JP7311718B2

JP7311718B2 - 測距装置

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Publication number: JP7311718B2
Application number: JP2022553198A
Authority: JP
Inventors: 菜月本田; 正幸大牧; 彰太中原
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2021-07-30
Filing date: 2021-07-30
Publication date: 2023-07-19
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Description

本開示は、測距装置に関する。

測距装置は、目標領域にレーザ光を照射し、当該目標領域で反射又は散乱した戻り光の有無に基づいて物体の有無を検出する。また、測距装置は、レーザ光の照射タイミングから戻り光の受光タイミングまでの所要時間に基づいて、物体までの距離を検出する。例えば、特許文献１を参照。

特許文献１の装置では、測距可能距離を延ばすために、レーザ光を照射する照射光学系の光軸の一部を、戻り光を受光する受光光学系の光軸の一部と一致させている。また、特許文献１の装置は、レーザ光の光路と戻り光の光路とを分割する光分割素子を有する。特許文献１の光分割素子は、レーザ光を透過させる孔あきミラーである。

特表２０２０－５３１８４１号公報

しかしながら、特許文献１において、戻り光の受光量を増加させるために、光分割素子の孔を小さくした場合、当該孔を囲う内面（以下、「エッジ」とも呼ぶ。）においてレーザ光が散乱又は回折する。この場合、レーザ光のスポット径が大きくなるため、測距方位の分解能が低下する。また、レーザ光が孔を通過することで形成された散乱光及び回折光が迷光として受光光学系に入射した場合、受光光学系における迷光と戻り光との判別が困難となるため、測距可能距離が縮小する。

本開示は、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことを目的とする。

本開示の一態様に係る測距装置は、対象物で反射又は散乱した戻り光を検出して、前記対象物までの距離を測定する装置であって、マルチモードレーザ光を出射光として前記対象物に照射するレーザ光源部と、前記レーザ光源部から出射された前記出射光を走査する走査光学部と、前記走査光学部で走査された前記出射光が照射された前記対象物で反射又は散乱し、前記走査光学部で反射した前記戻り光を検出する受光光学部と、前記レーザ光源部から出射された前記出射光を前記走査光学部に向ける光路案内部と、前記出射光の中心光束を含む部分を通過させる第１の光通過部と、前記第１の光通過部の外側に配置された第１の遮光部とによって構成され、前記レーザ光源部から前記光路案内部に向かう前記出射光の光路上に配置され、前記出射光の径を小さくする第１のアパーチャ部と、前記第１のアパーチャ部から前記光路案内部に向かう前記出射光の光路上に配置され、前記第１の光通過部より大きい第２の光通過部を含む第２のアパーチャ部とを有する、ことを特徴とする。

本開示によれば、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

実施の形態に係る測距装置の概略的な構成と対象物とを示す構成図である。図１に示される光走査装置の概略的な構成を示す構成図である。図２に示されるアパーチャ部周辺の構成を示す図である。実施の形態の変形例１に係る測距装置の概略的な構成を示す構成図である。図４に示される第１のアパーチャ部及び第２のアパーチャ部周辺の構成を示す図である。回折が発生した出射光の光強度分布を示すグラフである。実施の形態の変形例２に係る測距装置の概略的な構成を示す構成図である。実施の形態の変形例２に係る測距装置の第１のアパーチャ部の他の例をＺ軸方向に見た図である。実施の形態の変形例２に係る測距装置の第１のアパーチャ部の更に他の例をＺ軸方向に見た図である。実施の形態の変形例３に係る測距装置の概略的な構成を示す構成図である。実施の形態の変形例４に係る測距装置の概略的な構成の一部を示す構成図である。実施の形態の変形例４に係る測距装置の第１のアパーチャ部の他の例をＺ軸方向に見た図である。

以下に、本開示の実施の形態に係る測距装置を、図面を参照しながら説明する。以下の実施の形態は、例にすぎず、実施の形態及び各変形例を適宜組み合わせること及び実施の形態及び各変形例を適宜変更することが可能である。

図面には、説明の理解を容易にするためにＸＹＺ直交座標系の座標軸が示されている。Ｚ軸は、測距装置から対象物に照射される出射光の出射方向に平行な座標軸である。Ｘ軸は、Ｚ軸に直交する座標軸である。Ｙ軸は、Ｘ軸及びＺ軸に直交する座標軸である。

《実施の形態》
〈測距装置１００の構成〉
図１は、実施の形態に係る測距装置１００の概略的な構成と対象物９０とを示す図である。測距装置１００は、出射光Ｌ１０が照射された対象物９０で反射又は散乱した戻り光Ｌ２０を検出して、対象物９０までの距離を検出する。測距装置１００は、例えば、出射光Ｌ１０としてシングルモードレーザ光又はマルチモードレーザ光を対象物９０に照射する。なお、測距装置１００は、複数の対象物９０までの距離を検出してもよい。そのため、測距装置１００は、少なくとも１つの対象物９０までの距離を検出することができる。

測距装置１００は、出射光走査装置（以下、「光走査装置」とも呼ぶ。）１０１と、コンピュータ１０２と、筐体１０３とを有する。

〈光走査装置１０１の構成〉
図２は、図１に示される光走査装置１０１の概略的な構成を示す構成図である。図２に示されるように、光走査装置１０１は、レーザ光源部１０と、走査光学部としての走査ミラー２０と、受光光学部としての受光光学系３０と、光路案内部としての光分割素子４０とを有する。

レーザ光源部１０は、光源１１と、照射光学系１２とを有する。以下の説明では、レーザ光源部１０の光軸を「光軸Ｃ１」と呼ぶ。

光源１１は、レーザ光Ｌ１を発する。光源１１は、例えば、半導体レーザ光源である。光源１１の出力は、例えば、１０Ｗ以上である。

照射光学系１２は、光源１１から発せられたレーザ光Ｌ１をコリメートする。言い換えれば、照射光学系１２は、レーザ光Ｌ１を平行光に変換して出射光Ｌ１０として出射する光学部である。照射光学系１２は、例えば、凸レンズ１２ａを有する。ここで、「コリメート」とは、レーザ光Ｌ１を平行化することであるが、照射光学系１２によって平行化された平行光は広がり角を有しており、当該広がり角は、例えば、０ｄｅｇから２ｄｅｇまでの範囲内である。

実施の形態では、光分割素子４０は、出射光Ｌ１０の光路と戻り光Ｌ２０の光路とを分離する光学部材である。受光光学系３０の光軸を光軸Ｃ３としたとき、光分割素子４０は、光軸Ｃ３に垂直な面に対してＸ軸回りに回転して傾斜している。図２に示す例では、光分割素子４０は、出射光Ｌ１０を反射させ、且つ戻り光Ｌ２０を透過させる。具体的には、光分割素子４０は、反射部４０ａと、透過部４０ｂとを有する。

反射部４０ａは、照射光学系１２から出射されて且つ後述するアパーチャ部５０を通過した出射光Ｌ１０を反射して、走査ミラー２０に向ける。反射部４０ａの形状は、例えば、円形である。なお、反射部４０ａの形状は、円形に限らず、楕円形又は矩形などの他の形状であってもよい。

透過部４０ｂは、走査ミラー２０で反射した戻り光Ｌ２０を透過させて、受光光学系３０に向ける。光分割素子４０は、例えば、透明ガラスに、反射部４０ａとしての反射膜がコーティングされることによって形成される。なお、光分割素子４０は、透過部４０ｂを有していなくても実現することができる。光分割素子４０は、例えば、反射部４０ａのみを有する微小ミラーであってもよい。この場合、走査ミラー２０で反射した戻り光Ｌ２０は、光分割素子４０の外側を通過して受光光学系３０に入射する。

走査ミラー２０は、光分割素子４０で反射した出射光Ｌ１０を走査する。走査ミラー２０は、出射光Ｌ１０を反射して対象物９０（図１参照）に向ける。走査ミラー２０は、２つの回転軸２１、２２周りに回転する。これにより、走査ミラー２０は、出射光Ｌ１０の出射方向を変化させて対象物９０に照射する。２つの回転軸２１、２２は、走査ミラー２０の反射面２０ａの法線に垂直な平面に平行であって且つ互いに垂直である。走査ミラー２０は、出射光Ｌ１０を２次元走査する。走査ミラー２０は、例えば、ＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）ミラーである。走査ミラー２０によって走査された出射光Ｌ１０は、対象物９０が位置する光走査領域に照射される。

受光光学系３０は、走査ミラー２０で反射した戻り光Ｌ２０を検出する。図２に示す例では、受光光学系３０は、集光光学部３１と、受光素子３２とを有する。

集光光学部３１は、光分割素子４０を透過した戻り光Ｌ２０の光路上に配置されている。集光光学部３１は、光分割素子４０を透過した戻り光Ｌ２０を集光して、受光素子３２に向ける。これにより、受光素子３２における戻り光Ｌ２０の検出精度を向上させることができる。集光光学部３１は、例えば、集光レンズを含む。

受光素子３２は、戻り光Ｌ２０を検出する。受光素子３２は、例えば、ＡＰＤ（ＡｖａｌａｎｃｈｅＰｈｏｔｏＤｉоｄｅ）若しくは単一光子ＡＰＤ等のフォトダイオード又はＳｉＰＭ（ＳｉｌｉｃｏｎＰｈｏｔｏＭｕｌｔｉｐｌｉｅｒｓ）である。ＡＰＤ、単一光子ＡＰＤ及びＳｉＰＭは高い感度を有するため、対象物９０（図１参照）が測距装置１００から離れた位置にあって且つ当該対象物９０における反射率が低い場合であっても、戻り光Ｌ２０を検出することができる。よって、測距装置１００による測距可能距離が増加するため、測距装置１００は、より広範囲にわたって対象物９０の正確な距離画像を取得することができる。

光走査装置１０１は、アパーチャ部５０（以下、「第１のアパーチャ部５０」とも呼ぶ。）を更に有する。

図３は、図２に示される光走査装置１０１のアパーチャ部５０周辺の構成を示す図である。レーザ光源部１０、アパーチャ部５０及び光分割素子４０は、光走査装置１０１の光送信光学系１１０を構成する。アパーチャ部５０は、レーザ光源部１０から光分割素子４０に向かう出射光Ｌ１０の光路上に配置されている。アパーチャ部５０は、照射光学系１２から出射された出射光Ｌ１０の径を小さくする。

アパーチャ部５０は、第１の光通過部としての開口５０ａ（以下、「第１の開口５０ａ」とも呼ぶ。）を有する。開口５０ａは、出射光Ｌ１０の径より小さい。開口５０ａは、出射光Ｌ１０のうちの一部の光である中心光束Ｌ１１を含む部分を通過させる。中心光束Ｌ１１は、出射光Ｌ１０のうちの中心光線を含む光束である。また、中心光束Ｌ１１は、出射光Ｌ１０のうちの光軸Ｃ１上及び光軸Ｃ１の近傍の領域を進む光線束である。中心光束Ｌ１１は、光軸Ｃ１の近傍の領域において、光軸Ｃ１と平行に進む光線と、光軸Ｃ１と非平行に進む光線とを含んでいてもよい。

開口５０ａは、光分割素子４０の反射部４０ａの径Ａｈより小さいことが好ましい。開口５０ａは、例えば、円形である。なお、開口５０ａは、円形に限らず、楕円形又は矩形などの他の形状であってもよい。

アパーチャ部５０は、開口５０ａより外側に配置された第１の遮光部としての遮光部５０ｂを更に有する。これにより、出射光Ｌ１０のうち光軸Ｃ１から離れた位置を進む周辺光線Ｌ１２を遮蔽することができる。よって、光分割素子４０に入射するときの出射光Ｌ１０の径を小さくすることができる。

測距装置１００にアパーチャ部５０が備えられていることによる効果について説明する。上述したように、光分割素子４０は、出射光Ｌ１０を走査ミラー２０に向ける反射部４０ａを有している。測距可能距離を伸ばすためには、反射部４０ａの領域を狭くする必要がある。言い換えれば、測距可能距離を伸ばすためには、光分割素子４０に入射する出射光Ｌ１０の径（以下、「ビーム径」とも呼ぶ。）を小さくする必要がある。

ここで、出射光Ｌ１０のビーム径を小さくするために、照射光学系１２の凸レンズ１２ａの焦点距離を短くする方法が考えられる。しかしながら、この方法では、出射光Ｌ１０の広がり角（すなわち、発散角）が大きくなるため、測定分解能が悪化する。実施の形態に係る測距装置１００には、出射光Ｌ１０の広がり角を抑えつつビーム径を小さくするために、図２及び３に示されるアパーチャ部５０が備えられている。

また、実施の形態に係る測距装置１００では、光分割素子４０は、受光光学系３０の視野内に配置されている。言い換えれば、光分割素子４０は、走査ミラー２０から受光光学系３０に向かう戻り光Ｌ２０の光路上に配置されている。そのため、出射光Ｌ１０の一部が光分割素子４０の反射部４０ａで反射されなかった場合、受光素子３２に入射する迷光が発生する。したがって、仮に、光分割素子４０の反射部４０ａがビーム径を制限するアパーチャ部として用いられた場合、多くの迷光が発生するおそれがある。上述した通り、受光素子３２の一例は、ＡＰＤ又はＳｉＰＭなどの受光感度の高い素子である。そのため、受光素子３２は、数ｐＷ程度の微弱な光も検出するため、迷光が発生した場合、測距精度が悪化する。例えば、測距装置１００に近い対象物９０までの距離を測定する場合に、迷光が発生すると、受光素子３２における迷光と戻り光Ｌ２０との判別が困難となる。そのため、対象物９０までの測距可能距離が縮小する。

アパーチャ部５０は、光分割素子４０に入射するときの出射光Ｌ１０のビーム径を、レーザ光源部１０から出射されたときの出射光Ｌ１０のビーム径より小さくする。これにより、測距装置１００における測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。また、実施の形態に係る測距装置１００では、照射光学系１２のＺ軸方向の厚みを厚くせずに、低コスト且つ小型の構成で測距方位の分解能を向上できる。

〈コンピュータ１０２の構成〉
図１に戻って、コンピュータ１０２及び筐体１０３の構成について説明する。コンピュータ１０２は、制御部としてのコントローラ１０２ａと、演算器１０２ｂと、記憶装置１０２ｃとを有する。コントローラ１０２ａ及び演算器１０２ｂは、ＣＰＵ（ＣｅｎｔｒａｌＰｒｏｃｃｅｓｓｉｎｇＵｎｉｔ）、ＧＰＵ（ＧｒａｐｈｉｃｓＰｒｏｃｃｅｓｓｉｎｇＵｎｉｔ）又はＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ－ＰｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅＧａｔｅＡｒｒａｙ）などのプロセッサに備えられている。記憶装置１０２ｃは、例えば、ＲＯＭ（ＲｅａｄＯｎＭｅｍｏｒｙ）又はハードディスクである。

コントローラ１０２ａは、光源１１、走査ミラー２０及び受光素子３２と通信可能に接続されている。コントローラ１０２ａは、光走査装置１０１を制御する。コントローラ１０２ａによる制御内容については、後述する。

演算器１０２ｂは、距離画像を生成する。演算器１０２ｂによって生成された距離画像は、測距装置１００と対象物９０との間の距離と測距装置１００から対象物９０を見た方向とを含む。演算器１０２ｂは、距離画像についての信号を図示しない表示装置に出力する。表示装置は、コンピュータ１０２（例えば、記憶装置１０２ｃ）と通信可能に接続されている。表示装置は、距離画像を表示する。

〈筐体１０３の構成〉
筐体１０３は、光走査装置１０１及びコンピュータ１０２を収容する。筐体１０３は、透明窓１０３ａを有する。透明窓１０３ａは、光走査装置１０１から出射された出射光Ｌ１０及び対象物９０で反射又は散乱した戻り光Ｌ２０を透過させる。なお、透明窓１０３ａは、出射光Ｌ１０及び戻り光Ｌ２０のそれぞれの波長と異なる波長を有する波長フィルタによって形成されていてもよい。これにより、不要な光を遮蔽することができる。また、測距装置１００において、コンピュータ１０２は、筐体１０３に収容されていなくても実現することができる。この場合、コンピュータ１０２は、筐体１０３の外部に配置されていてもよい。

〈コントローラ１０２ａによる制御〉
次に、図１に示されるコントローラ１０２ａによる制御内容について説明する。コントローラ１０２ａは、光源１１を制御する。これにより、レーザ光Ｌ１の出射タイミングが制御される。コントローラ１０２ａは、光源１１がレーザ光Ｌ１を出射した時刻（以下、「第１のタイミング」とも呼ぶ。）を示す信号を、光源１１から受信する。

また、コントローラ１０２ａは、走査ミラー２０を制御する。コントローラ１０２ａは、走査ミラー２０の傾き角（例えば、走査ミラー２０の反射面２０ａの法線の傾き）を示す信号を、走査ミラー２０から受信する。また、コントローラ１０２ａは、受光素子３２における戻り光Ｌ２０の受光量を示す信号を、受光素子３２から受信する。また、コントローラ１０２ａは、受光素子３２が戻り光Ｌ２０を検出した時刻（以下、「第２タイミング」とも呼ぶ。）を示す信号も、受光素子３２から受信する。

演算器１０２ｂは、コントローラ１０２ａが受信した走査ミラー２０の傾きと、記憶装置１０２ｃに予め格納されている走査ミラー２０に対する光源１１の位置とに基づいて、出射光Ｌ１０の出射方向を算出する。

また、演算器１０２ｂは、第１タイミングを示す信号及び第２タイミングを示す信号を、コントローラ１０２ａから受信する。演算器１０２ｂは、算出した出射光Ｌ１０の出射方向、第１タイミング及び第２タイミングに基づいて、測距装置１００と対象物９０との間の距離及び測距装置１００に対する対象物９０の位置を算出する。

〈実施の形態の効果〉
以上に説明した実施の形態によれば、測距装置１００は、レーザ光源部１０から光分割素子４０の反射部４０ａに向かう出射光Ｌ１０の光路上に配置され、出射光Ｌ１０の径を小さくするアパーチャ部５０を有する。これにより、出射光Ｌ１０が光分割素子４０に入射したときの散乱及び回折の発生が防止されるため、測距方位の分解能を向上させることができる。また、出射光Ｌ１０の散乱光及び回折光が迷光として受光光学系３０に入射することが防止されるため、測距可能距離を伸ばすことができる。したがって、実施の形態に係る測距装置１００では、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

また、実施の形態によれば、アパーチャ部５０は、出射光Ｌ１０の中心光束を含む部分を通過させる開口５０ａと、開口５０ａより外側に配置された遮光部５０ｂとを有する。これにより、出射光Ｌ１０のうち光軸Ｃ１から離れた位置を進む周辺光線Ｌ１２を遮蔽することができる。よって、アパーチャ部５０は、光分割素子４０に入射するときの出射光Ｌ１０の径を小さくすることができる。

《実施の形態の変形例１》
図４は、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００の構成を示す構成図である。図４において、図２に示される構成要素と同一又は対応する構成要素には、図２に示される符号と同じ符号が付される。実施の形態の変形例１に係る測距装置２００は、第２のアパーチャ部６０を更に有する点で、実施の形態に係る測距装置１００と相違する。これ以外の点については、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００は、実施の形態に係る測距装置１００と同じである。

図４に示されるように、測距装置２００は、レーザ光源部１０と、走査ミラー２０と、受光光学系３０と、光分割素子４０と、第１のアパーチャ部５０と、第２のアパーチャ部６０とを有する。

第２のアパーチャ部６０は、第１のアパーチャ部５０から光分割素子４０に向かう出射光Ｌ１０の光路上に配置されている。

図５は、図４に示される第１のアパーチャ部５０及び第２のアパーチャ部６０の周辺の構成を示す図である。図４及び５に示されるように、第２のアパーチャ部６０は、第２の光通過部としての第２の開口６０ａと、第２の開口６０ａより外側に配置された第２の遮光部６０ｂとを有する。

第２の開口６０ａの開口幅Ａ２は、第１の開口５０ａの開口幅Ａ１より大きい。ここで、レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０のうちの周辺光線Ｌ１２が第１のアパーチャ部５０によって遮光された場合、第１の開口５０ａを通過した出射光Ｌ１０の光強度分布は、フレネル回折の影響を受ける。開口幅Ａ２が、開口幅Ａ１より大きいことにより、第１の開口５０ａを通過したことによって生じた出射光Ｌ１０の回折光を遮光することができる。

また、開口幅Ａ２は、光分割素子４０の反射部４０ａの径Ａｈ（図３参照）より小さい。第２の開口６０ａは、例えば、円形である。なお、第２の開口６０ａは、円形に限らず、楕円形又は上述した矩形などの他の形状であってもよい。

第１のアパーチャ部５０及び第２のアパーチャ部６０のそれぞれのＺ軸方向の厚みは、例えば、２.０ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、出射光Ｌ１０が第１の開口５０ａ及び第２の開口６０ａをそれぞれ通過したときの回折の発生を抑制できる。

また、第１のアパーチャ部５０と第２のアパーチャ部６０との間の距離は離れている構成が好ましく、第１のアパーチャ部５０と第２のアパーチャ部６０との間の距離は、１．０ｍｍ以上であることが好ましい。図５に示す例では、例えば、第１のアパーチャ部５０と第２のアパーチャ部６０との間の距離は１５ｍｍである。

図６は、出射光Ｌ１０の光強度分布Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３を示すグラフである。図６において、横軸は、光強度を計測した位置［ｍｍ］を示し、縦軸は、光強度［ａ．ｕ．］を示す。

光強度分布Ｄ１は、第１の開口５０ａが３．０ｍｍ×３．０ｍｍの矩形形状であって、第１のアパーチャ部５０と光分割素子４０との間の距離が３５ｍｍである場合に、光分割素子４０上で計測された出射光Ｌ１０の光強度分布である。光強度分布Ｄ１が計測されるとき、出射光Ｌ１０の波長は９０５ｎｍであり、光源１１から発せられた出射光Ｌ１０は照射光学系１２によってコリメートされている。上述した実施の形態では、第２のアパーチャ部６０が備えられていない。そのため、出射光Ｌ１０が第１の開口５０ａを通過したときに発生する回折によって、光強度分布Ｄ１は、光分割素子４０上の第１の開口５０ａの外縁に対応する位置（すなわち、±１．５ｍｍ）から外側に広がっている。この場合、出射光Ｌ１０が光分割素子４０に入射するときに、反射部４０ａから漏れることで迷光となる。

光強度分布Ｄ２は、第１のアパーチャ部５０から＋Ｚ軸方向（すなわち、出射光Ｌ１０の出射方向）に１５ｍｍ離れた位置における光強度分布である。光強度分布Ｄ３は、第２のアパーチャ部６０が第１のアパーチャ部５０から＋Ｚ軸方向に１５ｍｍ離れた位置に配置され、且つ第２の開口６０ａが３．１ｍｍ×３．１ｍｍの矩形形状である場合に、光分割素子４０上で計測された出射光Ｌ１０の光強度分布である。光強度分布Ｄ３では、光分割素子４０上の第１の開口５０ａの外縁に対応する位置（すなわち、±１．５ｍｍ）より外側の領域の光強度が、光強度分布Ｄ１と比較して小さい。このように、第１の開口５０ａより大きい第２の開口６０ａを有する第２のアパーチャ部６０が備えられることによって、出射光Ｌ１０が第１の開口５０ａを通過したときに発生した回折光が、光分割素子４０に迷光として入射することができる。なお、出射光Ｌ１０の光強度分布がガウス形状などの他の形状であっても、上記と同様の傾向が見られる。

ここで、平面波の出射光Ｌ１０が開口関数ｆ（ｘ，ｙ）の開口を通過するとき、当該開口から＋Ｚ軸方向に距離Ｒ離れた位置における振幅分布ｕ（ｘ′，ｙ′）は、以下の式（１）によって示される。

式（１）において、Ａは振幅、ｉは虚数単位、ｋは波数、（ｘ，ｙ）は開口上での座標、及び（ｘ′，ｙ′）は開口から距離Ｒ離れた位置における座標を示す。式（１）の左辺の値が出射光Ｌ１０のピーク強度の１／５以下となるときの位置に、第２のアパーチャ部６０が配置されていることが好ましい。

また、測距装置２００をＹ軸方向に見たときに、第２のアパーチャ部６０は、走査ミラー２０で反射した戻り光Ｌ２０と重ならない位置に配置されている。これにより、第２のアパーチャ部６０による戻り光Ｌ２０の遮光を防止することができる。

〈実施の形態の変形例１の効果〉
以上に説明した実施の形態の変形例１によれば、測距装置２００は、レーザ光源部１０から光分割素子４０の反射部４０ａに向かう出射光Ｌ１０の光路上に配置され、出射光Ｌ１０の径を小さくする第１のアパーチャ部５０を有する。これにより、出射光Ｌ１０が光分割素子４０に入射したときの散乱及び回折の発生が防止されるため、測距方位の分解能を向上させることができる。また、出射光Ｌ１０の散乱光及び回折光が迷光として受光光学系３０に入射することが防止されるため、測距可能距離を伸ばすことができる。したがって、測距装置２００では、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

また、実施の形態の変形例１によれば、測距装置２００は、第１のアパーチャ部５０から光分割素子４０に向かう光路上に配置された第２のアパーチャ部６０を更に有し、第２のアパーチャ部６０の第２の開口６０ａは、第１のアパーチャ部５０の第１の開口５０ａより大きい。これにより、第１の開口５０ａを通過したことによって生じた出射光Ｌ１０の回折光を第２のアパーチャ部６０によって遮光することができる。したがって、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００では、測距方位の分解能を一層向上させつつ、測距可能距離を更に伸ばすことができる。

《実施の形態の変形例２》
上記実施の形態及び実施の形態の変形例１では、レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０が光分割素子４０で反射して走査ミラー２０に向けられ、戻り光Ｌ２０が光分割素子４０を透過して受光光学系３０に入射する例を説明した。実施の形態の変形例２では、レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０が光分割素子３４０を通過して走査ミラー２０に向けられ、戻り光Ｌ２０が光分割素子４０で反射して受光光学系３０に入射する例を説明する。図７は、実施の形態の変形例２に係る測距装置３００の概略的な構成を示す構成図である。図７において、図２又は４に示される構成要素と同一又は対応する構成要素には、図２又は４に示される符号と同じ符号が付される。

図７に示されるように、測距装置３００は、レーザ光源部１０と、走査ミラー２０と、受光光学系３０と、光分割素子３４０と、第１のアパーチャ部５０と、第２のアパーチャ部６０とを有する。

光分割素子３４０は、反射部３４０ａと、透過部３４０ｂとを有する。

反射部３４０ａは、走査ミラー２０で反射した戻り光Ｌ２０を反射して受光光学系３０に向ける。このように、実施の形態の変形例２では、走査ミラー２０で反射した戻り光Ｌ２０が、光分割素子４０で反射して受光光学系３０に入射する。

透過部３４０ｂは、照射光学系１２から出射された出射光Ｌ１０を透過して走査ミラー２０に向ける。透過部３４０ｂは、例えば、光分割素子３４０を貫通する孔である。すなわち、光分割素子３４０は、例えば、孔あきミラーである。なお、光分割素子３４０は、透明ガラスに、反射部３４０ａとしての反射膜がコーティングされた反射ミラーであってもよい。また、光分割素子３４０は、透過部３４０ｂを有していなくても実現することができる。

仮に、第１のアパーチャ部５０及び第２のアパーチャ部６０が測距装置３００に備えられていない場合、光分割素子３４０に入射した出射光Ｌ１０が、透過部３４０ｂである孔の内面（すなわち、エッジ）において散乱して散乱光が発生するおそれがある。また、出射光Ｌ１０が、当該孔を通過したときに回折光が発生する場合がある。散乱光及び回折光が、迷光として受光光学系３０に入射する。

実施の形態の変形例２では、第１のアパーチャ部５０が、レーザ光源部１０から光分割素子３４０に向かう出射光Ｌ１０の光路上に配置され、出射光Ｌ１０の径を小さくする。これにより、出射光Ｌ１０が光分割素子３４０に入射したときの散乱及び回折の発生が防止されるため、測距方位の分解能を向上させることができる。また、当該散乱光及び回折光が迷光として受光光学系３０に入射することが防止されるため、測距可能距離を伸ばすことができる。したがって、レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０が光分割素子３４０を通過し、且つ戻り光Ｌ２０が光分割素子３４０で反射する構成であっても、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

また、測距装置３００は、第１のアパーチャ部５０から光分割素子３４０に向かう光路上に配置された第２のアパーチャ部６０を更に有する。第２のアパーチャ部６０の第２の開口６０ａは、第１のアパーチャ部５０の第１の開口５０ａより大きい。これにより、第２のアパーチャ部６０は、第１の開口５０ａを通過したときに生じた出射光Ｌ１０の回折光を遮光することができる。

図８は、実施の形態の変形例２に係る測距装置３００の第１のアパーチャ部３５１の他の例をＺ軸方向に見た図である。図８に示されるように、第１のアパーチャ部３５１は、光通過部としての光透過部３５０ａと、遮光部３５０ｂと、第１の境界領域としての境界領域３５０ｃとを有する。

光透過部３５０ａは、出射光Ｌ１０の中心光束を含む部分を通過させる。Ｚ軸方向に見たときの光透過部３５０ａの形状は、例えば、円形である。遮光部３５０ｂは、光透過部３５０ａより外側に配置され、出射光Ｌ１０の周辺光線を遮光する。遮光部３５０ｂは、例えば、透明ガラスに蒸着された金属膜である。

境界領域３５１ｃは、光透過部３５０ａと遮光部３５０ｂとの間に配置されている。境界領域３５１ｃは、例えば、円環状である。境界領域３５１ｃにおける出射光Ｌ１０の透過率は、光透過部３５０ａに近づくほど高くなり、遮光部３５０ｂに近づくほど低くなる。

このように、第１のアパーチャ部３５１の境界領域３５１ｃでは、透過率が勾配を有している。これにより、レーザ光源部１０が出射された出射光Ｌ１０が第１のアパーチャ部３５１の光透過部３５０ａを通過するときに、散乱及び回折の発生を防止することができる。境界領域３５１ｃの幅は、光透過部３５０ａの直径の５％程度であることが好ましい。なお、第２のアパーチャ部６０が、光透過部と遮光部との間に配置された第２の境界領域とを有し、当該第２の境界領域の透過率が光透過部に近づくほど高くなっていてもよい。

図９は、実施の形態の変形例２に係る測距装置３００の第１のアパーチャ部３５２の更に他の例をＺ軸方向に見た図である。図９に示されるように、第１のアパーチャ部３５２は、開口５０ａと、開口５０ａより外側に配置された遮光部３５２ｂとを有する。

第１のアパーチャ部３５２のうち開口５０ａを囲う内面３５２ｓには、開口５０ａに近づくほど幅狭となる複数の凸部３５２ｄが配置されている。図９に示す例では、内面３５２ｓは、鋸波形状である。これにより、レーザ光源部１０が出射された出射光Ｌ１０が第１のアパーチャ部３５２を通過するときに、開口５０ａを囲う内面３５２ｓでの散乱及び回折の発生を防止することができる。なお、第２のアパーチャ部６０の開口６０ａを囲う内面に、開口６０ａに近づくほど幅狭となる複数の凸部が配置されていてもよい。

〈実施の形態の変形例２の効果〉
以上に説明した実施の形態の変形例２によれば、測距装置３００は、レーザ光源部１０から光分割素子３４０の透過部３４０ｂに向かう出射光Ｌ１０の光路上に配置され、出射光Ｌ１０の径を小さくする第１のアパーチャ部５０を有する。これにより、出射光Ｌ１０が光分割素子３４０に入射したときの散乱及び回折の発生が防止されるため、測距方位の分解能を向上させることができる。また、出射光Ｌ１０の散乱光及び回折光が迷光として受光光学系３０に入射することが防止されるため、測距可能距離を伸ばすことができる。したがって、測距装置３００では、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

また、実施の形態の変形例２によれば、第１のアパーチャ部３５１は、光透過部３５０ａと遮光部３５０ｂとの間に配置された境界領域３５１ｃを有し、境界領域３５１ｃにおける出射光Ｌ１０の透過率は、光透過部３５０ａに近づくほど高くなる。これにより、レーザ光源部１０が出射された出射光Ｌ１０が第１のアパーチャ部３５１の光透過部３５０ａを通過するときの散乱及び回折の発生を防止することができる。よって、測距装置３００では、測距方位の分解能を一層向上させつつ、測距可能距離を一層伸ばすことができる。

また、実施の形態の変形例２によれば、第１のアパーチャ部３５２のうち開口５０ａを囲う内面３５２ｓには、開口５０ａに近づくほど幅狭となる複数の凸部３５２ｄが配置されている。これにより、レーザ光源部１０が出射された出射光Ｌ１０が第１のアパーチャ部３５２を通過するときに、内面３５２ｓでの散乱及び回折の発生を防止することができる。よって、測距装置３００では、測距方位の分解能を一層向上させつつ、測距可能距離を一層伸ばすことができる。

《実施の形態の変形例３》
図１０は、実施の形態の変形例３に係る測距装置４００の概略的な構成を示す構成図である。図１０において、図５に示される構成要素と同一又は対応する構成要素には、図５に示される符号と同じ符号が付される。実施の形態の変形例３に係る測距装置４００は、第１のアパーチャ部４５０及び第２のアパーチャ部４６０それぞれの形状の点で、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００と相違する。これ以外の点については、実施の形態の変形例３に係る測距装置４００は、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００と同じである。そのため、以下の説明では、図４を参照する。

図１０に示されるように、測距装置４００は、レーザ光源部１０と、走査ミラー２０（図４参照）と、受光光学系３０（図４参照）と、光分割素子４０と、第１のアパーチャ部４５０と、第２のアパーチャ部４６０とを有する。

第１のアパーチャ部４５０は、第１の開口５０ａに近づくほど薄肉となる板状の部材である。これにより、レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０が第１の開口５０ａを通過するときに、第１の開口５０ａを囲う内面において散乱及び回折することを抑制できる。図１０に示す例では、第１のアパーチャ部４５０のレーザ光源部１０側の面４５０ｄが、第１の開口５０ａに近づくほどレーザ光源部１０から離れる方向に傾斜している。

第２のアパーチャ部４６０は、第２の開口６０ａに近づくほど薄肉となる板状の部材である。これにより、第１の開口５０ａを通過した出射光Ｌ１０が第２の開口６０ａを通過するときに、第２の開口６０ａを囲う内面において散乱及び回折することを抑制できる。図１０に示す例では、第２のアパーチャ部４６０の第１のアパーチャ部４５０側の面４６０ｄが、第２の開口６０ａに近づくほど第１のアパーチャ部４５０から離れる方向に傾斜している。なお、第１のアパーチャ部４５０及び第２のアパーチャ部４６０のうちの少なくとも一方のアパーチャ部が、開口に近づくほど薄肉となっていればよい。

〈実施の形態の変形例３の効果〉
以上に説明した実施の形態の変形例３によれば、第１のアパーチャ部４５０は、第１の開口５０ａに近づくほど薄肉となる板状の部材である。これにより、レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０が第１の開口５０ａを通過するときに、第１の開口５０ａを囲う内面における散乱及び回折の発生を抑制できる。よって、測距装置４００では、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

また、実施の形態の変形例３によれば、第２のアパーチャ部４６０は、第２の開口６０ａに近づくほど薄肉となる板状の部材である。これにより、第１の開口５０ａを通過した出射光Ｌ１０が第２の開口６０ａを通過するときに、第２の開口６０ａを囲う内面における散乱及び回折の発生を抑制できる。よって、測距装置４００では、測距方位の分解能を一層向上させつつ、測距可能距離を一層伸ばすことができる。

《実施の形態の変形例４》
図１１は、実施の形態の変形例４に係る測距装置５００の概略的な構成を示す構成図である。図１１において、図５に示される構成要素と同一又は対応する構成要素には、図５に示される符号と同じ符号が付される。実施の形態の変形例４に係る測距装置５００は、第１のアパーチャ部４５０及び第２のアパーチャ部４６０それぞれの形状の点で、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００と相違する。これ以外の点については、実施の形態の変形例４に係る測距装置５００は、実施の形態の変形例１に係る測距装置２００と同じである。そのため、以下の説明では、図４を参照する。

図１１に示されるように、測距装置５００は、レーザ光源部１０と、走査ミラー２０（図４参照）と、受光光学系３０（図４参照）と、光分割素子４０と、第１のアパーチャ部５５０と、第２のアパーチャ部５６０と、第１のアパーチャ保持部材５７１と、第２のアパーチャ保持部材５７２とを有する。

第１のアパーチャ部５５０は、第１の板部としての板部５５１と、第２の板部としての板部５５２とを有する。板部５５１は、第１のアパーチャ保持部材５７１によって保持されている。板部５５２は、第２のアパーチャ保持部材５７２によって保持されている。なお、第１のアパーチャ保持部材５７１及び第２のアパーチャ保持部材５７２は、レンズ又は光分割素子４０などの他の光学部材を保持する部材と一体に形成されていてもよい。

板部５５１、５５２は、出射光Ｌ１０を挟んで配置されている。出射光Ｌ１０のうち中心光束を含む部分は、板部５５１と板部５５２との間に形成された間隙である開口５０ａを通過する。また、出射光Ｌ１０のうち光軸Ｃ１から離れた位置を進む周辺光線Ｌ１２は、板部５５１及び板部５５２によって遮蔽される。これにより、第１のアパーチャ部５５０は、レーザ光源部１０から光分割素子４０に向かう出射光Ｌ１０の径を小さくできる。これにより、測距装置５００は、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

ここで、アパーチャ部を光軸Ｃ１に対して精度良く配置するために、アパーチャ部を、レンズ又は光分割素子４０などの他の光学部材を保持する部材（すなわち、他の保持構造）と一体に形成する方法が考えられる。しかしながら、アパーチャ部を他の保持構造と一体に形成する場合、加工が難しくなるため、アパーチャ部における開口の形成が困難となる。また、開口を有するアパーチャ部を別部品として、アパーチャ保持部材にネジなどで固定する場合、アパーチャ部の位置精度が低下する。実施の形態の変形例４では、第１のアパーチャ部５５０のうち出射光Ｌ１０の周辺光線Ｌ１２を遮光する部分は、分割されている。具体的には板部５５２は、板部５５１に対して出射光Ｌ１０の出射方向（すなわち、Ｚ軸方向）にずれて配置されている。これにより、第１のアパーチャ部５５０の位置精度を高めつつ、迷光の発生を防止することができる。また、実施の形態の変形例４では、第１のアパーチャ部５５０における開口５０ａの形成が容易となる。

第２のアパーチャ部５６０は、第１の板部としての板部５６１と、第２の板部としての板部５６２とを有する。板部５６１は、第１のアパーチャ保持部材５７１によって保持されている。板部５６２は、第２のアパーチャ保持部材５７２によって保持されている。

板部５６１、５６２は、出射光Ｌ１０を挟んで配置されている。第１のアパーチャ部５５０を通過した出射光Ｌ１０は、板部５６１と板部５６２との間に形成された間隙である開口６０ａを通過する。開口６０ａは、開口５０ａより大きい。これにより、開口５０ａを通過したことによって生じた出射光Ｌ１０の回折光を板部５６１、５６２によって遮光することができる。

このように、実施の形態の変形例４では、第２のアパーチャ部５６０のうち出射光Ｌ１０の回折光を遮光する部分も、分割されている。具体的には、板部５６２は、板部５６１に対して出射光Ｌ１０の出射方向（すなわち、Ｚ軸方向）にずれて配置されている。これにより、第２のアパーチャ部５６０の位置精度を高めつつ、迷光の発生を防止することができる。また、実施の形態の変形例４では、第２のアパーチャ部５６０における開口６０ａの形成が容易となる。

図１２は、実施の形態の変形例４に係る測距装置４００の第１のアパーチャ部５５０Ａの他の例をＺ軸方向に見た図である。図１２に示されるように、第１のアパーチャ部５５０Ａは、第１の板部５５１Ａと、第１の板部５５１Ａに対して＋Ｚ軸方向にずれて配置された第２の板部５５２Ａとを有する。

第２の板部５５２Ａは、Ｚ軸方向に貫通する貫通部５５０ｅを有する。Ｚ軸方向に見たときに第１の板部５５１Ａは、貫通部５５０ｅの一部と重なっている。このように、図１２に示す例では、貫通部５５０ｅの一部は、第１の板部５５１Ａによって遮られている。レーザ光源部１０から出射された出射光Ｌ１０の一部は、貫通部５５０ｅのうち第１の板部５５１Ａによって遮られていない領域を通過する。これにより、第１のアパーチャ部５５０Ａは、出射光Ｌ１０の径を小さくすることができる。よって、出射光Ｌ１０が光分割素子４０に入射したときの散乱及び回折の発生が防止されるため、すなわち、迷光の発生が防止されるため、測距方位の分解能を向上させつつ、測距可能距離を伸ばすことができる。

また、図１２に示す例でも、第１のアパーチャ部５５０Ａのうち出射光Ｌ１０の周辺光線Ｌ１２を遮光する部分は、分割されている。これにより、第１のアパーチャ部５５０Ａの位置精度を高めつつ、迷光の発生を防止することができる。なお、第２のアパーチャ部５６０が、図１２に示される第１のアパーチャ部５５０Ａと同様の構成であってもよい。

〈実施の形態の変形例４の効果〉
以上に説明した実施の形態の変形例４によれば、第１のアパーチャ部５５０は、板部５５１と、板部５５１に対して出射光Ｌ１０の出射方向にずれて配置された板部５５２とを有し、レーザ光源部１０から光分割素子３４０に向かう出射光Ｌ１０は、板部５５１と板部５５２との間を通過する。これにより、第１のアパーチャ部５５０の位置精度を高めつつ、迷光の発生を防止することができる。

また、実施の形態の変形例４によれば、第２のアパーチャ部５６０は、板部５６１と、板部５６１に対して出射光Ｌ１０の出射方向にずれて配置された板部５６２とを有し、第１のアパーチャ部５５０から光分割素子３４０に向かう出射光Ｌ１０は、板部５６１と板部５６２との間を通過する。これにより、第２のアパーチャ部５６０の位置精度を高めつつ、迷光の発生を防止することができる。

また、実施の形態の変形例４によれば、第１のアパーチャ部５５０Ａは、第１の板部５５１Ａと、第１の板部５５１Ａに対して出射光Ｌ１０の出射方向にずれて配置された第２の板部５５２Ａとを有する。第２の板部５５２Ａは、出射光Ｌ１０が通過する貫通部５５０ｅを有し、出射光Ｌ１０の出射方向に見たときに第１の板部５５１Ａが貫通部５５０ｅの一部と重なっている。これにより、第１のアパーチャ部５５０Ａの位置精度を高めつつ、迷光の発生を防止することができる。

１０レーザ光源部、１１光源、１２照射光学系、１２ａ凸レンズ、２０走査ミラー、２０ａ反射面、２１、２２回転軸、３０受光光学系、３１集光光学部、３２受光素子、４０、３４０光分割素子、４０ａ、３４０ａ反射部、４０ｂ、３４０ｂ透過部、５０、３５１、３５２、４５０、５５０、５５０Ａ第１のアパーチャ部、５０ａ、５５０ａ第１の開口、５０ｂ、３５０ｂ、３５２ｂ遮光部、６０、４６０、５６０第２のアパーチャ部、６０ａ、５６０ａ第２の開口、６０ｂ第２の遮光部、９０対象物、１００、２００、３００、４００測距装置、１０１光走査装置、１０２コンピュータ、１０２ａコントローラ、１０２ｂ演算器、１０２ｃ記憶装置、１０３筐体、１０３ａ透明窓、１１０光送信光学系、３５０ａ光透過部、３５１ｃ境界領域、３５２ｄ凸部、３５２ｓ内面、４５０ｄ、４６０ｄ面、５５０ｃ、５５０ｅ貫通部、５５１、５５１Ａ、５５２、５５２Ａ、５６１、５６２板部、５７１第１のアパーチャ保持部材、５７２第２のアパーチャ保持部材、Ａ１、Ａ２開口幅、Ａｈ径、Ｃ１、Ｃ３光軸、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３光強度分布、Ｌ１レーザ光、Ｌ１０出射光、Ｌ１１中心光束、Ｌ１２周辺光線、Ｌ２０戻り光。

Claims

対象物で反射又は散乱した戻り光を検出して、前記対象物までの距離を測定する測距装置であって、
マルチモードレーザ光を出射光として前記対象物に照射するレーザ光源部と、
前記レーザ光源部から出射された前記出射光を走査する走査光学部と、
前記走査光学部で走査された前記出射光が照射された前記対象物で反射又は散乱し、前記走査光学部で反射した前記戻り光を検出する受光光学部と、
前記レーザ光源部から出射された前記出射光を前記走査光学部に向ける光路案内部と、
前記出射光の中心光束を含む部分を通過させる第１の光通過部と、前記第１の光通過部の外側に配置された第１の遮光部とによって構成され、前記レーザ光源部から前記光路案内部に向かう前記出射光の光路上に配置され、前記出射光の径を小さくする第１のアパーチャ部と、
前記第１のアパーチャ部から前記光路案内部に向かう前記出射光の光路上に配置され、前記第１の光通過部より大きい第２の光通過部を含む第２のアパーチャ部と
を有する、
ことを特徴とする測距装置。
前記走査光学部で反射した前記戻り光は、前記光路案内部を透過して前記受光光学部に入射する、
ことを特徴とする請求項１に記載の測距装置。
前記走査光学部で反射した前記戻り光は、前記光路案内部で反射して前記受光光学部に入射する、
ことを特徴とする請求項１に記載の測距装置。
前記走査光学部で反射した前記戻り光は、前記光路案内部の外側を通過して前記受光光学部に入射する、
ことを特徴とする請求項１に記載の測距装置。
前記第１のアパーチャ部は、前記第１の光通過部と前記第１の遮光部との間に配置された第１の境界領域を更に有し、
前記第１の境界領域における前記出射光の透過率は、前記第１の光通過部に近づくほど高くなる、
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１の光通過部は、前記出射光の径より小さい第１の開口である、
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第２のアパーチャ部は、
前記第１のアパーチャ部と前記光路案内部との間の位置に設置され、
前記第２のアパーチャ部の前記第２の光通過部の設置位置は、前記出射光の光軸に垂直な面内での前記第１のアパーチャ部から前記光路案内部に向かう前記出射光の光強度分布において振幅分布の値が前記出射光のピーク強度の１／５以下、かつ、１／１０００以上となる位置である
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１の光通過部は、第１の開口であり、
前記第２の光通過部は、第２の開口であり、
前記第１の開口及び前記第２の開口の少なくとも一方である開口を囲う内面には、前記開口に近づくほど幅狭となる複数の凸部が配列されている、
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１のアパーチャ部と前記第２のアパーチャ部との間の距離は、１．０ｍｍ以上である、
ことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１のアパーチャ部及び前記第２のアパーチャ部のうちの少なくとも一方の前記出射光の出射方向の厚みは、２．０ｍｍ以上である、
ことを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第２のアパーチャ部は、
前記第２の光通過部の外側に配置された第２の遮光部と
前記第２の光通過部と前記第２の遮光部との間に配置された第２の境界領域と
を更に含み、
前記第２の境界領域における前記出射光の透過率は、前記第２の光通過部に近づくほど高くなる、
ことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１のアパーチャ部及び前記第２のアパーチャ部のうちの少なくとも一方は、前記第１の光通過部に近づくほど薄肉となる板状の部材である、
ことを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１のアパーチャ部及び前記第２のアパーチャ部のうちの少なくとも一方は、
第１の板部と、
前記第１の板部に対して前記出射光の出射方向にずれて配置された第２の板部と
を有し、
前記レーザ光源部から前記光路案内部に向かう前記出射光は、前記第１の板部と前記第２の板部との間を通過する、
ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の測距装置。
前記第１のアパーチャ部及び前記第２のアパーチャ部のうちの少なくとも一方は、
第１の板部と、
前記第１の板部に対して前記出射光の出射方向にずれて配置された第２の板部と
を有し、
前記第２の板部は、前記レーザ光源部から前記光路案内部に向かう前記出射光が通過する貫通部を有し、
前記出射方向に見たときに、前記第１の板部は、前記貫通部の一部と重なっている、
ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の測距装置。
前記レーザ光源部は、
光源と、
前記光源から発せられたレーザ光を平行光に変換して前記出射光として出射する光学部と
を有する、
ことを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の測距装置。
前記受光光学部は、
受光素子と、
前記走査光学部で反射した前記戻り光を集光して前記受光素子に向ける集光レンズと
を有し、
前記光路案内部は、前記受光光学部の光軸に垂直な面に対して傾斜している、
ことを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の測距装置。