JP7344893B2 - ガラス基板の接着制御 - Google Patents

Description

関連出願の説明

本出願は、その内容がここに全て引用される、２０１８年３月７日に出願された米国仮特許出願第６２／６３９７０７号の米国法典第３５編第１１９条の下での優先権の恩恵を主張するものである。

本開示は、平面を有するガラス基板と、平面を有する別の物品との間の接着の制御に関し、より詳しくは、平面に対する平らなガラス基板の接着を制御する方法に関する。

互いに緊密に接触した平らな表面は、いくつかのタイプの材料の相互作用のために、多くの場合、接着する。関与する材料系、並びに幾何学および／または配置要因に応じて、その２つの表面を分離するのに要する力は、極小から、かなり大きいまで様々であり得る。これにより、寸法的に大きく、極めて平らかつ薄いガラス基板が、化学的気相成長槽および物理的気相成長槽などの真空処理設備において真空チャックまたはサセプタとしての機能を典型的に果たす、金属表面などの同様に大きく平らな表面と日常的に接触する、フラットパネルディスプレイの製造過程において重要な課題が課せられ得る。

例えば、表示パネルを作るために使用されるフラットパネルディスプレイ用ガラス、および特に、薄膜トランジスタを含む表示パネルの部分は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）がその上に作られる機能面（「バックプレーン」）（Ａ面）および非機能Ｂ面の２つの面からなる。処理中に、Ｂ面のガラスは、様々な材料（すなわち、紙、金属、プラスチック、ゴム、セラミックなど）と接触し、摩擦帯電により静電荷を蓄積させ得る。例えば、ガラス基板が製造ラインに導入され、ガラス基板から間紙材料が剥がされたときに、そのガラス基板は静電荷を蓄積し得る。さらに、半導体成膜の製造過程中、ガラス基板は一般に、成膜が行われるチャッキング台上に置かれ、Ｂ面がチャッキング台と接触する。このチャッキング台は、例えば、処理中にチャッキング台内の１つ以上の真空ポートによりガラスを抑えることがある。ガラス基板がチャッキング台から取り外されるときに、ガラス基板のＢ面は、摩擦帯電および／または接触帯電により静電的に帯電され得る。そのような静電荷は、多くの問題を生じ得る。例えば、ガラス基板は、静電荷によってチャッキング台に接着され得る。「静摩擦」という用語は、静的接触の状態にあるときに、これらの２つの表面を分離するために克服する必要のある垂直力を称するためにここに使用され、「静摩擦力」および「接着力」は、ここでは交換可能に使用される。静摩擦が問題となることのある２つの例示の環境は、大規模で、典型的にセラミック材料から製造されたサセプタを有するプラズマ励起化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）内、または金属製真空チャックを使用するフォトリソグラフィープロセス装置内である。特定の状況において、これらの平らな表面の互いからの分離には、ガラス強度を超えた力を必要とし、ガラス基板を破損させ得る。

破損の問題に加え、ディスプレイ用途に使用される平らなガラス基板の接着は、フォトリソグラフィー過程中にガラスパネルとチャッキング表面との間の不均一な合わせ／接着から生じる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のパターンずれ（すなわち、過剰な全ピッチ変動性、これは、特徴（位置合わせ記号など）のアライメントのばらつきを称する）によるデバイスの歩留まり損失を生じ得る。ガラスシートがより薄くなり、ＴＦＴに使用されるガラスシート上の金属線の幅／間隔が詰まるにつれて、これらのタイプの過程中の極めて精密なアライメントが非常に重要になる。不均一な表面合わせは、パターン形成過程を成功させるための最も重大なボトルネックであり得る。

これらの課題を考慮して、所定の接触条件に対する所望のおよび／または制御可能な接着応答を効果的に提供できるであろう適切なガラス表面処理が、極めて望ましいであろう。特定の用途および処理条件に応じて、非粘着性(anti-sticking)ガラス表面または接着促進ガラス表面（もしくはその両方の組合せ）が望ましいであろう。したがって、平らなガラス基板の接着性を制御可能にかつ予測可能に調整する方法を提供することが望ましいであろう。

ここに開示された１つ以上の実施の形態によれば、互いに反対の主面を有するガラスシートを処理する方法であって、そのガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方を、流体塗布装置と、酢酸、フッ化アンモニウム、および水を含む液体エッチング組成物とに接触させる工程を含み、その接触させる工程は、その互いに反対の主面の少なくとも一方への液体エッチング組成物の所定の移動量で行われる、方法が提供される。この方法は、その所定の液体移動量を制御して、互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供する工程をさらに含み、ここで、そのテクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、そのテクスチャ付き主面と平面との間に接着力があり、その接着力は目標接着力範囲内にある。

１つ以上の実施の形態において、互いに反対の主面を有するガラスシートを改変する方法が提供される。その方法は、容器の槽に、調節可能なエッチング液深さを有するエッチング液であって、ある量の酢酸、ある量のフッ化アンモニウム、およびある量の水を含むエッチング液を充填する工程、およびある回転速度で回転するように容器に対して回転可能に位置付けられたローラの外周の一部を、ある接触角およびあるローラ浸漬深さＤ_ｓでエッチング液と接触させる工程であって、ローラを回転させると、エッチング液が槽から動いて、ガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方と接触する工程を有してなる。この改質する方法は、回転速度、接触角およびローラ浸漬深さＤ_ｓの少なくとも１つを制御可能に変更して、互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付ける工程であって、そのテクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、そのテクスチャ付き主面と平面との間に接着力があり、その接着力が目標接着力範囲内にある工程をさらに含む。

先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、本開示の実施の形態を提示しており、主張されるような実施の形態の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供する意図があることを理解すべきである。添付図面は、それらの実施の形態のさらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、本開示の様々な実施の形態を示しており、説明と共に、その実施の形態の原理および作動を説明する働きをする。

本開示の実施の形態による流体塗布装置の概略図 上方高度にある自由表面を提供するために調節可能なダムが延長位置にある、図１の線２－２に沿った流体塗布装置の概略断面図 液体の自由表面が上方高度にある、図１の表示３の流体塗布装置の拡大図 図２と同様であるが、下方高度にある自由表面を提供するために収縮位置にある調節可能なダムを示す、流体塗布装置の概略断面図 図４と同様であるが、下方高度にある液体の自由表面を示す、流体塗布装置の拡大図 基板が一連のローラの上を横断するときに基板を処理する方法の実施の形態を示す説明図 基板が一連のローラの上を横断するときに基板を処理する方法の実施の形態を示す説明図 基板が一連のローラの上を横断するときに基板を処理する方法の実施の形態を示す説明図 基板が一連のローラの上を横断するときに基板を処理する方法の実施の形態を示す説明図 基板が一連のローラの上を横断するときに基板を処理する方法の実施の形態を示す説明図 基板が一連のローラの上を横断するときに基板を処理する方法の実施の形態を示す説明図 ここに開示された実施の形態による例示の接着力測定装置の概略透視図 図１２の装置の側面切欠図 複数の平行通路が平面に窪められた、図１２の装置の基板接触部材の平面の底面透視図 平面に窪んだ通路が、その通路の少なくとも１つの他の部分に垂直な部分を含む、基板接触部材の代わりの平面の底面透視図 第１および第２の位置の間で互いに対して動く基板接触部材および基板の側面透視図 第１、第２、および第３の位置の間で互いに対して動く基板接触部材および基板の側面透視図 第２および第３の位置の間で互いに対して動く基板接触部材および基板の側面透視図 接着力測定装置および基板が、第１、第２、および第３の位置の間で互いに動かされるときの、時間の関数としての全荷重を示すグラフ 接着力測定装置および基板が、第１および第２の位置の間で互いに動かされるときの、時間の関数としての全荷重の拡大図を示すグラフ 接着力測定装置および基板が、第２および第３の位置の間で互いに動かされるときの、時間の関数としての全荷重の拡大図を示すグラフ 比較例１および実施例１の試料に関する、浸漬レベルに対する左のＹ軸上の静摩擦力および右のＹ軸上の静摩擦改善％を示すグラフ 比較例１Ａおよび実施例１の試料に関する、浸漬レベルに対する左のＹ軸上の静摩擦力および右のＹ軸上の静摩擦改善％を示すグラフ 実施例１および比較例１Ａにしたがって処理された試料に関する、原子力間顕微鏡分析法により得られたＲａデータにおける平均粗さに対してプロットされた静摩擦力のグラフ 実施例２の基板および比較例２の基板を比較する、浸漬レベルに対する左のＹ軸上の静摩擦力および右のＹ軸上の静摩擦改善％を示すグラフ 比較例５および６の基板と比較された実施例５および６の基板に関する、浸漬レベルに対する左のＹ軸上の静摩擦力を示し、右のＹ軸上の静摩擦改善％を示すグラフ 比較例３（対照－右の内側のＹ軸）および４（対照－右の外側のＹ軸）の基板と比べた実施例３および４の基板の静摩擦の改善を示す、エッチング時間に対する静摩擦力のグラフ

ガラスシートと平面との間の接着力であって、目標接着力範囲内の接着力を得るために、互いに反対の主面を有するガラス基板、例えば、ガラスシートを処理する方法が開示されている。１つ以上の実施の形態において、ガラスシートなどのガラス基板を処理する方法は、そのガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方を、流体塗布装置と、酢酸、フッ化アンモニウム、および水を含む液体エッチング組成物とに接触させる工程を含み、その接触させる工程は、その互いに反対の主面の少なくとも一方への液体エッチング組成物の所定の移動量で行われる。この方法は、その所定の液体移動量を制御して、互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供する工程をさらに含み、ここで、そのテクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、そのテクスチャ付き主面と平面との間に接着力があり、その接着力は目標接着力範囲内にある。

１つ以上の実施の形態において、前記流体塗布装置は、流体をガラス基板に移動させられるどの適切な装置を含んでも差し支えない。例えば、流体塗布器は、噴射ノズル、布、スポンジ、パッド、ローラ、および／またはブラシの１つ以上からなる群より選択される少なくとも１つを含み得る。それゆえ、流体塗布器は、噴射ノズルとパッド、または噴射ノズルとローラ、または噴射ノズルとブラシを含むことができるであろう。いくつかの実施の形態において、その流体塗布器は、布とスポンジ、または布とパッド、または布とローラ、または布とブラシを含み得る。パッドは、流体を基板に塗布するための、どの適切なタイプの物質または材料から作られてもよく、例えば、パッドは、布または他の織物で巻かれたスポンジなど、材料の組合せから作られてもよい。同様に、ローラは、流体塗布操作中に基板と接触する織物、繊維、単繊維、剛毛または布を含む外面を備えてもよい。具体的な実施の形態において、流体塗布装置はローラを備える。いくつかの具体的な実施の形態において、そのローラは多孔質材料（例えば、スポンジ）を含み、これは、下記にさらに記載されている。いくつかの実施の形態において、そのローラは、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物から作られる。いくつかの実施の形態において、その流体塗布装置は、調節可能なエッチング液深さを有する槽を含む容器をさらに備え、そのローラは外周を有し、そのローラは、ある回転速度で回転するようにその容器に対して位置付けられており、そのローラの外周は、ある接触角およびあるローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」でエッチング液と接触する。

流体塗布装置の非限定例が、流体塗布装置１０１の形態で、図１～１１に関して示されている。図１は、本開示の実施の形態による流体塗布装置１０１の概略図である。流体塗布装置１０１は、ガラスシートの形態にあることがある、基板１０５の第１の主面１０３ａを液体１０７と接触させることができる。図のように、基板１０５は、第１の主面１０３ａと反対の第２の主面１０３ｂをさらに含み得る。基板１０５の厚さ「Ｔ」は、第１の主面１０３ａと第２の主面１０３ｂとの間に規定することができる。特定の用途に応じて、幅広い厚さが与えられるであろう。例えば、厚さ「Ｔ」は、約５０マイクロメートル（μｍ）から約１センチメートル（ｃｍ）、例えば、約５０マイクロメートルから約１ミリメート（ｍｍ）、例えば、約５０マイクロメートルから５００マイクロメートル、例えば、約５０マイクロメートルから３００マイクロメートルの厚さを有する基板を構成することができる。

図のように、基板１０５の厚さ「Ｔ」は、基板１０５の全長（図６～８参照）など、基板１０５のある長さに沿って実質的に一定であり得る。図２および４にさらに示されるように、基板１０５の厚さ「Ｔ」は、その長さに対して垂直であり得る基板１０５のある幅に沿って実質的に一定であり得る。さらに図に示されるように、基板１０５の厚さ「Ｔ」は、基板１０５の全幅に沿って実質的に一定であり得る。いくつかの実施の形態において、厚さ「Ｔ」は、基板１０５の全長および全幅に沿って実質的に一定であり得る。図示されていないが、さらなる実施の形態において、基板１０５の厚さ「Ｔ」は、基板１０５のある長さおよび／または幅に沿って変動してもよい。例えば、幅の互いに反対の外縁に、ある基板（例えば、ガラスリボン）の成形過程から生じ得る肥厚エッジ部分（エッジビード）が存在することがある。そのようなエッジビーズは、典型的に、ガラスリボンの高品質の中央部分の厚さより大きいことのある厚さを含む。しかしながら、図２および４に示されるように、そのようなエッジビーズは、基板１０５に形成された場合、基板１０５から既に分離されている。

図６～８に示されるように、基板１０５は、前縁１０５ａおよび後縁１０５ｂを有するシートを含み得、ここで、基板１０５の長さは前縁１０５ａと後縁１０５ｂとの間に延在する。さらなる実施の形態において、基板１０５は、リボンの供給源から提供することができるリボンから作ることができる。いくつかの実施の形態において、そのリボンの供給源は、流体塗布装置により処理または改質されるように解かれるリボンのスプールを含み得る。例えば、そのリボンは、リボンの下流部分が流体塗布装置１０１で処理または改質されながら、リボンのスプールから連続的に解くことができる。さらに、後続の下流工程（図示せず）では、そのリボンがシートに分割されることがある、または最終的に、処理済みリボンが貯蔵スプール上に巻かれることがある。さらなる実施の形態において、リボンの供給源は、基板１０５を成形する成形装置を含み得る。そのような実施の形態において、リボンは、その成形装置から連続的に延伸され、リボンを処理するために流体塗布装置１０１と接触され得る。その後、いくつかの実施の形態において、処理済みリボンは、次いで、１つ以上のシートに分割されることがある。あるいは、処理済みリボンは、その後、貯蔵スプールに巻かれることがある。

いくつかの実施の形態において、基板１０５は、シリコン（例えば、シリコンウエハーまたはシリコンシート）、樹脂、または他の材料を含み得る。さらなる実施の形態において、基板１０５は、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、サファイヤ（Ａｌ_２Ｏ_３）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）または他の材料を含み得る。またさらなる実施の形態において、基板１０５は、ガラス（例えば、アルミノケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラスなど）、ガラスセラミック、またはガラスを含む他の材料から作ることができる。いくつかの実施の形態において、基板１０５は、ガラスシートまたはガラスリボンを含み得、約５０マイクロメートルから約３００マイクロメートルの厚さ「Ｔ」を有して可撓性であることがあるが、さらなる実施の形態において、他の範囲の厚さおよび／または非可撓性形態が与えられることがある。いくつかの実施の形態において、基板１０５（例えば、ガラスまたは他の光学材料を含む）は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）、有機発光ダイオードディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、または他の用途など、様々なディスプレイ用途に使用されることがある。

流体塗布装置１０１は、所望の目標接着力範囲に応じて、基板１０５の第１の主面１０３ａ上で、基板を様々なタイプの液体１０７と接触させるために使用されることがある。いくつかの実施の形態において、その液体は、基板１０５の第１の主面１０３ａにテクスチャを付けるように設計された液体エッチング組成物を含む。その液体エッチング組成物は、基板１０５の第１の主面１０３ａを形成する特定の材料にテクスチャを付けるように設計された材料エッチング液を含み得る。いくつかの実施の形態において、そのエッチング液は、第１の主面１０３ａで、ガラスを含む基板１０５にテクスチャを付けるためのガラスエッチング液を含み得る。さらなる実施の形態において、そのエッチング液は、第１の主面１０３ａ上で、シリコンを含む基板１０５にテクスチャを付けるのに適したエッチング液を含むことがある。

いくつかの実施の形態において、流体塗布装置１０１は、槽１１１を含む容器１０９をさらに備え、ここで、容器１０９の槽１１１内に液体１０７が収容されることがある。図１に示されるように、流体塗布装置１０１は、基板１０５の搬送方向１１３に沿って連続して配置された複数の容器１０９（図６～１１における１０９ａ～ｅも参照のこと）を備え得る。図示されていない実施の形態において、１つの容器１０９が設けられることがあるが、複数の容器１０９は、槽１１１内の液体１０７の高度を変える応答時間を増加させ得、搬送方向１１３に沿って移動する基板１０５の異なる部分の選択的な処理速度も可能にできる。

図２を参照すると、容器１０９は、上縁２０３を含む調節可能なダム２０１をさらに備えることができる。図のように、槽１１１は、第１の端部分１１１ａおよび第１の端部分１１１ａと反対の第２の端部分１１１ｂを有することができる。図のように、槽１１１の第２の端部分１１１ｂは、調節可能なダム２０１により少なくとも部分的に画成することができる。実際に、図のように、調節可能なダム２０１は、容器１０９の格納壁２１１の少なくとも一部として機能することができ、ここで、槽１１１内の液体１０７の自由表面２０５の高度は、調節可能なダム２０１の高さ「Ｈ」を調節することによって調節することができる（図２および４参照）。実際に、液体１０７の自由表面２０５は、調節可能なダム２０１の上縁２０３を越えて延在し得、その後、調節可能なダム２０１を越えて溢れ格納区域２０７にこぼれ落ちることができる。

流体塗布装置１０１は、槽１１１の第１の端部分１１１ａに通じる入口ポート２０８ａをさらに備えることができる。図のように、入口ポート２０８ａは、容器１０９の格納壁２１１を通る液体入口経路を提供することがある。あるいは、図示されていないが、入口ポート２０８ａは、槽１１１に液体１０７を注ぐ、または他の様式で液体１０７を導入する、自由表面２０５の上に位置するポートを含むことがある。図１に示されるように、ポンプ１１５が、供給タンク１１７から液体１０７を、各槽１１１に関連付けられることがある入口ポート２０８ａに接続された入口導管１１９に押し通すことがある。操作において、ポンプ１１５は、液体１０７を入口導管１１９から槽１１１の第１の端部分１１１ａへと連続的に流すことがある。図２に示されるように、過剰な液体１０７は、次いで、調節可能なダム２０１の上縁２０３を越えて流れ、次に、液体２１０の溢れ流としてこぼれることがある。必要に応じて、溢れ格納区域２０７が、基板１０５の第１の主面１０３ａ上にテクスチャを与える過程中ずっと、調節可能なダム２０１を越えて連続的に溢れ得る液体２１０の溢れ流を収集することがある。必要に応じて、図３に示されるように、調節可能なダム２０１は、出口ポート２０８ｂと入口ポート２０８ａとの間に配置されることがある。実際に、調節可能なダム２０１は、入口ポート２０８ａと出口ポート２０８ｂとの間の液体１０７に対する障害物を提供する。調節可能なダム２０１は入口ポート２０８ａと出口ポート２０８ｂとの間に配置されているので、調節可能なダム２０１の上縁２０３を越えて溢れる（例えば、連続的に溢れる）液体１０７のみが、入口ポート２０８ａから出口ポート２０８ｂに到達するであろう。

出口導管１２１が、各槽１１１に関連付けられることがある出口ポート２０８ｂに接続されることがある。操作において、液体が、出口導管１２１を通って出口ポート２０８ｂから供給タンク１１７に重力供給されるか、または他のやり方で戻されることがある。図２に示されるように、出口ポート２０８ｂは、液体１０７が入口ポート２０８ａから出口ポート２０８ｂへと方向２１３に槽１１１内を流動するように、入口ポート２０８ａの下流に配置されることがある。図３および５は、入口ポート２０８ａが第１の側壁３０１よりも第２の側壁３０３に近くに配置できる一方で、第２の側壁３０３よりも第１の側壁３０１により近く配置された出口ポート２０８ｂを概略示している。さらなる実施の形態において、入口ポート２０８ａ、出口ポート２０８ｂ、および／または出口ポート２０８ｃが、垂直面３０５に沿って配置されることがあり、必要に応じて、第１の側壁３０１と第２の側壁３０３との間の中点を通ることがある。

いくつかの実施の形態において、流体塗布装置１０１は、槽１１１の第２の端部分１１１ｂに通じる別の出口ポート２０８ｃを含むことがある。図のように、出口ポート２０８ｃに、容器１０９の格納壁２１１を通る液体通路が設けられることがある。図２に概略示されるように、出口ポート２０８ｃは、設けられた場合、必要に応じて、槽１１１から液体１０７が出るのを防ぐために出口ポート２０８ｃに栓をするように設計されたキャップ２１５が設けられることがある。あるいは、出口ポート２０８ｃに、槽１１１から液体１０７を流し出すための収集容器２１７が設けられることがある。実際に、十分な時間に亘り使用した後、容器１０９から液体１０７の全てを除去するために、その系を洗い流すという要望があることがある。１つの実施の形態において、その系を洗い流すために、出口ポート２０８ｃからキャップ２１５を取り外し、廃棄または再利用のために、液体１０７を容器１０９から収集容器２１７中に流し出すことがある。

またさらなる実施の形態において、変換器装置２１９に変換器２２１およびキャップ２２３が設けられることがある。変換器２２１は、槽１１１内に挿入され、液体１０７が槽１１１から排出されるのを防ぐように出口ポート２０８ｃに係合するキャップ２２３により適所に固定されることがある。変換器２２１は、液体１０７を通る超音波を放出して、基板１０５の第１の主面１０３ａの処理を向上させる、および／または槽１１１からの液体１０７で基板１０５の第１の主面１０３ａにテクスチャを付けることにより達成される機能性を向上させることができる。

さらなる実施の形態において、ポンプ２２５が出口ポート２０８ｃに接続されて、出口ポート２０８ｃを通じて液体１０７を拍動で送るまたは他のやり方で導入することがある。出口ポート２０８ｃを通じて液体１０７（例えば、拍動液体１０７）を導入すると、液体１０７の混合および／または槽１１１内の流量特性を向上させることができる。

調節可能なダム２０１は調節可能な高度を与えるので、液体１０７に調節可能な深さＤ１、Ｄ２を与えることができる。この用途の目的のために、液体１０７の深さは、液体１０７の自由表面２０５の位置と、槽１１１の下限を少なくとも部分的に規定する、容器１０９の格納壁２１１の下側内面２０９の対応する位置との間に定義されると考えられ、ここで、下側内面２０９の対応する位置は、重力の方向に自由表面２０５の位置と揃えられる。いくつかの実施の形態において、図２に示されるように、調節可能なダム２０１の調節位置に対応する液体１０７の深さは、第１の端部分１１１ａから第２の端部分１１１ｂの方向２１３に、第１の端部分１１１ａの第１の深さ「Ｄ１」から、この第１の深さ「Ｄ１」より大きいことがある、第２の端部分１１１ｂの第２の深さ「Ｄ２」まで上昇し得る。いくつかの実施の形態において、図２に示されるように、下側内面２０９は、方向２１３および重力の方向に下方に傾斜することがあり得る。図のような、方向２１３のそのような下方傾斜は、直線（図示）または湾曲であってよい連続傾斜であり得る。さらなる実施の形態において、方向２１３の階段状または他の下方傾斜構成が設けられることがあるが、方向２１３の連続的な下方傾斜により、槽１１１内に適切な循環がなく液体１０７が存在するデッドスペースが避けられるであろう。方向２１３の下方傾斜は、方向２１３の液体１０７の流れを促進させるのに役立ち得、また上方傾斜または無傾斜の実施の形態と比べて、槽１１１内の液体１０７の循環および混合を促進するのに役立ち得る。

図２にさらに示されるように、流体塗布装置１０１は、容器１０９に対して回転可能に取り付けられたローラ２２７をさらに備えることがある。駆動機構２２９が、ローラ２２７の回転軸２３３に沿って延在する回転シャフト２３１に接続されることがある。駆動機構２２９は、回転シャフト２３１にトルクを印加して、ローラ２２７を回転軸２３３の周りの方向１２３に回転させることがある（図３参照）。駆動機構２２９は、連結器により回転シャフト２３１に直接接続されることがある駆動モータを含むことがある、もしくは駆動ベルトまたは駆動チェーンにより回転シャフトに間接的に接続されることがある。いくつかの実施の形態において、１つの駆動モータが設けられることがあり、１つ以上の駆動ベルトまたは駆動チェーンが、各それぞれの回転軸２３３の周りで同じ回転速度で複数のローラ２２７を同時に回転させる。あるいは、個々の駆動モータが各それぞれの回転シャフト２３１に関連付けられて、互いに対するローラ２２７の独立した回転を可能にするとがある。

さらに図２に示されるように、いくつかの実施の形態において、ローラ２２７の回転軸２３３は、第１の端部分１１１ａから第２の端部分１１１ｂまで方向２１３に延在することがある。このように、このローラは、ローラの第１の端部２２７ａと第２の端部２２７ｂとの間のローラ２２７の長さが第１の端部分１１１ａから第２の端部分１１１ｂまで液体流動方向２１３に向けられるように、方向付けることができる。図のような、ローラ２２７のそのような縦の向きにより、方向２１３の液体流に対する抵抗を最小にすることができる。さらに、図２に示されるように、ローラ２２７の第１の側での自由表面２０５ａは、ローラ２２７の第２の側での自由表面２０５ｂと同じまたはほぼ同じ高度に維持されるであろう。同じまたはほぼ同じ高度に維持される自由表面２０５ａ、２０５ｂを提供することにより、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａに液体１０７を持ち上げる際のローラの機能性を向上させることができる。

図２に示されるように、ローラ２２７の外周２３５は、多孔質材料により画成することができる。その多孔質材料はセルの閉じた多孔質材料を含み得るが、セルの開いた多孔質材料は、多量の液体を容易に吸収して、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａへの液体移動量を増大させるであろう。ローラ２２７の外周２３５を画成する材料は、ポリウレタン、ポリプロピレンまたは他の材料から製造された剛性または可撓性材料から作ることができる。さらに、いくつかの実施の形態において、ローラ２２７の外周は、細孔または他の表面欠陥がなく、滑らかであることがある。さらなる実施の形態において、ローラ２２７の外周が、戻り止め、溝、ギザギザまたは他の表面パターンでパターン形成されることがある。またさらなる実施の形態において、その外周は、布地のローラの毛を含むことがある、および／または繊維、剛毛、または単繊維などの突起部を含むことがある。

いくつかの実施の形態において、ローラ２２７は、ローラ全体に亘り連続した組成と構成の単体円柱を含むことがある。さらなる実施の形態において、図のように、ローラ２２７は、内側コア２３７およびローラ２２７の外周２３５を画成する、内側コア２３７上に配置された外側層２３９含むことがある。図のように、内側コア２３７は中実内側コアからなることができるが、さらなる実施の形態において、中空内側コアが設けられることがある。その内側コアは、ローラ２２７を回転させるトルクの伝達を促進することができ、一方で、外側層２３９は、前記槽からの液体１０７の所望の持ち上げ、およびその液体の基板１０５の第１の主面１０３ａ上への移動を与えるように設計された材料から製造することができる。

図３を参照すると、ローラ２２７の直径３０７は、例えば、約１０ｍｍから約１００ｍｍ、例えば、約１０ｍｍから約８０ｍｍ、または２０ｍｍから約５０ｍｍであり得るが、さらなる実施の形態において、他の直径を有するローラが与えられることがある。さらに示されるように、ローラ２２７の外周２３５の部分３０９は、液体の調節可能な深さ内に配置されることがあり、０．５ｍｍからローラ２２７の直径３０７の５０％までの自由表面２０５から下のローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」まで延在し得る。いくつかの実施の形態において、ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」は、約０．５ｍｍから約１０ｍｍなど、約０．５ｍｍから約２５ｍｍであり得るが、さらなる実施の形態において、他の浸漬深さが与えられることがある。ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」は、この用途の目的に関して、ローラ２２７の最低部分が自由表面２０５の下に延在する深さと考えられる。図３に示されるように、ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」は、最大深さ面３１１が自由表面２０５からずれている距離であり、その最大深さ面３１１は、自由表面２０５と平行であり、図示された円形円筒ローラ２２７の最低点の接線となるように延在する。

さらに図３および５に示されるように、ローラ２２７は、幅広い接触角Ａ１、Ａ２で液体１０７と接触する。いくつかの実施の形態において、接触角Ａ１、Ａ２は、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａに所望の液体移動量を提供するために、９０°から１８０°未満であり得る。この用途に関して、接触角は、その基板の第１の主面１０３ａに向かう方向３１５に面し、ローラ２２７の回転軸２３３を通る接触面３１３と垂直面３０５との間の角度と考えられる。本開示の目的に関して、接触面３１３は、回転軸２３３および自由表面２０５の高度の延長線３１７とローラ２２７の外周２３５との交差線３１９と交差する面と考えられる。実際に、図３および５に示されるように、自由表面２０５の延長線３１７は、交差線３１９でローラ２２７の外周２３５と交差する。接触面３１３は、交差線３１９および回転軸２３３を含む面と考えられる。図３に示されるように、自由表面２０５ａ、２０５ｂは、ローラ２２７の各側で同じであり得る。このように、ローラ２２７の各側での接触角は、互いに同一であり得る。さらなる実施の形態において、自由表面２０５ａ、２０５ｂが異なる高度にある場合、ローラ２２７の各側に２つの異なる接触角が与えられることがある。

ここで、基板１０５を処理または改質して、互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付ける方法を記載する。基板１０５を処理または改質する方法は、容器１０９の槽１１１に液体１０７（例えば、エッチング液）を充填する工程を含み得る。いくつかの実施の形態において、槽１１１を充填する工程は、入口ポート２０８ａを通じてその液体を導入する工程を含むことがある。さらなる実施の形態において、ポンプ１１５は、供給タンク１１７から液体を入口導管１１９に通して入口ポート２０８ａに提供することがある。いくつかの実施の形態において、容器１０９の槽１１１には、基板１０５の第１の主面１０３ａを、ローラ２２７により第１の主面１０３ａに移動される液体と接触させている間に、液体１０７が連続的に充填されることがある。

基板１０５を処理または改質する方法は、ローラ２２７の外周２３５の一部を接触角Ａ１、Ａ２で液体１０７と接触させる工程も含み得る。いくつかの実施の形態において、図３および５に示されるように、その接触角は９０°から１８０°未満であることがある。方法は、液体１０７の自由表面２０５の高度を変える工程も含み得る。この用途の目的について、図４を参照して、液体１０７の自由表面２０５の高度「Ｅ」は、いずれの可能な調節高度での自由表面２０５の高度よりも低い基準高度４０１に対して考えられる。自由表面２０５の任意の調節高度が常に海水面より高い実施の形態において、基準高度４０１は、必要に応じて、海水面と考えることができる。

高度を変える方法は、幅広い種類の方法で行うことができる。例えば、自由表面２０５の高度「Ｅ」を変える工程は、槽１１１を充填する流入液体の充填速度を変える（例えば、入口ポート２０８ａを通じて）工程、および／またはその槽から出る流出液体の流出速度を変える（例えば、調節可能なダム２０１により）工程を含み得る。さらなる実施の形態において、液体高度「Ｅ」のレベル変化の度合いが高くなることにより増加した応答時間は、調節可能なダム２０１により達成することができる。したがって、本開示の実施の形態のいずれも、調節可能なダム２０１を調節することによって、液体高度「Ｅ」を調節する工程を含み得る。

調節可能なダム２０１により液体高度「Ｅ」を変える方法は、その液体の自由表面２０５は、調節可能なダム２０１の上縁２０３を越えて延在しつつ、槽を連続的に充填する工程など、槽を充填する工程を含み得る。槽１１１からのある量の液体２１０が、調節可能なダム２０１の上縁２０３を越えて連続的に溢れる。図２に示された自由表面２０５の高度を急激に減少させるために、作動装置２４１が調節可能なダム２０１を下向き方向２４３に引っ込めて、上縁２０３を、図２に示された上方位置から図４に示された下方位置まで移動させることがある。調節可能なダム２０１の比較的速い引っ込みに応答して、自由表面２０５の高度は、図４に示された高度「Ｅ」まで急速に低下させられることがある。

図４を参照すると、自由表面２０５の高度「Ｅ」を上昇させることが望ましい場合、作動装置２４１は、調節可能なダム２０１を、図４に示された下方位置から図２に示された上方位置まで上向き方向に伸ばすことがある。その結果、槽中への液体１０７の連続的充填（例えば、入口ポート２０８ａを通じて）は、槽１１１を充填し続け、それによって、図２に示されるような、液体が調節可能なダム２０１を越えて連続的に溢れる定常状態が達成されるまで、液体１０７の自由表面２０５の高度「Ｅ」が上昇する。

自由表面２０５の高度「Ｅ」を変えると、結果的に、接触角Ａ１、Ａ２が変わる。実際に、調節可能なダム２０１を図２に示された上方位置に伸ばすと、自由表面２０５の高度「Ｅ」が上昇して、図３に示されるように、接触角が「Ａ１」に減少する。比較的小さい接触角「Ａ１」は、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａへの比較的多い液体移動量を提供することができる。他方で、調節可能なダム２０１を図４に示された下方位置に引っ込めると、自由表面２０５の高度「Ｅ」が低下して、接触角が図５に示された「Ａ２」に増加する。比較的大きい接触角「Ａ２」は、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａへの比較的少ない液体移動量を提供することができる。

前記方法は、回転軸２３３の周りにローラ２２７を回転させて、液体を槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａに移動させる工程をさらに含むことができる。図３に示されるように、例えば、ローラ２２７は、方向１２３に回転して、基板１０５の方向２１３の１１３への平行移動を促進しつつ、基板１０５の第１の主面１０３ａを、移動される液体３２１の層３２３と接触させ、それによって、その第１の主面１０３ａにその層３２３でテクスチャを付けることができる。図示された実施の形態において、基板１０５の第１の主面１０３ａは、液体１０７の自由表面２０５の上に間隔が空けられ、自由表面２０５と面することがある。さらなる実施の形態において、ローラ２２７は、基板１０５の第１の主面１０３ａと機械的に接触していないことがある。むしろ、図３に示されるように、移動液体の一部３２５が、ローラ２２７と接触しないように基板１０５を浮かせつつ、液体３２１を槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａに移動させることができる。その結果、基板１０５は、基板１０５にテクスチャが付けられ、方向１１３に沿って平行移動されているときに、各ローラ２２７の上部にある移動液体の一部３２５の上に支持され得る。

先に述べたように、液体移動量は、調節可能なダム２０１の上縁を上昇させて、接触角を減少させることによって、増加させることができる。実際に、図２に示された伸長位置において、調節可能なダム２０１は、その自由表面を図２および３に示された高度に上昇させる。図３に示された減少した接触角「Ａ１」により、ローラ２２７の外周２３５上に持ち上げられている移動液体３２１の層の膜厚「Ｆ」は、より大きい接触角の場合と比べて、比較的厚いであろう。それゆえ、図３に示されるように、移動液体３２１の増加した移動量が、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａに達成されるであろう。そのような例において、図３に示されるように、移動された液体３２１の比較的厚い層３２３が、基板１０５の第１の主面１０３ａと接触するであろう。

先にさらに述べられたように、調節可能なダム２０１の上縁２０３を降下させて接触角を増加させることによって、液体移動量を減少させることができる。実際に、図４に示された引っ込み位置において、調節可能なダム２０１は、自由表面を図４および５に示された高度に降下させる。図５に示された増加した接触角「Ａ２」により、ローラ２２７の外周２３５上に持ち上げられている移動液体３２１の層の膜厚「Ｆ」は、より小さい接触角の場合と比べて、比較的薄いであろう。それゆえ、図５に示されるように、移動液体３２１の減少した移動量が、槽１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａに達成されるであろう。そのような例において、図５に示されるように、移動された液体３２１の比較的薄い層３２３が、基板１０５の第１の主面１０３ａと接触するであろう。

移動液体の移動量を増減させることは、基板１０５の異なる部分の選択的なテクスチャ付けを可能にすること、またはその基板の主面全体の上に異なるテクスチャを与えて、平面を有するガラス基板の目標接着力範囲内の接着力を得ることに有益であり得る。例えば、図６～１１は、ローラ２２７に近づく基板１０５の後縁１０５ｂに応答して、液体移動量が減少させられる例を示している。図６～１１に概略示されるように、流体塗布装置１０１は、方向１１３に平行移動する基板１０５の移動経路に沿って互いに間隔が空けられた複数のセンサ６０１、７０１、８０１、９０１、１００１を備えることがある。図６に示されるように、後縁１０５ｂが第１のセンサ６０１に近づき、やがて第１のセンサ６０１で検出されるであろう。次に、第１のセンサ６０１は、通信経路を通じて信号を制御装置１２５（図１参照）に送信することができる。それに応じて、制御装置１２５は、信号を、第１の容器１０９ａの調節可能なダム２０１を下向き方向２４３に、図２に示された位置から図４に示された引っ込み位置まで引っ込める作動装置２４１に送信することができる。それに応じて、第１の容器１０９ａ内の液体１０７の自由表面２０５の高度「Ｅ」が、図６に示された高度から図７に示された高度まで急速に降下する。高度「Ｅ」の急激な降下のために、接触角は増加し（例えば、Ａ２に）、それによって、後縁１０５ｂが第１の容器１０９ａに関連するローラ２２７の上を通過するときに、移動液体３２１が槽１１１から基板の第１の主面１０３ａに持ち上げられる量が減少する。移動液体３２１の移動量が減少すると、後縁１０５ｂが第１の容器１０９ａに関連するローラ２２７の上を通過するときに、基板１０５の第２の主面１０３ｂ上にそうでなければ望ましくなく付着するかもしれない液体の跳ねを減少させることができる。このように、このローラは、比較的小さい接触角「Ａ１」に関連する移動液体３２１の増加した移動量を提供して、第１の主面１０３ａのローラによる適切な接触を提供しつつ、後縁１０５ｂがローラを通過するときに、比較的大きい接触角「Ａ２」を提供して、移動液体３２１がローラ２２７により持ち上げられる量を減少させて、基板１０５の第２の主面１０３ｂに液体が望ましからず跳ねるのを避けることができる。高度「Ｅ」の変化は、ローラ浸漬深さＤ_ｓも変化させる。さらに下記に述べるように、接触角、ローラ浸漬深さＤ_ｓ、および／またはローラ回転速度に対する変化は、処理されている基板の主面上に得られるテクスチャに影響を及ぼす。

いくつかの実施の形態において、制御装置１２５は、中央処理装置（ＣＰＵ）、メモリ、および支援回路（図示せず）を備える。制御装置１２５は、接触角およびローラ浸漬深さＤ_ｓも変化させる高度「Ｅ」、並びにローラの回転速度を制御することがある。制御装置１２５は、これらのパラメータを、直接的に、または特定のモニタリングシステムに関連するコンピュータ（または制御装置）および／または支援システムの構成要素により、制御することがある。制御装置１２５は、機械部品の位置決めおよび回転速度を制御するために工業環境で使用できる汎用コンピュータ処理装置および流体塗布装置に使用されるサブプロセッサのいずれかの形態の内の１つであることがある。制御装置１２５のメモリ、またはコンピュータ可読媒体は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、リードオンリーメモリ（ＲＯＭ）、フロッピーディスク（登録商標）、ハードディスク、光学式記憶媒体（例えば、コンパクトディスクまたはデジタルビデオディスク）、フラッシュドライブ、もしくは局所またはリモートの、デジタル保存のいずれか他の形態などの容易に入手できるメモリの１つ以上であることがある。前記支援回路は、従来の様式でＣＰＵを支援するためにＣＰＵに結合されている。これらの回路は、キャッシュメモリ、電源、クロック回路、入力／出力回路およびサブシステムなどを含む。１つ以上のプロセスまたはルックアップテーブルが、流体塗布装置１０１の作動を制御するために実行または起動されることのあるソフトウェアルーチンとしてメモリに保存されることがある。このソフトウェアルーチンは、ＣＰＵで制御されているハードウェアから遠隔地に位置する第２のＣＰＵ（図示せず）により記憶および／または実行されることもある。制御装置１２５は、配線接続を介して、もしくは無線で、例えば、ブルートゥース（登録商標）または他の適切な無線接続を使用して、接続されることがある。

図７に示されるように、次に、後縁１０５ｂが第２のセンサ７０１に近づき、やがて第２のセンサ７０１によって検出されるであろう。次に、第２のセンサ７０１は、通信経路を通じて信号を制御装置１２５に送信することができる。それに応じて、制御装置１２５は、信号を、第２の容器１０９ｂの調節可能なダム２０１を下向き方向２４３に、図２に示された位置から図４に示された引っ込み位置まで引っ込める作動装置２４１に送信することができる。それに応じて、第２の容器１０９ｂ内の液体１０７の自由表面２０５の高度「Ｅ」が、図７に示された高度から図８に示された高度まで急速に降下する。高度「Ｅ」の急激な降下のために、接触角は増加し（例えば、Ａ２に）、それによって、後縁１０５ｂが第２の容器１０９ｂに関連するローラ２２７の上を通過するときに、移動液体３２１が槽１１１から基板の第１の主面１０３ａに持ち上げられる量が減少する。移動液体３２１の移動量が減少すると、後縁１０５ｂが第２の容器１０９ｂに関連するローラ２２７の上を通過するときに、第２の主面１０３ｂ上に望ましくなく付着するかもしれない液体の跳ねを減少させることができる。

同様にして、図８～１１に示されるように、次に、後縁１０５ｂがセンサ８０１、９０１、１００１に連続して近づき、やがてセンサ８０１、９０１、１００１によって連続的に検出されるであろう。次に、センサ８０１、９０１、１００１は、通信経路を通じて対応する信号を制御装置１２５に送信することができる。それに応じて、制御装置１２５は、それぞれ、順次的な信号を、第３、第４、および第５の容器１０９ｃ、１０９ｄ、１０９ｅの各々に関連する作動装置２４１に送信して、第３、第４、および第５の容器１０９ｃ、１０９ｄ、１０９ｅの調節可能なダム２０１を順次的に引っ込めることができる。次いで、調節可能なダム２０１は、下向き方向２４３に図２に示された位置から図４に示された引っ込み位置まで引っ込められる。それに応じて、液体１０７の自由表面２０５の高度「Ｅ」が、第３、第４、および第５の容器内で順次的に急速に降下する。高度「Ｅ」の急激な降下のために、接触角は増加し（例えば、Ａ２に）、それによって、基板１０５の後縁１０５ｂが各順次的な容器１０９ｃ、１０９ｄ、１０９ｅに関連する各順次的なローラ２２７の上を通過するときに、移動液体３２１が槽１１１から基板の第１の主面１０３ａに持ち上げられる量が減少する。移動液体３２１の移動量が減少すると、後縁１０５ｂが容器１０９ｃ、１０９ｄ、１０９ｅの各々に関連する対応するローラ２２７の上を通過するときに、第２の主面１０３ｂ上に望ましくなく付着するかもしれない液体の跳ねを減少させることができる。

図示されていないが、基板１０５の後縁１０５ｂがローラ２２７を一旦通過すると、調節可能なダム２０１は、再び、図２に示された位置まで伸ばされて、液体の自由表面２０５の高度を上昇させて、方向１１３と反対の方向に基板が戻される準備のために、または新たな基板を受け入れる準備のために、増加した液体移動量を提供することがある。実際に、基板１０５の第１の主面１０３ａの所望のテクスチャを達成するために、基板は、方向１１３および方向１１３と反対の方向に沿って往復して通過させられることがある。所望のレベルのテクスチャ付けが達成されるまで、各通過中に追加のテクスチャ付けを与えるために、各連続通過中に、新たなエッチング液が塗布されることがある（可能性のある濯ぎまたは他の処理中間工程を伴う）。

１つ以上の実施の形態において、図１～１１に関して先に記載されたように液体移動量に変化をもたらす様々な工程パラメータの内の１つを制御することにより、互いに反対の主面の内の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供するために、所定の液体移動の制御が可能になり、ここで、テクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、そのテクスチャ付き主面と平面との間に接着力があり、その接着力は目標接着力範囲内にある。具体的な実施の形態において、図１～１１に関して示された流体塗布装置１０１は、調節可能なエッチング液深さを有する槽を有する容器、およびローラの外周がある接触角およびあるローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」でエッチング液と接触するような回転速度で回転するように容器に対して回転可能に位置付けられたローラを備え得る。液体移動量に変化をもたらすパラメータは、互いに反対の主面の内の少なくとも一方の上に所望のテクスチャを与えて、ガラスシートが平面と接触した状態に置かれたときにの目標接着力範囲内の接着力を得るように、制御および／または調節される。

１つ以上の実施の形態において、所定の液体移動量は、接触角、ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」、および回転速度の内の少なくとも１つの選択された値によって決定され、その選択された値は、所定の液体移動量に相互に関連付けられる。それゆえ、いくつかの実施の形態によれば、液体移動量に対する個々の接触角の効果を決定するために、個々の接触角値の範囲について、経験的データを得ることができる。次に、個々の接触角値の各々は、個々の液体移動量値に相互に関連付けられる。次に、個々の液体移動量値の各々は、ガラスシートの互いに反対の主面の内の少なくとも一方の上に得られたテクスチャに相互に関連付けられる。次に、各個々の液体移動量値の各々に得られたテクスチャは、個々の液体移動量値の各々により得られたテクスチャに関して平面上のガラスシートの接着力値を測定することによって、平面とのガラスシートの接着力値と相互に関連付けられる。

平面上のガラスシートの接着力値は、個々の液体移動量値の範囲から得られる様々なテクスチャの各々について、下記にさらに記載されるように測定することができる。個々の液体移動量値の範囲に得られる様々なテクスチャの各々は、特定の平面、例えば、製造操作中にガラスシートが上に置かれることがある真空処理装置に使用される真空チャックまたはサセプタに利用される金属平面とのガラスシートの接着力と相互に関連付けることができる。

同様に、液体移動量に対する個々のローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」値の効果を決定するために、個々のローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」値の範囲について、経験的データを得ることができる。次に、個々のローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」値の各々は、個々との液体移動量値に相互に関連付けられる。次に、個々の液体移動量値の各々は、ガラスシートの互いに反対の主面の内の少なくとも一方に得られるテクスチャに相互に関連付けられる。次に、各個々の液体移動量値に得られるテクスチャは、個々の液体移動量値の各々により得られるテクスチャについて、平面上のガラスシートの接着力値を測定することによって、平面とのガラスシートの接着力値に相互に関連付けられる。

同様に、液体移動量に対する個々のローラ回転速度値の効果を決定するために、個々のローラ回転速度値の範囲について、経験的データを得ることができる。次に、個々のローラ回転速度値の各々は、個々の液体移動量値に相互に関連付けられる。次に、個々の液体移動量値の各々は、ガラスシートの互いに反対の主面の内の少なくとも一方に得られるテクスチャに相互に関連付けられる。次に、各個々の液体移動量値の各々に得られるテクスチャは、個々の液体移動量値の各々により得られるテクスチャについて、平面上のガラスシートの接着力値を測定することによって、平面とのガラスシートの接着力値に相互に関連付けられる。

接触角、ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」およびローラ回転速度の値、並びに様々な平面材料（例えば、金属、高分子など）との様々なガラス組成のガラス基板に関する液体移動量、テクスチャおよび接着力に対するそれらの経験的に決定された関係は、制御装置１２５のメモリ内のルックアップテーブル内に記憶させることができる。ガラスシートの処理または改質中、その制御装置は、接触角、ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」およびローラ回転速度の１つ以上に関する値、並びに所望のテクスチャおよび目標接着力範囲内の接着力を調節可能に得るための液体移動量に対するそれらの関係を選択および／または調節することができる。接触角、ローラ浸漬深さ「Ｄ_ｓ」およびローラ回転速度に加え、液体エッチング組成物中の酢酸の量および／またはフッ化アンモニウムの量が、エッチング液と接触させられたガラスシートの主面が、平面と接触した状態に置かれたときの、ガラスシートの接着力に影響を及ぼすであろう。したがって、液体エッチング組成物の組成は、所望のテクスチャおよび平面上のガラス基板の目標接着力範囲内の接着力を得るために、所定の値に調節することができる。

１つ以上の実施の形態において、所定の液体移動量は、接触角、ローラ浸漬深さＤ_ｓ、および回転速度の少なくとも１つの選択された値により決定され、その選択された値は、所定の液体移動量と相互に関連付けられている。

接触角、ローラ浸漬深さＤ_ｓ、回転速度、酢酸の量、およびフッ化アンモニウムの量の少なくとも１つ変えることによって、平面とのガラスシートの目標接着力範囲内の接着力を得ることができる。

いくつかの実施の形態において、前記目標接着力範囲内の接着力は、目標接着力範囲内の接着力を得るための所定の値に、回転速度を変えることにより、または回転速度を設定することにより、得られる。いくつかの実施の形態において、前記目標接着力範囲内の接着力は、目標接着力範囲内の接着力を得るための所定の値に、回転速度を変えることにより、または回転速度を設定することにより、得られる。いくつかの実施の形態において、前記目標接着力範囲内の接着力は、平面とのガラスシートの目標接着力範囲内の接着力を得るための所定の値に、ローラ浸漬深さＤ_ｓを変えることにより、またはローラ浸漬深さＤ_ｓを設定することにより、得られる。いくつかの実施の形態において、回転速度およびローラ浸漬深さＤｓの両方は、平面とのガラスシートの目標接着力範囲内の接着力を得るための所定の値に変えられるまたは設定される。

液体エッチング組成物中の酢酸の量も変えることができる。いくつかの実施の形態において、酢酸は、約２０質量％から約７０質量％、約３０質量％から約６５質量％、約４０質量％から約６５質量％、または約５０質量％から約６０質量％の量で液体エッチング組成物中に存在する。いくつかの実施の形態において、フッ化アンモニウムは、約５質量％から約４０質量％、約５質量％から約３５質量％、約５質量％から約３０質量％、または約１０質量％から約２５質量％の量で液体エッチング組成物中に存在する。いくつかの実施の形態において、水は、約１０質量％から約５０質量％、約１５質量％から約４５質量％、約１５質量％から約４０質量％、または約２０質量％から約３５質量％の量で液体エッチング組成物中に存在する。この方法のいくつかの実施の形態において、ガラスシートは、化学強化されたガラスシートである。

他の実施の形態において、図１～１１の装置は、互いに反対の主面を有するガラスシートを改質する方法を実施するために使用できる。ガラスシートを改質する方法は、容器の槽に、調節可能なエッチング液深さを有するエッチング液であって、ある量の酢酸、ある量のフッ化アンモニウム、およびある量の水を含むエッチング液を充填する工程；ある回転速度で回転するように容器に対して回転可能に位置付けられたローラの外周の一部を、ある接触角およびあるローラ浸漬深さＤ_ｓでエッチング液と接触させる工程であって、ローラを回転させると、エッチング液が槽から動いて、ガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方と接触する工程；および回転速度、接触角およびローラ浸漬深さＤ_ｓの少なくとも１つを制御可能に変更して、互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、ガラスシートが平面と接触した状態に置かれたときに、目標接着力範囲内の接着力を得るようにテクスチャ付き主面を提供する工程を有してなる。この方法は、液体エッチング組成物中の酢酸の量を変える工程も含み得る。いくつかの実施の形態において、酢酸は、約２０質量％から約７０質量％、約３０質量％から約６５質量％、約４０質量％から約６５質量％、または約５０質量％から約６０質量％の量で液体エッチング組成物中に存在する。いくつかの実施の形態において、フッ化アンモニウムは、約５質量％から約４０質量％、約５質量％から約３５質量％、約５質量％から約３０質量％、または約１０質量％から約２５質量％の量で液体エッチング組成物中に存在する。いくつかの実施の形態において、水は、約１０質量％から約５０質量％、約１５質量％から約４５質量％、約１５質量％から約４０質量％、または約２０質量％から約３５質量％の量で液体エッチング組成物中に存在する。

ガラスシートを改質する方法のいくつかの実施の形態において、ローラは多孔質表面を含む。いくつかの実施の形態において、回転速度、接触角、およびローラ浸漬深さＤ_ｓは、制御装置により制御可能である。いくつかの実施の形態において、この制御装置は、回転速度、接触角、およびローラ浸漬深さＤ_ｓの少なくとも１つを所定の値に制御して、平面とのガラスシートの目標接着力範囲内の接着力を得る。いくつかの実施の形態において、この制御装置は、この方法の完了の際に、接着力を増加させるように設定される。１つ以上の実施の形態において、この制御装置は、この方法の完了の際に、接着力を減少させるように設定される。

いくつかの実施の形態において、ここに記載された方法を使用して、製造過程または輸送過程中にガラス基板が接触する平面に対して予測可能かつ「調整可能な」（すなわち、調節可能な）静摩擦または接着特性を有するガラス基板を製造し、提供することができる。それゆえ、いくつかの実施の形態において、ガラス基板は、平面との接着（または前静摩擦(pro-stiction)）を促進する目標接着力範囲内の比較的高い接着力を有するように、ガラスの主面を処理、改質、または調節可能にテクスチャ付けすることができる。他の実施の形態において、ガラス基板は、ガラス基板と平面を接着させない、または最小量の接着力で接着させる（または抗静摩擦(anti-stiction)）目標接着力範囲内の比較的低いまたはゼロの接着力を有するように、主面を処理、改質、または調節可能にテクスチャ付けすることができる。

ここに記載された方法を使用して、ディスプレイガラス物品を形成することができ、本開示の態様は、ここに記載された方法により製造されたディスプレイガラス物品に関する。ディスプレイガラス物品は、製造操作中にディスプレイガラス物品の調整可能（すなわち、調節可能）かつ予測可能な取扱いおよび処理を可能にするように、そのガラス物品の主面が平面と接触した状態に置かれたときに、目標接着力範囲内の接着力を有する。例えば、包装操作中、ガラス物品の主面は、高分子平面と接触した状態に置かれることがある。１つ以上の実施の形態によれば、ガラス物品の主面が高分子主面と接触した状態に置かれたときに、目標接着力範囲内の調整可能かつ予測可能な接着力を有するガラス物品を提供することができる。他の実施の形態において、ガラス物品の主面は、真空室または他の処理室のテーブルまたはチャックなど、金属表面と接触した状態に置かれることがある。１つ以上の実施の形態によれば、ガラス物品の主面が金属主面と接触した状態に置かれたときに、目標接着力範囲内の調整可能かつ予測可能な接着力を有するガラスシートなどのガラス物品を提供することができる。

いくつかの実施の形態において、ガラスシートを処理または改質する方法は、ガラスシートを洗浄して、有機および／または無機汚染を除去する工程、および次いで、どのような残留物も除去するように十分に濯ぐ工程を含むことがある。その洗浄工程は、洗浄剤を含むことがある水溶液などの溶液を使用して行うことができる。一例において、ガラスシートを最初にＫＯＨ溶液で洗浄して、表面上の有機汚染物質および埃を除去することができる。他の洗浄溶液を、必要に応じて、代わりに使用してもよい。洗浄後、ガラス基板を、必要に応じて、例えば、脱イオン水で、濯いでもよい。

氷酢酸は、約１７℃未満の温度で凍結し始める。したがって、いくつかの実施の形態において、エッチング組成物の温度は、約１８℃から約９０℃の範囲、例えば、約１８℃から約４０℃の範囲、約１８℃から約３５℃の範囲、約１８℃から約３０℃の範囲、約１８℃から約２５℃の範囲、またさらには約１８℃から約２２℃の範囲にあることがある。より低い範囲、例えば、１８℃から３０℃の範囲内のエッチング組成物の温度が好ましい。何故ならば、これにより、蒸気圧を低下させることができ、ガラス上に生じる蒸気関連欠陥が少なくなるからである。

それに加え、ガラス基板がエッチング組成物に暴露されるときのガラス基板自体の温度が、テクスチャ付け結果に影響を与え得る。したがって、エッチング組成物に暴露されたときのガラス基板は、約２０℃から約６０℃の範囲、例えば、約２０℃から約５０℃の範囲、または約３０℃から約４０℃の範囲にある温度であることがある。最適温度は、ガラス組成、環境条件および所望のテクスチャ（例えば、表面粗さ）に依存する。使用される場合、エッチング組成物浴は、ある場合には、層化および枯渇を防ぐために、再循環されることがある。

エッチング組成物との接触時間は、約５秒から約１０分未満に及ぶ、例えば、約１０秒から約分の範囲、約１０秒から約３分の範囲、約１０秒から約９０秒の範囲、または約１０秒から約６０秒の範囲にあることがあるが、所望の表面テクスチャを達成するように必要に応じて、他の接触時間も使用してよい。エッチング組成物との接触後のガラス基板の表面テクスチャは、ガラス組成で異なる得る。したがって、あるガラス組成に最適化されたエッチング組成物の配合は、他のガラス組成のための変更が必要なことがある。そのような変更は、典型的に、ここに開示されたエッチング液の成分範囲内で実験により行われる。

前記ガラス基板は、ここに明白にまたは固有に開示された工程パラメータに耐えられるどの適切なガラス、例えば、アルカリケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、またはアルミノホウケイ酸塩ガラスから作られてもよい。そのガラス材料は、シリカ系ガラス、例えば、全てＣｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる、コード２３１８ガラス、コード２３１９ガラス、コード２３２０ガラス、Ｅａｇｌｅ ＸＧ（登録商標）ガラス、Ｌｏｔｕｓ（商標）、およびソーダ石灰ガラスなどであってよい。他のディスプレイ用ガラスも、ここに記載された過程の恩恵を受けるであろう。それゆえ、ガラス基板は、先に記載されたＣｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社のガラスに限定されない。例えば、ガラスのある選択因子は、続いてイオン交換過程が行われるか否かであることがあり、その場合、ガラスがアルカリ含有ガラスであることが一般に望ましい。

ディスプレイ用ガラス基板は、様々な組成を有し得、異なる過程により成形することができる。適切な成形過程としては、以下に限られないが、フロート法、並びにスロットドロー法およびフュージョンドロー法などのダウンドロー法が挙げられる。例えば、米国特許第３３３８６９６号および同第３６８２６０９号の各明細書を参照のこと。スロットドロー法およびフュージョンドロー法において、新たに成形されたガラスシートは垂直方向に向けられている。

前記ガラス基板は、フラットパネルディスプレイの製造に使用するために、特別に設計されることがあり、２．４５ｇ／ｃｍ^３未満の密度を示すことができ、いくつかの実施の形態において、約２００，０００ポアズ（Ｐ）超、または約４００，０００Ｐ超、または約６００，０００Ｐ超、または約８００，０００Ｐ超の液相粘度（液相温度でのガラスの粘度と定義される）を示すことがある。それに加え、適切なガラス基板は、０℃から３００℃の温度範囲に亘る、２８～３５×１０^－７／℃、または２８～３３×１０^－７／℃の実質的に線形の熱膨張係数、および約６５０℃より高い歪み点を示すことができる。ここに用いられているように、「実質的に線形」という用語は、指定範囲に亘るデータ点の線形回帰が、約０．９以上、または約０．９５以上、または約０．９８以上、または約０．９９以上、または約０．９９５以上の決定係数を有することを意味する。適切なガラス基板は、１７００℃未満の溶融温度を有するものを含み得る。

記載された方法の実施の形態において、前記ガラス基板は、ガラスの主成分がＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、および少なくとも２種類のアルカリ土類酸化物である組成を有する。適切なアルカリ土類酸化物としては、以下に限られないが、ＭｇＯ、ＢａＯ、およびＣａＯが挙げられる。ＳｉＯ_２は、ガラスの基礎ガラス形成材として働き、フラットパネルディスプレイ用ガラス、例えば、アクティブマトリクス液晶表示パネル（ＡＭＬＣＤ）に適した密度と化学的耐久性、並びにガラスをダウンドロー法（例えば、フュージョン法）で成形できるようにする液相温度（液相粘度）をガラスに与えるために、約６４モルパーセント以上の濃度を有する。適切なガラス基板は、２．４５ｇ／ｃｍ^３以下、または２．４１ｇ／ｃｍ^３以下の密度、９５℃で２４時間に亘り５％のＨＣｌ溶液に研磨試料が暴露されたときに、約０．８ミリグラム／ｃｍ^３以下の質量損失、および３０℃で５分間に亘り１体積の５０質量％のＨＦと１０体積の４０質量％のＮＨ_４Ｆの溶液に暴露されたときに、１．５ミリグラム／ｃｍ^２以下の質量損失を有し得る。

本開示の実施の形態に使用するのに適したガラス基板は、バッチ材料を、従来の大量溶融技術、例えば、耐火溶融装置内でのジュール溶融を使用して溶融できるように約７１モルパーセント以下のＳｉＯ_２濃度を有し得る。いくつかの実施の形態において、ＳｉＯ_２濃度は、約６６．０モルパーセントから約７０．５モルパーセントの範囲、または約６６．５モルパーセントから約７０．０モルパーセントの範囲、または約６７．０モルパーセントから約６９．５モルパーセントの範囲にある。

酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）は、本開示の実施の形態に使用するのに適した別のガラス形成材である。どの特定の動作理論によっても束縛されないが、約９．０モルパーセント以上のＡｌ_２Ｏ_３濃度が、ガラスに低い液相温度および対応する高い液相粘度を与えると考えられる。少なくとも約９．０モルパーセントのＡｌ_２Ｏ_３を使用すると、ガラスの歪み点および弾性率も改善されるであろう。詳細な実施の形態において、Ａｌ_２Ｏ_３濃度は、約９．５から約１１．５モルパーセントの範囲にあることがある。

酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）は、ガラス形成材および溶融を助け、溶融温度を低下させる融剤の両方である。これらの効果を達成するために、本開示の実施の形態に使用するのに適したガラス基板は、約７．０モルパーセント以上のＢ_２Ｏ_３濃度を有し得る。しかしながら、大量のＢ_２Ｏ_３は、歪み点（７．０モルパーセントを超えるＢ_２Ｏ_３の各モルパーセントの増加毎に約１０℃）、ヤング率、および化学的耐久性の減少をもたらす。

適切なガラス基板は、約６５０℃以上、約６５５℃以上、または約６６０℃以上の歪み点、１０．０×１０^６ｐｓｉ（約６９ＧＰａ）以上のヤング率、およびガラスのＳｉＯ_２含有量の議論に関して上述したような化学的耐久性を有することがある。どの特定の動作理論によっても束縛されないが、高い歪み点は、ガラスの製造後の熱処理中の圧縮（収縮）によるパネル歪みを防ぐのに役立つであろうと考えられる。したがって、高いヤング率は、出荷および取扱い中の大型ガラスシートが示す垂下の量を減少させるであろうと考えられる。

ガラス形成材（ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、およびＢ_２Ｏ_３）に加え、適切なガラス基板は、少なくとも２種類のアルカリ土類酸化物、すなわち、少なくともＭｇＯとＣａＯ、および必要に応じて、ＳｒＯおよび／またはＢａＯも含むことがある。どの特定の動作理論によっても束縛されないが、アルカリ土類酸化物は、溶融、清澄、成形、および最終的な使用にとって重要な様々な性質をガラスに与えると考えられる。いくつかの実施の形態において、ＭｇＯ濃度は、約１．０モルパーセント以上である。他の実施の形態において、ＭｇＯ濃度は、約１．６モルパーセントから約２．４モルパーセントの範囲にあることがある。

どの特定の動作理論によっても束縛されないが、ＣａＯは、低い液相温度（高い液相粘度）、高い歪み点とヤング率、およびフラットパネル用途、特に、ＡＭＬＣＤ用途にとって最も望ましい範囲内の熱膨張係数（ＣＴＥ）を生じると考えられる。ＣａＯは、化学的耐久性に有利に寄与し、他のアルカリ土類酸化物と比べて、ＣａＯは、バッチ材料として比較的安価であることも考えられる。したがって、いくつかの実施の形態において、ＣａＯ濃度は、約６．０モルパーセント以上である。他の実施の形態において、ディスプレイ用ガラス中のＣａＯ濃度は、約１１．５モルパーセント以下、または約６．５から約１０．５モルパーセントの範囲にあり得る。

ある場合には、前記ガラス基板は、約６０モル％から約７０モル％の範囲のＳｉＯ_２、約６モル％から約１４モル％の範囲のＡｌ_２Ｏ_３、０モル％から約１５モル％の範囲のＢ_２Ｏ_３、０モル％から約１５モル％の範囲のＬｉ_２Ｏ、約０モル％から約２０モル％の範囲のＮａ_２Ｏ、０モル％から約１０モル％の範囲のＫ_２Ｏ、０モル％から約８モル％の範囲のＭｇＯ、０モル％から約１０モル％の範囲のＣａＯ、０モル％から約５モル％の範囲のＺｒＯ_２、０モル％から約１モル％の範囲のＳｎＯ_２、０モル％から約１モル％の範囲のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含むことがあり、ここで、１２モル％≦Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ≦２０モル％、および０モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ≦１０モル％であり、そのケイ酸塩ガラスは、リチウムを実質的に含まない。

ここに記載された特定のガラス基板は、積層ガラスであり得る。１つの態様において、そのディスプレイ用ガラス基板は、ガラスコアの少なくとも１つの露出面にガラス表皮をフュージョンドローすることによって製造される。一般に、ガラス表皮は、６５０℃以上の歪み点を有する。いくつかの実施の形態において、表皮ガラス組成物は、６７０℃以上、６９０℃以上、７１０℃以上、７３０℃以上、７５０℃以上、７７０℃以上、または７９０℃以上の歪み点を有する。開示された組成物の歪み点は、公知の技術を使用して、当業者により決定することができる。例えば、歪み点は、ＡＳＴＭ法のＣ３３６を使用して決定できる。

いくつかの実施の形態において、前記ガラス表皮は、フュージョン法によってガラスコアの露出面に施すことができる。適切なフュージョン法の一例が、ここに全てが引用される、米国特許第４２１４８８６号明細書に開示されている。フュージョンガラス基板成形法は、以下のように要約できる。異なる組成の少なくとも２つのガラス（例えば、ベースまたはコアガラスシートおよび表皮）を別々に溶融する。次に、それらのガラスの各々を、適切な送達システムを通じてそれぞれのオーバーフロー分配装置に送達する。それらの分配装置は、各々からのガラスが分配装置の上縁部分を越えて、少なくとも一方の側を下方に流れて、分配装置の片側または両側に適切な厚さの均一な流動層を形成するように一方を他方の上にして搭載されている。下側の分配装置を溢れ出る溶融ガラスは、分配装置の壁に沿って下方に流れ、底部分配装置の集束する外面に隣接して最初のガラス流動層を形成する。同様に、上側の分配装置から溢れ出る溶融ガラスは、上側の分配装置の壁を越えて下方に流れ、最初のガラス流動層の外面の上を流れる。２つの分配装置からのガラスの２つの個々の層が、下側の分配装置の集束面が交わるところに形成された延伸線で接合され、融合して、１つの連続して積層されたガラスリボンを形成する。２つのガラスの積層体における中心ガラスはコアガラスと呼ばれるのに対し、コアガラスの外面に位置付けられたガラスは、表皮ガラスと呼ばれる。表皮ガラスは、コアガラスの各表面上に位置付けることができる、またはコアガラスの片面に、１つだけ表皮ガラス層が位置付けられることがある。

前記オーバーフロー分配装置法は、そのように形成されたガラスリボンに火仕上げされた表面を与え、制御された分配装置により与えられたガラスリボン、およびそれから切断されたガラスシートの均一に分布する厚さは、ガラスシートに優れた光学品質を与える。ディスプレイ用ガラス基板として使用されるガラスシートは、１００マイクロメートル（μｍ）から約０．７μｍの範囲の厚さを有し得るが、ここに記載された方法から恩恵を受けるであろう他のガラスシートは、約１０μｍから約５ｍｍの範囲の厚さを有することがある。ここに開示された方法に使用できる他の過程が、ここに全て引用される、米国特許第３３３８６９６号、同第３６８２６０９号、同第４１０２６６４号、同第４８８０４５３号、および米国特許出願公開第２００５／０００１２０１号の各明細書に記載されている。フュージョン製造法は、無垢の表面品質および拡張可能性を備えた、優れた厚さ制御により平らなガラス基板を含む、ディスプレイ業界にとっての利点を提示する。ガラス基板の平坦性は、平坦からのどのような逸脱も視覚歪みをもたらし得るので、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）テレビのパネルの製造において重要であり得る。

いくつかの実施の形態において、名目上、アルカリ金属酸化物を含まず、酸化物基準の質量パーセントで計算して、約４９から６７％のＳｉＯ_２、少なくとも約６％のＡｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＞６８％、約０％から約１５％の範囲のＢ_２Ｏ_３、表示の配合の、約０から２１％のＢａＯ、約０から１５％のＳｒＯ、約０から１８％のＣａＯ、約０から８％のＭｇＯおよび約１２から３０％のＢａＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯからなる群より選択される少なくとも１種類のアルカリ土類金属酸化物を含む組成を有する、前記ガラス基板は、６４０℃以上の歪み点、約３１×１０^－７／℃から約５７×１０^－７／℃の範囲の熱膨張係数、および約９５℃で５質量％のＨＣｌ水溶液中の２４時間の浸漬後の２０ｍｇ／ｃｍ^２未満の質量損失を有するであろう。

先のガラス組成物は例示であり、他のガラス組成物が、ここに開示されたテクスチャ付け過程の恩恵を受けることがあることを理解すべきである。

接着力（静摩擦力）の測定：
ガラス基板の主面と別の平面との間の接着力（または静摩擦力）は、実施例で詳しく述べられる、２０１７年５月２５日に出願された米国仮特許出願第６２／５１１０３６号に記載された装置および方法を使用して測定することができる。手短に言えば、接着力は、ガラス物品の主面および平面を接触した状態に置き、力測定ゲージで、その主面および平面を分離する力を測定することによって、測定される。ガラス物品の主面は、テクスチャが付いていることがある。

実施例１
「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および室温（例えば、約２５℃）での６０質量％の酢酸、１０質量％のＮＨ_４Ｆおよび３０質量％のＨ_２Ｏを含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は３０から２３０秒に及び、ローラ速度は、５ミリメートル／秒から１５０ミリメートル／秒の範囲内で変えられ、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（図において浸漬レベルと称される）は、２ミリメートルから１０ミリメートルの範囲内で変えられた。

比較例１
実施例１の基板と同じ寸法を有する「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、エッチング組成物で処理しなかった。

比較例１Ａ
以下の寸法を有する「Ｌｏｔｕｓ」ＮＸＴガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は７５から８０秒に及び、ローラ速度は、８０ミリメートル／秒から１２５ミリメートル／秒の範囲内で変えられ、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（浸漬レベルと称される）は、１ミリメートルから１０ミリメートルの範囲内で変えられた。

比較例１Ｂ
「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での８０秒間に亘る０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。接触時間およびローラ速度は、下記の表１に示されている。

実施例２
以下の寸法（１００ｍｍ^２）を有する「Ｌｏｔｕｓ」ＮＸＴガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は１０から６０秒に及び、ローラ速度は、２５ミリメートル／秒から１５０ミリメートル／秒の範囲内で変えられ、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（浸漬レベルと称される）は、２ミリメートルから１０ミリメートルの範囲内で変えられた。

比較例２
実施例２としての以下の寸法［ＤＩＭＥＮＳＩＯＮＳ］を有する「Ｌｏｔｕｓ」ＮＸＴガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、エッチング組成物で処理しなかった。

実施例３
イオン交換済みの「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ３ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は３０から６０秒に及び、ローラ速度は、１２５ミリメートル／秒に維持され、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（浸漬レベルと称される）は、６ミリメートルに維持された。

比較例３
実施例１の基板と同じ寸法を有するイオン交換済みの「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ３ガラス基板（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、エッチング組成物で処理しなかった。

実施例４
イオン交換していない「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ３ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は３０から６０秒に及び、ローラ速度は、１２５ミリメートル／秒に維持され、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（浸漬レベルと称される）は、６ミリメートルに維持された。

比較例４
実施例１の基板と同じ寸法を有するイオン交換していない「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ３ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、エッチング組成物で処理しなかった。

実施例５
以下の寸法を有するイオン交換済みの「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ５ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は３０から６０秒に及び、ローラ速度は、１２５ミリメートル／秒に維持され、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（浸漬レベルと称される）は、６ミリメートルに維持された。

比較例５
実施例１の基板と同じ寸法を有するイオン交換済みの「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ５ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、エッチング組成物で処理しなかった。

実施例６
イオン交換していない「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ５ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、開放多孔質網状構造および約５ショアＡのジュロメータを有するポリウレタン化合物のスポンジ表面を有する直径４０ｍｍのローラ、および４０℃での０．３５ＭのＮａＦ：１ＭのＨ_３ＰＯ_４を含む液体エッチング組成物を使用して、図１～１１に関して記載された装置内で処理した。エッチング組成物の接触時間は３０から６０秒に及び、ローラ速度は、１２５ミリメートル／秒に維持され、ローラ浸漬深さＤ_ｓ（浸漬レベルと称される）は、６ミリメートルに維持された。

比較例６
実施例１の基板と同じ寸法を有するイオン交換していない「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ ５ガラス基板（１００ｍｍ^２）（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．から入手できる）を、エッチング組成物で処理しなかった。

接着（静摩擦）力測定
接着（静摩擦）力を、以下に記載されるように測定した。全ての基板は、ステンレス鋼製平面上での接着（静摩擦）力について測定した。

図１２は、ここに開示された実施の形態による例示の接着力測定装置１１００の概略透視図を示しており、図１３は、図１２に示された装置１１００の側面切欠図を示す。装置１１００は、平面１１０２を有する基板接触部材１１０６を備える。基板接触部材１１０６は、接続ピン１１１８により安定化部材１１１６に剛結合されている。安定化部材１１１６は、次に、ネジ山の付いた係合部材１１２０および１１２２に結合されている。

図１４Ａは、図１２および１３に示された装置１１００の基板接触部材１１０６の平面１１０２の底面透視図を示す。図１４Ａに示された実施の形態において、複数の平行通路１１０４が平面１１０２に刻まれている。

図１４Ｂは、基板接触部材１１０６’の代わりの平面１１０２’の底面透視図を示し、通路１１０４’の少なくとも１つの他の部分に垂直な部分を有する通路１１０４’が平面１１０２’に刻まれている。通路１１０４’は、通路１１０４’の少なくとも他の部分に平行な部分も含む。通路１１０４’は、直角部分が４つの交差接続部分により接続されている、小さい方の直角部分を取り囲む大きい方の直角部分を含むと特徴付けることもできる。

特定の例示の実施の形態において、平面１１０２、１１０２’は、アルミニウム、鋼鉄、および黄銅の内の少なくとも１つなどの金属から作られる。平面は、セラミックまたはプラスチックなどの非金属材料から作られることもある。

特定の例示の実施の形態において、平面１１０２、１１０２’は、約５，０００平方ミリメートルから約５００，０００平方ミリメートルの面積を有し得る。

特定の例示の実施の形態において、通路１１０４、１１０４’は、例えば、通路１１０４、１１０４’を含むための平面１１０２、１１０２’の機械的切断（例えば、機械加工）、レーザ切断、または成形などの１つ以上の方法によって、平面１１０２、１１０２’内に形成されることがある。通路１１０４、１１０４’の深さは、限定されないが、約０．５ミリメートルから約１ミリメートルに及び得る。通路１１０４、１１０４’の幅は、限定されないが、約０．５ミリメートルから約１ミリメートルに及び得る。通路１１０４、１１０４’の長さは、限定されないが、約１０ミリメートルから約１２０ミリメートルに及び得る。

図１２および１３に示されるように、装置１１００は、通路１１０４、１１０４’を真空源（図示せず）と流体連通させられる真空ライン１１０８および真空室１１１０をさらに備える。真空源は、平面１１０２、１１０２’が、平面を有する基板などの物体と接触するときに、通路１１０４、１１０４’内に生じる不完全真空を変えるように作動させることができる。

装置１１００は、例えば、リード線１１１４を介してデータ処理ユニット（図示せず）と電気通信できる力測定ゲージ１１１２をさらに備える。特定の例示の実施の形態において、力測定ゲージ１１１２は、ロードセルを含み得る。そのロードセルは、例えば、当業者に公知のように、引張モードと圧縮モードの両方で較正された統合単方向ロードセルであり得る。例示の市販されているロードセルに、ＦＵＴＥＫ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓｅｎｓｏｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．、ＯＭＥＧＡ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、およびＴｒａｎｓｄｕｃｅｒ Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓから入手できるものがある。

図１５Ａ～Ｃは、それぞれ、第１、第２、および第３の位置の間で互いに対して動く、装置１１００の基板接触部材１１０６および基板１２００の側面透視図を示す。詳しくは、図１５Ａは、第１の位置から第２の位置への、装置１１００の基板接触部材１１０６および平面１２０２を有する基板１２００の相対運動の側面透視図を示している。図１５Ａに示されるように、基板接触部材１１０６の平面１１０２および基板１２００の平面１２０２は、互いに接触していないが、矢印ＡおよびＢに示されるように、互いに対して相対的に近づいている。

図１５Ｂにおいて、基板接触部材１１０６を含む装置１１００および基板１２００は、第２の位置に示されており、基板接触部材１１０６の平面１１０２および基板１２００の平面１２０２は、互いに接触している。この第２の位置にある間に、真空ライン１１０８および真空室１１１０による真空源の作動により、少なくとも１つの通路（たとえば、図１４Ａおよび１４Ｂに示されたような、１１０４、１１０４’）に少なくとも不完全真空を生じることができる。

図１５Ｃは、第２の位置から第３の位置への、装置１１００の基板接触部材１１０６および平面１２０２を有する基板１２００の相対運動の側面透視図を示している。図１５Ｃに示されるように、基板接触部材１１０６の平面１１０２および基板１２００の平面１２０２は、互いに接触しておらず、矢印ＡおよびＢに示されるように、互から相対的に遠ざかっている。

図１５Ａ～１５Ｃに示されるように、基板１２００の平面１２０２の表面積は、基板接触部材１１０６の平面１１０２の表面積よりも大きく示されている。しかしながら、ここに開示された実施の形態は、基板１２００の平面１２０２および基板接触部材１１０６の平面１１０２がほぼ同じ面積を有するもの、または基板接触部材１１０６の平面１１０２が基板１２００の平面１２０２より大きい表面積を有するものなど、基板１２００の平面１２０２および基板接触部材１１０６の平面１１０２が、図１５Ａ～１５Ｃに示されたものと異なる相対的サイズであるものを含む。したがって、様々な表面積を有する基板の接着力を決定するために、装置１１００を使用することができる。

装置１１００と基板１２００との間の相対運動は、装置１１００および基板１２００の一方または両方の運動により生じ得る。例えば、特定の例示の実施の形態において、装置１１００は、基板１２００に向かって、そして離れて動くことがある一方で、基板１２００静止したままである。あるいは、特定の例示の実施の形態において、基板１２００は、装置１１００に向かって、そして離れて動くことがある一方で、装置１１００は静止したままである。それに加え、特定の例示の実施の形態において、装置１１００および基板１２００の両方とも、互いに向かって、そして離れて動くことがある。

例えば、ここに開示された実施の形態は、例えば、その全ての開示がここに引用される、米国仮特許出願第６２／２６２６３８号明細書に記載されたような、基板上の静電荷を測定するために使用されるシステムを含む、例えば、基板の追加の特徴を検査するシステムなど、より大型のプラットフォームまたはシステムに組み込まれる。そのようなシステムは、当業者に公知の方法にしたがって、湿度制御されることがある。

そのような実施の形態において、基板１２００は、取付台に搭載され、必要に応じて、クランプ、真空チャック、および他の同様の構成要素または方法、もしくはその組合せなど、任意の適切な締結機構を使用してその取付台に固定されることがある。その取付台は、次いで、数ある中でも、取付台および装置１１００を互いに対して位置付けるために使用できるアセンブリプラットフォームに含まれることがある。

例えば、いくつかの実施の形態において、装置１１００は、ブラケット１１２４によって多軸作動装置に取り外し可能に固定されることがあり、その作動装置は、取付台に隣接して（例えば、その上に）位置付け、サーボモータなどのモータと位置決めセンサとの組合せなどにより、取付台に対する三次元運動を与えるように作動させることができる。その多軸作動装置は、所望の運動またはシーケンスを実施するためのプログラミングをさらに含み得る。そのモータは、所定の基板に選択されたプログラミングに基づいて、多軸作動装置の運動を促進するために使用することができる。

基板１２００は、例えば、ガラス、プラスチック、金属、およびセラミックの内の少なくとも２つから作られた基板を含む、ガラス基板、プラスチック基板、金属基板、セラミック基板から選択することができる。特定の例示の実施の形態において、基板１２００は、ガラスシートまたはパネルなど、ガラスから作られている。特定の例示の実施の形態において、基板１２００は、いくつか例を挙げると、無機コーティング、有機コーティング、および高分子コーティングから選択される少なくとも１つの被覆材料など、少なくとも１種類の被覆材料で被覆されたガラスシートまたはパネルなど、ガラスから作られている。

基板１２００の厚さは、限定されないが、例えば、約０．０５ミリメートルから約５ミリメートルに及ぶことがある。基板１２００の表面積は、限定されないが、例えば、約５，０００平方ミリメートルから約５００，０００平方ミリメートルに及ぶことがある。

装置１１００および基板１２００は、第１、第２、および第３の位置の間で互いに対して動かされるときに、基板１２００上への装置１１００により印加される全荷重または力は、力測定ゲージ１１１２により測定することができ、リード線１１１４を通じてデータ処理ユニットに送信することができる。図１６は、図１５Ａ～１５Ｃに示されるような、装置１１００および基板１２００が、第１、第２、および第３の位置の間で互いに対して動かされるときの、時間の関数としての全荷重を示すグラフである。図１７は、装置１１００および基板１２００が、第１の位置と第２の位置の間で互いに対して動かされるときの、時間の関数としての全荷重の拡大図を示すグラフである。図１８は、装置１１００および基板１２００が、第２の位置と第３の位置の間で互いに対して動かされるときの、時間の関数としての全荷重の拡大図を示すグラフである。

詳しくは、図１６～１８は、５回の実験の実施に関する時間の関数としての平均全荷重を示す。図１６～１８に示されるように、装置１１００は、図１４Ｂに示されたような通路１１０４’を有する平面１１０２’を含む基板接触部材１１０６’を備えた。基板接触部材１１０６’はステンレス鋼から製造され、基板接触部材１１０６’の表面積は約１０，９０７平方ミリメートルであり、通路１１０４’の深さは約０．７６ミリメートルであり、通路１１０４’の幅は約０．７６ミリメートルであった。基板１２００は、約０．５ミリメートルの厚さおよび約９，１２３平方ミリメートルの表面積を有する、Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄから入手できる、「Ｅａｇｌｅ ＸＧ」ガラスから製造された。

図１６～１８に示されるように、装置１１００および基板１２００は、約５３．３秒の時間まで、互いに相対的に近づけられ、その時点で、装置１１００および基板１２００は、装置１１００の基板接触部材１１０６’の平面１１０２’と基板１２００の平面１２０２が互いに接触している第２の位置にあった。第２の位置にある間に、通路１１０４’内で、約２５ｍＰａの負圧の不完全真空が生じた。接触した際に、装置１１００により基板１２００に印加された全荷重は、約０から約１．５ポンド（約６８０ｇ）に急激に増加した。

図１６～１８に示されるように、装置１１００の基板接触部材１１０６’の平面１１０２’と基板１２００の平面１２０２は、約６３．２秒の時間に亘り接触した状態に保持され、その後、約１１６．５秒の時点で、装置１１００と基板１２００は、基板接触部材１１０６’の平面１１０２’と基板１２００の平面１２０２が接触していない第３の位置に動かされた。

図１８に示されるように、基板接触部材１１０６’の平面１１０２’と基板１２００の平面１２０２との間の接着力は、装置１１００と基板１２００が第２の位置から動かされ始める瞬間に、負の荷重として表される。図１８の実施の形態において、その接着力は、約０．２５ポンド（約１１３ｇ）である。その接着力は、表面間の接着、この場合、基板接触部材１１０６’の金属表面と、基板１２００のガラス表面との間の接着をもたらす様々な力の合計として広く纏めることができる。そのような力は、例えば、非共有結合された電荷相互作用による静電力、電荷状態に関係ない分子間引力、および液体媒介接触または接着による毛管力（例えば、湿度から生じるような）を含む。

力測定ゲージ１１１２を含む装置１１００に関連して、その装置は、例えば、リード線１１１４を介してデータ処理ユニット（図示せず）と電気通信できる電位計も備えることがある。その電位計は、例えば、基板１２００が第２の位置にあるときに、第２の位置と第３の位置との間の運動の結果として、基板接触部材１１０６、１１０６’の平面１１０２、１１０２’と基板１２００との間の電荷移動を記録することができる。

図１９は、比較例１の接着（静摩擦）力を実施例１のものと比較している。ポンドで表された静摩擦力が、未処理対照（比較例１）およびここに記載された１つ以上の実施の形態による処理済み基板（実施例１）に関して、浸漬レベルに対してプロットされている。右軸は、対照ガラス基板に対する静摩擦改善％に関する静摩擦力を表す。低いおよび高い浸漬レベル条件（それぞれ、液体エッチング組成物浴中にわずかに浸漬されたスポンジおよび完全に浸漬されたスポンジに対応する）下で処理された試料は、対照ガラスの比較例１と比べて約４０～８０％の範囲の非粘着性能を示し、高い浸漬レベル条件が最良の応答を示す。６ミリメートルの中間浸漬値は、約－１５～５０％の可変応答を生じ、ここで、負の値は、接着促進挙動を示す。

図２０は、ＨＦエッチング組成物で処理された試料（比較例１Ａ）を実施例１の試料と比較するグラフである。比較例１Ａの試料は、商業生産条件を模倣するために厳しいエッチング組成物接触時間の範囲下でしか実行されなかったので、エッチング組成物接触時間は、この特定の実験において重要な要因であると観察されなかった。この実験において、浸漬レベルは、図２０に示されるように静摩擦力に関する重要な推進力であると観察され、ここで、わずかに浸漬されたローラは、抗静摩擦挙動に向かって反転する接着促進品質を示す。何故ならば、ローラは、次第に溶液で飽和されるからである。この実験において、ローラ速度は、重要な要因と観察されなかった。

図２１は、実施例１および比較例１Ａにしたがって処理された試料に関する、原子間力顕微鏡解析により得られたＲａデータにおける平均粗さに対してプロットされた静摩擦力のグラフである。浸漬レベルが増加するにつれて、粗さは増加し、静摩擦力は減少した。これは、いくぶん直感に反するように思えた。示されたＲａ変化は小さく、本開示は、特定の原理または理論で限定されるべきではないが、可変工程条件により影響を受ける、静摩擦挙動に対する界面化学成分があると仮定される。比較例１Ａの処理は、約－４３％（静摩擦促進）から約－６７％（静摩擦防止）に及ぶ静摩擦応答を生じた。接着力の調整可能性（すなわち、調整性）に関する根本的な理由（例えば、界面化学効果が加わったトポグラフィー）を今後の実験においてさらに研究する。

図２２は、実施例２の基板および比較例２の基板を比較する、浸漬レベルに対する左のＹ軸上の静摩擦力および右のＹ軸の静摩擦改善％を示すグラフである。実施例２にしたがって処理されたガラス試料は、約－４６％（静摩擦促進）から約４６％（静摩擦防止）の全体的な静摩擦応答範囲を生じた。静摩擦調整可能性（すなわち、調整性）に対する根本的な理由（例えば、界面化学効果が加わったトポグラフィー）の理解を得るために、さらなる研究を行う。統計分析は、ローラの回転速度および液体エッチング組成物との接触時間は、実施例２の試料に関する静摩擦力に著しく影響しないことを示唆した。図１９におけるような、浸漬レベルと静摩擦力との間に同様の関係が観察された。

図２３は、比較例５および６の対照試料に対する実施例５および６に関するエッチング組成物との接触時間（エッチング時間）に対する左のＹ軸上の静摩擦力および静摩擦改善％を示すグラフである。データは、２つのエッチング組成物接触時間（３０秒および６０秒）に関する１つの浸漬レベル（６ミリメートル）および１つのローラ速度（１２５ミリメートル／秒）に基づく。

図２４は、比較例３（対照－右の内側のＹ軸）および４（対照－右の外側のＹ軸）の対照データに対する実施例３および４に関するエッチング組成物との接触時間（エッチング時間）に対する静摩擦力データを示す。データは、４つの試料群の内の３つに抗静摩擦（低接着力）効果を示唆する。「Ｇｏｒｉｌｌａ」Ｇｌａｓｓ基板試料の処理または改質により、約－１４％（接着（または静摩擦）促進）から約４８％（接着（または静摩擦）防止）の全体の静摩擦応答が生じた。調整可能性に関する根本的な理由（例えば、界面化学効果が加わったトポグラフィー）をさらに研究する。

表１は、様々な試料の接着（静摩擦）応答を纏めている。「防止物」と付された試料は、処理により、接着または静摩擦を防いだテクスチャが生じたことを示す。「促進物」と付された試料は、その試料が、比較的高い接着力を有し、平面に貼り付いたことを示す。

本開示の精神および範囲から逸脱せずに、開示された実施の形態に様々な改変および変更を行えることが、当業者に明白であろう。それゆえ、本開示は、これらの実施の形態の改変および変更を、それらが付随の特許請求の範囲およびその等価物の範囲内に入るという条件で包含することが意図されている。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
互いに反対の主面を有するガラスシートを処理する方法において、
前記ガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方を、流体塗布装置と、酢酸、フッ化アンモニウム、および水を含む液体エッチング組成物とに接触させる工程であって、該互いに反対の主面の少なくとも一方への該液体エッチング組成物の所定の液体移動量で行われる工程
前記所定の液体移動量を制御して、前記互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供する工程であって、該テクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、該テクスチャ付き主面と該平面との間に接着力があり、該接着力は目標接着力範囲内にある、工程、
を有してなる方法。

実施形態２
前記接着力が、前記テクスチャ付き主面および前記平面を接触した状態に置き、力測定ゲージで、該テクスチャ付き主面および該平面を分離する力を測定することによって、測定される、実施形態１に記載の方法。

実施形態３
前記流体塗布装置がローラを備える、実施形態１に記載の方法。

実施形態４
前記流体塗布装置が、調節可能なエッチング液深さを有する槽を含む容器をさらに備え、前記ローラは外周を有し、該ローラは、ある回転速度で回転するように前記容器に対して位置付けられており、該ローラの外周は、ある接触角およびあるローラ浸漬深さＤ_ｓで前記エッチング液と接触する、実施形態３に記載の方法。

実施形態５
前記ローラの外周が多孔質材料から作られている、実施形態４に記載の方法。

実施形態６
前記所定の液体移動量が、前記接触角、前記ローラ浸漬深さＤ_ｓ、および前記回転速度の内の少なくとも１つの選択された値によって決定され、該選択された値は、該所定の液体移動量に相互に関連付けられる、実施形態４に記載の方法。

実施形態７
前記接触角、前記ローラ浸漬深さＤ_ｓ、前記回転速度、前記酢酸の量、および前記フッ化アンモニウムの量の内の少なくとも１つを変えて、前記接着力を得る工程をさらに含む、実施形態６に記載の方法。

実施形態８
前記回転速度を変えて、前記接着力を得る工程をさらに含む、実施形態６に記載の方法。

実施形態９
前記ローラ浸漬深さＤ_ｓを変えて、前記接着力を得る工程をさらに含む、実施形態６に記載の方法。

実施形態１０
前記回転速度および前記ローラ浸漬深さＤ_ｓを変えて、前記接着力を得る工程をさらに含む、実施形態６に記載の方法。

実施形態１１
前記エッチング液中に、前記酢酸が約５０質量％から約６０質量％の量で存在し、前記フッ化アンモニウムが約１０質量％から約２５質量％の量で存在し、水が約２０質量％から約３５質量％の量で存在し、前記ガラスシートが化学強化されたガラスシートである、実施形態１に記載の方法。

実施形態１２
互いに反対の主面を有するガラスシートを改変する方法において、
容器の槽に、調節可能なエッチング液深さを有するエッチング液であって、ある量の酢酸、ある量のフッ化アンモニウム、およびある量の水を含むエッチング液を充填する工程、
ある回転速度で回転するように前記容器に対して回転可能に位置付けられたローラの外周の一部を、ある接触角およびあるローラ浸漬深さＤ_ｓで前記エッチング液と接触させる工程であって、前記ローラを回転させると、該エッチング液が槽から動いて、前記ガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方と接触する工程、および
前記回転速度、前記接触角および前記ローラ浸漬深さＤ_ｓの少なくとも１つを制御可能に変更して、前記互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供する工程であって、該テクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、該テクスチャ付き主面と該平面との間に接着力があり、該接着力が目標接着力範囲内にある工程、
を有してなる方法。

実施形態１３
前記エッチング液中に、前記酢酸が約５０質量％から約６０質量％の量で存在し、前記フッ化アンモニウムが約１０質量％から約２５質量％の量で存在し、水が約２０質量％から約３５質量％の量で存在する、実施形態１２に記載の方法。

実施形態１４
前記ローラが多孔質表面を含む、実施形態１２に記載の方法。

実施形態１５
前記回転速度、前記接触角および前記ローラ浸漬深さＤ_ｓが、制御装置によって制御可能である、実施形態１２に記載の方法。

実施形態１６
前記制御装置が、前記接着力を得るように、前記回転速度、前記接触角および前記ローラ浸漬深さＤ_ｓの内の少なくとも１つを所定の値に制御する、実施形態１５に記載の方法。

実施形態１７
前記制御装置が、前記方法が完了した際に、前記接着力を増加させるように設定されている、実施形態１６に記載の方法。

実施形態１８
前記制御装置が、前記方法が完了した際に、前記接着力を減少させるように設定されている、実施形態１６に記載の方法。

実施形態１９
前記ガラスシートが化学強化されたガラスシートである、実施形態１６に記載の方法。

実施形態２０
前記接着力が、前記テクスチャ付き主面および前記平面を接触した状態に置き、力測定ゲージで、該テクスチャ付き主面および該平面を分離する力を測定することによって、測定される、実施形態１２に記載の方法。

１０１ 流体塗布装置
１０３ａ 第１の主面
１０３ｂ 第２の主面
１０５ 基板
１０５ａ 前縁
１０５ｂ 後縁
１０７ 液体
１０９ 容器
１１１ 槽
１１５ ポンプ
１１７ 供給タンク
１１９ 入口導管
１２５ 制御装置
２０１ ダム
２０３ 上縁
２０５、２０５ａ、２０５ｂ 液体の自由表面
２０８ａ 入口ポート
２０８ｂ 出口ポート
２１１ 格納壁
２１７ 収集容器
２１９ 変換器装置
２２１ 変換器
２２５ ポンプ
２２７ ローラ
２２９ 駆動機構
２３１ 回転シャフト
２３３ 回転軸
２４１ 作動装置
６０１、７０１、８０１、９０１、１００１ センサ
３０１ 第１の側壁
３０３ 第２の側壁
３２３ 槽
１１００ 接着力測定装置
１１０２、１２０２ 平面
１１０４ 平行通路
１１０６ 基板接触部材
１１１２ 力測定ゲージ
１１１６ 安定化部材
１１１８ 接続ピン
１１２０、１１２２ 係合部材
１２００ 基板

Claims (12)

1. 互いに反対の主面を有するガラスシートを処理する方法において、
   前記ガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方を、流体塗布装置と、酢酸、フッ化アンモニウム、および水を含む液体エッチング組成物とに接触させる工程であって、該互いに反対の主面の少なくとも一方への該液体エッチング組成物の所定の液体移動量で行われる工程
   前記所定の液体移動量を制御して、前記互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供する工程であって、該テクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、該テクスチャ付き主面と該平面との間に接着力があり、該接着力は目標接着力範囲内にある、工程、
   を有し、
   前記流体塗布装置がローラを備え、
   前記流体塗布装置が、調節可能なエッチング液深さを有する槽を含む容器をさらに備え、前記ローラは外周を有し、該ローラは、ある回転速度で回転するように前記容器に対して位置付けられており、該ローラの外周は、ある接触角およびあるローラ浸漬深さＤ _ｓ で前記エッチング液と接触し、
   前記所定の液体移動量が、前記接触角、前記ローラ浸漬深さＤ _ｓ 、および前記回転速度の値によって決定され、これらの値は、該所定の液体移動量に相互に関連付けられる、方法。
2. 前記接着力が、前記テクスチャ付き主面および前記平面を接触した状態に置き、力測定ゲージで、該テクスチャ付き主面および該平面を分離する力を測定することによって、測定される、請求項１記載の方法。
3. 前記ローラの外周が多孔質材料から作られている、請求項１記載の方法。
4. 前記接触角、前記ローラ浸漬深さＤ_ｓ、前記回転速度、前記酢酸の量、および前記フッ化アンモニウムの量の内の少なくとも１つを変えて、前記接着力を得る工程をさらに含む、請求項１記載の方法。
5. 前記エッチング液中に、前記酢酸が５０質量％から６０質量％の量で存在し、前記フッ化アンモニウムが１０質量％から２５質量％の量で存在し、水が２０質量％から３５質量％の量で存在し、前記ガラスシートが化学強化されたガラスシートである、請求項１から４いずれか１項記載の方法。
6. 互いに反対の主面を有するガラスシートを改変する方法において、
   容器の槽に、調節可能なエッチング液深さを有するエッチング液であって、ある量の酢酸、ある量のフッ化アンモニウム、およびある量の水を含むエッチング液を充填する工程、
   ある回転速度で回転するように前記容器に対して回転可能に位置付けられたローラの外周の一部を、ある接触角およびあるローラ浸漬深さＤ_ｓで前記エッチング液と接触させる工程であって、前記ローラを回転させると、該エッチング液が槽から動いて、前記ガラスシートの互いに反対の主面の少なくとも一方と接触する工程、および
   前記回転速度、前記接触角および前記ローラ浸漬深さＤ_ｓ を制御可能に変更して、前記互いに反対の主面の少なくとも一方に調節可能にテクスチャを付け、テクスチャ付き主面を提供する工程であって、該テクスチャ付き主面および平面が接触した状態に置かれたときに、該テクスチャ付き主面と該平面との間に接着力があり、該接着力が目標接着力範囲内にある工程、
   を有してなる方法。
7. 前記エッチング液中に、前記酢酸が５０質量％から６０質量％の量で存在し、前記フッ化アンモニウムが１０質量％から２５質量％の量で存在し、水が２０質量％から３５質量％の量で存在する、請求項６記載の方法。
8. 前記ローラが多孔質表面を含む、請求項６または７記載の方法。
9. 前記回転速度、前記接触角および前記ローラ浸漬深さＤ_ｓが、制御装置によって制御可能である、請求項６から８いずれか１項記載の方法。
10. 前記制御装置が、前記方法が完了した際に、前記接着力を増加させるように設定されている、請求項９記載の方法。
11. 前記制御装置が、前記方法が完了した際に、前記接着力を減少させるように設定されている、請求項９記載の方法。
12. 前記接着力が、前記テクスチャ付き主面および前記平面を接触した状態に置き、力測定ゲージで、該テクスチャ付き主面および該平面を分離する力を測定することによって、測定される、請求項６から１１いずれか１項記載の方法。

Images