JP7329629B2 - 複数の光源を用いたコンピュータ断層撮影装置及びコンピュータ断層撮影方法 - Google Patents
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Description
図5~図9は、第1実施例の構造を有するコンピュータ断層撮影装置(100)及びそのコンピュータ断層撮影方法を説明するための図である。
から
まで第1回転装置(521)を第1回転方向に120度だけ回転させることができる。
から
まで回転する間、第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)が順に交互に対象体にX線を照射するように制御することができる。例えば、プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が0度から1/3度まで第1回転方向に回転する間、即ち、
から
まで回転する間、複数の光源のうちの第1光源(531)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が1/3度から2/3度まで回転する間、即ち、
から
まで回転する間、複数の光源のうちの第2光源(533)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が2/3度から1度まで回転する間、即ち、
から
まで複数の光源のうちの第3光源(535)を通じてX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。その後、プロセッサ(110)は、再び第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)の順に1つずつ交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。第1回転装置(521)が第1回転方向に1度回転する間、第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)が順次X線を照射することを1つのシーケンスと仮定すれば、プロセッサ(110)は0度から120度まで第1回転装置(521)が回転する間、前記シーケンスを1度の間隔で120回繰り返して複数の光源を既に設定された順に1つずつ交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。
から
まで移送部(550)を既に設定された距離だけ移動させることができる。プロセッサ(110)は
から
の間には複数の光源(531、533、535)を動作させずに、第1回転装置(521)も回転させなくてもよい。
から
まで第1回転装置(521)を第2回転方向に120度だけ回転させることができる。
から
まで回転する間、第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)が順に交互に対象体にX線を照射するように制御することができる。例えば、プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が120度から
度まで第2回転方向に回転する間、即ち、
から
まで第2回転方向に回転する間、複数の光源のうちの第3光源(535)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が
度から
度まで回転する間、即ち、
から
まで回転する間、複数の光源のうちの第2光源(533)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が
度から119度まで回転する間、即ち、
から
まで複数の光源のうちの第1光源(531)を通じてX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。その後、プロセッサ(110)は、再び第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)の順に交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。第1回転装置(521)が第2回転方向に1度回転する間、第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)が順次X線を照射することを1つのシーケンスと仮定すれば、プロセッサ(110)は120度から0度まで第1回転装置(521)が第2回転方向に回転する間、前記シーケンスを1度の間隔で120回繰り返して複数の光源を既に設定された順に1つずつ交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。本図面では、第1回転装置(521)が第2回転方向に回転する間、第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)の順に交互にX線を対象体に照射するものとして説明したものの、第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)の順に交互にX線を対象体に照射できることももちろんである。
から
まで第1回転装置(521)を第1回転方向に120度だけ回転させることができる。
から移送部(550)を回転軸の正の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。
から
まで回転する間、第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)が順に交互に対象体にX線を照射するように制御することができる。例えば、プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が0度から1/3度まで第1回転方向に回転する間、即ち、
から
まで回転する間、複数の光源のうちの第1光源(531)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が1/3度から2/3度まで回転する間、即ち、
から
まで回転する間、複数の光源のうちの第2光源(533)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が2/3度から1度まで回転する間、即ち、
から
まで複数の光源のうちの第3光源(535)を通じてX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。その後、プロセッサ(110)は、再び第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)の順に交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。第1回転装置(521)が第1回転方向に1度回転する間、第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)が順次X線を照射することを1つのシーケンスと仮定すれば、プロセッサ(110)は0度から120度まで第1回転装置(521)が回転する間、前記シーケンスを1度の間隔で120回繰り返して複数の光源を既に設定された順に1つずつ交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。
から
まで第1回転装置(521)を第2回転方向に120度だけ回転させることができる。上記の場合、プロセッサ(110)は、移送部(550)を依然として回転軸の方向に一定の速度で移動させることができる。
から
まで第2回転方向に回転する間、第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)が順に交互に対象体にX線を照射するように制御することができる。例えば、プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が120度から
度まで第2回転方向に回転する間、即ち、
から
まで第2回転方向に回転する間、複数の光源のうちの第3光源(535)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が
度から
度まで回転する間、即ち、
から
まで回転する間、複数の光源のうちの第2光源(533)を通じてX線を対象体に照射することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(521)が
度から119度まで回転する間、即ち、
から
まで複数の光源のうちの第1光源(531)を通じてX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。その後、プロセッサ(110)は、再び第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)の順に交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。第1回転装置(521)が第2回転方向に1度回転する間、第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)が順次X線を照射することを1つのシーケンスと仮定すれば、プロセッサ(110)は120度から0度まで第1回転装置(521)が第2回転方向に回転する間、前記シーケンスを1度の間隔で120回繰り返して複数の光源を既に設定された順に1つずつ交互にX線を対象体に照射するように複数の光源を制御することができる。本図面では、第1回転装置(521)が第2回転方向に回転する間、第3光源(535)、第2光源(533)及び第1光源(531)の順に交互にX線を対象体に照射するものとして説明したものの、第1光源(531)、第2光源(533)及び第3光源(535)の順に交互にX線を対象体に照射できることももちろんである。
図10~図14は、第2実施例の構造を有するコンピュータ断層撮影装置(100)及びそのコンピュータ断層撮影方法を説明するための図である。前記第1実施例の構造において説明した内容と重複する内容は省略する。
から
まで回転装置(1020)を第1回転方向に120度だけ回転させることができる。
から
まで回転する間、第1光源(1031)、第2光源(1033)及び第3光源(1035)をいずれも用いてX線を対象体に照射することができる。
から
まで第1回転装置(1020)を第1回転方向に120度だけ回転させることができる。
から
まで移送部(1050)を回転軸の正の方向に既に設定された距離だけ移動するように制御することができる。
から
まで回転装置(1020)が第1回転方向に回転する間、第1光源(1031)を用いて対象体にX線を照射することができる。上記の場合、第2光源(1033)及び第3光源(1035)はX線を照射しなくてもよい。第1光源(1031)がX線を照射する間、第1光源(1031)に対応して向かい合う位置に配置された第1検出装置(1041)は対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、第1検出装置(1041)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。
から
まで第1回転装置(1020)を第2回転方向に120度だけ回転させることができる。即ち、プロセッサ(110)は、第1回転装置(1020)の位置を第1回転方向に回転する前の状態に戻すことができる。
から
まで移送部(1050)が移動しないように制御することができる。
から
まで第1光源(1031)、第2光源(1033)及び第3光源(1035)ともがX線を照射しないように制御することができる。
から
まで第1回転装置(1020)を第1回転方向に120度だけ再び回転させることができる。
から
まで移送部(1050)を回転軸の正の方向に既に設定された距離だけ移動するように制御することができる。
から
まで回転装置(1020)が第1回転方向に回転する間、第2光源(1033)を用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、第2光源(1033)は、第1光源(1031)から第1回転方向上に最も近く位置した光源であってもよい。上記の場合、第1光源(1031)及び第3光源(1035)はX線を照射しなくてもよい。第2光源(1033)がX線を照射する間、第2光源(1033)に対応して向かい合う位置に配置された第2検出装置(1043)は対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、第2検出装置(1043)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。
から
まで第1回転装置(1020)を第2回転方向に120度だけ再び回転させることができる。
から
まで移送部(1050)が移動しないように制御することができる。
から
まで第1光源(1031)、第2光源(1033)及び第3光源(1035)ともがX線を照射しないように制御することができる。
から
まで回転装置(1020)が第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作をもう一度繰り返すことができる。プロセッサ(110)は
から
まで回転装置(1020)が第1回転方向に回転する間、複数の光源のうちの第3光源(1035)を用いて対象体にX線を照射することができる。
から
まで回転装置(1020)、第1光源(1031)、第2光源(1033)及び第3光源(1035)の動作状態は図12と同一である。グラフ1300の回転装置(1020)、第1光源(1031)、第2光源(1033)及び第3光源(1035)のグラフを参照すると、プロセッサ(110)は回転装置(1020)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように回転装置(1020)を制御することができる。プロセッサ(110)は回転装置(1020)が第1回転方向に回転する間、複数の光源(1031、1033、1035)のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ1300に示されたように、第1光源(1031)、第2光源(1033)及び第3光源(1035)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源を制御することができる。
から
まで移送部(1050)を回転軸の正の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。回転装置(1020)が第2回転方向に回転する間、即ち、回転装置(1020)が元の位置に戻る間、移送部(1050)を停止させない場合、対象体に対する螺旋状のコンピュータ断層撮影映像には一部データが欠落し得る。前記欠落したデータを補完するために、プロセッサ(110)は移送部(1050)を回転軸の負の方向に既に設定された速度で再び移動させることができる。例えば、プロセッサ(110)は
から
まで移送部(1050)を回転軸の負の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。
から
まで回転装置(1020)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように回転装置(1020)を制御することができる。プロセッサ(110)は回転装置(1020)が第1回転方向に回転する間、複数の光源(1031、1033、1035)のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ1300に示されたように、
から
まで第3光源(1035)、第2光源(1033)及び第1光源(1031)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源を制御することができる。
図15a~図16は、第3実施例の構造を有するコンピュータ断層撮影装置(100)及びそのコンピュータ断層撮影方法を説明するための図である。前記第2実施例の構造において説明した内容と重複する内容は省略する。
から
まで回転装置(1520)を第1回転方向に120度だけ回転させることができる。
から
まで移送部(1550)を回転軸の方向に既に設定された速度で移動させることができる。第3実施例の構造によるコンピュータ断層撮影装置(100)は複数の光源のそれぞれのz軸上の位置が互いに異なるので、回転装置(1520)が第1回転方向に回転する間、移送部(1550)を共に移動させても、対象体に対する螺旋状のコンピュータ断層撮影映像を取得することができる。
から
まで回転する間、第1光源(1531)、第2光源(1533)及び第3光源(1535)をいずれも用いてX線を対象体に照射することができる。
から
まで回転装置(1520)を第2回転方向に120度だけ回転させることができる。
図17~図21は、第4実施例の構造を有するコンピュータ断層撮影装置(100)及びそのコンピュータ断層撮影方法を説明するための図である。
から
まで回転装置(1720)を第1回転方向に45度だけ回転させることができる。
から
まで回転する間、第1光源(1731)、第2光源(1733)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)をいずれも用いてX線を対象体に照射することができる。
から
まで回転装置(1720)を第2回転方向に45度だけ回転させることができる。
から
まで第1回転装置(1720)を第1回転方向に45度だけ回転させることができる。
から
まで移送部(1750)を回転軸の正の方向に既に設定された距離だけ移動するように制御することができる。
から
まで回転装置(1720)が第1回転方向に回転する間、第1光源(1731)を用いて対象体にX線を照射することができる。上記の場合、第2光源(1733)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)はX線を照射しなくてもよい。第1光源(1731)がX線を照射する間、検出装置(1740)は対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、検出装置(1740)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。
から
まで第1回転装置(1720)を第2回転方向に45度だけ回転させることができる。即ち、プロセッサ(110)は、第1回転装置(1720)の位置を第1回転方向に回転する前の状態に戻すことができる。
から
まで移送部(1750)が移動しないように制御することができる。
から
まで第1光源(1731)、第2光源(1733)及び第3光源(1735)をいずれもX線を照射しないように制御することができる。
から
まで第1回転装置(1720)を第1回転方向に45度だけ再び回転させることができる。
から
まで移送部(1750)を回転軸の正の方向に既に設定された距離だけ移動するように制御することができる。
から
まで回転装置(1720)が第1回転方向に回転する間、第2光源(1733)を用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、第2光源(1733)は、第1光源(1731)から第1回転方向上に最も近く位置した光源であってもよい。上記の場合、第1光源(1731)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)はX線を照射しなくてもよい。第2光源(1733)がX線を照射する間、検出装置(1740)は対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、検出装置(1740)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。
から
まで第1回転装置(1720)を第2回転方向に45度だけ再び回転させることができる。
から
まで移送部(1750)が移動しないように制御することができる。
から
まで第1光源(1731)、第2光源(1733)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)をいずれもX線を照射しないように制御することができる。
から
まで回転装置(1720)が第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を2回さらに繰り返すことができる。プロセッサ(110)は
から
まで回転装置(1720)が第1回転方向に回転する間、複数の光源のうちの第3光源(1735)を用いて対象体にX線を照射することができる。プロセッサ(110)は
から
まで回転装置(1720)が第1回転方向に回転する間、複数の光源のうちの第4光源(1737)を用いて対象体にX線を照射することができる。
から
まで回転装置(1720)、第1光源(1731)、第2光源(1733)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)の動作状態は図19と同一である。グラフ2000の回転装置(1720)、第1光源(1731)、第2光源(1733)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)のグラフを参照すると、プロセッサ(110)は、回転装置(1720)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように回転装置(1720)を制御することができる。プロセッサ(110)は、回転装置(1720)が第1回転方向に回転する間、複数の光源(1731、1733、1735、1737)のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ2000に示されたように、第1光源(1731)、第2光源(1733)、第3光源(1735)及び第4光源(1737)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源(1731、1733、1735、1737)を制御することができる。
から
まで移送部(1750)を回転軸の正の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。回転装置(1720)が第2回転方向に回転する間、即ち、回転装置(1720)が元の位置に戻る間、移送部(1750)を停止させない場合、対象体に対する螺旋状のコンピュータ断層撮影映像には一部データが欠落し得る。前記欠落したデータを補完するために、プロセッサ(110)は移送部(1750)を回転軸の負の方向に既に設定された速度で再び移動させることができる。例えば、プロセッサ(110)は
から
まで移送部(1750)を回転軸の負の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。
から
まで回転装置(1720)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように回転装置(1720)を制御することができる。プロセッサ(110)は、回転装置(1720)が第1回転方向に回転する間、複数の光源(1731、1733、1735、1737)のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ2000に示されたように、
から
まで第4光源(1737)、第3光源(1735)、第2光源(1733)及び第1光源(1731)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源(1731、1733、1735、1737)を制御することができる。
図22~図26は、第5実施例の構造を有するコンピュータ断層撮影装置(100)及びそのコンピュータ断層撮影方法を説明するための図である。他の実施例の構造において説明した内容と重複する内容は省略する。
から
まで第2回転装置(2223)を第1回転方向に回転させることができる。例えば、プロセッサ(110)は、第2回転装置(2223)を第1回転装置(2221)と同一の回転速力で第1回転方向に回転させることができる。
から
まで第1回転装置(2221)が第1回転方向に回転する間、第1光源(2231)を用いて対象体にX線を照射することができる。上記の場合、第2光源(2233)及び第3光源(2235)はX線を照射しなくてもよい。プロセッサ(110)は、第1光源(2231)がX線を照射する間、第1光源(2231)に対応して向かい合う位置に配置された検出装置(2240)を用いて対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、検出装置(2240)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。前記のように、プロセッサ(110)は
から
までは、第2光源(2233)を通じて対象体にX線を照射し、
から
までは、第3光源(2235)を通じて対象体にX線を照射することができる。
から
まで第1回転装置(2221)を第2回転方向に120度だけ回転させることができる。即ち、プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)の位置を第1回転方向に回転する前の状態に戻すことができる。前記のように、プロセッサ(110)は
から
までも第1回転装置(2221)を第2回転方向に120度だけ回転させ、
から
までも第1回転装置(2221)を第2回転方向に120度だけ回転させることができる。
から
まで第1回転装置(2221)、第2回転装置(2223)、第1光源(2231)、第2光源(2233)及び第3光源(2235)の動作状態は図23と同一である。グラフ2400の第1回転装置(2221)、第2回転装置(2223)、第1光源(2231)、第2光源(2233)及び第3光源(2235)のグラフを参照すると、プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように回転装置を制御することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)が前記動作を繰り返す間、第2回転装置(2223)が第1回転装置(2221)と同一の回転速力で第1回転方向に回転するように第2回転装置(2223)を制御することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)が第1回転方向に回転する間、複数の光源のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ2400に示されたように、第1光源(2231)、第2光源(2233)及び第3光源(2235)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源を制御することができる。
から
まで、
から
まで、及び
から
まで移送部(2250)を既に設定された距離だけ移動させることができる。
から
まで第1回転装置(2221)、第2回転装置(2223)、第1光源(2231)、第2光源(2233)及び第3光源(2235)の動作状態は図24と同一である。グラフ2500の第1回転装置(2221)、第2回転装置(2223)、第1光源(2231)、第2光源(2233)及び第3光源(2235)のグラフを参照すると、プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように第1回転装置(2221)を制御することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)が第1回転方向に回転する間、複数の光源(2231、2233、2235)のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ2500に示されたように、第1光源(2231)、第2光源(2233)及び第3光源(2235)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源(2231、2233、2235)を制御することができる。
から
まで第2回転装置(2223)を第1回転方向に回転させることができる。
から
まで移送部(2250)を回転軸の正の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。第1回転装置(2221)が第2回転方向に回転する間、即ち、第1回転装置(2221)が元の位置に戻る間、移送部(2250)を停止させない場合、対象体に対する螺旋状のコンピュータ断層撮影映像には一部データが欠落し得る。前記欠落したデータを補完するために、プロセッサ(110)は移送部(2250)を回転軸の負の方向に既に設定された速度で再び移動させることができる。例えば、プロセッサ(110)は
から
まで移送部(2250)を回転軸の負の方向に既に設定された速度で一定に移動するように制御することができる。
から
まで第1回転装置(2221)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように回転装置を制御することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(2221)が第1回転方向に回転する間、複数の光源(2231、2233、2235)のうちの1つを用いて対象体にX線を照射することができる。例えば、プロセッサ(110)はグラフ2500に示されたように、
から
まで第3光源(2235)、第2光源(2233)及び第1光源(2231)の順に対象体にX線を照射するように複数の光源を制御することができる。
図27a~図30は、第6実施例の構造を有するコンピュータ断層撮影装置(100)及びそのコンピュータ断層撮影方法を説明するための図である。他の実施例の構造において説明した内容と重複する内容は省略する。
である時、第3回転装置(2725)に配置された検出装置(2740)が光源1(2731)に対応して向かい合う位置に配置され、
から
まで第3回転装置(2725)が第1回転装置(2721)と第2回転装置(2723)と同一の回転速力を有して第1回転方向に回転することができる。上記の場合、光源1(2731)、光源2(2734)、光源2(2732)、光源b(2735)、光源3(2733)及び光源c(2736)の順にX線を照射しても、検出装置(2740)は常にX線を照射する特定の光源の向かい合う所に位置し得る。従って、検出装置(2740)は
から
まで対象体を透過したX線を検出することができる。
から
まで第1回転装置(2721)が第1回転方向に回転する間、光源1(2731)を用いて対象体にX線を照射することができる。上記の場合、光源2(2732)及び光源3(2733)はX線を照射しなくてもよく、複数の第2光源(2734、2735、2736)もX線を照射しなくてもよい。プロセッサ(110)は、光源1(2731)がX線を照射する間、検出装置(2740)を用いて対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、検出装置(2740)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。前記のように、プロセッサ(110)は
から
までは光源2(2732)だけを用いて対象体にX線を照射し、
から
までは光源3(2733)だけを用いて対象体にX線を照射することができる。
から
まで第2回転装置(2723)が第1回転方向に回転する間、光源2(2734)を用いて対象体にX線を照射することができる。上記の場合、光源b(2735)及び光源c(2736)はX線を照射しなくてもよく、複数の第1光源(2731、2732、2733)もX線を照射しなくてもよい。プロセッサ(110)は、光源2(2734)がX線を照射する間、検出装置(2740)を用いて対象体を透過したX線を検出することができる。プロセッサ(110)は、検出装置(2740)を用いて検出したX線に基づいて対象体に対する少なくとも1つのロウイメージを生成することができる。前記のように、プロセッサ(110)は
から
までは光源b(2735)だけを用いて対象体にX線を照射し、
から
までは光源c(2736)だけを用いて対象体にX線を照射することができる。
から
まで第1回転装置(2721)、第2回転装置(2723)、第3回転装置(2725)、光源1(2731)、光源2(2732)、光源3(2733)、光源2(2734)、光源b(2735)及び光源c(2736)の動作状態は図28と同一である。グラフ2900の第1回転装置(2721)、第2回転装置(2723)、第3回転装置(2725)、光源1(2731)、光源2(2732)、光源3(2733)、光源2(2734)、光源b(2735)及び光源c(2736)のグラフを参照すると、プロセッサ(110)は、第1回転装置(2721)が定められた回転角度だけ第1回転方向に回転し、その後、第2回転方向に回転する動作を繰り返すように第1回転装置(2721)を制御することができる。プロセッサ(110)は、第1回転装置(2721)が前記動作を繰り返す間、第2回転装置(2723)が第1回転装置(2721)と同一の回転速力で定められた回転角度だけ第2回転方向に回転し、その後、第1回転方向に回転する動作を繰り返すように第2回転装置(2723)を制御することができる。
から
まで移送部(2750)を既に設定された速度で移動させることができる。
図31a及び図31bは、コンピュータ断層撮影装置(100)の可視領域を調整する方法を示した図である。図32は、複数の光源を用いて可視領域を調整する方法を示した図である。可視領域は対象体(O)を透過したX線を検出できる領域を示すことができる。
Claims (12)
- コンピュータ断層撮影装置において、
回転軸を中心に回転可能な環状の回転装置を含むガントリーと、
前記回転装置の前記回転軸に垂直な2次元平面に投影される場合、前記回転装置の内側面の円周上に一定の間隔で配置され得るように前記回転装置に配置され、対象体にX線を照射するように構成された複数の光源と、
前記回転装置に配置され、前記対象体を透過したX線を検出するように構成された少なくとも1つの検出装置と、
1つ以上のプロセッサとを含み、
前記1つ以上のプロセッサは、
前記一定の間隔に基づいて定められた回転角度だけ前記回転装置を第1回転方向に回転させ、
前記回転装置が前記第1回転方向に回転する間、単位角度ごとに前記複数の光源が既に設定された順に1つずつ順次にX線を放出するようにして、前記対象体にX線を照射し、前記少なくとも1つの検出装置を通じて前記対象体を透過したX線を検出し、
前記回転装置を前記第1回転方向の反対方向である第2回転方向に前記定められた回転角度だけ回転させるように構成され、
前記複数の光源は、
前記回転軸上の位置が互いに所定の距離だけ離隔されて前記回転装置に配置される、コンピュータ断層撮影装置。 - 前記対象体を載置した移送部をさらに含み、
前記1つ以上のプロセッサは、
前記回転装置が前記第1回転方向に回転する間、前記移送部を前記回転軸の方向に既に設定された距離だけ移動させるように構成された、請求項1に記載のコンピュータ断層撮影装置。 - 前記対象体を載置した移送部をさらに含み、
前記1つ以上のプロセッサは、
前記回転装置が前記第1回転方向及び前記第2回転方向に回転する間、前記移送部を前記回転軸の方向に既に設定された速度で移動させるように構成された、請求項1に記載のコンピュータ断層撮影装置。 - 前記1つ以上のプロセッサは、
前記少なくとも1つの検出装置を通じて前記対象体を透過したX線を検出したことに応じて、前記対象体に対する少なくとも1つの第1イメージを生成し、
前記対象体に対する少なくとも1つの第1イメージに基づいて、前記対象体に対する3次元のイメージを生成するように構成された、請求項1に記載のコンピュータ断層撮影装置。 - 前記少なくとも1つの検出装置は、
前記回転装置上の前記複数の光源のそれぞれに対応して向かい合う位置に配置される複数の検出装置を含む、請求項1に記載のコンピュータ断層撮影装置。 - 前記複数の光源は炭素ナノチューブを用いたX線光源である、請求項1に記載のコンピュータ断層撮影装置。
- 回転軸を中心に回転可能な環状の回転装置を含むガントリー、前記回転装置の前記回転軸に垂直な2次元平面に投影される場合、前記回転装置の内側面の円周上に一定の間隔で配置され得るように前記回転装置に配置され、対象体にX線を照射するように構成された複数の光源、前記回転装置に配置されて前記対象体を透過したX線を検出するように構成された少なくとも1つの検出装置を含むコンピュータ断層撮影装置のコンピュータ断層撮影方法において、
前記一定の間隔に基づいて定められた回転角度だけ前記回転装置を第1回転方向に回転させる動作と、
前記回転装置が前記第1回転方向に回転する間、単位角度ごとに前記複数の光源が既に設定された順に1つずつ順次にX線を放出するようにして、前記対象体にX線を照射し、前記少なくとも1つの検出装置を通じて前記対象体を透過したX線を検出する動作と、
前記回転装置を前記第1回転方向の反対方向である第2回転方向に前記定められた回転角度だけ回転させる動作と
を含み、
前記複数の光源は、
前記回転軸上の位置が互いに所定の距離だけ離隔されて前記回転装置に配置される、コンピュータ断層撮影方法。 - 前記回転装置が前記第1回転方向に回転する間、前記対象体を載置した移送部を前記回転軸の方向に既に設定された距離だけ移動させる動作をさらに含む、請求項7に記載のコンピュータ断層撮影方法。
- 前記回転装置が前記第1回転方向及び前記第2回転方向に回転する間、前記対象体を載置した移送部を前記回転軸の方向に既に設定された速度で移動させる動作をさらに含む、請求項7に記載のコンピュータ断層撮影方法。
- 前記少なくとも1つの検出装置を通じて前記対象体を透過したX線を検出したことに応じて、前記対象体に対する少なくとも1つの第1イメージを生成する動作と、
前記対象体に対する少なくとも1つの第1イメージに基づいて、前記対象体に対する3次元のイメージを生成する動作と
をさらに含む、請求項7に記載のコンピュータ断層撮影方法。 - 前記少なくとも1つの検出装置は、
前記回転装置上の前記複数の光源のそれぞれに対応して向かい合う位置に配置される複数の検出装置を含む、請求項7に記載のコンピュータ断層撮影方法。 - 前記複数の光源は炭素ナノチューブを用いたX線光源である、請求項7に記載のコンピュータ断層撮影方法。
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