触媒層インクを使用して、カソード電極触媒層を形成した。各触媒イオン伝導性膜中のアノード触媒層は、0.1mgPt/cm2の負荷でアノード触媒(炭素担体上の60重量%のPtの公称Pt負荷を有するHiSPEC(登録商標)9100)を含んでいた。
調製1
50cm2の触媒イオン伝導性膜活性領域を、最初に層AインクをPTFEシート上に堆積させ、乾燥及びアニール(200~250℃)することによって調製した。次に、電極触媒層インクを乾燥層Aの上部に印刷し、乾燥させ、アニール(150~200℃した。次に、組み合わされた層をPFSA補強膜の一方の側(厚さ20μm)に転写し、アノード層を、150℃~200℃の温度で積層することによって、PTFEシートから他方の側に転写した。各触媒イオン伝導性膜中のアノード層は、0.1mgPt/cm2の負荷でアノード触媒(炭素担体上の60重量%のPtの公称Pt負荷を有するHiSPEC(登録商標)9100)を含んでいた。
50cm2の触媒イオン伝導性膜活性領域を、最初に層Aインクを微多孔質層上に堆積させ、乾燥及びアニール(200~250℃)することによって調製した。使用したガス拡散層は、炭素及びPTFEを含有する疎水性微多孔質層を有する炭素繊維紙であった。次に、電極触媒層インクを乾燥層Aの上部に印刷し、乾燥させ、アニール(150~200℃)した。次に、組み合わされた層をPFSA補強膜の一方の側(厚さ17μm)に転写し、アノード層を、150℃~200℃の温度で積層することによって、PTFEシートから他方の側に転写した。各触媒イオン伝導性膜中のアノード層は、0.1mgPt/cm2の負荷でアノード触媒(炭素担体上の60重量%のPtの公称Pt負荷を有するHiSPEC(登録商標)9100)を含んでいた。
完全な膜電極接合体を形成するために必要に応じて、各触媒イオン伝導性膜の面にガス拡散層を適用した。使用したガス拡散層は、炭素を含有する疎水性微多孔質層と、触媒イオン伝導性膜と接触する面に適用されたPTFEと、を有する炭素繊維紙であった。
50cm2膜電極接合体の分極(電流対電圧)性能は、完全に加湿及び加圧(100%RH、100kPag)条件下、及び両方とも化学量論2.0のH2と空気の流れを使用してより乾燥した(30%RH)条件下で80℃のH2/空気中で測定した。カソード触媒の動態挙動の任意の違いを確認するために、同じ温度及び圧力及び水素化学量論下で、カソード側の酸化剤として純粋な酸素を使用して分極曲線も記録したが、使用した酸素化学量論は10.0であった。すべての測定において、電池湿度(RH)及び圧力は、アノード及びカソード入口で制御された。温度掃引を、水素及び空気の露点を53℃で電池入口に固定し、約38℃~91℃の異なる点で電池温度を制御することによって実施した。
測定される電極触媒層又は層Aは、イオン伝導性膜又は薄いPTFEシート上のいずれかで担持された。測定される層をストリップに切断し、これを、圧入計として知られる特殊な試料ホルダーに充填する前に積み重ねて圧延した。ストリップを含有する針入度計をMicromeritics Autopore IV 9520水銀ポロシメータに取り付け、試料に圧入した水銀の容積の測定を行いながら針入度計のステムに沿って測定された静電容量の変化から導き出された水銀圧を小さなステップで約3.0~60,000psiaに増加させた。次に、Hgの接触角を130°と仮定して、加えられた圧力が水銀の圧入する細孔の直径に関連するWashburn式から細孔径分布を計算し、これにより、直径が約60ミクロン~3nmの細孔内の気孔率の量が得られた。圧入曲線を、同じ圧力範囲(約3.0~60,000psia)にわたって、針入度計内の裸のイオン伝導性膜又は裸のPTFEの試料を測定することによって、イオン伝導性膜又はPTFE圧縮について補正した。イオン伝導性膜又はPTFEの圧縮により、結果として生じる見かけの圧入量を、触媒イオン伝導性膜又はPTFE担持層のデータから差し引き、イオン伝導性膜又はPTFE圧縮による見かけの細孔容積が電極触媒層又は層Aに割り当てられていないことを確認した。
細孔容積画分:
φ=総細孔容積/層A、又は電極触媒層の総容積
k=φd2 /32
式中、k=浸透率
φ=細孔容積画分
d=中央値圧入容積における細孔直径(nm)、1ミクロン未満及び3nmを超える細孔直径での細孔(すなわち、1ミクロン未満及び3nmを超える細孔径の半分の気孔率の容積が水銀で満たされている細孔径)である。
図9は、電極触媒層及び層Aが明確に特定可能である、本発明の触媒イオン伝導性膜の断面の一部の走査型電子顕微鏡(SEM)画像、二次電子(SE)、及び後方散乱電子(BSE)を示す。電極触媒層は、高い原子番号を有するPtの存在により、BSEモードでより明るく見える。これらのタイプの断面を、30kVで操作されたZeiss Auriga集束イオンビーム(focused ion beam、FIB)機器を使用して作成した。断面処理中に上部表面を保護するために、Ptストラップが試験片の表面に堆積された。SEM撮像は、インレンズ二次電子及び後方散乱検出器を備えたZeiss Ultra 55 SEM、及びBruker XFlash(登録商標)6|100 EDX検出器を使用して実施した。高解像度SEM画像を、1.4kVの加速電圧を使用して取得した。
電極触媒層及び層A層内の細孔の内壁との水接触角は、本明細書に参照としてその全体が組み込まれている、A.Y.Fadeev and V.A.Eroshenko,J.Col.and Int.Sci.,187,275-282,1997の方法に従って水圧入ポロシメトリを使用して測定された。この接触角は、細孔壁の表面がどれほど疎水性であるかを示し、90°の値は疎水性のみの表面を表し、110°の値は非常に疎水性である表面を表す。水圧入ポロシメトリは、Porous Materials Incによって作製されたAquapore 30K-A-1などの市販の機器を使用して、又はFadeev and Eroshenkoによって記載されたタイプの器具を使用して実行することができる。測定は、試料を水に完全に浸漬し、水銀圧入ポロシメトリと同じ様式で材料の細孔に押し込むように水に圧力を加える必要がある。加えられた圧力及び試料に圧入した水の容積を測定することによって、圧力-容積曲線が得られる。試料を、電極触媒層として、又はイオン伝導性膜上若しくはPTFEシート上に担持された層のA層として提示した。水の粘度は水銀よりもはるかに低いため、圧入にははるかに低い圧力が必要であり、PTFE圧縮のイオン伝導性膜の補正は必要ない。使用した水圧範囲は、10~10,000psiaであった。圧入曲線を、同じ圧力範囲(約10~10,000psia)にわたって、試料ホルダー内のむきだしのイオン伝導性膜又はむきだしのPTFEの試料を測定することによって、イオン伝導性膜又はPTFE圧縮について補正した。イオン伝導性膜又はPTFEの圧縮により、結果として生じる見かけの圧入の容積を、触媒イオン伝導性膜又はPTFE担持層のデータから差し引き、イオン伝導性膜又はPTFE圧縮による見かけの細孔容積が電極触媒層又は層Aに割り当てられていないことを確認した。
cosθw=γm.cosθm.Pw/γw.Pm
式中、θwは、細孔壁との水の接触角であり、θmは、細孔壁(130°)と水銀の接触角であり、Pwは、水の最頻値の圧力であり、Pmは、水銀の最頻値の圧力であり、γmは、水銀の表面張力(40.7×10-2N/m)及びγwは、293Kでの水の表面張力(7.28×10-2N/m)である。
表3は、両方ともPt/Ni電極触媒層を含む実施例1及び比較例1について、完全に加湿された条件下(相対湿度100%、図2)、及びより乾燥した条件下(30%の相対湿度)で記録された分極曲線からの1.8A/cm2(高電流密度)での電圧を与えている。
条項1.イオン伝導性膜、2つの対向する面を有する電極触媒層、及び層Aを含む触媒イオン伝導性膜であって、
層A及びイオン伝導性膜が、電極触媒層の反対側の面に隣接し、
層Aが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含み、
電極触媒層が、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含む、触媒イオン伝導性膜。
条項2.層Aが、疎水性である、条項1に記載の触媒イオン伝導性膜。
条項3.層Aが、少なくとも15nm2の浸透率k1を有し、電極触媒層が、25nm2以下の浸透率k2を有する、条項1又は2に記載の触媒イオン伝導性膜。
条項4.層Aのイオン伝導性材料IAの炭素含有材料CAとの重量比が2:1~1:2の範囲にあり、これを含む、条項1~3のいずれかに記載の触媒イオン伝導性膜。
条項5.電極触媒が、担持されている、条項1~4のいずれかに記載の触媒イオン伝導性膜。
条項6.電極触媒が、炭素含有材料CB上に担持されている、条項5に記載の触媒イオン伝導性膜。
条項7.電極触媒層が、カソード電極触媒層である、条項1~6のいずれかに記載の触媒イオン伝導性膜。
条項8.条項1~7のいずれかに記載の触媒イオン伝導性膜を含む、膜電極接合体。
条項9.条項1~7のいずれかに記載の触媒イオン伝導性膜、又は条項8に記載の膜電極接合体を含む、燃料電池。
条項10.
i)電極触媒層インクを層A上、若しくは層Aインクの層上に適用すること、又は
ii)層Aインクを電極触媒層上若しくは電極触媒層インクの層上に適用すること、を含み、
電極触媒層インクが、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
層Aインクが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む、条項1~7のいずれかに記載の触媒イオン伝導性膜を調製する、方法。
条項11.
i)電極触媒層インクをイオン伝導性膜上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、次に、
ii)電極触媒層上に層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップを含む、条項10に記載の方法。
条項12.
i)基材上に層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップ、次に、
ii)電極触媒層インクをステップi)において形成された層A上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、
iii)電極触媒層がイオン伝導性膜に隣接するように、層をイオン伝導性膜と組み合わせるステップを含む、条項10に記載の方法。
条項13.基材が、デカール転写基材であり、ステップiii)が、転写基材からのデカール転写によって、組み合わされた層をイオン伝導性膜上に転写することによって実行される、条項12に記載の方法。
条項14.
i)電極触媒層インクをイオン伝導性膜上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、次に
ii)電極触媒層上に層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップを含み、
電極触媒層インクが、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
層Aインクが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む、条項8に記載の膜電極接合体を調製する、方法。
条項15.ガス拡散基材を層Aに適用するステップを更に含む、条項14に記載の方法。
条項16.
i)基材上に層Aインクを適用し、次にインクを乾燥させて層Aを形成するステップ、次に、
ii)電極触媒層インクをステップi)において形成された層A上に適用し、次にインクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、
iii)電極触媒層がイオン伝導性膜に隣接するように、層をイオン伝導性膜と組み合わせるステップを含み、
電極触媒層インクが、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
層Aインクが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含む、条項8に記載の膜電極接合体を調製する、方法。
条項17.基材が、デカール転写基材であり、ステップiii)が、転写基材からのデカール転写によって、組み合わされた層をイオン伝導性膜上に転写することによって実行される、条項16に記載の方法。
条項18.基材が、ガス拡散層である、条項16に記載の方法。
Claims (9)
- イオン伝導性膜、2つの対向する面を有する電極触媒層、及び層Aを含む触媒イオン伝導性膜であって、
前記層Aが、前記電極触媒層の2つの対向する面の一方に隣接し、かつ前記イオン伝導性膜が、前記電極触媒層の2つの対向する面のもう一方に隣接し、
前記層Aが、イオン伝導性材料IA及び炭素含有材料CAを含み、
前記電極触媒層が、イオン伝導性材料IB及び電極触媒を含み、
前記層Aが、電極触媒を含まず、
前記層Aが、20nm2を超える浸透率k1を有し、
前記電極触媒が、25nm2以下の浸透率k2を有し、
層Aにおけるイオン伝導性材料IAの炭素含有材料CAとの重量比が、2:1~1:2の範囲にあり、これを含む、触媒イオン伝導性膜。 - 前記層Aが、少なくとも90°以上の、水圧入ポロシメトリによって測定される接触角を有する、請求項1に記載の触媒イオン伝導性膜。
- 前記電極触媒が、担持されている、請求項1又は2に記載の触媒イオン伝導性膜。
- 前記電極触媒が、炭素含有材料CB上に担持されている、請求項3に記載の触媒イオン伝導性膜。
- 前記電極触媒層が、カソード電極触媒層である、請求項1~4のいずれか一項に記載の触媒イオン伝導性膜。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載の触媒イオン伝導性膜を含む、膜電極接合体。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載の触媒イオン伝導性膜、又は請求項6に記載の膜電極接合体を含む、燃料電池。
- i)電極触媒層インクをイオン伝導性膜上に適用し、次に前記電極触媒層インクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、次に、
ii)前記電極触媒層上に層Aインクを適用し、次に前記層Aインクを乾燥させて層Aを形成するステップを含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の触媒イオン伝導性膜を調製する、方法。 - i)基材上に層Aインクを適用し、次に前記層Aインクを乾燥させて層Aを形成するステップ、次に、
ii)電極触媒層インクをステップi)において形成された前記層A上に適用し、次に前記電極触媒層インクを乾燥させて電極触媒層を形成するステップ、
iii)前記電極触媒層がイオン伝導性膜に隣接するように、ステップii)で得られた層を前記イオン伝導性膜と組み合わせるステップを含み、
前記基材が、デカール転写基材であり、ステップiii)が、前記転写基材からのデカール転写によって、前記組み合わされた層をイオン伝導性膜上に転写することによって実行される、請求項1~5のいずれか一項に記載の触媒イオン伝導性膜を調製する、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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