JP7321962B2 - 光検出素子 - Google Patents
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Description
[1] 陽極と、陰極と、該陽極と該陰極との間に設けられており、p型半導体材料及びn型半導体材料を含む活性層とを備え、
前記n型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEA)と、前記n型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEB)との和の値(ΔEA+ΔEB)が0を超えて0.88未満の範囲である、光検出素子。
[2] 前記和の値(ΔEA+ΔEB)が、0.20~0.67の範囲である、[1]に記載の光検出素子。
[3] 前記p型半導体材料が、下記式(I)で表される構成単位を含む高分子化合物である、[1]又は[2]に記載の光検出素子。
Rは、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、
置換基を有していてもよいアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいアリールチオ基、
置換基を有していてもよい1価の複素環基、
置換基を有していてもよい置換アミノ基、
置換基を有していてもよいイミン残基、
置換基を有していてもよいアミド基、
置換基を有していてもよい酸イミド基、
置換基を有していてもよい置換オキシカルボニル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
置換基を有していてもよいアルキニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキニル基、
シアノ基、
ニトロ基、
-C(=O)-Raで表される基、又は
-SO2-Rbで表される基を表し、
Ra及びRbは、それぞれ独立して、
水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は
置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。
式(Z-1)~式(Z-7)中、Rが2つある場合、2つのRは同一であっても異なっていてもよい。)
[4] 前記p型半導体材料が、下記式(II)又は下記式(III)で表される構成単位を含む高分子化合物である、[1]~[3]のいずれか1つに記載の光検出素子。
[5] 前記p型半導体材料が、下記式(IV)で表される構成単位を含む高分子化合物である、[4]に記載の光検出素子。
X1及びX2は、それぞれ独立して、硫黄原子又は酸素原子であり、
Z1及びZ2は、それぞれ独立して、=C(R)-で表される基又は窒素原子であり、
Rは、前記定義のとおりである。)
[6] 前記式(IV)中、X1及びX2が硫黄原子であり、Z1及びZ2が=C(R)-で表される基である、[5]に記載の光検出素子。
[7] 前記p型半導体材料が、下記式(VI-1)~式(VI-7)で表される構成単位を含む高分子化合物である、[1]~[6]のいずれか1つに記載の光検出素子。
[8] 前記n型半導体材料が、下記式(VIII)で表される化合物である、[1]~[7]のいずれか1つに記載の光検出素子。
A1-B10-A2 (VIII)
(式(VIII)中、
A1及びA2は、それぞれ独立して、電子求引性の基を表し、
B10は、π共役系を含む基を表す。)
[9] 前記n型半導体材料が、下記式(IX)で表される化合物である、[8]に記載の光検出素子。
A1-(S1)n1-B11-(S2)n2-A2 (IX)
(式(IX)中、
A1及びA2は、前記定義のとおりであり、
S1及びS2は、それぞれ独立して、
置換基を有していてもよい2価の炭素環基、
置換基を有していてもよい2価の複素環基、
-C(Rs1)=C(Rs2)-で表される基、又は
-C≡C-で表される基を表し、
Rs1及びRs2は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を表し、
B11は、炭素環及び複素環からなる群から選択される2以上の環構造が縮合した縮合環を含む2価の基であって、オルト-ペリ縮合構造を含まず、かつ置換基を有していてもよい2価の基を表し、
n1及びn2は、それぞれ独立して、0以上の整数を表す。)
[10] B11が、下記式(Cy1)~(Cy9)で表される構造からなる群から選択される2以上の環構造が縮合した縮合環を含む2価の基であって、かつ置換基を有していてもよい2価の基である、[9]に記載の光検出素子。
[11] S1及びS2が、それぞれ独立して、下記式(s-1)で表される基又は式(s-2)で表される基である、[9]又は[10]に記載の光検出素子。
X3は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ra10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表す。)
[12] A1及びA2が、それぞれ独立して、-CH=C(-CN)2で表される基、及び下記式(a-1)~式(a-9)からなる群から選択される基である、[8]~[11]のいずれか1つに記載の光検出素子。
Tは、
置換基を有していてもよい炭素環、又は
置換基を有していてもよい複素環を表し、
X4、X5、及びX6は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子、アルキリデン基、又は=C(-CN)2で表される基を表し、
X7は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい1価の複素環基を表し、
Ra1、Ra2、Ra3、Ra4、及びRa5は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基又は1価の複素環基を表す。)
Ra6及びRa7は、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよい1価の芳香族炭素環基、又は
置換基を有していてもよい1価の芳香族複素環基を表し、複数あるRa6及びRa7は同一であっても異なっていてもよい。)
[13] 前記n型半導体材料が、下記式(X)又は式(XI)で表される化合物である、[1]~[7]のいずれか1つに記載の光検出素子。
Ra8及びRa9は、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよい1価の芳香族炭素環基、又は
置換基を有していてもよい1価の芳香族複素環基を表し、複数あるRa8及びRa9は互いに同一であっても異なっていてもよい。)
[14] 前記n型半導体材料が、下記式N-5で表される化合物である、[13]に記載の光検出素子。
[16] [1]~[14]のいずれか1つに記載の光検出素子を含む生体認証装置。
[17] [1]~[14]のいずれか1つに記載の光検出素子を含むX線センサー。
[18] [1]~[14]のいずれか1つに記載の光検出素子を含む近赤外線センサー。
[19] n型半導体材料と、p型半導体材料とを含み、
前記n型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEA)と、前記n型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEB)との和の値(ΔEA+ΔEB)が0を超えて0.88未満の範囲である、組成物。
[20] [19]に記載の組成物と、溶媒とを含む、インク組成物。
まず、本明細書において、共通の意味として用いられる用語について説明する。
「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が、1×103以上1×108以下である重合体を意味する。高分子化合物に含まれる構成単位は、合計100モル%である。
置換オキシカルボニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常2~60であり、好ましくは2~48である。
比検出能は、後述する通り、EQEをJdの平方根で除算した値に比例するため、EQEを大きくしつつJdを低減することで比検出能を向上することができるが、一般的にはEQEの向上とJdの低減とはトレードオフの関係にある。本発明では、n型半導体材料とp型半導体材料のHOMO、LUMOエネルギーを所定の範囲に設定することで、EQEを大きくしつつJdを低減することができる。すなわち、ΔEA+ΔEBを小さい範囲に設定することで、光が照射されていない状態において、p型半導体材料からn型半導体材料への電子の移動、およびn型半導体材料からp型半導体材料へのホールの移動を最小限に抑えことができるため、Jdが低減されるものと考えられる。
さらに、ΔEA+ΔEBを小さい範囲に設定することで、p型半導体材料のLUMOとn型半導体材料のLUMOの差が小さい範囲に設定され、光吸収時にp/n界面で効率的に電荷分離が生じ、EQEが向上するものと考えられる。
以下、本実施形態の光検出素子に含まれうる構成要素について具体的に説明する。
光検出素子は、通常、基板(支持基板)上に形成される。また、更に基板(封止基板)により封止される場合もある。基板には、通常、一対の電極のうちの一方が形成される。基板の材料は、特に有機化合物を含む層を形成する際に化学的に変化しない材料であれば特に限定されない。
光検出素子は、一対の電極である第1の電極及び第2の電極を含んでいる。一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、光を入射させるために、透明又は半透明の電極とすることが好ましい。
活性層は、p型半導体材料(電子供与性化合物)とn型半導体材料(電子受容性化合物)とを含む。
本実施形態の光検出素子に用いられるp型半導体材料は、所定のポリスチレン換算の重量平均分子量を有する高分子化合物であることが好ましい。
Ar1及びAr2は、置換基を有していてもよい3価の芳香族複素環基又は置換基を有していてもよい3価の芳香族炭素環基を表し、
Zは下記式(Z-1)~式(Z-7)で表される基を表す。
本実施形態のn型半導体材料は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
A1-B10-A2 (VIII)
Tは、置換基を有していてもよい炭素環、又は置換基を有していてもよい複素環を表す。炭素環及び複素環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。これらの環が置換基を複数有する場合、複数ある置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、置換基を有していてもよい1価の芳香族炭素環基、又は置換基を有していてもよい1価の芳香族複素環基を表し、複数あるRa6及びRa7は、同一であっても異なっていてもよい。
A1-(S1)n1-B11-(S2)n2-A2 (IX)
A1及びA2は、それぞれ独立して、電子求引性の基を表す。A1及びA2の例及び好ましい例は、前記式(VIII)におけるA1及びA2について説明した例及び好ましい例と同様である。
2価の複素環基の例としては、2価の芳香族複素環基が挙げられる。
2価の芳香族炭素環基又は2価の芳香族複素環基が縮合環である場合、縮合環を構成する環の全部が芳香族性を有する縮合環であってもよく、一部のみが芳香族性を有する縮合環であってもよい。
X3は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ra10は、前記定義のとおりである。
B11は、好ましくは、前記式(Cy1)~式(Cy9)で表される構造からなる群から選択された2以上の構造が縮合してなる縮合環基であって、オルト-ペリ縮合構造を含まない縮合環基であり、かつ置換基を有していてもよい縮合環基である。B11は、前記式(Cy1)~式(Cy9)で表される構造のうち、2以上の同一の構造が縮合した構造を含んでいてもよい。
式(b-1)~式(b-14)中、Ra10は、前記定義のとおりである。式(b-1)~式(b-14)中、複数のRa10は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
図1に示されるとおり、本実施形態の光検出素子は、特性を向上させるための構成要素として、例えば、電荷輸送層(電子輸送層、正孔輸送層、電子注入層、正孔注入層)などの中間層(バッファー層)を備えていることが好ましい。
本実施形態の光検出素子は、封止部材をさらに含み、かかる封止部材により封止された封止体とすることが好ましい。
本実施形態の光検出素子の製造方法は、特に限定されない。光検出素子は、各構成要素を形成するにあたり選択された材料に好適な形成方法を組み合わせることにより製造することができる。
本工程では、陽極が設けられた支持基板を用意する。
支持基板に陽極を設ける方法は特に限定されない。陽極は、例えば、電極の材料として例示した材料を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、めっき法等によって、既に説明した材料によって構成される支持基板上に形成することができる。
必要に応じて、陽極上には正孔輸送層が形成される。
正孔輸送層の形成方法は特に限定されない。正孔輸送層の形成工程をより簡便にする観点からは、塗布法によって正孔輸送層を形成することが好ましい。正孔輸送層は、例えば、既に説明した正孔輸送性材料と溶媒とを含む塗布液を、正孔輸送層が形成されるべき層上に塗布することにより形成することができる。
本実施形態の活性層を形成する工程は、バルクヘテロジャンクション型の活性層を形成する工程である。塗布液であるインク組成物は、n型半導体材料と、p型半導体材料とを含み、n型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値からp型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEA)と、n型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値からp型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEB)との和の値(ΔEA+ΔEB)が0を超えて0.88未満の範囲(0<ΔEA+ΔEB<0.88)である組成物と、溶媒とを含む。
塗布液を塗布対象に塗布する方法としては、任意好適な塗布法を用いることができる。
塗布液の塗膜から、溶媒を除去する方法、すなわち塗膜から溶媒を除去して固化膜とする方法としては、任意好適な方法を用いることができる。溶媒を除去する方法の例としては、ホットプレートを用いて直接的に加熱する方法、熱風乾燥法、赤外線加熱乾燥法、フラッシュランプアニール乾燥法、減圧乾燥法などの乾燥法が挙げられる。
本実施形態の塗布液であるインク組成物は、活性層形成用の塗布液であって、p型半導体材料と、n型半導体材料と、溶媒として第1溶媒とを含み、さらに所望により第2溶媒を含み得る。以下、塗布液の成分について説明する。
塗布液中のp型半導体材料およびn型半導体材料の重量比(p型半導体材料/n型半導体材料)は、9/1~1/9の範囲とすることが好ましく、5/1~1/5の範囲とすることがより好ましく、3/1~1/3の範囲とすることが特に好ましい。
溶媒は、選択されたp型半導体材料及びn型半導体材料に対する溶解性、活性層を形成する際の乾燥条件に対応するための特性(沸点など)を考慮して選択すればよい。
第2溶媒は、特にn型半導体材料の溶解性を高め、暗電流の低減の観点から選択される溶媒であることが好ましい。第2溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、プロピオフェノン等のケトン溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸フェニル、エチルセルソルブアセテート、安息香酸メチル、安息香酸ブチル、安息香酸ベンジル等のエステル溶媒、o-ジクロロベンゼン等の芳香族炭素溶媒が挙げられる。
第1溶媒の第2溶媒に対する重量比(第1溶媒/第2溶媒)は、p型半導体材料及びn型半導体材料の溶解性をより向上させる観点から、85/15~99/1の範囲とすることが好ましい。
塗布液に含まれる第1溶媒及び第2溶媒の総重量は、塗布液の全重量を100重量%としたときに、p型半導体材料及びn型半導体材料の溶解性をより向上させる観点から、好ましくは90重量%以上、より好ましくは92重量%以上、さらに好ましくは95重量%以上であり、塗布液中のp型半導体材料及びn型半導体材料の濃度を高くして一定の厚さ以上の層を形成し易くする観点から、好ましくは99.9重量%以下である。
塗布液は、第1溶媒及び第2溶媒以外の任意の溶媒を含んでいてもよい。塗布液に含まれる全溶媒の合計重量を100重量%とした場合に、任意の溶媒の含有率は、好ましくは5重量%以下であり、より好ましくは3重量%以下であり、さらに好ましくは1重量%以下である。任意の溶媒としては、第2溶媒より沸点が高い溶媒が好ましい。
塗布液には、第1の溶媒(及び第2の溶媒)、p型半導体材料、及びn型半導体材料の他に、本発明の目的及び効果を損なわない限度において、紫外線吸収剤、酸化防止剤、吸収した光により電荷を発生させる機能を増感するためのため増感剤、紫外線からの安定性を増すための光安定剤といった任意の成分が含まれていてもよい。
塗布液における、p型半導体材料およびn型半導体材料の合計の濃度は、必要とされる活性層の厚さに応じて、任意好適な濃度とすることができる。p型半導体材料及びn型半導体材料の合計の濃度は、0.01重量%以上20重量%以下であることが好ましく、0.01重量%以上10重量%以下であることがより好ましく、0.01重量%以上5重量%以下であることがさらに好ましく、0.1重量%以上5重量%以下であることが特に好ましい。
塗布液は、従来公知の方法により調製することができる。例えば、第1溶媒及び第2溶媒を混合して混合溶媒を調製し、混合溶媒にp型半導体材料及びn型半導体材料を添加する方法、第1溶媒にp型半導体材料を添加し、第2溶媒にn型半導体材料を添加してから、各材料が添加された第1溶媒及び第2溶媒を混合する方法などにより、調製することができる。
本実施形態の光検出素子の製造方法は、活性層と陰極との間に設けられた電子輸送層(電子注入層)を形成する工程を含む。
有機化合物である電子輸送性材料は、低分子有機化合物であっても、高分子有機化合物であってもよい。
本実施形態では、電子輸送層上に陰極が形成される。
本実施形態の光検出素子は、ワークステーション、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末、入退室管理システム、デジタルカメラ、及び医療機器などの種々の電子装置が備える検出部(センサー)に適用することができる。
特に、本実施形態にかかる光検出素子は、イメージセンサー及び生体認証装置に適用されうる。
図2は、固体撮像装置用のイメージ検出部の構成例を模式的に示す図である。
図3は、表示装置に一体的に構成される指紋検出部の構成例を模式的に示す図である。
指紋認証の実行時には、表示パネル部200の有機EL素子220から放射される光を用いて指紋検出部100が指紋を検出する。具体的には、有機EL素子220から放射された光は、有機EL素子220と指紋検出部100の光検出素子10との間に存在する構成要素を透過して、表示領域200a内である表示パネル部200の表面に接するように載置された手指の指先の皮膚(指表面)によって反射される。指表面によって反射された光のうちの少なくとも一部は、間に存在する構成要素を透過して光検出素子10によって受光され、光検出素子10の受光量に応じた電気信号に変換される。そして、変換された電気信号から、指表面の指紋についての画像情報が構成される。
以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示す。本発明は以下の実施例に限定されない。
p型半導体材料である高分子化合物P-2は、国際公開第2014/31364号に記載の方法を参考にして合成し、使用した。
p型半導体材料である高分子化合物P-3は、国際公開第2013/051676号に記載の方法を参考にして合成し、使用した。
p型半導体材料である高分子化合物P-4は、PM6(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
p型半導体材料である高分子化合物P-5は、国際公開第2011/052709号に記載の方法を参考にして合成し、使用した。
p型半導体材料である高分子化合物P-6は、PTB7(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
p型半導体材料である高分子化合物P-7は、PCE10/PTB7-Th(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
n型半導体材料である化合物N-1は、ITIC(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
n型半導体材料である化合物N-2は、ITIC-4F(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
n型半導体材料である化合物N-3は、Y6(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
n型半導体材料である化合物N-4は、IEICO-4F(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
n型半導体材料である化合物N-5は、diPDI(商品名、1-material社製)を市場より入手して使用した。
n型半導体材料である化合物N-6(フラーレン誘導体)は、「[60]PCBM(phenyl C61-butyric acid methyl ester)」であるE100(商品名、フロンティアカーボン社製)を市場より入手して使用した。
まず、(高分子)化合物P-1~P-7及びN-1~N-5それぞれについて、オルトジクロロベンゼンに溶解させた溶液を得た。次に、得られた溶液それぞれを、ガラス基板上にスピンコート法により塗布して、塗布膜を形成し、70℃のホットプレートで乾燥して、厚さ100nmの層を形成してサンプルとした。
得られたサンプルそれぞれについて、大気中、光電子分光装置(理研計器株式会社製、モデルAC-2)を用いるUPS法により測定された電子数に基づいて、(高分子)化合物P-1~P-7及びN-1~N-5それぞれのHOMOのエネルギーレベルを算出することができる。
式:LUMOのエネルギーレベル=バンドギャップ(Eg)―HOMOのエネルギーレベル
式:バンドギャップ(Eg)=hc/吸収端波長
式中、hはプランク定数を表し(h=6.626×10-34Js)、cは光速を表す(c=3×108m/s)。
CV測定は、例えば、以下の機材を用いて行うことができる。
CV測定装置:3電極システム
支持電解質:ヘキサフルオロりん酸テトラブチルアンモニウム(Bu4NPF6)を濃度0.1M含むアセトニトリル溶液
作用電極:グラッシーカーボン
対極:白金ワイヤ
参照電極:Ag/Ag+
標準電位:フェロセン(E1/2=0.120V vs. Ag/Ag+)
スキャンレート:100mV/秒
下記表2にも示すとおり、溶媒である1,2-ジクロロベンゼンに対し、n型半導体材料である化合物N-1をインク組成物の全重量に対して2重量%の濃度となるように、また、p型半導体材料である高分子化合物P-1をインク組成物の全重量に対し2重量%の濃度となるように(n型半導体材料/p型半導体材料=1/1)混合し、75℃で3時間撹拌を行って得られた混合液をフィルターを用いてろ過し、インク組成物(I-1)を得た。
n型半導体材料及びp型半導体材料を下記表2に示す組み合わせで使用した以外は、調製例1と同様にして、インク組成物(I-2)~(I-7)及びインク組成物(C-1)~(C-13)の調製を行った。
(1)光検出素子及びその封止体の製造
以下のとおり、光検出素子及びその封止体を製造した。
以上の工程により、ガラス基板上に光検出素子が製造された。得られた構造体をサンプル1とした。
製造された光検出素子の封止体に対し、-2Vの逆バイアス電圧を印加し、この印加電圧における外部量子効率(EQE)と暗電流とをそれぞれをソーラーシミュレーター(CEP-2000、分光計器社製)とソースメータ(KEITHLEY 2450 Source Meter、ケースレーインスツルメンツ社製)とを用いて測定して評価した。
インク組成物(I-1)の代わりに、実施例2~5についてはインク組成物(I-2)(実施例2)、(I-3)(実施例3)、(I-6)(実施例4)及び(I-7)(実施例5)を、比較例1~13についてはインク組成物(C-1)~(C-13)を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例2~5及び比較例1~13にかかる光検出素子及びその封止体を製造し、評価した。結果を下記表3に示す。
2 表示装置
10 光検出素子
11、210 支持基板
12 第1の電極
13 電子輸送層
14 活性層
15 正孔輸送層
16 第2の電極
17 封止部材
20 CMOSトランジスタ基板
30 層間絶縁膜
32 層間配線部
40 封止層
50 カラーフィルター
100 指紋検出部
200 表示パネル部
200a 表示領域
220 有機EL素子
230 タッチセンサーパネル
240 封止基板
Claims (16)
- 陽極と、陰極と、該陽極と該陰極との間に設けられており、p型半導体材料及びn型半導体材料を含む活性層とを備え、
前記n型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEA)と、前記n型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEB)との和の値(ΔEA+ΔEB)が0.20~0.67の範囲であり、
前記n型半導体材料が、下記式(VIII)で表される化合物である、光検出素子。
A 1 -B 10 -A 2 (VIII)
(式(VIII)中、
A 1 及びA 2 は、それぞれ独立して、電子求引性の基を表し、
B 10 は、π共役系を含む基を表す。) - 前記p型半導体材料が、下記式(I)で表される構成単位を含む高分子化合物である、請求項1に記載の光検出素子。
Rは、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、
置換基を有していてもよいアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいアリールチオ基、
置換基を有していてもよい1価の複素環基、
置換基を有していてもよい置換アミノ基、
置換基を有していてもよいイミン残基、
置換基を有していてもよいアミド基、
置換基を有していてもよい酸イミド基、
置換基を有していてもよい置換オキシカルボニル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
置換基を有していてもよいアルキニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキニル基、
シアノ基、
ニトロ基、
-C(=O)-Raで表される基、又は
-SO2-Rbで表される基を表し、
Ra及びRbは、それぞれ独立して、
水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は
置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。
式(Z-1)~式(Z-7)中、Rが2つある場合、2つのRは同一であっても異なっていてもよい。) - 前記p型半導体材料が、下記式(II)又は下記式(III)で表される構成単位を含む高分子化合物である、請求項1又は2に記載の光検出素子。
Ar1及びAr2は、置換基を有していてもよい3価の芳香族複素環基又は置換基を有していてもよい3価の芳香族炭素環基を表し、
Rは、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、
置換基を有していてもよいアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいアリールチオ基、
置換基を有していてもよい1価の複素環基、
置換基を有していてもよい置換アミノ基、
置換基を有していてもよいイミン残基、
置換基を有していてもよいアミド基、
置換基を有していてもよい酸イミド基、
置換基を有していてもよい置換オキシカルボニル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
置換基を有していてもよいアルキニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキニル基、
シアノ基、
ニトロ基、
-C(=O)-Raで表される基、又は
-SO2-Rbで表される基を表し、
Ra及びRbは、それぞれ独立して、
水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は
置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。) - 前記式(IV)中、X1及びX2が硫黄原子であり、Z1及びZ2が=C(R)-で表される基である、請求項4に記載の光検出素子。
- 前記p型半導体材料が、下記式(VI-1)~式(VI-7)で表される構成単位を含む高分子化合物である、請求項1~5のいずれか1項に記載の光検出素子。
X1及びX2は、それぞれ独立して、硫黄原子又は酸素原子であり、
Z1及びZ2は、それぞれ独立して、=C(R)-で表される基又は窒素原子であり、
Rは、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、
置換基を有していてもよいアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいアリールチオ基、
置換基を有していてもよい1価の複素環基、
置換基を有していてもよい置換アミノ基、
置換基を有していてもよいイミン残基、
置換基を有していてもよいアミド基、
置換基を有していてもよい酸イミド基、
置換基を有していてもよい置換オキシカルボニル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
置換基を有していてもよいアルキニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキニル基、
シアノ基、
ニトロ基、
-C(=O)-Raで表される基、又は
-SO2-Rbで表される基を表し、
Ra及びRbは、それぞれ独立して、
水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は
置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。
Rが2つある場合、2つあるRは、同一であっても異なっていてもよい。) - 前記n型半導体材料が、下記式(IX)で表される化合物である、請求項1に記載の光検出素子。
A1-(S1)n1-B11-(S2)n2-A2 (IX)
(式(IX)中、
A1及びA2は、前記定義のとおりであり、
S1及びS2は、それぞれ独立して、
置換基を有していてもよい2価の炭素環基、
置換基を有していてもよい2価の複素環基、
-C(Rs1)=C(Rs2)-で表される基、又は
-C≡C-で表される基を表し、
Rs1及びRs2は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を表し、
B11は、炭素環及び複素環からなる群から選択される2以上の環構造が縮合した縮合環を含む2価の基であって、オルト-ペリ縮合構造を含まず、かつ置換基を有していてもよい2価の基を表し、
n1及びn2は、それぞれ独立して、0以上の整数を表す。) - B11が、下記式(Cy1)~(Cy9)で表される構造からなる群から選択される2以上の環構造が縮合した縮合環を含む2価の基であって、かつ置換基を有していてもよい2価の基である、請求項7に記載の光検出素子。
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、
置換基を有していてもよいアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルチオ基、
置換基を有していてもよいアリールチオ基、
置換基を有していてもよい1価の複素環基、
置換基を有していてもよい置換アミノ基、
置換基を有していてもよいイミン残基、
置換基を有していてもよいアミド基、
置換基を有していてもよい酸イミド基、
置換基を有していてもよい置換オキシカルボニル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
置換基を有していてもよいアルキニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキニル基、
シアノ基、
ニトロ基、
-C(=O)-Raで表される基、又は
-SO2-Rbで表される基を表し、
Ra及びRbは、それぞれ独立して、
水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は
置換基を有していてもよい1価の複素環基を表す。
Rが2つある場合、2つのRは同一であっても異なっていてもよい。) - A1及びA2が、それぞれ独立して、-CH=C(-CN)2で表される基、及び下記式(a-1)~式(a-9)からなる群から選択される基である、請求項1~9のいずれか1項に記載の光検出素子。
Tは、
置換基を有していてもよい炭素環、又は
置換基を有していてもよい複素環を表し、
X4、X5、及びX6は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子、アルキリデン基、又は=C(-CN)2で表される基を表し、
X7は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい1価の複素環基を表し、
Ra1、Ra2、Ra3、Ra4、及びRa5は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基又は1価の複素環基を表す。)
Ra6及びRa7は、それぞれ独立して、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
置換基を有していてもよいアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシ基、
置換基を有していてもよい1価の芳香族炭素環基、又は
置換基を有していてもよい1価の芳香族複素環基を表し、複数あるRa6及びRa7は同一であっても異なっていてもよい。) - 請求項1~10のいずれか1項に記載の光検出素子を含むセンサー。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載の光検出素子を含む生体認証装置。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載の光検出素子を含むX線センサー。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載の光検出素子を含む近赤外線センサー。
- n型半導体材料と、p型半導体材料とを含み、
前記n型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のHOMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEA)と、前記n型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値から前記p型半導体材料のLUMOのエネルギーレベルの絶対値を減じた値(ΔEB)との和の値(ΔEA+ΔEB)が0.20~0.67の範囲であり、
前記n型半導体材料が、下記式(VIII)で表される化合物である、組成物。
A 1 -B 10 -A 2 (VIII)
(式(VIII)中、
A 1 及びA 2 は、それぞれ独立して、電子求引性の基を表し、
B 10 は、π共役系を含む基を表す。) - 請求項15に記載の組成物と、溶媒とを含む、インク組成物。
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