JP7334433B2 - 放熱構造及び電子部品 - Google Patents

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Description

本発明は、放熱構造及び電子部品に関する。
BGA(ball grid array……ボールはんだを用いて実装される半導体装置)等の電子デバイスにあっては、パッケージのLID(蓋)、あるいは、スチフナに冷却部品(例えばヒートシンク)を取り付けるための構造が必要とされる。
この冷却部品の取り付けのための構造に関連する技術として、特許文献1、2、3、45、に記載されたものがある。
図7は前記取り付け構造の第1の例を模式化したものである。
図7(a)(b)(c)は、電子デバイス1と固定部材2とを示す。前記電子デバイス1はデバイス本体1aを内蔵し、下面にははんだボールによる接続端子1bが設けられている。前記電子デバイス1の上面には、取り付けのための固定部材2が一体に固着され、この固定部材2には、雌ねじ孔2aが形成されている。
図7(d)(e)は、ベース3の上にフィン4を形成した構成のヒートシンク5を示す。前記ベース3には、前記雌ねじ孔2aに対応する位置に、固定用ねじ6が通る貫通孔3aが形成されている。
前記ヒートシンク5は、前記固定部材2の上にベース3を載せた状態で、貫通孔3aを貫通させて固定用ねじ6を雌ねじ孔2aにねじ込むことにより、ベース3を固定部材2に密着させて組立てられる。
前記電子デバイス1で発生した熱は、固定部材2、ベース3を介してヒートシンク5のフィン4に伝導し、大気中に放出される。
図8(a)(b)(c)は、前記取り付け構造の第2の例を模式化したものである。
すなわち、基板8上の電子デバイス1に、ヒートシンク5を載せ、固定用ねじ9を基板8の貫通孔8aを介して下方へ貫通させ、圧縮ばね10を圧縮させながら、ナット11へねじ込む構造が採用されている。
上記他の例にあっては、圧縮ばね10が弾性変形することにより、電子デバイス1にヒートシンク5のベース3を密着させているから、前記電子デバイス1で発生した熱は、ヒートシンク5に伝導し、フィン4から大気中に放出される。
図9(a)、(b)、(c)は、前記取り付け構造の第3の例を模式化したものである。
図9(a)、(b)に示すように、電子デバイス1の上面には固定部材2が設けられている。前記電子デバイス1の上には、図10(c)に示すように、ヒートシンク5が配置されている。また前記電子デバイス1は、基板8の周囲に配置された副基板8cに囲まれて、その内側の基板8上に配置されている。前記副基板8cは、前記基板8の貫通孔8aを貫通するボルト8bによって基板8に固定されている。
前記ヒートシンク5は、圧縮ばね10を圧縮しながら、固定用ねじ9を副基板8cにねじ込むことにより、ベース3を電子デバイス1上の固定部材2に密着させた状態で副基板8cに固定されている。
図10(a)、(b)、(c)は、前記取り付け構造の第4の例を模式化したものである。
図10(a)、(b)に示すように、電子デバイス1の上面は、ヒートシンク5のベース3の下面に接触している。前記ヒートシンク5を押さえるように配置された板ばね状のクリップ12は、前記ベース3および基板8を貫通しており、その両端には、環状の抜け止め部11aが設けられて、前記ヒートシンク5を電子デバイス1に一体に固定している。
実開平04-133450号公報 実開平02-136332号公報 特開平06-069391号公報 特開平05-102340号公報 特開2015-050255号公報
しかしながら、前記第1の例にあっては、電子デバイス1の上面の固定部材2に雌ねじ孔2aを設けることが必須とされ、また、前記雌ねじ孔2aへ固定用ねじ6が十分な長さにわたってねじ込まれていないと固定部材2とヒートシンク5のベース3とを密着させるに足る大きな力を加えることができない。すなわち、熱伝導性を担保すべく大きな力を加えようとして多くのねじ山を設けようとすると、固定部材2の厚さを大きくせざるを得ない。
また、第2~第4の例の固定構造は、ねじ、ばね、板ばね、クリップなどを用いて、電子部品に押し付ける形で基板やその他の機構品に固定している。そのため、基板や機構品には機械穴などを設ける必要があり、構成部品数が増加し、あるいは、基板の配線や機構品の構造に影響や制限を及ぼす可能性がある。
また、電子デバイスの放熱性を良くするため、電子デバイスと冷却部品(ヒートシンク)の接触性を向上させる目的で冷却部品(ヒートシンク)を押し付ける荷重を強くする傾向があるが、荷重が強すぎる場合、基板と電子デバイスのはんだ接合部の実装信頼性が低下するリスクがある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、できるだけ少数の構成部品を使用して電子デバイスにヒートシンクを取り付けることを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の第1の態様は、電子デバイスが収容された容器の第1の面と、この第1の面に接触する第2の面を有し、前記容器より大きな表面積を有する放熱部材との間に設けられる放熱構造であって、前記第1の面から突出する凸部と、この凸部に対応する位置で前記第2の面に形成された凹部と、前記凸部と凹部との間に設けられた嵌合部とを有する放熱構造である。
また本発明の第2の態様は、電子デバイスが収容された容器の第1の面と、この第1の面に接触する第2の面を有する放熱部材との間に設けられる放熱構造であって、前記容器の第1の面とは異なる第3の面と、この第3の面と前記第2の面との間に設けられ、これらの面のいずれか一方から突出して、いずれか他方へ挿入される嵌合部とを有する放熱構造である。
本発明によれば、できるだけ少数の構成部品により電子デバイスにヒートシンクを取り付けることができる。
本発明の第1の態様に係る放熱構造の最小構成を示す断面図である。 本発明の第2の態様に係る放熱構造の最小構成を示す断面図である。第1実施形態に係る。 本発明の第1実施形態を示すもので、(a)は半導体装置の平面図、(b)は半導体装置の側面図、(c)はヒートシンクの側面図、(d)はヒートシンクの底面図である。 本発明の第2実施形態を示すもので、(a)は電子デバイスの上面図、(b)は電子デバイスの側面図、(c)はヒートシンクの側面図、(d)はヒートシンクの底面図、(e)は案内溝部分の透視図である。 本発明の第4実施形態を示すもので、(a)はa)は電子デバイスの上面図、(b)は電子デバイスの側面図、(c)はヒートシンクの側面図、(d)はヒートシンクの底面図、(e)は凸部と凹部との結合状態を示すベース厚さ方向に沿う断面図である。 本発明の第3実施形態を示すもので、(a)はa)は電子デバイスの上面図、(b)は電子デバイスの側面図、(c)はヒートシンクの側面図、(d)はヒートシンクの底面図、(e)はフック部と溝部との固定状態を示すベース厚さ方向に沿う断面図である。 本願に関連する放熱装置の第1の例を示すもので、(a)は固定部材の平面図、(b)は固定部材の断面図、(c)は電子デバイスの断面図、(d)はヒートシンクの断面図、(e)はヒートシンクの平面図、(f)は組立て状態の断面図である。 本願に関連する放熱装置の第2の例を示すもので、(a)は電子デバイスの経面図、(b)は電子デバイスの側面図、(c)は組立て状態の断面図である。 本願に関連する放熱装置の第3の例を示すもので、(a)は電子デバイスの平面図、(b)は電子デバイスの断面図、(c)は組立て状態の断面図である。 本願に関連する放熱装置の第4の例を示すもので、(a)は電子デバイスの平面図、(b)は電子デバイスの断面図、(c)は組立て状態の断面図である。
本発明の第1の態様に係る放熱構造の最小構成を図1により説明する。
符号20は電子デバイスであって、容器(パッケージ)の内部に図示しないデバイス本体を収容した構成となっている。なお図1の符号20は電子デバイスの容器の外形を示している。この電子デバイス20は、第1の面21を有し、この第1の面21に向き合って、放熱部材30の第2の面31が配置されている。前記放熱部材30は、大きな表面積を備えるべく、例えば、表面に凹凸を設け、あるいは多数のフィンを設ける等の加工が施されている。
前記第1の面21には、この第1の面21から突出する凸部22が設けられている。一方、前記第2の面31における、前記凸部22に対応する位置には、この第2の面31より窪んだ凹部32が形成されている。前記凸部22と凹部32とは、互いに嵌め合いあるいは取り外しが可能なように、対応する形状に形成されている。
上記構成の放熱構造にあっては、凸部22を凹部33に挿入することにより、第1の面21と第2の面31とを直接的に密着させることができる。すなわち、電子デバイス20と放熱部材30とを中間の部材を介さずに直接接触させて、良好な熱伝導性を得ることができる。
本発明の第2の態様に係る放熱構造の最小構成を図2により説明する。なお、図2において、図1と共通の構成には同一符号を付し、説明を簡略化する。
符号20は電子デバイスであって、第1の面21を有し、この第1の面21に向き合って、放熱部材30の第2の面31が配置されている。前記電子デバイス20には、前記第1の面21とは異なる第3の面23に凹部24が形成されている。前記放熱部材30は、前記第2の面31から突出する突起33が設けられ、この突起33の先端には、前記凹部24に対応する凸部34が形成されている。
上記構成の放熱構造にあっては、電子デバイス20の第1の面21と放熱部材30の第2の面とを密着させた状態で凸部34を凹部24に挿入することにより、第1の面21と第2の面31とを中間の部材を介さずに直接接触させて、良好な熱伝導性を得ることができる。
図3(a)(b)(c)(d)を参照して本発明の第1実施形態を説明する。なお図中図1、2と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明を簡略化する。
第1実施形態の電子デバイス20Aは、図3(a)(b)に示すように,基板25上に半導体チップ26を搭載し、LID27を被せて密封した構成となっている。前記LID27の上面(第1の面)21には、凸部としての雄ねじ22Aが上方へ向けて設けられている。すなわち、図3(b)に示すように、雄ねじ22Aが第1の面21と直交する方向へ突出して設けられている。なお雄ねじ22Aは、LID27と一体に形成されていても、あるいは、LID27と別に形成されて固着されていても良い。
図3(c)(d)に示すように、ヒートシンク30Aは、ベース35と、このベース35と直交する方向へ設けられた多数のフィン36とを有する。前記ベース35の底面(第2の面)31には、前記雄ねじ22Aと対応するリード、ピッチを有する、凹部としての雌ねじ孔32Aが底面31と直交する方向へ向けて形成されている。なお前記雄ねじ22Aの突出量は、ヒートシンク30Aのベース35の厚さと、十分な締め付け力を得るに足るねじの螺合長さ(螺合する条数)に応じて決定される。
図4(a)(b)(c)(d)は、本発明の第2実施形態を示すものである。なお図中図1~図3と共通の構成には同一符号を付し、説明を簡略化する。
第2実施形態の電子デバイス20Bは、基板25上で半導体チップ26を収容するLID27の上面に該LID27を構成する板状の金属部材の一部をプレス等の加工により成形することによって台部27aを設け、さらに、この台部27aの上に、基板25と直交する方向へ突出する円柱状の凸部28を設けた構成となっている。
前記凸部28は、短円柱状をなし、外周には、棒状の係合突起28a、28aが対称な位置において、半径方向外方へ突出している。
また第2実施形態のヒートシンクは、ベース35の底面の前記電子デバイス20Bの凸部28と対応する位置に、凹部37を有する。この凹部37には、図4(d)(e)に示すように、前記凸部28の係合突起28a、28aに対応した形状で、図4(e)の上下方向(凸部28、凹部37の中心軸線Cに沿う方向)へ延在する入口凹部37a、37aが対称な位置において半径方向外方へ突出している。
前記凹部37には、前記入口凹部37aの上部に連なって、案内溝37bが形成されている。この案内溝37bは、図4(e)に示すように、平面視にて(中心軸線Cの方向から見て)、前記係合突起28aの回転軌跡の一部(図示の場合、約90度)と重なり、かつ、中心軸線C方向へ傾斜した斜面状をなしている。なお前記凸部28の突出量、凹部37の深さ、案内溝37bの存在範囲および傾斜角度は、ヒートシンク30Bのベース35の厚さと、十分な締め付け力を得るに足る係合突起28aの案内溝37bへの挿入深さに応じて、ベース35の厚さを限度として決定される。
第2実施形態にあっては、前記入口凹部37aから前記係合突起28aを中心軸線C方向へ挿入し、中心軸線Cを中心として電子バイス20Bとヒートシンク30Bとを相対回転させることにより、前記係合突起28aが案内溝37bの傾斜に沿って回転しながら、その傾斜によって凸部28が凹部37により深く挿入される方向へ引き込まれる。すなわち、電子デバイス20Bとヒートシンク30Bとを相対回転させることによって、電子デバイス20Bの第1の面21と、ヒートシンク30Bの第2の面31とが密着することができる。
このように、第1の面21と第2の面31とが密着することにより、電子デバイス20Bからヒートシンク30Bへ良好な熱伝導性能を得ることができる。
なお、電子デバイス20Aとヒートシンク30Bとを逆方向で相対回転させることにより、これらを分離させることができる。
図5(a)(b)(c)(d)(e)は本発明の第3実施形態を示すものである。なお図中図1~図4と共通の構成には同一符号を付し、説明を簡略化する。
図5(a)(b)に示すように、電子デバイス20Cのスチフナ27の上面の外縁から所定距離だけ内側の領域には、窪み21aが形成されている。また、スチフナ27の上面の4個所の隅部には、最小構成例における凸部22としての機能を果たすフック機構を構成する所定高さの基部29aと、この基部29aの先端から第1の面と平行な方向に突出して、平面視において基部29aより内方の位置まで延在するフック部29bとが第1の面21と交差する方向へ突出して設けられている。
図5(c)(d)に示すように、ヒートシンク30Cには、最小構成例における凸部22としての機能を果たすフック機構が挿入される凹部32として、第2の面31と交差する方向へ向かう入口孔38aと、この入口孔38aに連なって、第2の面31と平行な方向へ伸びるあご部38cによって覆われた溝部38bとが形成されている。なお、前記入口孔38aは、平面視にて前記フック部29bよりわずかに大きく形成されていて、内部にフック部29bを受け入れることができるようになっている。
またヒートシンク30Cのベース35の底面には、前記電子デバイス20Cの上面の窪み21aの平面形状よりわずかに小さな凸部31aが形成されている。すなわち、この凸部31aは、前記電子デバイス20Cの発熱源である半導体チップ26と平面視で重なる位置にベース35の一部を盛り上げるように成形されていて、半導体チップ26との密着性を高めるよう配慮されている。
第3実施形態にあっては、電子デバイス20Cの第1の面21の上にヒートシンク30Cの第2の面31を載せ、凸部31aが窪み21aに挿入される。ここで、前記フック部29bは、入口孔38aと重なる位置に位置合わせされ、図5(e)に示すように、入口孔38aから挿入される。次いで、電子デバイス20とヒートシンク30とを第1の面21、第2の面31に沿う方向へ相対的にスライドさせると、フック部29bが溝部38bに入って、あご部38cにより図5(e)下方(第1の面21と第2の面31とが離れる方向)への移動が規制された状態となる。ここで、フック部29bの先端が傾斜しているため、フック部29bが溝部38bに案内される。
すなわち、フック部29bが溝部38bに挿入されて、第1の面21と第2の面31とが密着した状態に結合される。この構造により、半導体デバイス26近くの領域と凸部31aとの間に十分な密着力を与えて、良好な熱伝導性を得ることができる。
図6(a)(b)(c)(d)(e)により、本発明の第4実施形態を説明する。なお図中図1~図5と共通の構成には同一符号を付し、説明を簡略化する。
電子デバイス20Dのスチフナ27の側面(以下第3の面という)の4隅には、第3の面より窪んだ凹部40が形成されている。またスチフナ27の上面の周縁から所定距離だけ内側の領域には、凹部21aが形成されている。
ヒートシンク30Dの下面(第2の面31)の前記凹部21aに対応する位置には、凸部31aが形成されている。またヒートシンク30Dの下面の、前記凹部40に対応する位置、異なる表現をすれば前記電子デバイス20Dの平面視における輪郭の一部である4隅に対応する位置には、基部41が第2の面31から突出して設けられている。この基部41の先端には、フック部42が第2の面31に沿って内方へ突出して、前記電子デバイス20Dの平面視における輪郭より内側まで延在して設けられている。
第4実施形態にあっては、電子デバイス20Dの第1の面21の上にヒートシンク30Dの第2の面31を載せ、凸部31aを窪み21aに位置合わせすると、これらの周囲の斜面によって互いに案内されながら凸部31aが窪み21aに挿入されて行く。ここで、前記フック部42は、凹部40と重なる位置に位置合わせされ、図6(e)に示すように、凹部40に挿入されて、スチフナ27の4隅の厚みの薄い部分に引っかけられる。詳細には、電子デバイス20Dにヒートシンク30Dを載せ、第1の面21と第2の面31とを密着させようと操作すると、前記フック部42の先端の傾斜面がスチフナ27の側面(第3の面)を滑ることにより、基部41を弾性変形させた状態(フック部42とフック部42と間隔が互いに広がった状態)となり、凹部40に達することによって弾性変形状態から復元すると、図6(e)に示すような状態となる。
すなわち、フック部42が凹部40に挿入されて、第1の面21と第2の面31とが密着した状態に結合される。この結合状態において、前記基部41が僅かに伸び方向へ弾性変形するよう、各部材の寸法、凸部31aの突出量、凹部21aの突出量を設定することにより、半導体デバイス26近くの領域と凸部31aとの間に十分な密着力を与えて、良好な熱伝導性を得ることができる。
上記第1~第4実施形態にあっては、電子デバイスとして半導体チップをLIDまたはスチフナにより封止した構成のものを例示したが、他の構造の電子デバイスであっても良い。また、放熱部材として、多数のフィンを備えたヒートシンクを例示したが、他の構造の放熱部材であっても良く、要は、被放熱部材となる電子デバイスより表面積が大きい、あるいは熱伝導性の良好な材料を用いる等によって僅かでも被放熱部材より放熱特性が良好な部材を採用すれば良い。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
本発明は、動作にともなって発熱する電子デバイスの冷却に利用することができる。
20,20A、20B、20C、20D 電子デバイス
21 第1の面
21a 凹部
22 凸部
22A 雄ねじ
23 第3の面
24 凹部
25 基板
26 半導体チップ
27 LID(スチフナ)
27a 台部
28 凸部
28a 係合突起
29a 基部
29b フック部
30、30A、30B、30C、30D ヒートシンク(放熱部材)
31 第2の面
31a 凸部、
32 凹部
32A 雌ねじ孔
33 突起
34 凸部
35 ベース
36 フィン
37 凹部
37a 入口凹部
37b 案内溝
38a 入口孔
38b 溝部
38c あご部
40 凹部
41 基部
42 フック部

Claims (5)

  1. 電子デバイスが収容された容器の第1の面と、この第1の面に接触する第2の面を有し、放熱部材との間に設けられる放熱構造であって、
    前記第1の面から突出する凸部と、
    この凸部に対応する位置で前記第2の面に形成された凹部と、
    前記凸部と凹部との間に設けられた嵌合部と、
    を有し、
    前記凸部は、前記第1の面と交差する方向へ突出し、さらに、第1の面に沿う方向へ突出し、
    前記凹部は、前記第2の面と交差する方向へ窪み、さらに、前記第1の面に沿う方向または傾斜した方向へ窪み、
    前記凸部と凹部とが前記第1の面、第2の面に沿う相対的な直線移動によって互いに結合される、放熱構造。
  2. 電子デバイスが収容された容器の第1の面と、この第1の面に接触する第2の面を有し、放熱部材との間に設けられる放熱構造であって、
    前記容器の第1の面とは異なる第3の面と、
    この第3の面と前記第2の面との間に設けられ、これらの面のいずれか一方から突出して、いずれか他方へ挿入される嵌合部と、
    を有する放熱構造。
  3. 前記凸部は、前記第1の面に設けられた雄ねじであり、
    前記凹部は、前記第2の面に設けられた雌ねじある、
    請求項1に記載の放熱構造。
  4. 前記電子デバイスの第3の面に設けられた凹部と、
    前記放熱部材の第2の面に設けられ、前記凹部に挿入されるフック部と、
    を有する請求項2に記載の放熱構造。
  5. 請求項1~4のいずれか一項に記載された放熱構造と、
    電子デバイスと、
    放熱部材と、
    を有する電子部品。
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