JP7321366B2 - ミラー装着部材、これを用いた位置計測用ミラー、露光装置および荷電粒子線装置 - Google Patents

Description

本開示は、例えば、ステージ装置において基板ステージの位置計測に用いる反射膜を装着するためのミラー装着部材、これを用いた位置計測用ミラー、露光装置および荷電粒子線装置に関する。

近年、半導体デバイスの集積度の向上に伴って、回路パターンの露光転写精度を上げるよう要求が高まっている。この要求に対応する技術として、エネルギーレベルの高い超短波長の紫外線（波長１３ｎｍ）やＸ線（波長０．１～１０ｎｍ）による極端紫外線露光（ＥＵＶＬ）技術が用いられるようになってきている。極端紫外線露光（ＥＵＶＬ）技術を用いた極端紫外線露光装置の概略構成を図３に示す。

図３は、極端紫外線露光装置の概略構成を示す模式図である。この極端紫外線露光装置３０の構成は、特許文献１に示されている。具体的には、光源から放射された極端紫外線は、チャンバ２１内の所定位置に設置された照明光学系２２で集光された後、露光パターンを備えるレチクル２３面上で所定の大きさのビームに成形される。レチクル２３はレチクルステージ２４に保持されている。レチクル２３を照射した極端紫外線は、ミラー２５ａ、２５ｂを組み合わせた縮小光学系２５を通して、ウエハステージ２４上に保持された半導体ウェハ２６の表面に縮小結合される。

ウエハステージ２４上に搭載された位置計測用ミラー２７は、基材（ミラー装着部材）の表面にウエハステージ２４の位置を計測するための反射膜を備えており、ウエハステージ２４の位置を計測する。

特開平７－２６３３２２号公報

本開示のミラー装着部材は、光源から出射された光を反射する反射膜の装着面を備える、セラミックスまたはガラスからなる角柱状または角筒状の構造体からなる。前記装着面は、開気孔を複数有し、前記構造体は中間領域に閉気孔を複数有する。隣り合う前記開気孔の重心間距離の平均値（Ａ）から前記開気孔の円相当径の平均値（Ｂ）を引いた値を値（Ｃ）とし、かつ隣り合う前記閉気孔の重心間距離の平均値（Ｄ）から前記閉気孔の円相当径の平均値（Ｅ）を引いた値を値（Ｆ）としたときに、前記値（Ｆ）は、前記値（Ｃ）よりも小さい。

本開示のミラー装着部材は、光源から出射された光を反射する反射膜の装着面を備える、セラミックスまたはガラスからなる角柱状または角筒状の構造体からなり、前記装着面は、開気孔を複数有し、隣り合う前記開気孔の重心間距離の平均値（Ａ）から前記開気孔の円相当径の平均値（Ｂ）を引いた値（Ｃ）が４２μｍ以上８５μｍ以下である。

本開示の位置計測用ミラーは、上記ミラー装着部材における装着面に反射膜を装着してなる。

本開示の露光装置は、上記位置計測用ミラーが搭載された基板ステージを備える。

本開示の荷電粒子線装置は、上記位置計測用ミラーが搭載された基板ステージを備える。

本開示の位置計測用ミラーが搭載されたステージ機構の一例を示す平面図である。 本開示のミラー装着部材の一例を示す斜視図である。 本開示のミラー装着部材の他の例を示す斜視図である。 極端紫外線露光装置の概略構成を示す模式図である。

以下、本開示のミラー装着部材および位置計測用ミラーの一例を、図面を参照して説明する。

図１は、本開示の位置計測用ミラーが搭載されたステージ機構の一例を示す平面図である。このステージ機構２０は半導体ウェハ１を載置するステージ２と、ステージ２をＸ方向に移動させるＸ方向モータ３と、ステージ２をＹ方向に移動させるＹ方向モータ４と、ステージ２の端部に固定されＹ方向に伸びる角柱状のＸ方向位置計測用ミラー５と、ステージ２の端部に固定されＸ方向に伸びる角柱状をなすＹ方向位置計測用ミラー６と、を備えている。

レーザー光源７はＸ方向位置計測用ミラー５に向かってレーザー光を照射して、ステージ２のＸ方向の位置をレーザー干渉計（図示しない）で計測する。同様に、レーザー光源８はＹ方向位置計測用ミラー６に向かってレーザー光を照射して、ステージ２のＹ方向の位置をレーザー干渉計（図示しない）で計測する。

Ｘ方向位置計測用ミラー５およびＹ方向位置計測用ミラー６（以下、Ｘ方向位置計測用ミラー５およびＹ方向位置計測用ミラー６をまとめていう場合、単に位置計測用ミラー５、６という。）は、レーザー光源７、８からそれぞれ出射された光を反射する反射膜９、１０と、この反射膜９、１０の装着面を備えた、角柱状のセラミックスまたはガラスからなるミラー装着部材１１、１２（構造体）とを備えている。反射膜９、１０は、いずれもレーザー光を反射するミラーとして機能する。ミラー装着部材１１、１２はいずれも角筒状であってもよい。角筒状であると、軽量化されるので、ステージ２が撓みにくくなる。

ミラー装着部材１１、１２は、例えば、幅が１５ｍｍ～２５ｍｍ、厚みが１０ｍｍ～２０ｍｍ、長さが３００ｍｍ～４００ｍｍである。幅の定義は後述する。

ミラー装着部材１１、１２の装着面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、例えば、０．０５μｍ以上０．２μｍ以下である。算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準拠して求めることができ、例えば、(株)小坂研究所製 表面粗さ測定機（サーフコーダ）ＳＥ５００を用い、触針の半径を５μｍ、触針の材質をダイヤモンド、測定長さを１．２５ｍｍ、カットオフ値を０．２５ｍｍとすればよい。

算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以上であると、蒸着法やスパッタリング法で反射膜を形成する場合、適切なアンカー効果を得ることができる。一方、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以下であると、深い傷が装着面に相対的に少なくなるので、傷の内部に粗大な浮遊粒子が付着しにくくなる。算術平均粗さＲａが上記範囲であると、反射膜の接合強度が向上すると共に、反射膜の表面の平面度も適正な範囲で制御しやすくなる。

反射膜９、１０は、例えば、厚みが５ｎｍ～１５ｎｍであり、アルミニウム、金、銀等からなる。反射膜は、例えば蒸着法、スパッタリング法によって形成することができる。さらに、反射膜９、１０の表面にＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２およびＴｉＯ_２の少なくともいずれかからなる増反射膜（図示しない）を設けてもよい。増反射膜は、例えば、厚みが１０ｎｍ～２０ｎｍであり、光の干渉効果により反射率を向上させることができる。

本開示のミラー装着部材１１、１２では、反射膜９、１０の装着面が開気孔を複数有し、隣り合う開気孔の重心間距離の平均値（Ａ）から開気孔の円相当径の平均値（Ｂ）を引いた値（Ｃ）が４２μｍ以上８５μｍ以下である。

上記値（Ｃ）が４２μｍ以上であると、反射膜９，１０の平面度を適正な範囲で制御することができるため、ステージ等の計測対象物の位置を正確に計測することができる。また、熱伝導を阻害する開気孔の間隔が広くなり、放熱性が維持されるので、レーザー光の照射を受けても、装着面における過度の昇温は抑制される。その結果、ミラー装着部材１１、１２の温度変化を低減し、反射膜９、１０の反射特性を良好に維持できる。上記値（Ｃ）が８５μｍ以下であると、反射膜９、１０を構成する成分がその製造工程で開気孔の内部に侵入してアンカー効果が得られやすくなり、反射膜９、１０はミラー装着部材１１、１２に対する密着性が向上する。

開気孔の重心間距離は、以下の方法で求めることができる。装着面を２００倍の倍率で観察し、平均的な範囲を選択して、例えば、面積が０．１０５ｍｍ^２（横方向の長さが３７４μｍ、縦方向の長さが２８０μｍ）となる範囲をＣＣＤカメラで撮影して、観察像を得る。

この観察像を対象として、画像解析ソフト「Ａ像くん(ｖｅｒ２．５２)」（登録商標、旭化成エンジニアリング（株）製）を用いて分散度計測の重心間距離法という手法で開気孔の重心間距離を求めればよい。以下、画像解析ソフト「Ａ像くん」と記載した場合、旭化成エンジニアリング（株）製の画像解析ソフトを示す。

この手法の設定条件としては、例えば、画像の明暗を示す指標であるしきい値を８６、明度を暗、小図形除去面積を１μｍ^２、雑音除去フィルタを有とすればよい。なお、観察像の明るさに応じて、しきい値は調整すればよく、明度を暗、２値化の方法を手動とし、小図形除去面積を１μｍ^２および雑音除去フィルタを有とした上で、観察像に現れるマーカーが気孔の形状と一致するように、しきい値を調整すればよい。

開気孔の円相当径は、以下の方法で求めることができる。

上記観察像を対象として、粒子解析という手法で開気孔の円相当径を求めればよい。

この手法の設定条件も分散度計測の重心間距離法で用いた設定条件と同じにすればよい。

また、開気孔の円相当径の平均値は０．３μｍ以下であり、円相当径の変動係数は、０．４以下であってもよい。

開気孔の円相当径の平均値および変動係数がこの範囲であると、開気孔は小さくなり、そのばらつきも減少するので、反射膜８、９の剥離の原因となる残留応力が局部的に大きくなることがない。

図２Ａは本開示のミラー装着部材の一例を示す斜視図であり、図２Ｂは本開示のミラー装着部材の他の例を示す斜視図である。

図２Ａに示すミラー装着部材（構造体）１１、１２は、角柱状であり、図２Ｂに示すミラー装着部材（構造体）１１１、１１２は、角筒状である。図１のミラー装着部材１１、１２は、この図２Ｂに示すミラー装着部材１１１、１１２に置き換えてもよい。

図２Ａ、図２Ｂに示すように、ミラー装着部材（構造体）１１、１２、１１１、１１２は、ミラー装着部材（構造体）１１、１２、１１１、１１２の幅に対して、装着面から深さ方向に１％以下の第１表層領域１１ａ（１２ａ）、１１１ａ（１１２ａ）と、装着面の反対側に位置する裏面から深さ方向に１％以下の第２表層領域１１ｂ（１２ｂ）、１１１ｂ（１１２ｂ）とによって挟まれる中間領域１１ｃ（１２ｃ）、１１１ｃ（１１２ｃ）を有している。

ここで、ミラー装着部材（構造体）１１、１２、１１１、１１２の幅とは、図１に示すミラー装着部材（構造体）１１、１１１では、Ｘ方向の長さをいい、ミラー装着部材（構造体）１２、１１２では、Ｙ方向の長さをいう。すなわち、上記幅は、レーザー光源７，８からのレーザー光の出射方向に平行である。

中間領域１１ｃ（１２ｃ）、１１１ｃ（１１２ｃ）は、閉気孔を複数有し、隣り合う閉気孔の重心間距離の平均値（Ｄ）から閉気孔の円相当径の平均値（Ｅ）を引いた値（Ｆ）は、値（Ｃ）よりも小さくてもよい。

このような構成であると、装着面側がレーザー光の照射を受けても、中間領域１１ｃ（１２ｃ）、１１１ｃ（１１２ｃ）は第１表層領域１１ａ（１２ａ）、１１１ａ（１１２ａ）よりも閉気孔の間隔が狭くなっているため、中間領域１１ｃ（１２ｃ）、１１１ｃ（１１２ｃ）で熱伝導が抑制され、半導体ウェハ１１が載置されている空間の温度上昇を防ぐことができる。その結果、ミラー装着部材１１、１２、１１１、１１２の温度変化を低減し、反射膜９、１０の反射特性を良好に維持できる。

開気孔の重心間距離は、以下の方法で求めることができる。

まず、ミラー装着部材（構造体）１１、１２、１１１、１１２の中間領域１１ｃ（１２ｃ）、１１１ｃ（１１２ｃ）を切断し、切断した断面を研磨する。具体的には、平均粒径Ｄ_５０が３μｍのダイヤモンド砥粒を用いて銅盤にて断面を研磨する。その後、平均粒径Ｄ_５０が０．５μｍのダイヤモンド砥粒を用いて錫盤にて研磨することにより研磨面を得る。

そして、この研磨面を対象にして、開気孔の重心間距離および円相当径を求めた方法と同じ方法で閉気孔の重心間距離および円相当径を求めればよい。

構造体は、高い寸法安定性、耐熱性、耐熱変形性等が要求されることから、例えば、酸化アルミニウム、コージェライト、リチウムアルミノシリケート、リン酸ジルコニウムカリウムもしくはムライトを主成分とするセラミックスまたはチタニウムケイ酸を主成分とするガラスからなる。

特に、構造体は、酸化アルミニウムを主成分とするセラミックスからなり、セラミックスにおける酸化アルミニウムの含有量が、９９．７質量％以上であるとよい。

酸化アルミニウムの含有量がこの範囲であると、レーザー光が基板２に向かって大量に照射されても、ミラー装着部材から破砕層が生じにくい状態になっているので、長期間に亘って位置計測用ミラーとして用いることができる。

さらに、セラミックスにおける酸化アルミニウムの含有量が、９９．９９９質量％以上であるとよい。

ここで、酸化アルミニウムの含有量は、グロー放電質量分析装置（ＧＤＭＳ）を用いて、酸化アルミニウム以外の元素の含有量を求め、これら各元素の含有量の合計を除く値となる。

構造体は、コージェライトを主成分とするセラミックスからなり、希土類元素を酸化物に換算して２質量％以上６質量以下含んでいてもよい。

希土類元素の酸化物は、焼結工程で焼結助剤として作用するため、脱粒が生じにくい装着面を得ることができ、希土類元素の酸化物の含有量が２質量％以上であると、脱粒抑制の効果が高くなる。希土類元素の酸化物の含有量が６質量％以下であると、希土類元素を含むシリケートあるいはダイシリケートが生成しにくくなり、これらの生成によって生じる剛性の低下を抑制することができる。

構造体は、コージェライトが主成分であるセラミックスからなり、ＣａがＣａＯ換算で０．４質量％以上０．６質量％以下、ＡｌがＡｌ_２Ｏ_３換算で２．３質量％以上３．５質量％以下ならびにＭｎおよびＣｒがＭｎＣｒ_２Ｏ_４換算で０．６質量％以上０．７質量％以下含んでいてもよい。

高い剛性を有しつつ、０℃～５０℃の温度範囲における平均線膨張率を±２０×１０^－９／Ｋ以内と低くすることができる。

構造体は、リチウムアルミノシリケートを主成分とするセラミックスからなり、炭化珪素、窒化珪素、サイアロンおよび炭窒化珪素の少なくともいずれかを含んでいてもよい。

温度が上昇すると、リチウムアルミノシリケートは収縮し、炭化珪素、窒化珪素、サイアロンおよび炭窒化珪素はいずれも膨張する。構造体は互いの収縮、膨張を打ち消し合う比率で形成されると、高い剛性を有しつつ、０℃～５０℃の温度範囲における平均線膨張率を±５０×１０－９／Ｋ以内と低くすることができる。

構造体を形成するセラミックスの主成分がリチウムアルミノシリケートである場合、炭化珪素を２０質量％以上２５質量％以下、窒化珪素、サイアロンおよび炭窒化珪素の少なくともいずれかを合計０．５質量％以上１．５質量％以下含んでいるとよい。

構造体は、ニッケルを含み、ニッケルを酸化物（ＮｉＯ）に換算した含有量が４質量ｐｐｍ以下であってもよい。ニッケルは、酸化すると、酸化の程度に応じて色調がばらつきやすく、商品価値を損ねやすいが、ニッケルを酸化物（ＮｉＯ）に換算した含有量が上記範囲であると、色調のばらつきが抑制され、商品価値が向上する。

ニッケルをＮｉＯに換算した含有量は、グロー放電質量分析装置（ＧＤＭＳ）を用いて求めればよい。

また、ガラスの例として、チタニウムケイ酸を主成分とするガラスが挙げられる。平均線膨張率が小さいセラミックスまたはガラスからなる部材を用いれば、大きな温度変化に曝されても形状の変化が小さいため、構造体は高い信頼性を有する。

ここで、構造体２がセラミックスからなる場合、ＪＩＳ Ｒ １６１８：２００２に準拠して、平均線膨張率を求めればよい。

構造体２がガラスからなる場合、ＪＩＳ Ｒ ３２５１：１９９５に準拠して、平均線膨張率を求めればよい。

なお、構造体２の平均線膨張率が±１×１０^－６／Ｋ以内である場合には、光ヘテロダイン法１光路干渉計を用いて測定すればよい。

セラミックスにおける主成分とは、セラミックスを構成する成分の合計１００質量％のうち、６０質量％以上を占める成分をいう。特に、主成分は、セラミックスを構成する成分の合計１００質量％のうち、９５質量％以上を占める成分であるとよい。セラミックスを構成する成分は、Ｘ線回折装置（ＸＲＤ）を用いて求めればよい。各成分の含有量は、成分を同定した後、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）またはＩＣＰ発光分光分析装置を用いて、成分を構成する元素の含有量を求め、同定された成分に換算すればよい。ガラスについても同様である。

次に、本開示のミラー装着部材の製造方法について説明する。

まず、セラミックスにおける主成分が酸化アルミニウムである場合、酸化アルミニウム粉末（純度が９９．９質量％以上）と、水酸化マグネシウム、酸化珪素および炭酸カルシウムの各粉末とを粉砕用ミルに溶媒（イオン交換水）とともに投入して、粉末の平均粒径（Ｄ_５０）が１．５μｍ以下になるまで粉砕した後、有機結合剤と、酸化アルミニウム粉末を分散させる分散剤とを添加、混合してスラリーを得る。

ここで、上記粉末の合計１００質量％における水酸化マグネシウム粉末の含有量は０．４３～０．５３質量％、酸化珪素粉末の含有量は０．０３９～０．０４１質量％、炭酸カルシウム粉末の含有量は０．０２０～０．０７１質量％であり、残部が酸化アルミニウム粉末および不可避不純物である。

また、ニッケルを酸化物（ＮｉＯ）に換算した含有量が４質量ｐｐｍ以下である構造体を得るには、脱鉄機を用いて湿式脱鉄、乾式脱鉄等の脱鉄処理を施せばよい。

湿式脱鉄および乾式脱鉄を併用する場合、各脱鉄で用いる磁力の磁束密度は、例えば、それぞれ０．６テスラ以上２テスラ以下である。

有機結合剤は、アクリルエマルジョン、ポリビニールアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド等である。

次に、スラリーを噴霧造粒して顆粒を得た後、冷間静水圧加圧装置を用いて、成形圧を７８Ｍｐａ以上１２８ＭＰａ以下として加圧することにより角柱状の成形体を得る。

ここで、必要に応じて切削加工などにより成形体を角筒状にした後、焼成温度を１５００℃以上１６００℃以下、焼成雰囲気を大気雰囲気、保持時間を４時間以上６時間以下として、成形体を焼成することによって焼結体を得ることができる。

この焼結体を、熱間静水圧加圧装置を用いて、熱処理温度を１４００℃以上１６５０℃以下、熱処理の雰囲気をアルゴン雰囲気、圧力を９０ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下として熱処理する。

開気孔の円相当径の平均値が０．３μｍ以下であり、円相当径の変動係数が０．４以下である、ミラー装着部材を得るには、上記粉末の平均粒径（Ｄ_５０）を１．２μｍ以下とし、焼成温度を１５００℃以上１６００℃以下、焼成雰囲気を大気雰囲気、保持時間を５時間以上６時間以下として、成形体を焼成した後、熱処理温度を１４００℃以上１６５０℃以下、熱処理の雰囲気をアルゴン雰囲気、圧力を９０ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下として熱処理すればよい。

なお、酸化アルミニウムの含有量が９９．７質量％以上であるセラミックスを得るには、純度が９９．７質量％以上である酸化アルミニウム粉末を粉砕用ミルに溶媒（イオン交換水）とともに投入して、粉末の平均粒径（Ｄ_５０）が１．５μｍ以下になるまで粉砕した後、有機結合剤と、酸化アルミニウム粉末を分散させる分散剤とを添加、混合してスラリーを得る。酸化アルミニウムの含有量が９９．９９９質量％以上であるセラミックスを得るには、純度が９９．９９９質量％以上である酸化アルミニウム粉末を用いればよい。そして、上述した製造方法で、順次、成形、焼成、熱処理を行えばよい。

セラミックスにおける主成分がコージェライトである場合、コージェライトの粉末と、希土類元素の酸化物の粉末とを粉砕用ミルに溶媒（イオン交換水）とともに投入して、粉末の粒径が０．２５μｍ以下になるまで粉砕する。粉砕後、有機結合剤と、コージェライトの粉末を分散させる分散剤とを添加、混合してスラリーを得る。

ここで、例えば、上記粉末の合計１００質量％における、希土類元素の酸化物の粉末は合計２質量％以上６質量％以下である。

希土類元素の酸化物の粉末に代えて、炭酸カルシウムの粉末、酸化アルミニウムの粉末、およびクロム酸マンガン（ＭｎＣｒ２Ｏ４）の粉末を用いてもよい。

この場合、炭酸カルシウムの粉末は、１質量％以上１．５質量％以下、酸化アルミニウムの粉末は２．３質量％以上３．５質量％以下、クロム酸マンガン（ＭｎＣｒ２Ｏ４）の粉末は、０．６質量％以上０．７質量％以下である。

脱鉄処理をする場合、上述した脱鉄処理を用いればよい。

次に、上述した方法と同じ方法により、角柱状あるいは角筒状の成形体を得た後、焼成温度を１３５０℃以上１４００℃以下、焼成雰囲気をアルゴン等の不活性ガス雰囲気中、ガス圧を１５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下として、成形体を焼成すればよい。

ここで、ガス圧を１８０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下することによって、開気孔の円相当径の平均値が０．３μｍ以下であり、円相当径の変動係数が０．４以下である、ミラー装着部材となる焼結体を得ることができる。

セラミックスにおける主成分がリチウムアルミノシリケートである場合、リチウムアルミノシリケートの粉末と炭化珪素、窒化珪素、サイアロンおよび炭窒化珪素の少なくともいずれかの粉末とを粉砕用ミルに溶媒（イオン交換水）とともに投入して、粉末の粒径が０．２５μｍ以下になるまで粉砕する。粉砕後、有機結合剤と、リチウムアルミノシリケートの粉末を分散させる分散剤とを添加、混合してスラリーを得る。

ここで、例えば、上記粉末の合計１００質量％における、炭化珪素の粉末の含有量は２０質量％以上２５質量％以下、窒化珪素、サイアロンおよび炭窒化珪素の少なくともいずれかの粉末は合計０．５質量％以上１．５質量％以下である。

脱鉄処理をする場合、上述した脱鉄処理を用いればよい。

次に、上述した方法と同じ方法により、角柱状あるいは角筒状の成形体を得た後、焼成温度を１２００℃以上１３８０℃以下、焼成雰囲気を窒素雰囲気として、成形体を焼成した後、１００ＭＰａ以上、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中、１１５０℃以上１３００℃以下で熱間静水圧加圧（ＨＩＰ）処理することで相対密度が９５％以上の焼結体を得ることができる。ここで、焼成温度を１２００℃以上１３１５℃以下として、上述した熱間静水圧加圧（ＨＩＰ）処理することによって、開気孔の円相当径の平均値が０．３μｍ以下であり、円相当径の変動係数が０．４以下である、ミラー装着部材となる焼結体を得ることができる。

次に、熱処理された焼結体のすべての外側面および端面を、例えば、平均粒径Ｄ_５０が３μｍのダイヤモンド砥粒を用いて銅盤にて研磨する。その後、平均粒径Ｄ_５０が０．５μｍのダイヤモンド砥粒を用いて錫盤にて研磨することによって、本開示のミラー装着部材を得ることができる。

そして、ミラー装着部材の装着面に、蒸着法またはスパッタリング法を用いて、アルミニウム、金、銀等からなる反射膜を形成することで、位置計測用ミラーを得ることができる。

従って、本開示は、位置計測用ミラーが搭載された基板ステージを備えた、縮小投影露光装置等の露光装置あるいは荷電粒子線装置に適用可能である。また、本開示の位置計測用ミラーは、露光装置や荷電粒子線装置だけでなく、正確な位置計測が要求される用途にも適用可能である。

以上、本開示の実施形態を説明したが、本開示はこれらの実施形態に限定されるものではなく、本開示の範囲内で変更、改善等をなし得るものである。

１ 半導体ウェハ
２ ステージ
３ Ｘ方向モータ
４ Ｙ方向モータ
５ Ｘ方向位置計測用ミラー
６ Ｙ方向位置計測用ミラー
７、８ レーザー光源
９、１０ 反射膜
１１、１２、１１１、１１２ ミラー装着部材
２０ ステージ機構

Claims (12)

1. 光源から出射された光を反射する反射膜の装着面を備える、セラミックスまたはガラスからなる角柱状または角筒状の構造体からなり、
   前記装着面は、開気孔を複数有し、前記構造体は中間領域に閉気孔を複数有し、
   隣り合う前記開気孔の重心間距離の平均値（Ａ）から前記開気孔の円相当径の平均値（Ｂ）を引いた値を値（Ｃ）とし、かつ
   隣り合う前記閉気孔の重心間距離の平均値（Ｄ）から前記閉気孔の円相当径の平均値（Ｅ）を引いた値を値（Ｆ）としたときに、
   前記値（Ｆ）は、前記値（Ｃ）よりも小さい、ミラー装着部材。
2. 前記中間領域は、前記構造体の幅に対して、前記装着面から深さ方向に１％以下の第１表層領域と、前記装着面の反対側に位置する裏面から深さ方向に１％以下の第２表層領域とによって挟まれる領域である、請求項１に記載のミラー装着部材。
3. 光源から出射された光を反射する反射膜の装着面を備える、セラミックスまたはガラスからなる角柱状または角筒状の構造体からなり、前記装着面は、開気孔を複数有し、隣り合う前記開気孔の重心間距離の平均値（Ａ）から前記開気孔の円相当径の平均値（Ｂ）を引いた値（Ｃ）が４２μｍ以上８５μｍ以下である、ミラー装着部材。
4. 前記開気孔の円相当径の平均値（Ｂ）は０．３μｍ以下であり、前記円相当径の変動係数は、０．４以下である、請求項１～３のいずれかに記載のミラー装着部材。
5. 前記構造体は、酸化アルミニウムを主成分とするセラミックスからなり、該セラミックスにおける酸化アルミニウムの含有量が、９９．７質量％以上である、請求項１～４のいずれかに記載のミラー装着部材。
6. 前記構造体は、コージェライトを主成分とするセラミックスからなり、希土類元素を酸化物に換算して２質量％以上６質量以下含む、請求項１～４のいずれかに記載のミラー装着部材。
7. 前記構造体は、コージェライトを主成分とするセラミックスからなり、ＣａがＣａＯ換算で０．４質量％以上０．６質量％以下、ＡｌがＡｌ_２Ｏ_３換算で２．３質量％以上３．５質量％以下ならびにＭｎおよびＣｒがＭｎＣｒ_２Ｏ_４換算で０．６質量％以上０．７質量％以下含んでいる、請求項１～４のいずれかに記載のミラー装着部材。
8. 前記構造体は、リチウムアルミノシリケートを主成分とするセラミックスからなり、炭化珪素、窒化珪素および炭窒化珪素の少なくともいずれかを含んでいる、請求項１～４のいずれかに記載のミラー装着部材。
9. 前記構造体は、ニッケルを含み、ニッケルを酸化物（ＮｉＯ）に換算した含有量が４質量ｐｐｍ以下である、請求項１～８のいずれかに記載のミラー装着部材。
10. 請求項１～９のいずれかに記載のミラー装着部材における前記装着面に反射膜を装着してなる、位置計測用ミラー。
11. 請求項１０に記載の位置計測用ミラーが搭載された基板ステージを備える、露光装置。
12. 請求項１１に記載の位置計測用ミラーが搭載された基板ステージを備える、荷電粒子線装置。

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