JP7333055B2

JP7333055B2 - 接合用組成物、接合体及びその製造方法

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Publication number: JP7333055B2
Application number: JP2019133449A
Authority: JP
Inventors: 優小山; 嘉人清水; 智広地曳
Original assignee: Kyoritsu Chemical and Co Ltd
Current assignee: Kyoritsu Chemical and Co Ltd
Priority date: 2019-07-19
Filing date: 2019-07-19
Publication date: 2023-08-24
Anticipated expiration: 2039-07-19
Also published as: JP2021017620A

Description

本発明は、接合用組成物、接合体及びその製造方法に関する。

金属間の接合材として、はんだが広く知られている。はんだは表面に酸化膜等が形成されると融解性が低下するため、フラックス剤と組み合わせて用いられる。
フラックス剤は、はんだ表面や接合させる金属表面の酸化膜を除去し、金属表面に対するはんだの濡れ広がり性を向上するなどの効果がある。

一方、接合強度向上等の観点から、はんだと金属ナノ粒子等を組み合わせた接合材料が検討されている。
特許文献１には、所定の温度で剥離するべく予め設計された被覆材により被覆された低温焼結性を有する金属ナノ粒子と、当該剥離温度より低温の融点を有するはんだ粒子及び当該融点より低温で揮散するペースト化剤の三成分で構成された接合剤用組成物が開示されている。特許文献１によれば、はんだが融解した後に焼結現象が起きる加熱条件の下で溶融接合を行なうことにより基板へ強固に接着するとされている。特許文献１ではアルコールを被覆した銀ナノ粒子と、錫－ビスマス系はんだ粒子とを組み合わせた導電性接合材が開示されている。

特許第５４４２５６６号

銀ナノ粒子と、はんだ粒子とを組み合わせた組成物を焼結した際に、得られた焼結体に細孔が形成されることがあった。このような細孔は接合強度の低下の原因となる。

本発明はこのような課題を解決するものであり、接合強度に優れた接合層を形成できる接合用組成物、接合強度に優れた接合層を備える接合体及びその製造方法を提供する。

本発明に係る接合用組成物は、
脂肪酸及び脂肪族アルデヒドより選択される１種以上が被覆した銀ナノ粒子（Ａ）と、
スズを含むはんだ粒子（Ｂ）と、
フラックス剤及び還元剤より選択される１種以上（Ｃ）と、
溶媒（Ｄ）と、を含有する。

上記接合用組成物の一実施形態は、前記フラックス剤及び還元剤より選択される１種以上（Ｃ）の合計の含有割合が、接合用組成物全量に対して２質量％以下である。

上記接合用組成物の一実施形態は、銀の質量（ａ）と、スズの質量（ｂ）が下記式（１）を満たす。
｛ａ／（ａ＋ｂ）｝×１００ ≦ ４０：式（１）

本発明に係る接合体は、第１被接合部材と、第２被接合部材とが、接合層を介して接合された接合体であって、
前記接合層が、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の接合用組成物の焼結体を含む。

また、本発明に係る接合体の製造方法は、第１被接合部材と、第２被接合部材とが、接合層を介して接合された接合体の製造方法であって、
前記第１被接合部材の接合面と、前記第２被接合部材との間に、前記本発明に係る接合用組成物の塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を加熱して焼結体を形成する工程と、を有する。

本発明により、接合強度に優れた接合層を形成可能な接合用組成物、接合強度に優れた接合層を備える接合体及びその製造方法が提供できる。

実施例１で得られた接合層のＳＥＭ像である。実施例３で得られた接合層のＳＥＭ像である。比較例１で得られた接合層のＳＥＭ像である。

［封止用組成物］
本実施形態の封止用組成物（以下、本封止用組成物ということがある）は、脂肪酸及び脂肪族アルデヒドより選択される１種以上が被覆した銀ナノ粒子（Ａ）と、スズを含むはんだ粒子（Ｂ）と、フラックス剤及び還元剤より選択される１種以上（Ｃ）（以下、フラックス剤等（Ｃ）ということがある）と、溶媒（Ｄ）と、を含有する。

本封止用組成物は銀ナノ粒子（Ａ）として、脂肪酸及び脂肪族アルデヒドより選択される１種以上（以下、脂肪酸等ということがある）が被覆した銀ナノ粒子（Ａ）を用いている。脂肪酸等は還元性を有するため、組成物保管時等における銀ナノ粒子表面の酸化が抑制される。
また、当該脂肪酸等は焼結時に銀ナノ粒子から脱離する。銀ナノ粒子から脱離した直後の脂肪酸等は、近傍にあるはんだ粒子表面の酸化被膜を除去するものと推定される。
本封止組成物はフラックス剤等（Ｃ）を組み合わせることにより、組成物保管時におけるはんだ粒子表面の酸化の進行を抑制している。その結果、銀ナノ粒子から脱離した脂肪酸等とはんだ粒子表面の作用が短時間であっても酸化被膜が効果的に除去されるものと推定される。
これらの結果、本封止組成物は、焼結時において銀ナノ粒子表面、はんだ粒子表面ともに酸化被膜が除去されており、はんだの銀に対する表面濡れ性が向上して濡れ広がり、細孔が抑制され、接合強度に優れた接合層が形成されると推定される。

本封止用組成物は少なくとも、銀ナノ粒子（Ａ）と、はんだ粒子（Ｂ）と、フラックス剤等（Ｃ）と、溶媒（Ｄ）とを含有するものであり、更に必要に応じて他の成分を含有してもよいものである。このような本封止用組成物の各成分について順に説明する。

［銀ナノ粒子（Ａ）］
本封止用組成物において、銀ナノ粒子は、脂肪酸及び脂肪族アルデヒドより選択される１種以上が被覆した銀ナノ粒子（Ａ）を用いる。脂肪酸等が被覆した銀ナノ粒子を用いることにより銀粒子の表面酸化を抑制すると共に、焼成時においてはんだ粒子（Ｂ）の表面酸化被膜を除去する効果がある。また、銀ナノ粒子を用いることで、はんだ粒子が有するスズとスズ銀合金を形成して接合強度を向上する。

銀ナノ粒子（Ａ）の核となる銀粒子は、実質的に銀からなる粒子であるが、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化銀、水酸化銀や、不可避的に含まれる他の元素を含有してもよい。金属酸化物及び金属水酸化物の含有割合は、接合強度の点から、銀粒子全量に対して５質量％以下が好ましく、３質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい。また、接合強度の点から銀粒子の銀の純度は、９５質量％以上が好ましく、９７質量％以上がより好ましく、９９質量％以上が更に好ましい。

上記銀粒子の平均一次粒径は、特に限定されず、焼結温度等の観点から適宜選択すればよい。具体的には銀粒子の平均一次粒径が５００ｎｍ以下であればよく、４００ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下が更により好ましい。また、銀核粒子の平均一次粒径は、通常、１ｎｍ以上であり、５ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましい。当該銀核粒子の平均一次粒径は、ＳＥＭにより観察された任意の２０個の銀核粒子の一次粒子径の算術平均値である。
銀粒子の形状は、真球を含む略球状、板状、棒状などいずれの形状であってもよいが、略球状が好ましい。

銀ナノ粒子（Ａ）の焼結温度は、例えば１００～３５０℃の範囲で調整すればよく、１００～３００℃の範囲が好ましく、１００～２５０℃の範囲がより好ましい。焼結温度は銀粒子の粒径などにより調整できる。なお、銀ナノ粒子（Ａ）の焼結温度は、熱重量示唆熱（ＴＧ－ＤＴＡ）測定により得られた発熱ピーク温度から求めることができる。

本封止用組成物において、銀粒子を被覆する脂肪酸又は脂肪族アルデヒドは、１００～３００℃の加熱により銀粒子表面から脱離するものの中から適宜選択すればよい。
脂肪酸及び脂肪族アルデヒドの炭素数は,分散性の点から、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上が更に好ましい。また、加熱時の脱離性及び、はんだ粒子への作用の点から、脂肪酸及び脂肪族アルデヒドの炭素数は２４以下が好ましく、１６以下がより好ましく、１２以下が更に好ましい。
好ましい脂肪酸の具体例としては、酪酸、カプロン酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、ウンデカン酸、ステアリン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸が挙げられる。また、好ましい脂肪族アルデヒドの具体例としては、ブタナール、ヘキサナール、オクチナール、ノナナール、デカナール、ウンデシルアルデヒド、オクタデシルアルデヒド、ヘキサデセニルアルデヒドが挙げられる。脂肪酸等は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

銀粒子の表面酸化抑制の点から、脂肪酸等は銀粒子側にカルボキシ基又はアルデヒド基が配置された単分子膜を形成していることが好ましい。このとき銀粒子とカルボキシ基又はアルデヒド基とは物理吸着している。また、脂肪酸等が単分子膜を形成している場合において、銀粒子表面の被覆密度は、２．５～５．２分子／ｎｍ^２であることが好ましい。

上記銀ナノ粒子（Ａ）は、例えば、特開２０１７－１７９４０３号公報などを参考に製造できる。当該特開２０１７－１７９４０３号公報の方法によれば、略球状の銀粒子表面に、脂肪酸等が配置され、単分子膜の被覆層が形成される。当該被覆層の被覆密度は２．５～５．２分子／ｎｍ^２となり、表面酸化の抑制及び分散性に優れた被覆金属粒子が形成される。なお、被覆密度は、特開２０１７－１７９４０３号公報の方法を用いて算出できる。

［はんだ粒子（Ｂ）］
本封止用組成物において、はんだ粒子は、スズ（Ｓｎ）を含むはんだ粒子（Ｂ）を用いる。当該はんだ粒子（Ｂ）を用いることにより、前記銀ナノ粒子（Ａ）との組合せにより、焼結時にスズ銀合金が形成されるため、得られる接合層の機械強度が向上する。
はんだ粒子（Ｂ）としては、スズ（Ｓｎ）を含み、更に、ビスマス（Ｂｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、アンチモン（Ｓｂ）、銅（Ｃｕ）、インジウム（Ｉｎ）、銀（Ａｇ）等の元素を含む合金が挙げられ、不可避的に混入する他の元素を含有してもよい。はんだの具体例としては、Ｓｎ－Ｐｂ系、Ｐｂ－Ｓｎ－Ｓｂ系、Ｓｎ－Ｓｂ系、Ｓｎ－Ｐｂ－Ｂｉ系、Ｓｎ－Ｂｉ系、Ｓｎ－Ｚｎ－Ｂｉ系、Ｓｎ－Ｚｎ系、Ｓｎ－Ｃｕ系、Ｓｎ－Ｐｂ－Ｃｕ系、Ｓｎ－Ｉｎ系、Ｓｎ－Ａｇ系、Ｓｎ－Ｐｂ－Ａｇ系、Ｐｂ－Ａｇ系はんだ等が挙げられる。本実施形態においてはんだ粒子は１種単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
はんだ粒子は所望の金属を公知の方法により混合して製造してもよく、また、はんだ粒子の市販品を用いてもよい。

環境に対する負荷軽減の観点から鉛フリーはんだ（Ｓｎ－Ｓｂ系、Ｓｎ－Ｂｉ系、Ｓｎ－Ｚｎ－Ｂｉ系、Ｓｎ－Ｚｎ系、Ｓｎ－Ｃｕ系、Ｓｎ－Ｉｎ系、Ｓｎ－Ａｇ系はんだ等）を用いることが好ましく、中でも、Ｓｎ－Ｂｉ系はんだ、Ｓｎ－Ｚｎ－Ｂｉ系はんだ、又はＳｎ－Ｚｎ系はんだを用いることがより好ましい。Ｚｎを含むはんだを用いることにより、高強度で実装密度の高い焼結体が得られる。また、ガラス等への濡れ性に優れたＢｉを含むはんだを用いることにより、密着性に優れた焼結体を得ることができる。

はんだ粒子中のスズの含有割合は、接合強度の点から、はんだ粒子全量に対して、３０質量％以上８０質量％以下が好ましい。

はんだ粒子の平均一次粒径は、特に限定されず、例えば、０．５～５００μｍのものの中から適宜選択して用いることができる。なお、本発明においてはんだ粒子の平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察された任意の２０個のはんだ粒子の一次粒子径の算術平均値である。粒子形状は、真球を含む略球状、板状、棒状などいずれの形状であってもよい。

はんだ粒子の融点は、金属の含有比率等によって変動があるが、概ね１３５～２５０℃の範囲内であり、１３５～２００℃が好ましく、１３５～１５５℃がより好ましい。また、はんだ粒子の融点は、銀ナノ粒子（Ａ）の焼結温度以下であることが好ましい。
前記はんだ粒子としてＳｎ－Ｂｉ系はんだ、Ｓｎ－Ｚｎ－Ｂｉ系はんだ、又はＳｎ－Ｚｎ系はんだを用いた場合は、はんだ粒子の融点は、例えば１３５～２００℃の範囲内である。なおはんだ粒子の融点は、熱重量示唆熱（ＴＧ－ＤＴＡ）測定により得られた吸熱ピーク温度から求めることができる。

前記銀ナノ粒子（Ａ）と前記はんだ粒子（Ｂ）の含有比率は、接合強度の点から、質量比で４：６～２：８の範囲内が好ましい。

＜銀とスズの比率＞
本接合用組成物は、銀の質量（ａ）と、スズの質量（ｂ）が下記式（１）を満たすことが好ましい。
｛ａ／（ａ＋ｂ）｝×１００ ≦ ４０：式（１）

銀とスズを、上記式（１）の関係を満たすように配合することで、接合強度に優れた接合層を形成できる。銀とスズとの合金としてＡｇ_３Ｓｎが知られているが、上記式（１）を満たす比率とした場合、銀：スズ（モル比）＝３：１よりもスズの比率が大きくなる。銀に対するスズの配合割合を高めることにより銀焼結体の細孔内をスズが充填し空隙の少ない接合層が得られると推定される。また、銀ナノ粒子の割合が低いため銀焼結体内部に配置される銀の割合が相対的に低くなり、合金化する銀の割合が高まる結果、接合層自体の強度が高まるものと推定される。

銀とスズの比率は、銀ナノ粒子（Ａ）と前記はんだ粒子（Ｂ）の配合量、及び、はんだ粒子（Ｂ）の組成により調整できる。

［フラックス剤等（Ｃ）］
本接合用組成物は、フラックス剤及び還元剤より選択される１種以上（Ｃ）を含有する。フラックス剤等を含有することにより組成物保管時におけるはんだ粒子（Ｂ）などの酸化を抑制するため、焼成時におけるはんだ粒子（Ｂ）の濡れ性が向上して、接合強度に優れた接合層が形成される。

フラックス剤は、はんだのフラックス剤として公知のものの中から、適宜選択できる。フラックス剤としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、酢酸、プロピオン酸、オレイン酸、ステアリン酸などの脂肪族カルボン酸；安息香酸、サリチル酸、フタル酸などの芳香族カルボン酸；アビエチン酸、ロジンなどのテルペン系カルボン酸などの有機カルボン酸；アニリン塩酸塩、ヒドラジン塩酸塩などの有機ハロゲン化合物；尿素、ジエチレントリアミンヒドラジンなどのアミン類などが挙げられる。また還元剤としては、例えば、塩酸、フッ酸、燐酸などの無機酸；フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化アンモニウム、フッ化銅、フッ化亜鉛などのフッ化物、塩化カリウム、塩化ナトリウム、塩化第一銅、塩化ニッケル、塩化アンモニウム、塩化第一錫などの塩化物、臭化カリウム、臭化ナトリウム、臭化アンモニウム、臭化錫、臭化亜鉛などの臭化物や、脂肪酸、脂肪族アルデヒドなどが挙げられる。上記脂肪酸及び脂肪族アルデヒドは、前記銀ナノ粒子（Ａ）で例示した脂肪酸等と同様のものが挙げられる。
フラックス剤等（Ｃ）は１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができ、たとえば、フラックス剤と還元剤とを組み合わせて用いてもよい。
本接合用組成物においては、接合強度の点から、フラックス剤等（Ｃ）として有機酸を用いることが好ましい。

フラックス剤等（Ｃ）の合計の含有割合は、はんだ粒子の酸化被膜を除去する観点から、はんだ粒子に対して０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１％以上が更に好ましい。一方、フラックス剤等（Ｃ）の合計の含有割合は、はんだ粒子に対し２質量％以下が好ましく、１．８質量％以下が好ましく、１．５質量％以下がより好ましい。上記上限値以下とすることで組成物中における銀ナノ粒子の焼結性が向上し、焼結強度が向上する。

［溶媒（Ｄ）］
本封止用組成物において溶媒（Ｄ）は、上記各成分を溶解乃至分散可能な溶媒の中から塗膜形成方法（印刷方法）などに応じて適宜選択できる。溶媒は１種単独であっても２種以上を組み合わせた混合溶媒であってもよい。溶媒としては、中でも、脂肪族アミン系溶媒、脂肪族アルコール系溶媒、脂肪族アミノアルコール系溶媒、テルピンアセテート系溶媒、脂肪族アルカン系溶媒、カルビトール系溶媒や、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレート（ＫＨネオケム株式会社製、キョーワノールＭ）などが挙げられる。

脂肪族アミン系溶媒としては、例えば、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、オレイルアミン等が挙げられる。
脂肪族アミノアルコール系溶媒としては、例えば、エタノールアミン、プロパノールアミン、オクタノールアミン、デカノールアミン、ドデカノールアミン、オレイルアルコールアミン等が挙げられる。
脂肪族アルコール系溶媒としては、例えば、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノール、オレイルアルコール等が挙げられる。
テルピンアセテート系溶媒としては、例えば、１，８－テルピン－１－アセテート、１，８－テルピン－８－アセテート、１，８－テルピン－１，８－ジアセテート等が挙げられる。
脂肪族アルカン系溶媒としては、例えば、オクタン、デカン、ドデカン、流動パラフィン等が挙げられる。
また、カルビトール系溶媒としては、例えば、ブチルカルビトール、ヘキシルカルビトール、デシルカルビトール等が挙げられる。

また、中でも溶媒としてテルピンアセテート系溶媒を含むことが好ましい。テルピンアセテート系溶媒を用いることにより、封止用組成物をスクリーン印刷に好適な組成物とすることができる。テルピンアセテート系溶媒は、例えば、日本テルペン化学（株）のテルソルブＴＨＡ－９０、テルソルブＴＨＡ－７０等を用いることができる。

また本接合用組成物においては、溶媒（Ｄ）として、沸点が１６０℃以上４００℃以下の溶媒（高沸点溶媒ということがある）を含むことが好ましい。このような溶媒を含むことにより銀ナノ粒子の焼成時に塗膜内に溶媒が残存し、はんだ粒子や銀ナノ粒子が塗膜内で適切に再配置やすくなり、ボイドが抑制される。また、高沸点溶媒は、銀ナノ粒子から脱離した脂肪酸等をはんだ粒子に接触させる媒体としての役割を有する。このような観点から、中でも、沸点が２００℃以上の溶媒を含むことが好ましい。また、接合層中の溶媒の残留を抑制する点から、溶媒の沸点は３５０℃以下が好ましく、３００℃以下がより好ましい。

溶媒（Ｄ）は、更に沸点が１６０℃未満の低沸点溶媒を組み合わせてもよい。
低沸点溶媒の含有割合は、溶媒全量を１００質量％として、３５質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２０％以下が更に好ましい。

本接合用組成物中の溶媒（Ｄ）の割合は、塗膜の形成方法などに応じて適宜調整すればよく、接合用組成物全量に対して、０．１～９５質量％とすることができ、０．２質量％～９０質量％が好ましく、０．４質量％～８０質量％がより好ましい。

＜他の成分＞
本接合用組成物は、必要に応じてさらに他の成分を含有してもよい。他の成分としては、分散剤、増粘剤、ゲル化剤等が挙げられる。

分散剤としてはポリエステル系分散剤やポリアクリル酸系分散剤等の、公知の分散剤が挙げられる。得られる接合層の強度の点から、接合用組成物中の分散剤の割合は、組成物全量１００質量％に対し、０．３質量％以下が好ましく、全量の０．１質量％以下がより好ましい。

また、本接合用組成物は、粘度を調整するために増粘剤やゲル化剤を含有してもよい。
ゲル化剤としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリイソブチレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィンが挙げられ、これらは前記流動パラフィンをゲル化できる。中でもポリエチレンが好ましい。ポリオレフィンの重量平均分子量は、例えば、１０，０００以上のものの中から適宜選択することができ、１０，０００～５，０００，０００が好ましく、２０，０００～３，０００，０００がより好ましい。接合用組成物をゲル化することにより、塗膜のパターン形状を保持することができる。
流動パラフィンとゲル化剤との配合比率は、パターン保持性を向上する観点点から、流動パラフィンとゲル化剤の合計１００質量％に対し、ゲル化剤が０．５質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１．５質量％以上１２質量％以下が更に好ましい。

本接合用組成物の調製方法は、溶媒中に銀ナノ粒子とはんだ粒子と他の成分を均一に分散できる方法であればよい。例えば、溶媒に各成分を添加し、公知の撹拌機や分散機を用いて分散することで接合用組成物が得られる。

［接合体］
本発明の接合体（以下、本接合体ということがある）は、第１被接合部材と、第２被接合部材とが、接合層を介して接合された接合体であって、前記接合層が前記本接合用組成物の焼結体を含む。
本接合体は、２つの被接合部材を前記本接合用組成物により接合しているため、接合共同に優れている。

以下、本接合用組成物を用いた接合体の製造方法の一例を説明する。本接合体の製造方法は、前記第１被接合部材の接合面と、前記第２被接合部材との間に、前記本接合用組成物の塗膜を形成する工程と、前記塗膜を加熱して焼結体を形成する工程と、を有する。
まず、接合対象となる第１被接合部材と、第２被接合部材とを準備する。被接合部材は接合体の用途に応じて適宜選択すればよい。被接合部材の接合面の材質は、焼結温度に対する耐熱性があればよく、例えば、金、銅等の金属類、シリコン、無機系セラミックスなどが挙げられる。

次いで、第１被接合部材の接合面に、前記接合用組成物を塗布して塗膜を形成する。塗膜の形成方法は、公知の塗布手段及び印刷手段の中から適宜選択できる。塗膜をパターン状に形成でき、厚膜化が可能な点から、ディスペンサー塗布、又はスクリーン印刷が好ましい。

ディスペンサー塗布は、前記接合用組成物を定量吐出する装置を用いて塗布する方法である。吐出方式は、特に限定されず、例えば、エアパルス方式、メカニカル方式、非接触方式、プランジャー方式などの中から適宜選択できる。一例として、エアパルス方式のディスペンサーの場合、シリンジに前記接合用組成物を充填し、エアパルスをかけることで接合用組成物を一定量ずつ吐出させ、ドット状など所定のパターンに塗布する方法である。第２被接合部材を軽く押し付けることで、接合用組成物は接合面に濡れ広がる。
またスクリーン印刷は、所定の開口部を有するスクリーンに接合用組成物を塗布し、前記第１被接合部材上に前記スクリーンを配置し、スキージを用いて第１被接合部材にスクリーンを押し付けることで接合用組成物を所定パターンに転写する方法である。
接合用組成物の塗膜の膜厚は、例えば、１～１００μｍの範囲で適宜調整すればよく、２～８０μｍが好ましい。
なお第１被接合部材と第２被接合部材は、製造する接合体の用途に応じて適宜選択すればよい。被接合部材の接合面の材質は、焼結温度に対する耐熱性があればよく、例えば、金、銅等の金属類、シリコン、無機系セラミックスなどが挙げられる。

次いで前記塗膜上に第２被接合部材を配置した後、塗膜に対して必要に応じて加圧をしながら、加熱する。加熱温度は、銀ナノ粒子の焼結温度、及び、はんだ粒子の融点に応じて１５０～４００℃の範囲で適宜調整すればよい。このようにして接合層を介して第１被接合部材と第２被接合部材とが接合された接合体が得られる。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。

（製造例１：被覆銀粒子Ａｇ１の製造）
特開２０１７－１７９４０３号を参考に、銀粒子の表面にウンデカン酸が被覆密度２．５～５．２ｎｍ^２で被覆した銀ナノ粒子Ａｇ１を得た。被覆銀粒子Ａｇ１中の銀の割合は８５質量％で、平均一次粒径は６５ｎｍであった。

（実施例１：接合用組成物の調製）
前記銀ナノ粒子Ａｇ１を１．８８質量部、ＳｎＢｉはんだ粒子（三井金属鉱業製、ＳＴ－３，Ｓｎ：Ｂｉ＝４２：５８（モル比），粒子径約３μｍ）８．４質量部、テルソルブＴＨＡ－７０（日本テルペン化学株式会社製、溶媒、沸点２２３℃）０．３質量部、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレート（ＫＨネオケム株式会社製、キョーワノールＭ、溶媒）０．２質量部、デカナール０．２質量部を混合して、実施例１の接合用組成物を得た。

（実施例２～６）
実施例１において、配合量を各々表１のように変更した以外は実施例１と同様にして実施例２～６の接合用組成物を得た。

（比較例１）
実施例１において、被覆銀ナノ粒子Ａｇ１の代わりに、被覆銀ナノ粒子Ａｇ２（被覆化合物：脂肪族アルコール、粒子径１０ｎｍ以下）を用いた以外は実施例１と同様にして、比較例１の接合用組成物を得た。

（比較例２）
実施例１において、被覆銀ナノ粒子Ａｇ１の代わりに、被覆銀ナノ粒子Ａｇ３（被覆化合物：脂肪族アミン、粒子径１０ｎｍ以下）を用いた以外は実施例１と同様にして、比較例２の接合用組成物を得た。

（比較例３～４）
実施例１において、銀ナノ粒子Ａｇ１の代わりに、銀粒子（三井金属社製、ＳＬ－０１、粒径１μｍ）を用い、配合量を各々表１のように変更した以外は実施例１と同様にして比較例３～４の接合用組成物を得た。

［評価］
＜融解性評価＞
実施例及び比較例で得られた各接合用組成物を、各々メタルマスクを用いてガラス基板上に印刷し、１７５℃で１時間加熱し半硬化した。次いで、半硬化した接合用組成物上に金メッキされたセラミックス基板を乗せて、０．７ＭＰａの荷重下で１７５℃１分間加熱し、更に２５０℃で１時間加熱して接合体を得た。
また、得られた接合体をエポキシ樹脂でモールドした後、研磨をし、その断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて観察した。評価結果を表１に示す。また、代表して、実施例１、実施例３及び比較例１のＳＥＭ像を図１～図３に示す。
（評価基準）
○：はんだが融解し細孔が埋められていた。
△：はんだが融解したが、細孔が十分には埋められていない部分が見られた。
×：はんだの融解が不十分であった。

＜接合強度評価＞
上記融解性評価で得られた実施例及び比較例の接合体をそれぞれボンドテスター（ＣｏｎｄｏｒＳｉｇｍａ：オランダＸＹＺＴＥＣ社製）を用いてダイシェアテストを行い、接合強度を測定した。結果を表１に示す。

図１及び図２及び表１に示されるとおり、脂肪酸及び脂肪族アルデヒドより選択される１種以上が被覆した銀ナノ粒子（Ａ）と、スズを含むはんだ粒子（Ｂ）と、フラックス剤等（Ｃ）とを組み合わせた本接合用組成物によれば、はんだが融解し細孔が十分に埋められた接合層が形成されており、接合強度が向上することが明らかとなった。一方、図３に示すように、フラックス剤等（Ｃ）を用いた場合であっても、脂肪族アルコールや脂肪族アミンで被覆された銀ナノ粒子を用いた場合には、細孔の埋まりが不十分であった。

Claims

脂肪酸及び脂肪族アルデヒドより選択される１種以上が被覆した銀ナノ粒子（Ａ）と、
スズを含むはんだ粒子（Ｂ）と、
フラックス剤及び還元剤より選択される１種以上（Ｃ）と、
溶媒（Ｄ）と、を含有し、
前記還元剤が、無機酸、フッ化物、塩化物、臭化物、脂肪酸、又は脂肪族アルデヒドである、接合用組成物。
前記フラックス剤及び還元剤より選択される１種以上（Ｃ）の合計の含有割合が、接合用組成物全量に対して２質量％以下である、請求項１に記載の接合用組成物。
銀の質量（ａ）と、スズの質量（ｂ）が下記式（１）を満たす、請求項１又は２に記載の接合用組成物。
｛ａ／（ａ＋ｂ）｝×１００ ≦ ４０：式（１）
第１被接合部材と、第２被接合部材とが、接合層を介して接合された接合体であって、
前記接合層が、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の接合用組成物の焼結体を含む、
接合体。
第１被接合部材と、第２被接合部材とが、接合層を介して接合された接合体の製造方法であって、
前記第１被接合部材の接合面と、前記第２被接合部材との間に、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の接合用組成物の塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を加熱して焼結体を形成する工程と、を有する、
接合体の製造方法。