JP7350632B2 - 分析方法、および分析用キット - Google Patents
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Description
〔1〕薬液を収容する凹部を有し、シリコンからなる、薬液中の不純物の分析用容器。
〔2〕薬液を収容する凹部を有し、シリコンからなる容器に、薬液を収容する収容工程と、前記収容工程で収容された前記薬液を蒸発させる蒸発工程と、前記蒸発工程で蒸発後に前記容器に残留した不純物を回収する回収工程と、前記回収工程で回収した前記不純物の量を測定する測定工程と、を含む、薬液中の不純物の分析方法。
〔3〕前記蒸発工程において、加熱により前記薬液を蒸発させる、〔2〕に記載の薬液中の不純物の分析方法。
〔4〕前記薬液が、水、塩酸、硝酸、硫酸、過酸化水素水、アンモニア水、メタノール、エタノール、アセトン、およびこれらの混合物より選ばれる少なくとも1種の薬液である、〔2〕または〔3〕に記載の薬液中の不純物の分析方法。
〔5〕薬液を収容する凹部を有し、シリコンからなる分析用容器を備える、薬液中の不純物の分析用キット。
(1-1)分析用容器の材質
本発明の一態様に係る分析用容器は、薬液中の不純物を分析するための容器であって、薬液を収容する凹部を有し、シリコンからなる。
図1は、本発明の一態様に係る分析用容器の一例を示す模式図である。図1(a)は、分析用容器10の平面図であり、図1(b)は(a)のA-A矢視線からの断面図である。
本発明の一態様に係る薬液中の不純物の分析方法は、薬液を収容する凹部を有し、シリコンからなる容器(分析用容器)に、薬液を収容する収容工程と、前記収容工程で収容された前記薬液を蒸発させる蒸発工程と、前記蒸発工程で蒸発後に前記容器に残留した不純物を回収する回収工程と、前記回収工程で回収した前記不純物の量を測定する測定工程と、を含む。
分析用容器の洗浄には、例えば、酸を用いることができ、当該酸としては、フッ化水素酸、硝酸、およびこれらの混酸等が挙げられる。
収容工程は、上記〔1.分析用容器〕で説明した構成を有する分析用容器の凹部に、薬液を収容する工程である。
本発明の一態様において、分析対象となる薬液の具体例としては、電子工業製品の洗浄に用いられる薬液が挙げられる。電子工業製品の製造分野においては、洗浄に用いられる薬液に含まれる微量の不純物でさえも、コンタミネーションの原因となり得る。
蒸発工程は、収容工程で収容された薬液を蒸発させて、濃縮する工程である。
回収工程は、蒸発工程で蒸発後に容器に残留した不純物を、分析試料として回収する工程である。
また、回収工程において回収可能なほう素族として、例えば、Ga、In、Tl、B、および、Alが挙げられる。さらに、回収工程において回収可能な炭素族として、例えば、Si、Ge、Sn、および、Pbが挙げられる。また、回収工程において回収可能なニクトゲンとして、P、As、Sb、および、Biが挙げられる。さらに、回収工程において回収可能なカルコゲンとして、S、Se、および、Teが挙げられる。
測定工程は、回収工程で回収した不純物の量を測定する工程である。
本発明の一態様に係る分析用キットは、上記〔1.分析用容器〕で説明した構成を有する分析用容器を備える、薬液中の不純物の分析用キットである。
シリコンウエハの材料となる単結晶シリコンのインゴットをスライスして得られる円盤形状のプレート(直径15cm、厚さ3cm)を5枚用意した。続いて、得られたプレートの一方の面上に、削り出し加工によって円筒形状の凹部を形成し、これにより5つの分析用容器を得た。
実施例1~5の分析用容器を用いて、以下の方法により、超純水中の不純物を分析した。
実施例1~5の分析用容器の代わりに、5つの合成石英製フラスコ(比較例1~5)を用いた以外は上記と同様にして、超純水中の金属不純物の量を測定した。なお、合成石英製フラスコにおける合成石英の純度は、含有する金属不純物としてppbレベルである。
超純水、硝酸および塩酸の検出下限値は、試料を用いずに同様の処理を行った空試験について測定した標準偏差の3倍とした。
実施例1~5の分析用容器を用いて、超純水中の金属不純物の量を測定したところ、実施例1~5でほぼ一致した測定結果が得られた。また、実施例1~5の分析用容器を用いることにより、超純水、硝酸、および塩酸について、ppqオーダーの超高感度金属不純物を検出することができた。
2 底部
3 側壁部
4 開口部
10 分析用容器
Claims (3)
- 薬液を収容する凹部を有し、シリコンのみからなる分析用容器であって、前記凹部の容積は、200mL~1000mLであり、前記凹部の開口部の最小開口幅は、前記凹部の内側における深さの3倍以上である容器に、薬液を収容する収容工程と、
前記収容工程で収容された前記薬液を加熱により蒸発させる蒸発工程と、
前記蒸発工程で蒸発後に前記容器に残留した不純物を回収する回収工程と、
前記回収工程で回収した前記不純物の量を測定する測定工程と、を含む、
薬液中の不純物の分析方法。 - 前記薬液が、水、塩酸、硝酸、硫酸、過酸化水素水、アンモニア水、メタノール、エタノール、アセトン、およびこれらの混合物より選ばれる少なくとも1種の薬液である、請求項1に記載の薬液中の不純物の分析方法。
- 薬液を収容する凹部を有し、シリコンのみからなる分析用容器であって、前記凹部の容積は、200mL~1000mLであり、前記凹部の開口部の最小開口幅は、前記凹部の内側における深さの3倍以上である分析用容器を備える、
薬液中の不純物の分析用キットであって、
前記薬液中の不純物の分析は、請求項1または2に記載の薬液中の不純物の分析方法によって実施される、キット。
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JP (1) | JP7350632B2 (ja) |
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